JP3833827B2 - 熱処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は,載置したLCD基板等の基板を熱処理する熱処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に,液晶表示装置(LCD)の製造工程においては,LCD基板の表面に,例えばITO(Indium Tin Oxide)の薄膜や電極パターンを形成するために,半導体製造工程の場合と同様にフォトリソグラフィ技術が用いられている。このフォトリソグラフィ技術は,LCD基板の表面にレジスト液を塗布するレジスト塗布工程,形成されたレジスト膜に回路パターンを露光する露光処理工程,露光処理後のLCD基板に現像液を供給する現像処理工程等の各種処理工程を有している。
【0003】
これらの処理工程のうち,レジスト塗布工程と露光処理工程との間では,LCD基板とレジスト膜との密着性を向上させるためにレジスト膜中の溶剤を蒸発除去させる加熱処理工程が行われている。この工程の際に使用される加熱処理装置には,LCD基板を支持した状態で昇降自在な昇降ピンと,LCD基板を加熱可能な矩形状の加熱載置台とが備えられている。加熱載置台にはヒータ等の発熱体が内蔵されており,加熱処理装置に搬入されたLCD基板は加熱載置台からの熱で加熱処理される。
【0004】
ところで,歩留まりを向上させるためには,LCD基板の全面に対して均一に熱を供給し,レジスト膜に含有された溶剤をLCD基板から均一に蒸発除去させることが必要となる。ところが,従来の加熱載置台は周辺部からの放熱量が多く,熱がLCD基板に対して均一に供給されない場合があった。
そのため従来では,かかる影響を少なくさせるために,レジスト膜から溶剤を蒸発除去させることのできる熱をLCD基板に対して供給可能な大型の加熱載置台を使用していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら,大型の加熱載置台を使用した場合には,加熱処理装置の小型化が図れなくなる。また加熱載置台の製造や組立にかかるコストも高くなってしまう。
【0006】
本発明はかかる点に鑑みて成されたものであり,大型の載置台を使用しなくても基板を均一に熱処理可能な熱処理装置を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために,請求項1に記載の熱処理装置は,載置台に基板を載置して熱処理する熱処理装置において,前記載置台の上面に,載置した基板の外周を囲む溝を設け,前記溝内に断熱材を配置し,前記断熱材は,載置台の上面から突出させるようにして配置されていることを特徴としている。
【0008】
請求項1に記載の熱処理装置によれば,溝内部の雰囲気が熱の伝搬を遮断するために,載置台の外周に伝わる熱量が従来よりも少なくなる。従って,載置台の外周からの放熱量が従来よりも少なくなる。その結果,載置台の面内温度分布がより均一化し,大型の載置台を使用しなくても基板に対して均一な熱処理を施すことが可能となる。
【0009】
かかる場合,前記断熱材は,フッ素樹脂で構成してもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を説明する。この実施の形態は,塗布現像処理装置内に組み込まれた加熱処理装置として具体化されている。なお,図1は塗布現像処理装置の斜視図を,図2は塗布現像処理装置の平面図をそれぞれ示している。
【0013】
塗布現像処理装置1は,例えば矩形状のLCD基板Gを搬入出するローダ部2と,LCD基板Gを処理する第1の処理部3と,この第1の処理部3と中継部4とを介して連設された第2の処理部5と,この第2の処理部5と例えば露光装置(図示せず)との間でLCD基板Gを授受するためのインターフェイス部7とから構成されている。
【0014】
ローダ部2にはカセット載置台10が設けられており,このカセット載置台10には,例えば未処理のLCD基板Gを収納するカセット11,11と,処理済みのLCD基板Gが収納されるカセット12,12とがLCD基板Gの出入口を第1の処理部3側に向けて一列に載置されている。またローダ部2には,LCD基板を搬送自在な副搬送装置13が備えられている。
【0015】
副搬送装置13は搬送レール13aに沿った方向(Y方向)と,各カセット11,12内のLCD基板Gの収納方向(Z方向)に移動自在であり,かつθ方向にも回転自在となるように構成されている。そして,副搬送装置13はLCD基板Gを載置自在な受け渡し台14に対してもアクセス可能となるように構成されている。
【0016】
第1の処理部3には,LCD基板Gに対して所定の処理を施す各種の処理装置が主搬送装置15の搬送レール16を挟んで両側に配置されている。即ち,搬送レール16の一側には,各カセット11,11から取り出されたLCD基板Gを洗浄するスクラバ洗浄装置17と,LCD基板Gに対して現像処理を施す現像処理装置18とが並んで配置され,搬送レール16の他側には紫外線オゾン洗浄装置19と,LCD基板Gを冷却処理する冷却処理装置20,21と,LCD基板Gを加熱処理する加熱処理装置22とが適宜多段に配置されている。これら各種の処理装置に対するLCD基板Gの搬入出は,主搬送装置15に装備された搬送アーム15aにより行われる。なお,かかる第1の処理部3と後述する第2の処理部5との間に形成された前記中継部4には,LCD基板Gを載置自在な受け渡し台23が備えられている。
【0017】
第2の処理部5には,主搬送装置25の搬送レール26を挟んだ一側に,塗布・周縁部除去装置27が配置され,この搬送レール26を挟んだ他側には,LCD基板Gに疎水化処理を施す疎水化処理装置28と,LCD基板Gを冷却する冷却処理装置29と,レジスト塗布後のLCD基板Gを加熱処理する加熱処理装置30,30とが多段に配置されている。なお,上記主搬送装置25には第2の処理部5に属する各種処理装置にLCD基板Gを搬入出する搬送アーム25aが装備されている。
【0018】
インターフェイス部7には塗布現像処理装置1と露光装置(図示せず)とのタクトを調整するために,LCD基板Gを一時的に収納して待機させるカセット31,31と,LCD基板Gを載置自在な受け渡し台32と,各カセット31,31,受け渡し台32,露光装置(図示せず)に対してLCD基板Gを搬送自在な副搬送装置33とが装備されている。
【0019】
塗布現像処理装置1は以上のように構成されている。次に,本実施の形態にかかる加熱処理装置30について説明する。
【0020】
加熱処理装置30は図3に示すように,LCD基板Gを加熱処理する処理室40が形成されており,この処理室40にはヒータ等の発熱体41を内蔵したアルミニューム等の材質からなる矩形状の加熱載置台42と,加熱載置台42を包囲するシャッタ43とが備えられている。
【0021】
シャッタ43は昇降シリンダ44により上下動自在に構成されており,シャッタ43が上昇した際には,シャッタ43と上部中央に排気口45を有するカバー46から垂下したストッパ47とが接触して上記処理室40が形成されるようになっている。ストッパ47には給気口(図示せず)が設けられており,この給気口(図示せず)から処理室40内に流入した空気は排気口45から排気されるように構成されている。
【0022】
また,処理室40内にはLCD基板Gを支持可能な昇降ピン48が備えられている。昇降ピン48はモータ49の駆動で上下動自在となるように形成されており,LCD基板Gを2点鎖線で示す位置で支持することができるように形成されている。そしてこの状態から昇降ピン48を下降させると,LCD基板Gは実線で示すように加熱載置台42上に載置される。なお,LCD基板Gが加熱載置台42に載置された際には,プロキシミティピン51に支持される。
【0023】
加熱載置台42には図4,5に示すように,載置されたLCD基板Gの全周を囲む溝52が設けられている。そして加熱載置台42にLCD基板Gが載置された際には,LCD基板Gの外周と溝52との間に所定間隔が開くように形成されている。
【0024】
さらに加熱載置台42には図6に示すように,熱伝導性の低い例えばフッ素樹脂等からなる中空の蓋体54が取り付けられている。蓋体54は,例えばクランプ(図示せず)等の固定手段で加熱載置台42に固定される。そして,加熱載置台42に対して蓋体54が固定された際には,溝52の内部を気密に維持することができるように形成されている。
【0025】
本発明の実施の形態にかかる加熱処理装置30は以上のように構成されている。次に,加熱処理装置30の作用,効果について説明する。
【0026】
カセット載置台10上に未処理のLCD基板Gを収納したカセット11が載置されると,副搬送装置13がカセット11にアクセスしてLCD基板Gを1枚抜き取る。次いで,副搬送装置13はローダ部2に装備された受け渡し台14までこのLCD基板Gを搬送し,このLCD基板Gを受け渡し台14上に受け渡す。
【0027】
次いで,このLCD基板Gは主搬送装置15の搬送アーム15aに保持された状態で紫外線オゾン洗浄装置19に搬送され,LCD基板Gに付着した有機汚染物が除去される。その後,オゾン洗浄が終了したLCD基板Gは主搬送装置15でスクラバ洗浄装置17に搬送されてスクラブ洗浄処理が施された後,再び搬送アーム15aに保持された状態で受け渡し台23に搬送される。
【0028】
受け渡し台23に受け渡されたLCD基板Gは,主搬送装置25の搬送アーム25aに保持された状態で疎水化処理装置28に搬送される。そして,疎水化処理が終了したLCD基板Gは,再び搬送アーム25aに保持された状態で塗布・周縁部除去装置27に搬送される。
【0029】
この塗布・周縁部除去装置27でレジスト液が塗布され,周縁部の不要なレジスト膜が除去されたLCD基板Gは,搬送アーム25aで加熱処理装置30に搬送される。
【0030】
この際,LCD基板Gは図7に示すように,下降したシャッタ43の上方から搬送アーム25aと共に処理室40内に進入し,1点鎖線で示す上昇した昇降ピン48上に支持される。そして,搬送アーム25aを処理室40から退出させた後にシャッタ43を上昇させて処理室40内を気密にする。その後,LCD基板Gを昇降ピン48と共に図8の1点鎖線で示した位置から実線の位置まで下降させて,LCD基板Gをプロキシミティピン51上に支持させる。プロキシミティピン51上に支持されたLCD基板Gは,加熱載置台42からの熱により加熱処理される。
【0031】
かかる加熱処理が終了した後は,昇降ピン48が上昇してシャッタ43が下降する。次いで,搬送アーム25aが処理室40内に進入して昇降ピン48からLCD基板Gを受け取った後,LCD基板Gを保持した状態で処理室40内から退出する。加熱処理装置30から搬出されたLCD基板Gは,その後受け渡し台32上に受け渡され,今度は副搬送装置33により露光装置(図示せず)に搬送される。
【0032】
本発明の実施の形態にかかる加熱処理装置30では加熱載置台42の表面に溝52を設けたことにより,加熱載置台42の外周に移動する熱量が従来よりも少なくなる。従って,加熱載置台42の外周からの放熱量が少なくなるために,加熱載置台42の面内温度分布がより均一化する。その結果,従来のように大型の加熱載置台を使用しなくても,LCD基板Gに対して均一な加熱処理を施すことが可能となる。
【0033】
また溝52の内周面からの放熱により加熱載置台42の溝52近傍の面内温度は,加熱載置台42中央部の均一な面内温度よりも低くなるが,本実施の形態では溝52から所定間隔離れた位置にLCD基板Gを載置するために,LCD基板Gには加熱載置台42からの均一な熱量が供給される。従って,LCD基板Gに対して均一な加熱処理を施すことが可能となる。
【0034】
そして,溝52の内部の雰囲気が蓋体54で密閉されるために,加熱載置台42の溝52から放出される熱量がさらに少なくなる。従って,加熱載置台42の面内温度分布がより均一化するために,LCD基板Gに対する加熱処理をさらに均一に行うことが可能となる。
【0035】
また上記実施の形態では,溝52内部の雰囲気で加熱載置台42の外周に移動する熱量を少なくするようにしていたが,本発明ではこれに代えて他の実施の形態にかかる加熱処理装置60を提案することも可能である。
【0036】
この加熱処理装置60は図9に示すように,溝52の内部に熱伝導性の低い,例えばフッ素樹脂等の断熱材61が配置されている。
かかる構成によれば,加熱載置台42の外周に伝わる熱量が断熱材61に遮断されて少なくなる。従って,加熱載置台42の外周からの放熱量がより少なくなるために,加熱載置台42の面内温度分布がより均一化する。その結果,上記実施の形態と同様に,大型の加熱載置台を使用しなくても,LCD基板Gに対して均一な加熱処理を施すことが可能となる。
【0037】
なお,溝52の内部に配置させる断熱材61は図10に示すように,加熱載置台42の上面から突出させるようにして配置してもよい。
【0038】
かかる構成によれば,処理室40内部においてLCD基板Gの周りの空気の流れが,断熱材61で遮られる。その結果,LCD基板Gの面内温度の変化を防止することが可能となり,LCD基板Gに対する均一な加熱処理をより確実に行うことが可能となる。
【0039】
なお上記実施の形態では,レジスト塗布後のLCD基板Gを加熱処理する加熱処理装置30を例に挙げて説明したが,本発明はかかる例には限定されず,現像処理後の加熱処理装置22はもちろん,例えば疎水化処理装置28に対しても適用が可能である。また,蓋体54は中空の矩形状であるとして説明したが,溝52の内部を気密にすることができる形状であればいかなる形状で形成してもよい。
【0040】
また,溝52の内部に断熱材61を配置し,かつ上記蓋体54を加熱載置台42に取り付けるようにしてもよい。かかる構成によれば,加熱載置台42の外周に伝わる熱量をさらに少なくすることができる。そして,本発明に使用可能な基板は上記実施の形態のようにLCD基板Gには限定されず,例えばCD基板や半導体ウェハ等であってもよい。
【0041】
【発明の効果】
本発明によれば,載置台の外周からの放熱量が少なくなるために,載置台の面内温度が従来よりも均一化する。従って,従来のような大型の載置台を使用しなくても,基板に対して均一な熱処理を施すことができる。しかも溝内に配置された断熱材によって載置台の外周に伝わる熱量がさらに減少する。そのうえ基板の周りの空気の流れが断熱材で遮られるので,基板に対する均一な加熱処理をより確実に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態にかかる加熱処理装置を有する塗布現像処理装置の外観を示す斜視図である。
【図2】図1の塗布現像処理装置の平面図である。
【図3】実施の形態にかかる加熱処理装置の断面図である。
【図4】図3の加熱処理装置に具備された加熱載置台と蓋体の構成を示す斜視図である。
【図5】図4の加熱載置台の断面図である。
【図6】図4の加熱載置台の内部を蓋体で密閉した様子を示す断面図である。
【図7】図3の加熱処理装置にLCD基板が搬入される様子を示す説明図である。
【図8】図7の状態からLCD基板が加熱載置台に載置される様子を示す説明図である。
【図9】他の実施の形態にかかる加熱処理装置の断面図である。
【図10】加熱載置台の上面から突出した断熱材で,処理室内に供給された空気の流れが遮断される様子を示す説明図である。
【符号の説明】
1 塗布現像処理装置
30 加熱処理装置
42 加熱載置台
52 溝
54 蓋体
61 断熱材
G LCD基板
Claims (2)
- 載置台に基板を載置して熱処理する熱処理装置において,
前記載置台の上面に,載置した基板の外周を囲む溝を設け,
前記溝内に断熱材を配置し,
前記断熱材は,載置台の上面から突出させるようにして配置されていることを特徴とする,熱処理装置。 - 前記断熱材は,フッ素樹脂からなることを特徴とする,請求項1に記載の熱処理装置。
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