JP3831650B2 - 圧力センサ及びその製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は圧力センサに関し、特に指からの圧力を電気的な信号に変換して指紋を検知するセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】
個々を識別する装置として指紋センサが用いられており、この指紋センサには簡単で且つ精度良く指紋を検知することが要求されている。この種の指紋センサの構成は、例えば特開平9−126918号公報や特開平10−300610号公報に記載されている。これは圧力マイクロセンサをマトリクス状に配置したものであり、各マイクロセンサは2枚の電極の間に空洞を挟んだ状態で対向配置している。
【0003】
図3は製造途中のマイクロセンサの断面図を示す。シリコン基板101上にはエッチングバリア層102が積層され、その上に所定のパターンでAu又はTiによる第一金属層103が形成される。この第一金属層103は可変コンデンサの第一電極、若しくは、マイクロコンタクタの第一端子として使用される。第一金属層103に対応して多結晶シリコン又はAlからなる隔膜104を形成し、隔膜104上にAu又はTiからなる第二金属層105を形成する。そして基板101の表面全体を窒化シリコンからなる絶縁膜106で覆う。第二金属膜105及び絶縁膜106には隔膜104まで達する孔107が形成され、基板101に湿式エッチングを行う。このとき溶液が多結晶シリコン又はAlからなる隔膜104をエッチングし、隔膜104が取り除かれて空洞が形成される。エッチング終了後に孔107を塞いで密閉する。そしてマイクロセンサに指からの圧力が加わると、その圧力に応じて絶縁膜106及び第二金属層105が第一金属層103側へ湾曲し、それに応じて信号を出力する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、第二金属層105及び絶縁膜106に形成した孔107は隔膜104の隅に位置し、その大きさも隔膜に対してかなり小さいため、隔膜104のエッチング工程に時間が長時間を必要としていた。更に孔から最も離れた部分の隔膜にはエッチング液が届き難く、その部分の隔膜が残留しやすかった。
【0005】
そこで本発明は、短時間で形成できると共に歩留まりを向上させた圧力センサを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項1の発明は、圧力センサであって、一対の金属層を間に空洞を挟んだ状態で対向配置し、一方の金属層は外部からの圧力に応じて他方の金属層側に湾曲する指紋センサにおいて、一対の金属層間にAlからなる中間層を介在させ、中間層をエッチングして空洞を形成し、両金属層がMoにより形成されていることを特徴とする。また請求項2の発明は、この圧力センサによって指紋を検知することを特徴とする。
【0007】
また請求項3の発明は、圧力センサの製造方法であって、基板上にMoで所定パターンの第一金属層を形成する工程と、第一金属層上にAlで中間層を形成する工程と、中間層を覆う第二金属層をMoで形成する工程と、少なくとも第二金属層上を含む領域に絶縁性の保護膜を形成する工程と、第二金属層又は保護膜に中間層が露出する孔を形成する工程と、孔よりエッチング液を注入して電池効果を利用して中間層を取除く工程とを有することを特徴とする。また請求項4の発明は、リン酸が塩酸の5倍以上含まれている混合液を用いて中間層をエッチングすることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。本発明の圧力センサは、2枚の電極間にAlを介在させ、このAlをエッチングして空洞を形成するときに、電池効果を利用してAlを短時間で確実に除去するものである。図1はマイクロセンサの断面図、図2はマイクロセンサの製造工程を説明する図である。
【0009】
複数のマイクロセンサがマトリクス状に配置されて指紋センサを構成する。各マイクロセンサは直径が約50μmの円形、又は一辺が約50μmの正方形である。ガラス基板1上にはMoからなる第一金属層2が形成される。この第一金属層2は可変コンデンサの第一電極、又はマイクロコンタクタの第一端子として作用し、円状又は四角状に形成される。3はガラス基板1上に積層されたSiNxからなる絶縁膜であり、第一金属層2に対応する部分が開口している。5はMoからなる第二金属層であり、空洞4を間に挟んで第一金属層2に対向して配置している。第二金属層5は可変コンデンサの第二電極、又はマイクロコンタクタの第二端子として作用し、第一金属層2とほぼ同形状で若干大きく形成される。6は第二金属層5や絶縁膜3上に積層された保護膜であり、SiNxから構成される。7は第二金属層5及び保護膜6に形成されて空洞4にまで達する孔である。なおこの孔7は空洞5を形成するときに必要であるが、空洞5の形成後は塞いだ方がよい。そして保護膜5に指からの圧力が加わったときにその圧力に応じて第二金属層5及び保護膜6が第一金属層2側へ湾曲し、マイクロセンサからはそのときの両金属層2、5の間隔に応じた信号を出力する。
【0010】
次に図2に基づいてマイクロセンサの製造工程を説明する。図2(a)ではガラス基板1上に所定パターンの第一金属層2を形成する。これはガラス基板1の全面にMoを積層し、フォトリソグラフィー法を用いて所定の箇所だけMoを残す。図2(b)では、ガラス基板1及び第一金属層2の全面にSiNxによる絶縁膜3を積層し、第一金属層2上に存在する絶縁膜3を取除く。
【0011】
図2(c)では、絶縁膜3及び第一金属層2にAlによる中間層8を積層し、第一金属層2に対応する部分の中間層8を残して他の部分の中間層8を取除く。この中間層8が空洞4に相当するため、中間層8の形状及び厚みなどは空洞4の大きさの設計値によって決まる。
【0012】
図2(d)では、絶縁膜3及び中間層8上にMoからなる第二金属層5を積層し、フォトリソグラフィー法により所定の形状に形成する。このとき第二金属層5によって中間層8を覆うようにすると共に、中間層8の端に位置する部分に中間層8を露出させる孔7を形成する。図2(e)では、絶縁膜3及び第二金属層5上にSiNxからなる保護膜6を積層し、保護膜6にも第二金属層2の孔7に対応する部分に孔7を形成する。
【0013】
図2(f)では、中間層8をエッチングして空洞4を形成する。エッチングは湿式を用い、エッチング液には塩酸とリン酸と水の混合液を用いる。エッチング液は孔7を通じて中間層8に達し、中間層8の端部から順にエッチングする。混合比が塩酸:リン酸:水=1:5:1のエッチング液を使用した場合、中間層8であるAlと金属層2、5であるMoとの間に電池効果が生じ、Alが短時間でエッチングされる。電池効果によりAlを積極的にエッチングする場合、エッチング液としては特にリン酸が塩酸の5倍以上含まれていればその効果が得られるが、塩酸:リン酸=1:5のエッチング液のときには同時に多量の泡が発生する。そこで実験によりさらに研究を重ねた結果、塩酸:リン酸:水=1:10:1のエッチング液を用いたときに、泡の発生が少なく且つAlが短時間で積極的にエッチングできた。実験によると、塩酸:リン酸:水=1:1:1のエッチング液を用いて厚さが3000ÅのAl薄膜をその端部からエッチングを行った場合、数時間かけてもほとんど奥行き方向にはエッチングされなかったが、塩酸:リン酸:水=1:10:1のエッチング液を用いた場合、Al薄膜は約4〜5分で奥行き方向に約30μmほどエッチングされた。このようなエッチング液を用いて金属層2、5(Mo)と接する中間層8(Al)をエッチングすることにより、中間層8を短時間で確実に取除くことができ、短時間で歩留まりよくマイクロセンサを製造することができる。
【0014】
なお、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば上記実施形態以外の形態も可能である。例えば金属層と中間層の電池効果を促進するものあれば、塩酸とリン酸の混合液以外のエッチング液を用いても良い。また中間層を露出させる孔を第二金属層と保護膜の両方に形成したが、中間層を取除くことができればどちらか一方に形成してもよい。また実施形態では指紋センサの場合を説明したが、指紋センサ以外の圧力センサに適用しても構わない。
【0015】
【発明の効果】
本発明によれば、2枚の金属層の間に存在する中間層をエッチングにより取除く際に金属層と中間層による電池効果を利用するため、短時間で且つ確実に中間層を取除くことができる。従って圧力センサを製造する際に、製造工程が短く且つ歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態である指紋センサの断面図である。
【図2】指紋センサの製造方法を説明する図である。
【図3】従来の指紋センサの断面図である。
【符号の説明】
2 第一金属層
4 空洞
5 第二金属層
7 孔
8 中間層

Claims (4)

  1. 一対の金属層を間に空洞を挟んだ状態で対向配置し、一方の金属層は外部からの圧力に応じて他方の金属層側に湾曲する圧力センサにおいて、一対の金属層間にAlからなる中間層を介在させ、前記中間層をエッチングして前記空洞を形成し、前記両金属層がMoにより形成されていることを特徴とする圧力センサ。
  2. 前記圧力センサによって指紋を検知することを特徴とする請求項1記載の圧力センサ。
  3. 基板上にMoで所定パターンの第一金属層を形成する工程と、前記第一金属層上にAlで中間層を形成する工程と、前記中間層を覆う第二金属層をMoで形成する工程と、少なくとも前記第二金属層上を含む領域に絶縁性の保護膜を形成する工程と、前記第二金属層又は前記保護膜に中間層が露出する孔を形成する工程と、前記孔よりエッチング液を注入して電池効果を利用して中間層を取除く工程とを有することを特徴とする圧力センサの製造方法。
  4. リン酸が塩酸の5倍以上含まれている混合液を用いて中間層をエッチングすることを特徴とする請求項3記載の圧力センサの製造方法。
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