JP3821647B2 - 化学蒸着システム及び方法 - Google Patents
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Description
【関連出願の相互参照】
本出願は、本願に組み込まれた西暦1999年4月23日に出願された米国仮特許出願シリアル番号60/130,783号の優先権を主張している。
【0002】
【発明の利用分野】
本発明は、特に、化学蒸着システムに関係し、より詳細には、ベルトに堆積が形成することを減少するために、耐酸化コーティングが施されたベルトを有するベルト駆動式化学蒸着システムに関係する。
【0003】
【発明の背景】
化学蒸着(CVD)システム又は反応装置は、良く知られており、基板表面上に種々の成分から成る薄膜を成長又は堆積するために、広く使用されている。例えば、CVDシステムは、半導体ウェハ上に誘電体層、不動態化層、及びドーパント層を堆積するために普通に利用されている。CVDシステムは、処理されるべき基板が設置される蒸着チャンバ内に処理ガス又は化学的蒸気を導入することにより、作動する。このガス状ソース化学種は、基板上に通され、基板表面に吸着され、且つ反応して薄膜を堆積する。種々の不活性キャリアガスを、固体又は液体ソースを、気体の形態で、蒸着チャンバ内に運び込むためにも使用することができる。通常、反応を促進するために、基板は200℃から900℃に加熱される。
【0004】
半導体製造で使用されるCVDシステムの一形態は、大気圧化学蒸着システム(以後、APCVDシステムと称する)である。APCVDシステムは、例えば、参考として本願に組み込まれる、Bartholomewに対する米国特許第4,834,020号に記述されている。APCVDシステムにおいて、蒸着チャンバは堆積圧力に維持され、同時にガス状ソース化学種が、導入され、基板上で反応して、薄膜が堆積される。APCVDの通常の実施形態は、堆積工程中に、蒸着チャンバを通過して基板を移動するために、ベルト又はコンベアを使用する。この設計は、基板の間で干渉の無い処理を可能とし、又APCVDシステムは、例えば、チャンバが各堆積工程に先立って真空にされる必要がある低圧CVDシステムよりもより速い薄膜成長速度を一般的に与えるので、ベルト駆動APCVDシステムは、より高い基板スループットを通常与える。
【0005】
図1を参照する。通常のベルト駆動APCVDシステム20は、基板上に層(図示せず)を堆積するためのガスインジェクタ45を各々のチャンバが有する一連のチャンバ40を有する処理マッフル35を通過して温度上昇された基板30を搬送するエンドレスワイヤーベルト25を、通常含む。ベルト25上の基板30は、処理マッフル35のフロアー55の下のヒーター50によって加熱される。基板30を横切って均一な厚さを有する薄膜を提供するために、基板は、堆積工程中に均一に加熱される必要がある。従って、基板30とベルト25との間、及びベルトとマッフルフロアー55との間に良好な熱接触が存在する必要がある。
【0006】
従来のAPCVDシステムの欠点は、堆積が基板上のみでなくシステム自体の構成要素上にも起こる点にある。APCVDシステム構成要素上への堆積によって引き起こされる問題は、堆積が剥がれて基板を汚染する可能性のある粒子を発生する点である。基板の均一且つ繰り返し可能な処理を保証するためには、これらの堆積が周期的にシステム構成要素から除かれる必要がある。特に、安定して均一な薄膜を得る様に均一に加熱するために基板とベルトとの間及びベルトとマッフルフロアーとの間でのフラットな接触表面を与えるように堆積は、ベルト及びマッフルから除去される必要がある。更に、各蒸着チャンバ直下のマッフルのフロアーは、処理後の基板の背面上への薄膜を防止(禁止)するためにパージガスが導入される多数の穴を通常含む。これらの穴がCVD堆積によって時間の経過と共に詰まる場合、穴を通過するパージガスの流れが不十分になり、基板の背面堆積か発生する。
【0007】
従って、粒子の発生を減少し、且つ一般的にAPCVDシステム構成要素及び特にベルト及びマッフルフロアーへの堆積の堆積を減少するAPCVDシステムの必要性が存在する。
【0008】
ステンレススチール及び多くのニッケルベース合金を含むクロム含有合金から構成される通常のAPCVDシステムの更なる信頼性は、これらの合金に所望の耐酸化性を与える保護クロム酸化物表面層をこれらの合金が形成する傾向があることと関連している。長時間の運用の後にこれらの合金上に形成されるクロム酸化物表面層は、APCVDシステムに採用される場合に、ガス状クロム含有成分を発生することが知られている。これらの成分は、処理済み基板上に凝結し、クロム汚染をもたらす。
【0009】
ベルト上の堆積形成をなくそうとして幾つもの試みがなされた。図1に示す一般に知られている一つの方法は、APCVDシステムの作動中連続的にベルトを清浄にするためベルト・クリーニング機構60を用いている。このベルト・クリーニング機構60は、処理マッフル35の下にエッチマッフル65を有する。チャンバ30と処理マッフル35を出てからベルト25は、エッチマッフル65に入り、そこでは窒素搬送ガスのガス状含水弗化水素(HF)(典型的には共沸濃縮物)がベルトを通ってベルト上の堆積と反応し、剥ぎ取る。それからベルト25は、脱イオン水の流れる超音波浴70に通され、その中でベルトから剥落粒子を揺さぶって除去する。最後に、処理マッフル35にもう一度入れる前にベルト25は、空気ナイフ75と赤外線ドライヤー80に通されベルトは乾かされる。
【0010】
上述した方法は、ベルトに沈積物が付着しないようにしているが、マッフルフロアー55が沈積物を堆積させて基板を不均一に加熱させてしまい、基板上に不均一に不良な薄膜を形成させ、またはパージ・パーフォレーションを詰まらせてしまう。これが起こると、マッフルフロアー55を清浄にしなければならず、そして普通マッフルエッチと呼ばれているHF清浄処理がそのために開発されている。この処理は、処理マッフル35を室温まで冷却することと、マッフルフロアー領域に近づくためシステムを分解することを必要とする。典型的には、この処理は、注入組立体をHF分与タンクに置き換えることを必要とする。これらのタンクは、マッフルフロアー55を液状もしくはガス状の含水HFに露出して、その含水HFが堆積を除去する。これらのマッフルエッチの回数は、使用される薬品の種類と分量、そして蒸着チャンバ(反応室)の温度によって異なる。典型的には、半導体ウェハを処理するのに使用される普通のAPCVDシステムに対してマッフルエッチとマッフルエッチとの間の平均時間は、100時間から200時間程度である。これは、頻繁な割り込みであり、そして時間もかかり、そうしなければ非常に効率的に基板を製造できるAPCVDシステムの能力を制限してしまう。
【0011】
従って、APCVDシステムの部品上の、特にベルトとマッフルフロアー上の沈着形成をなくして、APCVDシステムを稼動させる操作方法と、APCVDシステムそのものとに対する必要性がある。
【0012】
MTBMEを増加させ、それにより単位時間当たりの基板製造量を増加させるAPCVDシステムに対するニーズがある。さらに、APCVDシステムの金属部品の内面からガス状の金属含有化合物の発生をなくす方法に対する必要性もある。
本発明は、これらの問題に対する解決を与える。
【0013】
【発明の開示】
本発明の目的は、従来の化学蒸着(CVD)システムよりも優れて、粒子の発生を減少させ、そしてマッフルエッチとマッフルエッチとの間の平均時間を長くする基板処理の方法と内側のシステム部品上の沈着形成を少なくする方法と、改良された化学蒸着(CVD)システムとを提供することにある。
【0014】
CVDシステムの一実施例は、ベルト駆動式雰囲気化学蒸着システム(APCVDシステム)であり、そして基板は、半導体ウェハである。APCVDシステムは加熱されたマッフルと、基板処理のため薬品蒸気を導入する注入組立体を有する一つ以上のチャンバと、マッフルとチャンバとに基板を通すベルトとを含んでいる。このベルトには耐酸化コーティングを施して、ベルトや他の隣接部品に沈着が形成しないようにしている。この耐酸化コーティングは、多くのクロム含有合金の表面に生じる揮発性のクロム含有種の形成を、それらの合金表面上のクロム酸化物生成を防止(阻止)することにより、防止(阻止)する。一つのバージョンで耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物層を含む。このニッケルアルミニウム化合物は、成形温度によってNiAl3、Ni2Al3 もしくは両方である。耐酸化コーティングは、酸化アルミニウムのような転移のない安定した、固有の酸化物層を含むのが好ましい。耐酸化コーティングの平均厚みが少なくとも5ミクロンであるのが一層好ましい。
【0015】
アルミニウム合金、アクチベータそして不活性パウダーからなる粉末をベルトの周りに充填(パック)してそのパウダー(粉末)とベルトとを加熱してアルミニウムをベルトの表面に拡散させることによりニッケルアルミニウム化合物層を形成できる。(i)窒素を流しながら第1の温度までベルトを加熱させ、(ii)窒素を水素に切り替えて、ベルトを第2のより高い温度へ加熱しながら水素を流し、そして(iii)所定時間第2温度で水素雰囲気内にベルトを保ってベルト上のニッケルアルミニウム化合物層の中のアルミニウムを酸化させることにより酸化アルミニウム層を形成する。
【0016】
別の特徴では、本発明は、基体の表面に薄膜を付着させるベルト駆動APCVDシステムに向けられている。この方法では、ベルトが設けられ、そのベルトは、クロム含有合金で作られ、酸化クロムに耐えるためにベルトの表面上に耐酸化コーティングを有している。その基体は、ベルト上に置かれ、ベルトは、基体を付着チャンバへ搬送するように移動される。化学蒸気が化学蒸着チャンバへ注入され、化学蒸着チャンバにおいて、化学蒸気が薄膜を基体の表面へ付着させるように反応する。ある実施例では、耐酸化コーティングを有するベルトを設けるステップは、実質的に遷移金属を含まないしっかりと付着した酸化層(密着酸化層)を有するベルトを設けるステップを含む。好ましくは、耐酸化コーティングを有するベルトを設けるステップは、アルミニウム酸化層を有するベルトを設けるステップを含む。さらに好ましくは、耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物層にしっかりと付着した酸化アルミニウム層(密着酸化アルミニウム層)を含む。
【0017】
更に別の特徴では、本発明は、ベルト及び隣接要素の表面上への付着物の形成を減少させて、マッフルエッチ間の平均時間(MTBME)を増大させるための手段を有するCVDシステムに向けられている。好ましくは、MTBMEは、ベルト表面上への付着物の形成を減少させる手段を有しないシステムに比べて少なくとも3のファクタだけ増大する。更に好ましくは、MTBMEは、ベルト表面上への付着物の形成を減少させる手段を有しないシステムに比べて10のファクタだけ増大する。或る実施例では、ベルトは、クロム含有ニッケル合金で作られ、ベルト表面上への付着物の形成を減少させる手段は、熱酸化クロムの形成を防止する耐酸化コーティングを含む。
【0018】
本発明のこれら及び他の様々な特徴及び利点は、以下の詳細な説明を図面とともに読むことにより明らかになるであろう。
【0019】
【実施例】
本発明は、一連の連続処理される基体上に材料の層を均一且つ安定して付着させるか又は成長させる装置及び方法であって、その装置の構成要素上への付着物及びその付着物からの汚染化合物の発生を減少させる装置及び方法を提供する。 本発明に係る装置及び方法は、ベルト駆動大気化学蒸着システム(APCVDシステム)を使用して半導体ウェハのような基体上に材料の層を付着させるのに特に有用である。本発明に係る典型的なAPCVDシステムの概要が図2に示されている。ここに示されたAPCVDシステムの特定の実施例は、本発明を説明するためだけに示されたものであり、本発明の範囲を限定するために使用されるべきではない。
【0020】
図2を参照すると、APCVDシステムは、一般に、1つ又はそれ以上のチャンバ120を有する処理マッフル115を介して基体110を移動させるエンドレスワイヤベルト105を含む。各チャンバは、基体を処理するために処理ガス又は化学蒸気を導入する注入アセンブリ130を有する。加熱要素140が処理マッフル115の床145の下に設けられて処理マッフル内で基体110を加熱する。処理マッフル115の床145は、多数のパージホールを有し、そのパージホール150を通って、窒素、ヘリウム又はアルゴンのような不活性パージガスがチャンバ120に流れ込む。加えて、各チャンバ120の片側にある2組のプレナム155a、155bが流れパージガスをマッフル115の床145へ向かって下方へ送る。この流れは、ガスカーテン(図示せず)を形成し、このガスカーテンが、何らかの化学蒸気が隣接チャンバへ移動するか又は処理マッフル115から出ることを実質的に防止する。排気システム160が、廃化学蒸気及びパージガスを処理マッフル115の頂部165から排気する。選択的に、APCVDシステムが、更に、図1に示され且つ上述したようにベルトクリーニング機構60を含んでもよい。
【0021】
一般的に、ベルト105、処理マッフル115及びチャンバ120の1つ若しくはそれ以上のものが、例えばInconel(登録商標)、haynes(登録商標)214、Pyromet(登録商標)601等のニッケルをベースとした高温超合金、又は、その他の同様のニッケル含有合金から作られる。前記した超合金は、高温に耐えることができ、良好な成形及び溶接特性を示す。Inconel(登録商標)は、所望の機械特性を損なったり失ったりすることなく、周期的な加熱と冷却とに耐える能力があるので好ましい。更に好ましくは、公称の組成(重量%)において、約60%のNi(ニッケル)と約22%のCr(クロム)と約17%のFe(鉄)と約1%のAl(アルミニウム)とを有するPyromet(登録商標)601が用いられる。
【0022】
これらの超合金は、通常、高温酸化雰囲気にさらされている間に自然発生的に形成される表面熱酸化層によって、良好な高温酸化及び腐食抵抗を示す。クロム含有合金では、表面酸化層は、典型的には酸化クロム(Cr2O3)を含んでおり、これは、高温酸化雰囲気中で準安定性のクロム含有ガス状のコンパウンドを発生するものとして知られている。これらのコンパウンドの形成は、合金の表面に不浸透性で耐酸化性でクロムのないコーティングが塗布されれば、阻止される。従って、本発明によれば、耐酸化コーティング175が、ベルト105の表面に形成されている。
【0023】
好ましくは、耐酸化コーティング175は、下側の合金の酸化を実質的に防止するために、無孔性で且つベルト105の全ワイヤ表面に順応した形状になっている。例えば、ベルト105が、Inconel(登録商標)、haynes(登録商標)214、Pyromet(登録商標)601、及びその他の同様のニッケル含有合金で作られ且つ上記のクロムを含有しているとき、耐酸化コーティング175は、クロム含有熱酸化物の形成を減少するように選択される。好ましくは、耐酸化コーティング175は、約3μm〜15μmの平均厚さ、更に好ましくは、少なくとも5μmの平均厚さを有する。
【0024】
図3を参照すると、1実施例において、耐酸化コーティング175は、ニッケルアルミニウム化合物層180を有する。このニッケルアルミニウム化合物層は、形成されるときの温度に依存して、NiAl3又はNi2Al3又はその両方である。ニッケルアルミニウム化合物層180は、下側のクロム含有合金を隔離する、緊密に付着した酸化バリヤを形成することによって、熱クロム酸化物の形成に抵抗する。この実施例の1つの態様として、ニッケルアルミニウム合金層180は、アルミニウム酸化物層185、すなわち、NiAl3又はNi2Al3層を得るように制御された雰囲気中で予め酸化されて、下側のベルト105に対して実質的に全ての遷移金属のない状態にする。
【0025】
耐酸化コーティング175を形成する方法を、図4を参照して説明する。図4は、ニッケルをベースとした超合金で成るベルト105の上のアルミニウム酸化物層185とニッケルアルミニウム化合物層180とを有する耐酸化コーティング175を形成する方法の1実施例を示すフローチャートである。アルミナイゼーション(アルミニウム処理)ステップ190において、アルミニウムが、パックセメンテーション処理を用いてベルト105の表面に合金にされる。その処理では、アルミニウム合金とアクティベータと不活性パウダーとを含むパウダーが、ベルト105の回りにパックされて、そのパウダーとベルトが加熱され、それによってアルミニウムがベルト表面に拡散させられる。一般的に、アクティベータは、例えば、フッ化ナトリウム(NaF)又は塩化アンモニウム(NH4Cl)等のハロゲン化物であり、不活性パウダーは、アルミナ(Al2O3)である。十分に高温(約640℃以上であるが、ベルト105の金属を軟化させる程には高くない温度)に加熱されると、アクティベータは、アルミニウム合金と反応してガス状(気体)のアルミニウムハロゲン化物を形成する。これらのガス状アルミニウムハロゲン化物は、ベルト105の表面に凝縮して、その表面でアルミニウム元素に還元されてベルト中に拡散され、ニッケルアルミニウム化合物層180を形成する。
【0026】
上記のステップに代えて、あるいは上記ステップに加えて、ニッケルアルミニウム化合物層180は、第2アルミナイゼーションステップ195のスラリーを用いる液相反応によって、ベルト105に直接形成することができる。そのスラリー処理において、アルミニウム層が、ベルト105の表面に直接、塗布又はスプレーされる。次に、ベルト105が、保護雰囲気中で加熱されて、それによって、アルミニウムがベルト表面の中に拡散させられる。その加熱は、例えば、アルゴン又は水素プラズマスプレーを用いて行われる。好ましくは、アルミナイゼーションステップ190及び195の1つ若しくはそれ以上の完了後、ニッケルアルミニウム化合物層180は、約3μm〜15μmの平均厚さ、更に好ましくは、約5μm以上の平均厚さを有する。
【0027】
この時点で、耐酸化コーティング175を形成する工程を停止することができ、自身の上にニッケルアルミニウム化合物層180を有するベルト105が、点検(サービス)下に置かれる。これは、ニッケルアルミニウム化合物層180のアルミニウムの濃度によって、酸化アルミニウム層185が上昇温度で酸化性雰囲気に露出されたときに、安定した酸化アルミニウム層185が形成されるからである。しかしながら、好ましい実施形態では、ニッケルアルミニウム化合物層180は、酸化アルミニウム層185の形成を促進する一方で、ニッケルの酸化を実質的に防止するために、制御された環境で予め酸化される。これを達成するための工程を以下に記述する。
【0028】
図4を再び参照する。それ自身の上にニッケルアルミニウム化合物層180を有するベルト105は、第1の加熱ステップ200で、窒素が流れる環境で、約300℃の温度に加熱される。窒素の流れは、その後、乾いた酸素の流れによって置き換えられ、第2の加熱ステップ205で、ベルト105は約700℃の第2の温度にまで上昇される。約500から約800℃の温度であれば許されるが、700℃が好ましい。なぜなら、ベルト105のニッケルベースの合金をそれほど軟化させることなしに、最も高い酸化率を提供することができるからである。次に、酸化ステップ210で、ベルト105は、ほぼ4時間、ほぼ0°の露点を有する湿った酸素環境で第2の温度(700℃)で維持される。最後に、冷却ステップ(図示していない)で、この環境は乾いた酸素に戻され、温度は約600℃まで下げられる。この時点で、乾いた酸素は窒素に置き換えられ、ベルト105は室温まで冷却される。
例
以下の例は、本発明のある実施形態の利点を説明するために挙げたものであって、本発明の範囲を何ら限定しようとするものではない。
例1:
第1の実施例では、Pyromet(登録商標)で形成されたベルト105を本発明に従って処理し、ニッケルアルミニウム化合物層180と酸化アルミニウム層185を含み、且つ、約5μmの平均厚みを有しているような、耐酸化コーティング175を提供する。ベルト105はその後APCVDシステム100に取り付けられ、そして、様々な処理が実行されて、誘電性パッシべーションとドーパント層が、450°〜550℃の範囲にわたる温度で半導体ウェハ上に付着される。非コーティングベルトを用いるこのタイプの点検(サービス)における、このAPCVDシステム100のための典型的なMTBMEは、ほぼ150時間である。APCVDシステム100は、330時間後に、ベルト105とは無関係の理由で点検(サービス)を取り止めるが、ベルト上の付着物、及び、そこに現れたマッフルフロア145上に堆積された粒子のその後の測定は、その際、マッフルエッチングのためには不要である。したがって、この例は、本発明の耐酸化コーティング175は、非コーティングベルトのそれの上部におけるMTBMEを少なくとも120%だけ増加できることを、示すものである。
例2:
第2の例では、これまたPYROMET(登録商標)601で形成された他のベルト105に、約5μmの平均厚みを有した予め酸化されたニッケルアルミニウム化合物層180を有する、耐酸化コーティング175が設けられている。ベルト105は、その後、顧客側の他のAPCVDシステム100に取り付けられ、APCVDシステムは、約400℃でTEOS(テトラエチルオルトケイ)を用いて、ドーピングされていないガラス層を半導体ウェハ上に付着するように働く。標準的な非コーティングベルトを用いる、このAPCVDシステム100のための典型的なMTBMEは、ほぼ250時間である。コーティング済みのベルト105が取り付けられている場合には、第1のマッフルエッチングは、顧客の要求により500時間実行されるが、しかしながら、ここでもそれが必要であるという証拠はない。
例3:
第3の例で、例2で使用したのと同じベルト105と同じAPCVDシステム100により、検査前に100時間動作させることができ、ここでも、マッフルエッチングが必要であるという証拠はない。標準的な非コーティングベルトを用いるこのシステムのための典型的なMTBMEは、250〜280時間である。耐酸化コーティング175を有するベルト105を有したAPCVDシステム100は、マッフルエッチングを必要とせずに、200時間を超えて動作し続け、この際、マッフルエッチングは、ベルトや、薄膜の一様性、若しくは粒子とは無関係の理由で実行される。この例は、非コーティングベルトのそれの上で、MTBMEが600%以上増加したことを示すものである。更に、この例は、耐酸化コーティング175は、連続するCVD動作の苛酷な状況や、マッフルエッチング手順の乱暴な取り扱いにも耐えることができる。
【0029】
上の例に示されているように、本発明による耐酸化コーティング175を有するベルト105を有したAPCVDシステム100は、MTBMEを増加させ、これにより、APCVDシステムの利用可能性を増大させ、また、基体毎の、APCVDシステムの所有及び動作コストを減少させる。半導体製造の非常に厳しい競争分野において、これらはかなり優位であり、従来のAPCVDシステムによっては得られなかったものである。
【0030】
本発明の様々な実施形態の数多くの特性と利点が、本発明の様々な実施形態の構造及び機能の詳細と共に前述した記述中に説明されているが、この開示は説明のためだけのものであり、詳細について、特に部分の構造や構成に関しては、本発明の原理の範囲内で添付クレームで表された用語の広く一般的な意味によって示される程度まで変更が可能である。例えば、ここに記述した好ましい実施形態は、半導体基体を処理するために使用されるAPCVDシステムのベルト上の耐酸化コーティングに向けられているが、本発明の教示を異なる基体を処理するために使用されるCVDシステムの他の部品に適用することもできる。従って、添付クレームは、ここに記述された好ましい実施形態に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 ベルト駆動APCVDシステムの概略側面図である。
【図2】 本発明に係る耐酸化コーティングの実施例を具備するベルトを有するベルト駆動APCVDシステムの部分断面側面図である。
【図3】 本発明に係る耐酸化コーティングの実施例を有するベルトの部分断面側面図である。
【図4】 本発明に係る耐酸化コーティングを具備するベルトを製造する処理の実施例を示すフローチャートである。
Claims (20)
- 基板を処理する化学蒸着システムであって、
(a)前記基板を処理するために化学蒸着チャンバに化学気化物質を導入するように構成されたインジェクター組立体を有する少なくとも1つの化学蒸着チャンバ、及び
(b)前記化学蒸着チャンバを通して処理すべき前記基板を移動するように構成されたベルトを備え、
前記ベルトは、前記ベルト及び隣接するシステム上の堆積の形成と微粒子の発生を減少させるように耐酸化コーティングを有し、前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物を備えることを特徴とする化学蒸着システム。 - 前記ベルトは、クロム含有合金を備え、前記耐酸化コーティングは、酸化クロムの形成を阻止する請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記クロム含有合金は、ニッケル、鉄及びアルミニウム含有合金である請求項2に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、実質的に遷移金属を含まない密着酸化物層を含む請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、酸化アルミニウムを含む請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物の層上に密着酸化物層を更に備えている請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記ニッケルアルミニウム化合物は、NiAl3又はNi2Al3を備えている請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、少なくとも5μmの平均厚みを有する請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 前記化学蒸着システムは、大気中化学蒸着システムを備え、かつ前記基板は、半導体ウェハを備える請求項1に記載の化学蒸着システム。
- 化学蒸着システムを動作させて基板の表面に薄膜を堆積させる方法において、
(a)クロム含有合金を有し、ベルトの表面に酸化クロムの形成を阻止する耐酸化コーティングを有するベルトを設け、
(b)前記ベルト上に基板を置き、
(c)前記ベルトを動かして、前記基板を化学蒸着チャンバ内へ移動させ、
(d)前記化学蒸着チャンバ内に化学気化物質を注入し、
(e)前記化学蒸着チャンバ内の前記化学気化物質を反応させて、前記基板の表面上に薄膜を堆積させるステップを備え、
前記ステップ(a)は、ニッケルアルミニウム化合物層を含む耐酸化コーティングを有するベルトを設けるステップを更に備えることを特徴とする方法。 - 前記ステップ(a)は、前記ニッケルアルミニウム化合物層に堅固に固着した酸化アルミニウム層を含む耐酸化コーティングを有するベルトを設けるステップを備える請求項10に記載の方法。
- 基板を処理する化学蒸着システムであって、
(a)前記基板の表面上で反応させるために化学蒸着チャンバに化学気化物質を導入するように構成されたインジェクター組立体を有するチャンバを有するマッフル、
(b)前記チャンバ内に前記マッフルを通して処理すべき前記基板を移動するように構成されたベルト、及び
(c)マッフル・エッチング間の平均時間(MTBME)を増大するように前記ベルトの表面上の堆積の形成を減少させる手段を備え、
前記手段は、ニッケルアルミニウム化合物を含んでいる耐酸化コーティングを備えていることを特徴とする化学蒸着システム。 - 前記ベルトは、クロム含有合金を備え、前記耐酸化コーティングは、クロム酸化物の形成を阻止する請求項12に記載の化学蒸着システム。
- 前記ベルトは、クロムを備え、前記耐酸化コーティングは、前記ベルト上のクロム含有酸化物の形成を減少させる請求項12に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、実質的に遷移金属を含まない安定な酸化物層を備える請求項12に記載の化学蒸着システム。
- 前記MTBMEは、前記ベルトの表面上の堆積の形成を減少させる手段を有していないシステムに対して少なくとも3倍増加する請求項12に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物の層を備えている請求項12に記載の化学蒸着システム。
- 前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物の層上に密着酸化アルミニウム層を備えている請求項17に記載の化学蒸着システム。
- 基板を処理する化学蒸着システムであって、
(a)前記基板を処理するためにチャンバに化学気化物質を導入するように構成されたインジェクター組立体を有する少なくとも一つのチャンバを有するマッフル、
(b)前記チャンバ内に前記マッフルを通して処理すべき前記基板を移動するように構成されたベルト、及び
(c)前記マッフルから使用済み化学気化物質を排気するように構成された排気システムを備え、
前記ベルト、前記マッフル及び前記排気システムの少なくとも一つは、その上への堆積の形成と微粒子の発生を減少させるように耐酸化コーティングを有し、前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物を備えることを特徴とする化学蒸着システム。 - 前記耐酸化コーティングは、ニッケルアルミニウム化合物の層及び当該ニッケルアルミニウム化合物の層上に密着酸化アルミニウム層を備えている請求項19に記載の化学蒸着システム。
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