JP3821426B2 - 電子部品実装用基板 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品を実装するために用いる電子部品実装用基板、特に、CSP(Chip Size Package)、BGA(Ball Grid Array)、μ−BGA(μ-Ball Grid Array)、FC(Flip Chip)、QFP(Quad Flatpack Package)などのように搭載される電子部品とほぼ同等のサイズを有する電子部品実装用基板で、封止樹脂でのモールド部と外部接続端子とが近接して設けられているもの(以下、単に「電子部品実装用基板」という)に関する。
【0002】
【従来の技術】
エレクトロニクス産業の発達に伴い、IC(集積回路)、LSI(大規模集積回路)等の電子部品を実装するプリント配線板の需要が急激に増加しているが、電子機器の小型化、軽量化、高機能化が要望され、これら電子部品の実装方法として、最近ではTABテープ、T−BGAテープおよびASICテープ等を用いた実装方式が採用されている。特に、電子機器の軽薄短小化に伴って、電子部品をより高い密度で実装すると共に、電子部品の信頼性を向上させるために、実装する電子部品の大きさにほぼ対応した大きさの基板のほぼ全面に外部接続端子を配置した、CSP、BGA、μ−BGAなどの使用頻度が高くなってきている。
【0003】
このような電子部品実装用基板は、電子部品を実装した後、電子部品との接合部を封止樹脂によりモールドして使用される。
【0004】
このような電子部品実装用基板の一例を図13及び図14に示す。
【0005】
両図に示すように、電子部品実装用基板110は、テープ状の絶縁フィルム101上に複数個連続的に形成される。絶縁フィルム101は、幅方向両側に移送用のスプロケット孔102を一定間隔で有し、図13では、絶縁フィルム101の幅方向に2個の電子部品実装用基板110が設けられている。
【0006】
電子部品実装用基板110は、実装される電子部品の大きさにほぼ対応した大きさの絶縁基材111のほぼ全面に配線パターン112、デバイス側接続端子113及び外部接続端子114が設けられており、デバイス側接続端子113の間には、当該デバイス側接続端子113と裏面側に実装される電子部品と接続するためのスリット115を具備する。
【0007】
デバイス側接続端子113及び外部接続端子114を除く配線パターン112は、ソルダーレジスト層116により覆われ、外部接続端子114に対応するソルダーレジスト層116には、端子ホール117が形成されている。かかる外部接続端子114は、半田ボールパッドとなり、半田ボールを介して外部と接続される。
【0008】
このような電子部品実装用基板110に電子部品を実装した状態を図15に示す。図示するように、電子部品実装用基板110には電子部品としてIC130が実装され、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子113とIC130の電極とがボンディングワイヤ131を介して接続され、ボンディングワイヤ131を含むスリット115及びデバイス側接続端子113は、封止樹脂133によりモールドされる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、モールド部の周囲に近接して電極・配線等が設けられているので、封止樹脂によるモールドを高精度に行わないと、モールド部の周囲の電極が封止樹脂に覆われて不良品となるという問題がある。
【0010】
具体的には、モールド部の周囲に近接して端子ホール117が設けられていると、図15に示すように、封止樹脂133が端子ホール117に流れ込んでしまい、この外部接続端子114では接触不良が生じる虞がある。
【0011】
本発明は、このような事情に鑑み、封止樹脂を比較的容易にモールドでき、封止樹脂の流れ出しによる不良等が低減する電子部品実装用基板を提供することを課題とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する本発明の第1の態様は、絶縁基材と、この絶縁基材の一方面に形成された配線パターンと、この配線パターンの少なくともデバイス側端子部を除く表面を被覆するソルダーレジスト層と、前記絶縁基材に設けられたスリットとを具備し、電子部品が前記絶縁基材の前記配線パターンとは反対の面に実装された後、前記スリットを介しての前記デバイス側端子部と電子部品との接合部が封止樹脂によりモールドされる電子部品実装用基板において、前記ソルダーレジスト層には、前記モールドされる領域とその周囲の領域との境界部に、当該モールドされる領域側の膜厚が相対的に薄くなった段差部が少なくとも一つ設けられており、この段差部は、前記ソルダーレジスト層に設けられた溝により形成され、当該溝の両側には他の領域の標準的な厚さより厚膜に形成された厚膜部を有することを特徴とする電子部品実装用基板にある。
【0013】
かかる第1の態様では、電子部品の実装後、電子部品等の接合部をモールドする際、封止樹脂が厚膜部の中に形成された溝及び段差部でせき止められ、その周囲まで侵出する虞がない。
【0014】
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記モールドされる領域の周囲の領域には、前記ソルダーレジスト層に形成された端子ホールが形成され、この端子ホール内に外部接続端子が設けられていることを特徴とする電子部品実装用基板にある。
【0015】
かかる第2の態様では、電子部品の実装後、電子部品等の接合部をモールドする際、封止樹脂が段差部でせき止められ、封止樹脂によりその周囲の端子ホールが塞がれる虞がない。
【0024】
本発明の第3の態様は、第1又は2の態様において、前記厚膜部が土手状に形成され、その外側が標準的な膜厚を有することを特徴とする電子部品実装用基板にある。
【0025】
かかる第3の態様では、電子部品の実装後、電子部品等の接合部をモールドする際、封止樹脂が厚膜部に形成された段差部でせき止められ、また、その外側に端子ホールがあってもその周囲のソルダーレジスト層の膜厚、又はデバイス側端子付近のソルダーレジスト層の膜厚が標準的なものであるので、端子への接合作業に支障がでる虞がない。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態に係る電子部品実装用基板をその製造方法及び使用例と共に説明する。勿論、本発明はこれに限定されるものでないことはいうまでもない。
【0027】
図1には参考例1に係る電子部品実装用基板の概略平面、図2にはA−A断面を示す。
【0028】
図1及び図2に示すように、電子部品実装用基板10は、テープ状の絶縁フィルム1上に複数個連続的に形成される。絶縁フィルム1は、幅方向両側に移送用のスプロケット孔2を一定間隔で有し、一般的には、移送されながら電子部品が実装され、電子部品実装後、電子部品実装用基板10毎に切断される。なお、図1では、絶縁フィルム1の幅方向に2個の電子部品実装用基板10が設けられている。
【0029】
電子部品実装用基板10は、実装される電子部品の大きさにほぼ対応した大きさの絶縁基材11のほぼ全面に配線パターン12、デバイス側接続端子13及び外部接続端子14が設けられており、デバイス側接続端子13の間には、当該デバイス側接続端子13と裏面側に実装される電子部品と接続するためのスリット15を具備する。
【0030】
デバイス側接続端子13及び外部接続端子14を除く配線パターン12は、ソルダーレジスト層16により覆われ、外部接続端子14に対応するソルダーレジスト層16には、端子ホール17が形成されている。すなわち、外部接続端子14は、半田ボールパッドとなり、半田ボールを介して外部と接続される。
【0031】
また、内側に配置された端子ホール17と、デバイス側接続端子13との間には、端子ホール17側に対してデバイス側接続端子13が低くなる段差部20が形成されている。ここで、段差部20のデバイス側接続端子13側は溝21となっており、段差部20及び溝21は、端子ホール17とデバイス側接続端子13との間にスリット15の長手方向に亘って設けられている。
【0032】
なお、絶縁基材11の裏面側には、一般的には、電子部品を仮固定するための接着剤層19が設けられている。但し、電子部品実装用基板としては、この接着剤層19は必ずしも必要ではない。
【0033】
ここで、絶縁フィルム1(絶縁基材11)としては、可撓性を有すると共に、耐薬品性及び耐熱性を有する材料を用いることができる。かかる絶縁フィルム1の材料としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド等を挙げることができ、特に、ビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミド(例えば、商品名:ユーピレックス;宇部興産(株))が好ましい。なお、絶縁フィルム1の厚さは、一般的には、25〜125μm、好ましくは、25〜75μmである。
【0034】
絶縁フィルム1の表面に設けられた配線パターン12、デバイス側接続端子13及び外部接続端子14は、一般的には、銅やアルミニウムからなる導電体箔をパターニングすることにより形成される。このような導電体箔は、絶縁フィルム1上に直接積層しても、接着剤層を介して熱圧着等により形成してもよい。導電体箔の厚さは、例えば、6〜70μm、好ましくは、8〜35μmである。導電体箔としては、銅箔、特に、エッチング特性、操作性などを考慮すると、電解銅箔が好ましい。
【0035】
なお、絶縁フィルム1上に導電体箔を設けるのではなく、導電体箔に、例えば、ポリイミド前駆体を塗布し、焼成してポリイミドフィルムからなる絶縁フィルム1とすることもできる。
【0036】
また、絶縁フィルム1上に設けられた導電体箔は、フォトリソグラフィー法により、配線パターン12、デバイス側接続端子13及び外部接続端子14としてパターニングされる。すなわち、フォトレジスト層を塗布した後、フォトレジスト層をフォトマスクを介しての露光及び現像でパターニングし、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチング液で化学的に溶解(エッチング処理)して除去し、さらに、フォトレジストをアルカリ液等にて溶解除去することにより導電体箔をパターニングする。
【0037】
次いで、このようにパターニングされた導電体箔上にはソルダーレジスト材料塗布液が塗布され、所定のパターニングにより、ソルダーレジスト層16が形成される。
【0038】
さらに、ソルダーレジスト層16により覆われていない配線パターン12、デバイス側接続端子13及び外部接続端子14には、一般的には、メッキが施されている。かかるメッキとしては、スズメッキ、半田メッキ、金メッキ、ニッケル−金メッキなどを挙げることができ、電子部品の実装方法等に応じて選択される。例えば、ワイヤボンディングによる実装を行うためには、ニッケル−金メッキが好ましい。
【0039】
ソルダーレジスト層16を形成する材料としては、フォトリソグラフィー法により段差部20等を形成する場合には、フォトソルダーレジスト材料を用いる。フォトソルダーレジスト材料としては、ネガ型でもポジ型でもよく、一般的なフォトレジストの性質と、導電体箔の保護する性質とを備えたものであればよい。例えば、アクリレート系樹脂、特に、エポキシアクリレート樹脂などの感光性樹脂に光重合開始剤等を添加したものである。エポキシアクリレート樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂、ノボラック型エポキシアクリレート樹脂、ビスフェノールA型エポキシメタアクリレート樹脂、ノボラック型エポキシメタアクリレート樹脂等を挙げることができる。
【0040】
かかるフォトソルダーレジスト材料は、有機溶剤に溶解又は分散されて塗布液として塗布される。塗布液の中には、硬化促進剤、充填剤、添加剤、チキソ剤等を添加することもできる。また、ソルダーレジスト層16の可撓性等の特性を向上させるために、ゴム微粒子のような弾性を有する微粒子を配合することもできる。
【0041】
フォトソルダーレジスト材料塗布液の配合の一例としては、アクリレート系樹脂35〜45%、アクリル酸エステルモノマー0.1〜5%、エポキシ硬化剤0.1〜5%、着色顔料0.1〜5%、体質顔料10〜20%、添加剤0.1〜5%、光重合開始剤1〜10%、及び有機溶剤30〜40%の混合物を挙げることができる。このようなフォトソルダーレジスト材料塗布液は、例えば、膜厚(20〜50)μm程度に塗布され、例えば、熱風、80℃程度で30分程度乾燥された後、露光・現像される。また、現像後、必要に応じて、例えば、150℃程度で60分程度熱処理され、熱硬化される。
【0042】
このように形成されたソルダーレジスト層16の厚さは、例えば、20〜50μmとし、段差部20の相対的に膜厚が薄い部分は、1〜20μmの厚さとするのが好ましい。この範囲より薄いと、下の配線パターン12等を保護する効果の点で問題が生じる虞があり、また、これより厚いと段差部としての封止樹脂のせき止め作用が顕著ではなくなる虞があるからである。
【0043】
また、段差部20等をフォトリソグラフィー法ではなく、レーザ加工により形成する場合には、スクリーン印刷技術により必要な領域のみに塗布されて熱硬化される一般的なソルダーレジスト材料塗布液を用いることができる。
【0044】
かかるソルダーレジスト材料塗布液は、硬化性樹脂を有機溶媒に溶解又は分散したものであり、硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、エポキシ系樹脂のエラストマー変性物、ウレタン樹脂、ウレタン樹脂のエラストマー変性物、ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂のエラストマー変性物、アクリル樹脂等を挙げることができる。塗布液の中には、硬化促進剤、充填剤、添加剤、チキソ剤等を添加することもできる。また、ソルダーレジスト層16の可撓性等の特性を向上させるために、ゴム微粒子のような弾性を有する微粒子を配合することもできる。なお、このようなソルダーレジスト材料塗布液は、スクリーン印刷により、必要な領域のみに塗布され、熱硬化されてソルダーレジスト層16となる。なお、スクリーン印刷に使用するソルダーレジスト材料塗布液としては、フォトソルダーレジスト材塗布液を用いてもよい。
【0045】
このように配線パターン12、デバイス側接続端子13、外部接続端子14及びソルダーレジスト層16が設けられた絶縁フィルム1の反対側の面(裏面)には、実装する電子部品を仮固定するための接着剤層19を形成後、スリット15を形成し、電子部品実装用基板フィルムキャリアテープとされる。
【0046】
ここで、接着剤層19としては、熱硬化性で且つ弾性を有する接着剤を用いて形成するのが好ましく、裏面に直接塗布することにより形成してもよいし、接着剤テープを用いて形成してもよい。また、接着剤層19は、電子部品を実装する領域全体に設ける必要はなく、一部の領域に設けてもよい。
【0047】
このような電子部品実装用基板10は、図3に示すように、電子部品としてIC30が実装され、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子13とIC30の電極とがボンディングワイヤ31を介して接続され、ボンディングワイヤ31を含むスリット15及びデバイス側接続端子13は、封止樹脂33によりモールドされる。
【0048】
ここで、封止樹脂33は、溝21及び段差部20の作用により、端子ホール17まで流れ込むことがなく、外部接続端子14での接続不良等を防止することができる。
【0049】
なお、電子部品実装用基板10は、フィルムキャリアテープのまま、電子部品が実装された後、それぞれ切断される場合と、一つ一つに切断された後、電子部品が実装される場合とがある。
【0050】
図4は、参考例2に係る電子部品実装用基板及びその使用態様を示す断面図である。
【0051】
図4(a)に示すように、電子部品実装用基板10Aは、段差部20Aの内側、すなわち、スリット15側が、デバイス側接続端子13近傍まで相対的に膜厚が薄い薄膜部22Aとなっている以外は基本的には上述した参考例と同様である。
【0052】
このような構造によっても、図4(b)に示すように、電子部品であるIC30を実装し、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子13とIC30の電極とをボンディングワイヤ31を介して接続し、ボンディングワイヤ31を含むスリット15及びデバイス側接続端子13を封止樹脂33によりモールドした場合、封止樹脂33が段差部20Aによりせき止めされ、端子ホール17までの流込みが防止される。
【0053】
図5は、実施形態1に係る電子部品実装用基板及びその使用態様を示す断面図である。
【0054】
図5に示すように、電子部品実装用基板10Bは、段差部20B及び溝21Bを有する点では図2の構造と同一であるが、溝21Bの幅方向両側の縁部が厚膜部23Bとなっている。すなわち、他の領域の標準的な膜厚より厚い厚膜部23B内に溝21Bを形成したものである。
【0055】
なお、厚膜部23Bは土手状に設けられており、デバイス側接続端子13の近傍及び端子ホール17の近傍のソルダーレジスト層16を標準的な膜厚とし、後工程のワイヤボンディングや半田ボールとの接合に悪影響を与えないようにしている。
【0056】
このような構造によっても、図5(b)に示すように、電子部品であるIC30を実装し、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子13とIC30の電極とをボンディングワイヤ31を介して接続し、ボンディングワイヤ31を含むスリット15及びデバイス側接続端子13を封止樹脂33によりモールドした場合、封止樹脂33が段差部20B及び溝21Bによりせき止めされ、端子ホール17までの流れ込みが防止される。
【0057】
図6は、実施形態2に係る電子部品実装用基板及びその使用態様を示す断面図である。
【0058】
図6に示すように、電子部品実装用基板10Cは、段差部20C及び溝21Cを有する点では図5の構造と同一であるが、溝21Cの幅方向両側の縁部の厚膜部23Cが土手状ではなく、もう少し広範囲に設けられている以外は、図5の構造と同一である。
【0059】
このような構造によっても、図6(b)に示すように、電子部品であるIC30を実装し、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子13とIC30の電極とをボンディングワイヤ31を介して接続し、ボンディングワイヤ31を含むスリット15及びデバイス側接続端子13を封止樹脂33によりモールドした場合、封止樹脂33が段差部20C及び溝21Cによりせき止めされ、端子ホール17までの流れ込みが防止される。
【0060】
なお、厚膜部23Cがデバイス側接続端子13の近傍及び端子ホール17の近傍まで形成されていても、後工程のワイヤボンディングや半田ボールとの接合に悪影響を与えないことが前提となる。
【0061】
図7は、参考例3に係る電子部品実装用基板及びその使用態様を示す断面図である。
【0062】
図7に示すように、電子部品実装用基板10Dは、段差部20Dを、土手状に形成した厚膜部23Dにより形成したものである。このように、段差部は必ずしも溝や薄膜部により形成する必要はなく、標準的な膜厚より厚い厚膜部23Dを設けることにより形成することができる。
【0063】
このような構造によっても、図7(b)に示すように、電子部品であるIC30を実装し、ワイヤボンディングによりデバイス側接続端子13とIC30の電極とをボンディングワイヤ31を介して接続し、ボンディングワイヤ31を含むスリット15及びデバイス側接続端子13を封止樹脂33によりモールドした場合、封止樹脂33が段差部20Dによりせき止めされ、端子ホール17までの流れ込みが防止される。
【0064】
なお、半田ボールとの接合に悪影響を与えなければ、厚膜部23Dを端子ホール17の縁部まで設けてもよい。
【0065】
以上、本発明の電子部品実装用基板の構造の変形例を説明したが、勿論これに限定されるものではない。
【0066】
以下、上述した電子部品実装用基板の製造方法を例示してさらに詳細に説明する。
【0067】
図8には一実施例にかかる製造方法を示す。この製造方法は、基本的には図2〜図4の構造の電子部品実装用基板を製造するのに適しているが、図5〜図7の構造の電子部品実装用基板の製造方法にも適用できる。
【0068】
この製造方法では、まず、(a)に示すように、絶縁基材11となる絶縁フィルム1に設けられた導電体箔をフォトリソグラフィー法によりパターニングし、配線パターン12、デバイス側接続端子13、外部接続端子14を形成する(ここでは、配線パターン12として図示する)。この工程は一般的に知られている方法であるので、詳細は省略する。
【0069】
次に、(b)に示すように、配線パターン12を覆うようにフォトレジスト材料塗布層41を塗布する。
【0070】
次いで、(c)に示すように、フォトマスク50を介して露光し、さらに、現像し、(d)に示すようにパターニングされたソルダーレジスト層16を形成する。
【0071】
ここで、フォトソルダーレジスト材料としてネガ型を用い、フォトマスク50は、光を遮断する光遮断部51と、光を透過する透過部52と、略半分の光を透過する半透過部53とを有するものを用いた。透過部52に対向する領域ではフォトレジスト材料塗布層41の厚さ全体が露光により硬化し、ソルダーレジスト層16となる一方、光遮断部51に対向する領域では全く露光されず、現像により除去され、これにより、端子ホール17が形成される。また、半透過部53に対向する領域ではフォトレジスト材料塗布層41の厚さの一部だけが露光により硬化し、厚さの一部が現像により除去されるので、溝21が形成される。
【0072】
この後、(e)に示すように、絶縁フィルム1の裏面に接着剤層19が形成され、さらに、(f)に示すように、スリット15が形成され、電子部品実装用基板10が完成する。
【0073】
以上説明した製造方法では、光を遮断する光遮断部51と、光を透過する透過部52と、略半分の光を透過する半透過部53とを有する特殊なフォトマスク50を用いることにより、一回のフォトリソグラフィー工程により、フォトソルダーレジスト材料塗布層41を完全に除去した端子ホール17と、厚さの一部を残した溝21とを同時に形成することができる。
【0074】
図9には他の実施例にかかる製造方法を示す。この製造方法は、基本的には図5〜図7の構造の電子部品実装用基板を製造するのに適している。
【0075】
この製造方法でも、まず、(a)に示すように、絶縁基材11となる絶縁フィルム1に設けられた導電体箔をフォトリソグラフィー法によりパターニングし、配線パターン12、デバイス側接続端子13、外部接続端子14を形成する(ここでは、配線パターン12として図示する)。この工程は一般的に知られている方法であるので、詳細は省略する。
【0076】
次に、(b)に示すように、配線パターン12を覆うように第1のフォトソルダーレジスト材料塗布層43を塗布し、フォトマスク60を介して露光し、さらに、現像し、(c)に示すようにパターニングされたソルダーレジスト層16を形成する。
【0077】
ここで、フォトソルダーレジスト材料としてネガ型を用い、フォトマスク60は、光を遮断する光遮断部61と、光を透過する透過部62とを有するものを用いた。透過部62に対向する領域ではフォトレジスト材料塗布層43が露光により硬化し、ソルダーレジスト層16Aとなる一方、光遮断部61に対向する領域では全く露光されず、現像により除去される。
【0078】
次いで、(d)に示すように、第2のフォトソルダーレジスト材料塗布層45を塗布する。このとき、ソルダーレジスト層16Aに対応する部分が厚膜となる。続いて、これをフォトマスク60Aを介して露光し、現像する。ここで、フォトマスク60Aは、光遮断部61Aと、透過部62Aとを具備する。
【0079】
これにより、(e)に示すようにパターニングされ、端子ホール17及び溝21Bが形成され、溝21Bの形成された部分が厚膜部23Bとなる。
【0080】
この後、(f)に示すように、絶縁フィルム1の裏面に接着剤層19が形成され、さらに、(g)に示すように、スリット15が形成され、電子部品実装用基板10Bが完成する。
【0081】
以上説明した製造方法では、光を遮断する光遮断部61,61Aと、光を透過する透過部62,62Aとを有する一般的なフォトマスク60,60Aを用いているが、フォトリソグラフィー工程を二回繰り返し、予め形成した厚膜部に溝を形成するようにすることにより、端子ホール17と共に、厚膜部23Bに溝21Bを形成することができる。
【0082】
図10には他の実施例にかかる製造方法を示す。この製造方法は、基本的には図5〜図7の構造の電子部品実装用基板を製造するのに適している。
【0083】
この製造方法は、図9(c)のソルダーレジスト層16Aをスクリーン印刷法により形成する以外は、図9と同一であるため、同一部分には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
【0084】
本実施例では、絶縁基板11上に配線パターン12を形成した後、ソルダーレジスト層16Bをスクリーン印刷法により形成する。すなわち、ソルダーレジスト塗布部以外が乳剤によりマスキングされて所定のパターンを有する、例えば180メッシュのスクリーンマスクを用い、このスクリーンマスクを配線パターン12上に重ねてソルダーレジスト材料塗布液を塗布する。その後、熱硬化させることでソルダーレジスト層16Bを形成する。
【0085】
なお、ここで用いるソルダーレジスト材料塗布液は、上述した感光性のない一般的なものである。すなわち、硬化性樹脂を有機溶媒に溶解又は分散させたものであり、硬化性樹脂としては、エポキシ系樹脂、エポキシ系樹脂のエラストマー変性物、ウレタン樹脂、ウレタン樹脂のエラストマー変性物、ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂のエラストマー変性物、アクリル樹脂等を挙げることができる。この塗布液の中には、硬化促進剤、充填剤、添加剤、チキソ剤等を添加することもできる。また、ソルダーレジスト層の可撓性等の特性を向上させるために、ゴム微粒子のような弾性を有する微粒子を配合することもできる。なお、スクリーン印刷に使用するソルダーレジスト材料塗布液としてフォトソルダーレジスト材料塗布液を用いてもよい。
【0086】
以上説明した製造方法では、フォトリソグラフィー工程より工程数の少ないスクリーン印刷法によりソルダーレジスト層16Bを形成できるので、図9における製造工程と比較して、より簡便な工程で溝21Bを容易に形成することができる。
【0087】
図11にはさらに他の実施例にかかる製造方法を示す。この製造方法は、図12に示すような特殊なフォトマスク70を用い、フォトリソグラフィー工程の絶縁フィルム1の送り量を半分とすることにより、フォトソルダーレジスト材料塗布層41を完全に除去する部分と、厚さの一部を残す部分とを同時に一工程で形成することができるようにしたものであり、基本的には、図2〜図4の電子部品実装用基板の製造に好適である。
【0088】
なお、絶縁フィルム1は実際にはテープ状となっており、後述するフォトリソグラフィー工程を連続的に行うものであるが、図示及び説明においては、一つの電子部品実装用基板についてのみ行う。また、実際には、一枚のフォトマスクで複数の電子部品実装用基板の露光を行うが、簡単のため、一つの電子部品実装用基板に対応する透過部パターンのみを図示している。
【0089】
図12に示すように、この製造方法で用いるフォトマスク70は、被照射体である絶縁フィルム1の送り方向に二分割して第1の領域70Aと、第2の領域70Bとを有する。両方の領域には基本的には光遮断部71及び透過部72からなる略同一パターンが形成されており、被照射体の送り量を半分として同一の被照射体を第1の領域70A及び第2の領域70Bを用いて二回露光するようにする。したがって、ネガ型フォトソルダーレジストを用いた場合には、二回露光された部分だけが完全に硬化され、ソルダーレジスト層16として残留する。また、何れか一方、この例では、第2の領域70のみに形成された光遮断部73を設け、この領域のみを二回露光のうちの一回だけ露光されるようにする。この光遮断部73はこの例では溝21に対向した領域に形成されている。
【0090】
このようなフォトマスク70を用いての製造方法では、図11(a)に示すようにまず、第1の領域70Aを介しての露光を行い、(b)に示すように、半分送りされた後、第2の領域70Bを介しての露光を行う。その後、現像することにより、(c)のパターンが形成される。
【0091】
この場合、ネガ型のフォトソルダーレジスト材料を用いているので、フォトソルダーレジスト材料塗布層41は、光遮断部71に対向した領域は全く硬化されず、端子ホール17等となり、透過部72に対向した領域の内、二回共露光された領域は相対的に厚いソルダーレジスト層16が形成される。一方、一回目の露光では透過部72に対向して露光されるが、二回目の露光では光遮断部73に対向して露光されない領域は、一回露光されて厚さの略半分だけが硬化し、相対的に厚さの薄いソルダーレジスト層として残留し、溝21となる。
【0092】
以上説明した製造方法では、二分割したフォトマスクを用いて且つ被照射体を半送りして二回露光するようにしたので、フォトソルダーレジスト材料塗布層41を完全に除去した端子ホール17と、厚さの一部を残した溝21とを一回の工程で形成することができる。なお、この製造方法では送り量を半分としているが、フォトリソグラフィー工程を二回繰り返す方法よりは著しく効率的である。
【0093】
以上の説明した製造方法では、基本的にはフォトリソグラフィー法により段差部又は溝を形成しているが、レーザ加工等の物理的加工により、ソルダーレジスト層に段差部20や溝21を加工してもよい。
【0094】
なお、この際のソルダーレジスト層の材料は、フォトソルダーレジスト層に限定されず、スクリーン印刷法等により所定の領域に塗布され、熱硬化されて形成されたソルダーレジスト層であってもよい。
【0095】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電子部品実装用基板は、ソルダーレジスト層のモールドされる領域とその周囲の領域との境界部に、当該樹脂封止される領域側の膜厚が相対的に薄くなった溝からなる段差部と、溝の両側には他の領域の標準的な厚さより厚膜に形成された厚膜部とを有するので、電子部品実装後、封止樹脂をモールドする際に、段差部及び厚膜部の作用により、封止樹脂がその周囲まで流れ出す虞がなく、特に近接して形成されている端子ホールに流れ込むことがなく、外部接続端子での接続不良等を防止することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の参考例1に係る電子部品実装用基板の概略構成を示す平面図である。
【図2】 本発明の参考例1に係る電子部品実装用基板の断面図である。
【図3】 本発明の参考例1に係る電子部品実装用基板の使用態様を示す断面図である。
【図4】 本発明の参考例2に係る電子部品実装用基板の概略構成及び使用態様を示す断面図である。
【図5】 本発明の実施形態1に係る電子部品実装用基板の概略構成及び使用態様を示す断面図である。
【図6】 本発明の実施形態2に係る電子部品実装用基板の概略構成及び使用態様を示す断面図である。
【図7】 本発明の参考例3に係る電子部品実装用基板の概略構成及び使用態様を示す断面図である。
【図8】 本発明に係る電子部品実装用基板の製造方法の一実施例を説明する断面図である。
【図9】 本発明に係る電子部品実装用基板の製造方法の他の実施例を説明する断面図である。
【図10】 本発明に係る電子部品実装用基板の製造方法の他の実施例を説明する断面図である。
【図11】 本発明に係る電子部品実装用基板の製造方法のさらに他の実施例を説明する断面図である。
【図12】 本発明に係る電子部品実装用基板の製造方法で用いるフォトマスクの一例を示す平面図である。
【図13】 従来技術に係る電子部品実装用基板の一例の概略構成を示す平面図である。
【図14】 従来技術に係る電子部品実装用基板の一例の断面図である。
【図15】 従来技術に係る電子部品実装用基板の一例の使用態様を示す断面図である。
【符号の説明】
10,10A,10B,10C,10D 電子部品実装用基板
11 絶縁基材
12 配線パターン
13 デバイス側接続端子
14 外部接続端子
15 スリット
16,16A,16B ソルダーレジスト層
17 端子ホール
19 接着剤層
20,20A,20B,20C,20D 段差部
21,21B,21C 溝
22A 薄膜部
23B,23C,23D 厚膜部
30 IC(電子部品)
31 ボンディングワイヤ
33 封止樹脂
Claims (3)
- 絶縁基材と、この絶縁基材の一方面に形成された配線パターンと、この配線パターンの少なくともデバイス側端子部を除く表面を被覆するソルダーレジスト層と、前記絶縁基材に設けられたスリットとを具備し、電子部品が前記絶縁基材の前記配線パターンとは反対の面に実装された後、前記スリットを介しての前記デバイス側端子部と電子部品との接合部が封止樹脂によりモールドされる電子部品実装用基板において、
前記ソルダーレジスト層には、前記モールドされる領域とその周囲の領域との境界部に、当該モールドされる領域側の膜厚が相対的に薄くなった段差部が少なくとも一つ設けられており、この段差部は、前記ソルダーレジスト層に設けられた溝により形成され、当該溝の両側には他の領域の標準的な厚さより厚膜に形成された厚膜部を有することを特徴とする電子部品実装用基板。 - 請求項1において、前記モールドされる領域の周囲の領域には、前記ソルダーレジスト層に形成された端子ホールが形成され、この端子ホール内に外部接続端子が設けられていることを特徴とする電子部品実装用基板。
- 請求項1又は2において、前記厚膜部が土手状に形成され、その外側が標準的な膜厚を有することを特徴とする電子部品実装用基板。
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