JP3819590B2 - 液晶表示素子ならびに該素子を用いた液晶表示装置、および反射型液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示素子ならびに該素子を用いた液晶表示装置、および反射型液晶表示装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置はCRTに代わるディスプレイとして注目され、より高画質化や大画面化に向けて改良が進められている。このため新たな材料が利用され、これにあった製造プロセスや構造が検討されている。
【0003】
以下、添付図面を参照しながら、前述した従来の液晶表示装置の一例について説明する。
【0004】
図10は従来の液晶表示装置に用いられる液晶表示素子のTFTアレイ基板の主要部の断面説明図である。図において201はTFT部であり、202はゲートソース交差部であり、203は補助容量部であり、17は変換部であり、27は画素電極であり、60は第1の導電体であり、61は第2の導電体であり、54は第3の導電体である。
【0005】
従来の液晶表示素子は、TFTアレイ基板と、このTFTアレイ基板に対向して配される対向基板と、この両基板に挟持される液晶とからなり、両基板の周囲はシール材で接合されている。このTFTアレイ基板上に、複数の互いに平行なゲート配線と、ゲート配線上に設けられるゲート絶縁膜を介してゲート配線の各々に交差する、複数の互いに平行なソース配線とが設けられ、ゲート配線とソース配線とによって画される領域が画素である。各画素には画素電極と薄膜トランジスタ(thin film transistor、以下、TFT)とがアレイ状に設けられる。これらのゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFT(本従来例ではチャネルエッチ型)を覆って配向膜が設けられる。一方、対向基板上にはカラーフィルタやブラックマトリックスと配向膜とが前記画素に対応して設けられている。前記液晶は、公知の液晶材料が用いられている。
【0006】
このような液晶を駆動するために駆動回路が液晶表示素子の周囲に設けられる。また、液晶表示素子の背後などにバックライトが設けられることがある。
【0007】
TFTアレイ基板上に設けられた画素電極やTFTと駆動回路とを接続するため、ゲート配線やソース配線と接続するように種々の導電体やコンタクトホールがTFTアレイ基板上に設けられる。
【0008】
図11は、TFTアレイ基板上における配線および端子などの配置を示す平面説明図である。図において、12はゲート配線、13はソース配線、72はゲート端子、73はソース端子、60は第1の導電体、61は第2の導電体、53は第3の導電体、17は変換部をそれぞれ示している。一点鎖線Lの右および下側が表示領域である。
【0009】
図11に示したようにゲート配線とゲート端子は第1の導電体60で接続され、一方、ソース配線とソース端子とは第3の導電体54を介して第1の導電体60および第2の導電体61によって接続される。このような接続の仕方は、端子との接続用材料を耐腐食性が優れた材料にしたり、あるいは配線抵抗の低い材料にしたりするためである。図に示した例は、ゲート配線は第1の導電体の材料で構成されており、ソース配線は第2の導電体の材料で構成されており、ゲート配線の材料の方が耐腐食性が優れているばあいである。このばあい、ソース配線側に、第3の導電体を介して第1の導電体および第2の導電体が接続される変換部17が設けられることになる。
【0010】
図12は、このような導電体とコンタクトホールとの接続を示す断面説明図であり、図13は、当該接続が液晶に接して設けられた例を示す断面説明図である。
【0011】
図12、図13において21はガラスなどの絶縁性物質を用いた絶縁性基板(以下、単に基板という)、60はCrなどの導電体を用い基板21上に形成された第1の導電体、61はCrなどの導電体を用い基板21上に形成された第2の導電体、23は窒化シリコンなどで形成された第1の絶縁膜、102は窒化シリコンなどで形成された第2の絶縁膜、103cは第1の導電体60上に形成されたコンタクトホール、103dは第2の導電体61上に形成されたコンタクトホール、54はコンタクトホール103cとコンタクトホール103dを介し第1の導電体60と第2の導電体61を接続するCrなどの導電体を用いた第3の導電体、17は第1の導電体60と第2の導電体61を第3の導電体54によって材料を変換して接続する変換部、50は液晶、51はシール材、53は対向基板をそれぞれ示している。
【0012】
図12に示す変換部17では、第3の導電体54上に窒化シリコンなどのパッシベーション膜がない。このため前記変換部17を有する液晶表示装置において、以下に述べるような問題が生じる。
【0013】
図13を用いて説明する。第1の導電体60は、ソース配線材料で形成されかつ外部端子へつながる配線であり、第2の導電体61は、ゲート配線材料で形成されかつ外部端子へつながる配線であり、第3の導電体54は第1の導電体と第2の導電体を接続するという機能を有する。このような構造の理由は、(1)ソース配線材料がゲート配線材料より腐食しやすいばあい、前述したように、外部端子へつながる配線はゲート配線材料で形成する必要があり、(2)ソース配線とゲート配線材料で形成された外部端子を直接接続するコンタクトホールを形成する工程を省略するためである。また、第3の導電体54は表示領域において液晶に電圧を印加するための画素電極と同一材料で形成されており、かつ液晶に印加する電圧の損失を少なくするため画素電極上には絶縁膜を設けていない。したがって、第3の導電体を絶縁膜で覆うためには、新たな工程が発生しコストの増加が生じるため第3の導電体は最上層として配設され、かつ露出している。図13のように前記変換部17を液晶50に直接接するよう配置した液晶表示装置では、前記変換部17の第3の導電体54が液晶50と接しており第1の導電体60あるいは第2の導電体61に印加された信号が第3の導電体54を電極として液晶50に印加される。このため第3の導電体54付近の液晶が劣化し表示不良や信頼性の低下をもたらす。
【0014】
なお、ゲート配線材料がソース配線材料より腐食しやすい材料を使用しているばあいは、ゲート配線をソース配線材料で形成された配線に変換し外部端子と接続する必要がある。このばあい、ゲート配線はソース配線材料で形成された外部端子へつながる配線に第3の導電体を用いて変換する必要が生じる。このため図13に示した構造と同様に第3の導電体が液晶と直接接触するため、第3の導電体54付近の液晶が劣化し表示不良や信頼性の低下をもたらす。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
従来の液晶表示装置では前述のように変換部17の第3の導電体54が液晶に接するため、信頼性の低下をもたらしていた。本発明は前述した問題点を解決し、信頼性の高い液晶表示素子および液晶表示装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1にかかわる液晶表示素子は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されている。
【0018】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子は、前記シール材が熱硬化型樹脂および光硬化型樹脂のうちのいずれかである。
【0020】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されている。
【0021】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子は、請求項1記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する。
【0023】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子は、請求項記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する。
【0028】
本発明の請求項にかかわる反射型液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されている。
【0030】
本発明の請求項にかかわる反射型液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されている。
【0031】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されている。
【0033】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されている。
【0034】
本発明の請求項10にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されている。
【0036】
本発明の請求項11にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されている。
本発明の請求項12にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されている。
本発明の請求項13にかかわる液晶表示装置は、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されている。
本発明の請求項14にかかわる液晶表示装置は、請求項12から請求項13のいずれかに記載の液晶表示素子と、前記液晶表示素子を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する。
【0037】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明する。
【0038】
実施の形態1
本実施の形態においては、前述した変換部を、TFTアレイ基板と対向基板とを接合するシール材を利用して、シール材が形成される領域に、シール材に覆われて配設された構成とした液晶表示素子の例を説明する。
【0039】
図1は、本実施の形態にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図である。
【0040】
図1において、21はガラスなどの絶縁性物質を用いた絶縁性基板、60はCrなどの導電体を用い基板21上に形成された第1の導電体、61はCrなどの導電体を用い基板21上に形成された第2の導電体、23は窒化シリコンなどで形成された第1の絶縁膜、102は窒化シリコンなどで形成された第2の絶縁膜、103cは第1の導電体60上に形成されたコンタクトホール、103dは第2の導電体61上に形成されたコンタクトホール、54はコンタクトホール103cとコンタクトホール103dを介し第1の導電体60と第2の導電体61を接続するCrなどの導電体を用いた第3の導電体、17は第1の導電体60と第2の導電体61を第3の導電体54によって材料を変換して接続する変換部、50は液晶、51はシール材、53は対向基板である。
【0041】
液晶表示素子をこのように構成した点以外は従来の液晶表示素子と同じであり、その説明を省略する。また、図中に示した各要素についても従来と同一のものについては、その説明を省略する。
【0042】
プロセスフローを説明する。まず、絶縁性基板21上にCr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの導電性材料を用いた多層膜をスパッタ法や蒸着法などで成膜し、ついで写真製版・エッチング加工により所望の形状の第1の導電体60を形成する。ついで窒化シリコンまたは酸化シリコンを用いた絶縁膜またはそれらを用いた多層膜からなる第1の絶縁膜23をたとえばプラズマCVD、常圧CVD、または減圧CVD法で成膜する。ついで、Cr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうち少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの導電性材料を用いた多層膜をスパッタ法や蒸着法などで成膜し、ついで写真製版・加工により所望の形状の第2の導電体61を形成する。ついで窒化シリコン、酸化シリコン、無機絶縁膜もしくは有機樹脂を用いた絶縁膜またはそれらを用いた多層膜からなる第2の絶縁膜102をたとえばプラズマCVD、常圧CVD、減圧CVD法で成膜し、写真製版・エッチング加工によりコンタクトホール103c、103dを形成する。つぎにCr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの導電性材料を用いた多層膜をスパッタ法や蒸着法などで成膜し、ついで写真製版・エッチング加工により所望の形状の第3の導電体54を形成する。変換部17では第1の導電体60および第2の導電体61はコンタクトホール103cおよびコンタクトホール103dを介し第3の導電体54にて接続される。さらに当該基板21と、対向基板53とで液晶51を挟持しシール材51にて接合し液晶表示装置を作製する。この際、前記変換部17の第3の導電体54がシール材によって覆われるようにする。
【0043】
シール材は、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を用いることができ、たとえば熱硬化型シール材の例として、三井東圧化学(株)製XN31、または光硬化型シール材の例として協立化学産業(株)製X−765A1もしくは長瀬チバ(株)製XNR5612をあげることができる。このシール材に所望の基板間隔がえられるようにガラスロッドなどのスペーサをまぜ、スクリーン印刷などで変換部上に形成する。
【0044】
本実施の形態にかかわる液晶表示素子では、前記変換部17の第3の導電体54がシール材によって覆われるため液晶50が存在する部分と第3の導電体54が存在する部分が分離されている。このため第1の導電体60あるいは第2の導電体61に印加された信号が第3の導電体54を電極として液晶50に印加されることがなく第3の導電体54付近の液晶が劣化することがない。
【0045】
また、第3の導電体54がシール部で覆われているので変換部17の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない。
【0046】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。
【0047】
なお、第3の導体を、第1の導体および第2の導体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成することができるが、第1の絶縁膜23は省いても同一の効果をうることができる。また、図1の(b)に示すようにパネル内側の配線である第1の導電体60をパネル外側の配線である第2の導電体61に変換する構造においても同一の効果がえられる。
【0048】
以下の実施の形態の説明においては、実施の形態1と異なる点のみ説明し、同一または共通の事項についてはその説明を省略する。
【0049】
実施の形態2
図2は、本実施の形態にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図である。図1に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示したほか、52は配向膜である。
【0050】
本実施の形態では、図2に示すように変換部17の第2の導電体54が、実施の形態1におけるシール材51のかわりに109Ω・cm以上の比抵抗を有するポリイミドあるいはポリビニルアルコールなどの配向膜52によって覆われるようにする。
【0051】
配向膜は公知の膜形成方法によって変換部上に形成することができる。これらの点以外の構成および製造方法は実施の形態1と同じであるためその説明を省略する。
【0052】
本実施の形態では、前記変換部17の第3の導電体54が配向膜52によって覆われるため液晶50が存在する部分と第3の導電体54が存在する部分が分離されている。このため第1の導電体60あるいは第2の導電体61に印加された信号が第3の導電体54を電極として液晶50に印加されることがなく第3の導電体54付近の液晶が劣化することがない。
【0053】
また、第3の導電体54が配向膜52によって覆われるので、変換部17の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない。
【0054】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。
【0055】
なお第1の絶縁膜23は省いても同一の効果をうることができる。また、パネル内側の配線である第1の導電体60をパネル外側の配線である第2の導電体61に変換する構造においても同一の効果がえられる。
【0056】
実施の形態3
図3は本発明の実施の形態3〜5にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図であり、図1および2に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示した。
【0057】
本実施の形態では、図3の(a)に示すように変換部17の第3の導電体54がシール材より外部になるようにする。この点以外の構成および製造方法は実施の形態1と同じであるためその説明を省略する。
【0058】
本実施の形態では、前記変換部17の第3の導電体54が配向膜55のシール材が形成される領域よりも外側になるため液晶50が存在する部分と第3の導電体54が存在する部分が分離されている。このため第1の導電体60あるいは第2の導電体61に印加された信号が第3の導電体54を電極として液晶50に印加されることがなく液晶が劣化することがない。
【0059】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。また、パネル内側の配線である第1の導電体60をパネル外側の配線である第2の導電体61に変換する構造においても同一の効果がえられる。
【0060】
実施の形態4
本実施の形態では、実施の形態3に加え、図3の(b)に示すように対向基板53により第3の導電体54が覆われるようにする。この点以外の構成および製造方法は実施の形態1と同じであるためその説明を省略する。
【0061】
本実施の形態では、対向基板53により第3の導電体54が覆われるようにすることで、接触による物理的損傷や表示装置外部との漏電を防ぐことができる。
【0062】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。また、パネル内側の配線である第1の導電体60をパネル外側の配線である第2の導電体61に変換する構造においても同一の効果がえられる。
【0063】
実施の形態5
本実施の形態では、実施の形態4に加え、図3の(c)に示すように109Ω・cm以上の比抵抗を有する絶縁材料55、たとえばポリイミドまたはポリビニルアルコールなどのいずれかからなる配向膜と同一の材料または、シリコン系樹脂、もしくはアクリル系樹脂などにより第3の導電体54が覆われるようにする。
【0064】
これらの絶縁材料を用いた膜は公知の形成方法により変換部上に形成することができる。これらの点以外の構成および製造方法は実施の形態1と同じであるためその説明を省略する。
【0065】
本実施の形態では、絶縁材料55により第3の導電体54が覆われるようにすることで、変換部17の腐食や物理的損傷や液晶表示装置外部との漏電を防ぐことができる。
【0066】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。また、パネル内側の配線である第1の導電体60をパネル外側の配線である第2の導電体61に変換する構造においても同一の効果がえられる。
【0067】
実施の形態6
本実施の形態では、実施の形態4および5を組み合わせる。すなわち対向基板53および109Ω・cm以上の比抵抗を有する絶縁材料55、たとえばポリイミドまたはポリビニルアルコールなどのいずれかからなる配向膜と同一の材料または、シリコン系樹脂、もしくはアクリル系樹脂などにより第3の導電体54が覆われるようにする。この点以外の構成および製造方法は実施の形態1と同じであるためその説明を省略する。
【0068】
本実施の形態では、絶縁材料55により第3の導電体54が覆われるようにすることで、変換部17の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を防ぐことができる。
【0069】
よって信頼性の高い液晶表示素子をうることができる。
【0070】
実施の形態7
本実施の形態においては、実施の形態1〜6のいずれかにかかわる液晶表示素子を用いた液晶表示装置について説明する。
【0071】
図4および図5は、実施の形態1〜6にかかわる液晶表示素子の製造方法を工程順に示した断面説明図である。
【0072】
図において、201はTFT部(チャネルエッチ型TFT)であり、202はゲートソース交差部であり、17は変換部であり、203は補助容量部であり、その他、図1〜3に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示した。
【0073】
図4および図5において、21はガラスなどの絶縁性物質を用いた基板、22はCrなどの金属を用い基板21上に形成されたゲート配線12に接続されたゲート電極、16はCrなどの金属を用い基板21上に形成された保持容量共通配線、23はゲート配線12、ゲート電極22および保持容量共通配線16を覆うように形成された窒化シリコンなどからなるゲート絶縁膜、24はゲート絶縁膜23の上部に接するように形成されたノンドープ非晶質シリコンなどの半導体を用いた半導体膜、25は半導体膜24に接続して形成されかつその膜の一部である能動態領域の上部をエッチングなどで取り除いた領域26を有するリン(P)などの不純物をシリコン(Si)などの半導体膜にドープしたコンタクト膜、27はITO(indium tin oxide)などの透明導電膜などで形成され液晶にそれが駆動する電圧を印加するために用いる画素電極、28はコンタクト膜25に接するように形成されソース配線13に接続されたソース電極、29はコンタクト膜25に接するように形成されたドレイン電極、102はデバイス全体を覆うように窒化シリコン膜などで形成された層間絶縁膜、103aはドレイン電極29と画素電極27を接続するために層間絶縁膜102に形成されたコンタクトホール、103bは画素電極27と保持容量電極101を接続するために層間絶縁膜102に形成されたコンタクトホール、103cはソース配線13とゲート配線12を接続するためにゲート配線12上の層間絶縁膜102に形成されたコンタクトホール、103dはソース配線13とゲート配線12を接続するためにソース配線12上の層間絶縁膜102に形成されたコンタクトホールである。
【0074】
また60はゲート配線と同一の材料を用い基板21上に形成された第1の導電体、61はソース配線と同一の材料を用い基板21上に形成された第2の導電体、103cは第1の導電体60上に形成されたコンタクトホール、103dは第2の導電体61上に形成されたコンタクトホール、54はコンタクトホール103cとコンタクトホール103dを介し第1の導電体60と第2の導電体61を接続する画素電極と同一の材料を用い形成された第3の導電体、なお、ゲート絶縁膜23および層間絶縁膜102は実施の形態1〜3で示した第1の絶縁膜、および第2の絶縁膜に相当する。
【0075】
プロセスフローを説明する。まず、図4の(a)に示すように絶縁性基板21上にCr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの導電性材料を用いた多層膜をスパッタ法や蒸着法などで成膜し、ついで写真製版・加工によりゲート配線12、ゲート電極22、保持容量共通配線16を形成する。ついで図4の(b)に示すように窒化シリコンなどのゲート絶縁膜23と非晶質シリコンまたは多結晶ポリシリコン(poly-Si)などの半導体膜24、n型のTFTのばあいはPなどの不純物を高濃度にドーピングしたn+非晶質シリコンまたはn+多結晶ポリシリコンなどのコンタクト膜25を連続的にたとえばプラズマCVD、常圧CVDまたは減圧CVD法で成膜する。ついで、コンタクト膜25と半導体膜24を島状に加工する。Cr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの導電性材料を用いた多層膜をスパッタ法や蒸着法で成膜後写真製版と微細加工技術によりソース電極28、ドレイン電極29、保持容量電極101を形成する(図4の(c))。このソース電極およびドレイン電極と同じ材料で形成されるソース配線およびドレイン配線もこのとき同時に形成される。このソース電極28およびドレイン電極29あるいはそれらを形成したホトレジストをマスクとしてコンタクト層25をエッチングしてチャネル領域から取り除く(26)。ついで窒化シリコンや酸化シリコン、無機絶縁膜または有機樹脂からなる層間絶縁膜102を成膜し、写真製版とそれに続くエッチングによりコンタクトホール103a、103b、103c、103dを形成する(図5の(a))。最後にCr、Al、Ti、Ta、Mo、W、Ni、Cu、AuもしくはAgなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金またはITOなどの透明導電膜用材料を用いた導電膜またはそれらの多層膜導電性材料を成膜後加工することで画素電極27を形成する(図5の(b))。画素電極はコンタクトホール103aを介してドレイン電極29と接続される。また、画素電極はコンタクトホール103bを介して保持容量電極101と接続される。画素電極27に用いた透明導電膜でコンタクトホール103cとコンタクトホール103dを介して、ゲート電極に用いる材料(以下、ゲート材料)で形成された第1の導電体60とソース電極に用いる材料(以下、ソース材料)で形成された第2の導電体61を短絡している。以上により、薄膜トランジスタ集積装置を作製することができる。さらに、この薄膜トランジスタ集積装置を形成したTFTアレイ基板と対向基板とで液晶をはさむようにシール材にて接合する。対向基板は、基板上に公知のカラーフィルタやブラックマトリックスと配向膜などを形成して作製したものを用いる。さらにゲート配線、ソース配線、保持容量共通配線にそれぞれゲート線駆動回路、ソース線駆動回路、保持容量共通配線用電源を接続し、さらにバックライトなどを設けることにより液晶表示装置を作製する。
【0076】
前述した構成を有する液晶表示装置は、前記実施の形態1〜6における第1の導電体をゲート材料で形成された配線あるいは電極、第2の導電体をソース材料で形成された配線あるいは電極、第3の導電体を画素電極材料で形成された配線および電極としたものである。
【0077】
あるいは、前述した構成を有する液晶表示装置は、前記実施の形態1〜6における第1の導電体をソース材料で形成された配線あるいは電極、第2の導電体をゲート材料で形成された配線あるいは電極、第2の導電体を画素電極材料で形成された配線および電極としたものである。
【0078】
本発明の液晶表示装置では、前記実施の形態1〜6に示した効果に加え、以下の効果がある。
【0079】
たとえばゲート材料がソース材料に対し、耐腐食性あるいは機械的強度あるいは接触抵抗が劣っているばあい(例:ゲート材料=AlもしくはCuなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金を用いた導電膜またはそれらの多層膜、ソース材料=CrもしくはTiなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金を用いた導電膜またはそれらの多層膜または前記導電膜とITOとの多層膜)、本実施の形態を用い、ゲート配線をソース材料で形成した配線に変換することで信頼性向上をはかることができ、低コストおよび高信頼性の液晶表示装置の提供が可能となる。
【0080】
逆にソース材料がゲート材料に対し、耐腐食性あるいは機械的強度あるいは接触抵抗が劣っているばあい、ソース配線をゲート材料で形成した配線に変換することで同様の効果をうることができる。
【0081】
実施の形態8
前記実施の形態1〜7の少なくとも1つを含む構成で、かつ液晶に印加する電界の方向を基板に対して平行な方向とする方式の平行電界型液晶表示装置の例である。図6は本実施の形態にかかわる平行電界型液晶表示装置の構成を示す断面説明図である。図6において、81はクシ型電極であり、83は液晶分子であり、84aはクシ型電極が形成される電極基板であり、84bは電極基板84aに対向する対向基板であり、86は交流電圧電源である。
【0082】
本実施の形態にかかわる平行電界型液晶表示装置は、電極基板、この電極基板に対向する対向基板ならびに前記電極基板と該対向基板とに挟持され前記電極基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶からなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有して構成されている。電極基板上には、少なくとも第1の電極および第2の電極からなる一対の電極が一定距離を隔てて配設され、また、前記第1の電極および第2の電極を覆って配向膜が設けられているものである。また、さらに、第1の電極および第2の電極が配設されてなる表示領域の周辺には外部との接続のため、第1の端子および第2の端子が設けられている。第1の端子と第1の電極とを接続し、または第2の端子と第2の電極とを接続するために、実施の形態1〜7と同様に前記第1の電極に接続された第1の導電体と、第2の電極に接続された第2の導電体を接続する第3の導電体からなる変換部が設けられている。ここで、実施の形態1〜7と同様に前記変換部が前記シール材もしくは配向膜に覆われて配設されるか、または前記シール材が形成される領域の外側に配設されているものである。
【0083】
実施の形態9
本実施の形態は、前記実施の形態1〜7の少なくとも1つを含む構成で、かつ画素電極をAl、CrもしくはTaなどのいずれか1つの金属またはそれらのうちの少なくとも1つを主成分とする合金を用いた導電膜またはこれらを用いた多層膜で構成した反射型方式の液晶表示装置の例である。図7は本実施の形態にかかわる反射型液晶表示装置に用いられるTFTアレイ基板の断面説明図である。図において、32はエッチングストッパであり、その他、図1〜5に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示した。このTFTアレイ基板においては、画素電極がTFT上にも設けられている。
【0084】
本実施の形態にかかわる反射型液晶表示装置は、TFTアレイ基板、このTFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板とこの対向基板とに挟持され前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶からなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有して構成されている。前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTを覆って配向膜が設けられているものである。実施の形態1〜7と同様に、前記ゲート配線に接続された第1の導電体とソース配線に接続された第2の導電体を接続する第3の導電体からなる変換部が設けられている。ここで、実施の形態1〜7と同様に前記変換部が前記シール材もしくは配向膜に覆われて配設されるか、または前記シール材が形成される領域の外側に配設されているものである。したがって、実施の形態1と同一の効果をうることができ、信頼性の高い液晶表示装置をうることができる。
【0085】
実施の形態10
前記実施の形態1〜7の少なくとも1つを含む構成であり、かつエッチングストッパ方式のTFTを有する液晶表示装置の例である。本実施の形態にかかわる液晶表示装置は、実施の形態1〜7において用いられているTFTをエッチングストッパ方式のTFTにかえたものであり、この点以外は実施の形態1〜7と同じである。図8は、本実施の形態にかかわるエッチングストッパ方式のTFTの断面説明図であり、図において、32は保護膜であり、その他図1〜5に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示した。このTFTの構成上の特徴は、半導体膜24上に保護膜32を設けてエッチングストッパとしたものである。したがって、実施の形態1と同一の効果をうることができ、信頼性の高い液晶表示装置をうることができる。
【0086】
実施の形態11
前記実施の形態1〜7の少なくとも1つを含む構成であり、かつ正スタガ方式の薄膜トランジスタを有する液晶表示装置の例である。本実施の形態にかかわる液晶表示装置は、実施の形態1〜7において用いられているTFTを正スタガ方式のTFTにかえたものであり、この点以外は実施の形態1〜7と同じである。図9は、本実施の形態にかかわる正スタガ方式のTFTの断面説明図であり、33は遮光膜であり、34は絶縁膜でありその他図1〜5に示した要素と同一の要素には同一の符号を付して示した。正スタガ方式のTFTの構成上の特徴は、ソース電極およびドレイン電極とゲート電極との上下関係を実施の形態1〜7で用いたTFTとはほぼ逆にしたものである。したがって、実施の形態1と同一の効果をうることができ、信頼性の高い液晶表示装置をうることができる。
【0087】
実施の形態12
前記実施の形態8を含む構成で、かつ液晶に電圧を印加する電極が同層の導体で形成された液晶表示装置の例である。液晶に電圧を印加する電極が同層の導体で形成されている点以外は実施の形態8と同じであり、実施の形態8と同一の効果をうることができ、信頼性の高い液晶表示装置をうることができる。
【0088】
【発明の効果】
本発明の請求項1にかかわる液晶表示素子によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されているので、変換部の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない信頼性の高い液晶表示素子をうるという効果を奏する。
【0090】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子によれば、前記シール材が熱硬化型樹脂および光硬化型樹脂のうちのいずれかであるので、通常の材料で本発明の構成の変換部をうるという効果を奏する。
【0092】
本発明の請求項にかかわる液晶表示素子によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されているので、第1の導電体または第2の導電体に印加された信号が液晶に印加されることがなく液晶の劣化がないので、信頼性の高い液晶表示素子をうるという効果を奏する。
【0093】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、請求項1記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有するので、変換部の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じないので信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0095】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、請求項記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有するので、第1の導電体または第2の導電体に印加された信号が液晶に印加されることがなく液晶の劣化がないので、信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0100】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されているので、変換部の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じないので信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0102】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されているので、第1の導電体または第2の導電体に印加された信号が液晶に印加されることがなく液晶の劣化がないので、信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0103】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されているので、変換部の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じないので信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0105】
本発明の請求項にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されているので、第1の導電体または第2の導電体に印加された信号が液晶に印加されることがなく液晶の劣化がないので、信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0106】
本発明の請求項10にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されているので、変換部の腐食や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じないので信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【0108】
本発明の請求項11にかかわる液晶表示装置によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されているので、第1の導電体または第2の導電体に印加された信号が液晶に印加されることがなく液晶の劣化がないので、信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
本発明の請求項12にかかわる液晶表示素子によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されているので、変換部の腐蝕や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない信頼性の高い液晶表示素子をうるという効果を奏する。
本発明の請求項13にかかわる液晶表示素子によれば、TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によ って画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されているので、変換部の腐蝕や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない信頼性の高い液晶表示素子をうるという効果を奏する。
本発明の請求項14にかかわる液晶表示装置によれば、請求項12または13記載の液晶表示素子と、前記液晶表示素子を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有するので、変換部の腐蝕や物理的損傷や表示装置外部との漏電を生じない信頼性の高い液晶表示装置をうるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図である。
【図2】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図である。
【図3】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示素子の部分断面説明図である。
【図4】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示素子を製造工程順に示した部分断面説明図である。
【図5】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示素子を製造工程順に示した部分断面説明図である。
【図6】 本発明の他の実施の形態にかかわる薄膜トランジスタの断面説明図である。
【図7】 本発明の他の実施の形態にかかわる薄膜トランジスタの断面説明図である。
【図8】 本発明の他の実施の形態にかかわる薄膜トランジスタの断面説明図である。
【図9】 本発明の他の実施の形態にかかわる薄膜トランジスタの断面説明図である。
【図10】 従来の液晶表示素子の断面説明図である。
【図11】 従来の液晶表示素子の平面説明図である。
【図12】 従来の液晶表示素子の断面説明図である。
【図13】 従来の液晶表示素子の断面説明図である。
【符号の説明】
17 変換部、21 絶縁性基板、23 第1の絶縁膜、50 液晶、51 シール材、53 対向基板、54 第3の導電体、60 第1の導電体、61 第2の導電体、103a,103b,103c,104d コンタクトホール。

Claims (14)

  1. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されてなる液晶表示素子。
  2. 前記シール材が熱硬化型樹脂および光硬化型樹脂のうちのいずれかである請求項記載の液晶表示素子。
  3. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびチャネルエッチ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびチャネルエッチ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されてなる液晶表示素子。
  4. 請求項1記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する液晶表示装置。
  5. 請求項記載の液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する液晶表示装置。
  6. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
    反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されてなる反射型液晶表示装置。
  7. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路とを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に金属膜からなる画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された
    反射型液晶表示装置であって、前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されてなる反射型液晶表示装置。
  8. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されてなる液晶表示装置。
  9. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびエッチングストッパ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびエッチングストッパ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されてなる液晶表示装置。
  10. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されてなる液晶表示装置。
  11. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と該対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されてなる液晶表示素子と、前記液晶を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有し、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極および正スタガ型TFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極および正スタガ型TFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域を覆って配向膜が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    より耐腐食性の優れた方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記より耐腐食性の優れた方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示装置であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されてなる液晶表示装置。
  12. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域に前記シール材に覆われて配設されてなる液晶表示素子。
  13. TFTアレイ基板、該TFTアレイ基板に対向する対向基板ならびに前記TFTアレイ基板と対向基板とに挟持されてなる液晶からなり、前記TFTアレイ基板および対向基板の周囲がシール材で接合されており、前記TFTアレイ基板上に配設され互いに交差するゲート配線およびソース配線によって画された各画素に画素電極およびTFTが配設され、前記ゲート配線、ソース配線、画素電極およびTFTがマトリックス状に配設されてなる表示領域が設けられ、前記表示領域の周辺にゲート端子およびソース端子が設けられ、
    前記ゲート配線と前記ゲート端子、および前記ソース配線と前記ソース端子との接続は、
    前記ゲート配線の材料で形成された第1の導電体、および前記ソース配線の材料で形成された第2の導電体のうち、
    いずれか一方の導電体からなる配線とその端子とは、その導電体で直接に接続され、
    他方の導電体からなる配線とその端子とは、該配線とその端子との間に変換部が設けられ、該端子と該変換部との間の配線材料が、前記いずれか一方の導電体に変換されて接続され、
    前記変換部において、前記第1の導電体と前記第2の導電体とが第3の導電体を介して接続され、
    前記第3の導電体が、前記第1の導電体および前記第2の導電体と絶縁膜を介して別層にかつ最上層に形成された液晶表示素子であって、
    前記変換部が前記シール材が形成される領域の外側の前記TFTアレイ基板上に配設されてなる液晶表示素子。
  14. 請求項12または13記載の液晶表示素子と、前記液晶表示素子を駆動する駆動回路と、バックライトとを少なくとも有する液晶表示装置。
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