JP3818518B2 - 光ファイバー加工用位相マスクの製造方法 - Google Patents
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Description
11…石英基板
12…クロム薄膜
12A…クロム薄膜パターン
12B…クロム薄膜開口部
13…電子線レジスト
13A…レジストパターン
13B…レジスト開口部
14…電子線(ビーム)
21…位相シフトマスク
22…光ファイバー
22A…光ファイバーのコア
22B…光ファイバーのクラッド
23…KrFエキシマレーザ光
24…干渉縞パターン
25A…0次光(ビーム)
25B…プラス1次回折光
25C…マイナス1次回折光
26…凹溝
27…凸条
28…電子ビームの走査線
A1 〜A3 …領域
B1 〜B8 …領域
P1 〜P8 …ピッチ
Claims (14)
- 透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクの製造方法において、
凹溝及び凸条に沿う方向へ向くようにラスタースキャンして描画することで凹溝あるいは凸条の一方を作製し、そのラスタースキャンブランキングすることで凹溝あるいは凸条の他方を作製するようにし、
ピッチが異なる凹溝と凸条からなる複数のパターンを並列させて描画することにより前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンを作製するに際して、1つの凹溝と凸条からなる基本パターンの描画データを基本とし、かつ、そのピッチが異なる凹溝と凸条からなる複数のパターン各々の凹溝あるいは凸条の一方を描画する走査線数及び他方をブランキングする走査線数が、何れのパターンにおいても同じ本数に設定して、その基本パターンの描画データの縮尺を変えて前記のピッチが異なる凹溝と凸条からなるパターンを連続的に描画することにより、前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンを作製することを特徴とする光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。 - 前記の複数のパターンを相互に溝に直交する方向へ並列させて描画することを特徴とする請求項1記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の複数のパターンを相互に溝の方向へ並列させて描画することを特徴とする請求項1記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 1つの前記パターンの凹溝と隣接する前記パターンの凹溝との溝に直交する方向のずれ幅が、溝に直交する方向の最外端においても1つの凹溝の幅以内にあることを特徴とする請求項3記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンのピッチの位置に応じた分布は、光ファイバー中に作製される回折格子のピッチの分布に応じて定められ、前記基本パターンの描画データの縮尺の位置に応じた分布により与えられることを特徴とする請求項1記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンは、電子線描画により形成されることを特徴とする請求項1から5の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンのピッチが0.85μm〜1.25μmの間で変化することを特徴とする請求項1から6の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンの凹溝と凸条の高さの差は、光ファイバー加工用の紫外線が透過する際に位相が略πだけずれる大きさであることを特徴とする請求項1から7の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクの製造方法において、
ピッチが異なる凹溝と凸条からなる複数のパターンを相互に溝の方向へ並列させて描画することにより前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンを作製するに際して、1つの凹溝と凸条からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えて前記のピッチが異なる凹溝と凸条からなるパターンを連続的に描画することにより、前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンを作製することを特徴とする光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。 - 1つの前記パターンの凹溝と隣接する前記パターンの凹溝との溝に直交する方向のずれ幅が、溝に直交する方向の最外端においても1つの凹溝の幅以内にあることを特徴とする請求項9記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記のピッチが異なる凹溝と凸条からなる複数のパターン各々の凹溝あるいは凸条の一方を描画する走査線数及び他方をブランキングする走査線数が、何れのパターンにおいても同じ本数であることを特徴とする請求項9から10の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンは、電子線描画により形成されることを特徴とする請求項9から11の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンのピッチが0.85μm〜1.25μmの間で変化することを特徴とする請求項9から12の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
- 前記の格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンの凹溝と凸条の高さの差は、光ファイバー加工用の紫外線が透過する際に位相が略πだけずれる大きさであることを特徴とする請求項9から13の何れか1項記載の光ファイバー加工用位相マスクの製造方法。
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