JP3814849B2 - ハニカム構造体成形用ダイス及びこれを用いたハニカム構造体の成形方法 - Google Patents
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Description
【技術分野】
本発明は,ハニカム構造体を成形するための成形用ダイスの構造,及びハニカム構造体に関する。
【0002】
【従来技術】
例えば図30に示すごとく,自動車の排気ガス浄化用触媒担体等に用いられるハニカム構造体8は,ハニカム構造を形成するセル格子81と,その外周を覆うスキン層82とよりなる。かかるハニカム構造体8は,通常,押出し成形方法により作製される。
従来,上記押出成形に用いる成形用ダイスとしては,図29に示すごとく,成形材料を押出す金型91と,ハニカム構造体の外径を規制するガイドリング92とよりなる成形用ダイス90がある。
【0003】
上記金型91は,図29に示すごとく,成形材料を導入する導入穴15を有する導入穴部14と,導入穴15に連通するスリット12を設けたスリット部11とを一体的に有する。一方,ガイドリング92は,スリット部11の外周縁部の外周スリット部130から押出される材料を当接させる当接面25を有すると共に,この当接面25を金型91の外周スリット部130の外周端面13と対面させ,クリアランス部22を介して配設されている。
【0004】
この成形用ダイス90においてハニカム構造体を押出成形する際には,図29に示すごとく,導入穴15より導入した成形材料をスリット12から格子状に押出してセル格子81を形成すると共に,スリット部11の外周スリット部130から押出した成形材料をガイドリング92の当接面25に当接させる。当接した成形材料は,クリアランス部22においてスキン層82の厚みに規定されると共に内周側に押出され,更にガイドリング92の内側ガイド部23に沿ってハニカム構造体の軸方向に方向転換され,スキン層81を形成する。
【0005】
したがって,この従来の成形用ダイス90を用いてハニカム構造体8を成形した場合には,ガイドリング92の内側ガイド部23の位置によってハニカム構造体8の外径を決定することができる。即ち,ガイドリング92の内側ガイド部23の位置を変更することによって,ハニカム構造体8の外径を自由に設定することができる。また,上記クリアランス部22のクリアランス距離によって,スキン層の厚みを規定することもできる。
【0006】
【解決しようとする課題】
しかしながら,上記従来のハニカム構造体成形用ダイス90においては,次の問題がある。
即ち,ハニカム構造体のスキン層82の厚みを厚くした場合には,スキン層82が上記クリアランス部22から内側ガイド部23に沿ってハニカム構造体8の軸方向に方向転換する際に,その内方のセル格子81に曲がりが発生するという問題がある。
【0007】
つまり,成形用ダイス90においては,ハニカム構造体8の内周方向に押出されてくるスキン層82を,スリット12から押し出されるセル格子81の押出し力により方向転換させる。そのため,スキン層82の厚みが厚い場合には,スキン層82からセル格子にかかる径方向の分力が大きくなり,セル格子81が内方に曲がってしまう。
そして,セル格子に曲がりが発生した場合には,ハニカム構造体の圧縮破壊強度が低下してしまう。
【0008】
したがって,従来の成形用ダイス90は,スキン層82の厚みがセル格子81の厚みに比べて比較的薄い場合には,十分有効に利用できるが,セル格子81の厚みに対してスキン層82の厚みが比較的厚い構成のハニカム構造体の成形に適用させることは困難である。例えば,近頃のハニカム構造体の軽量化の要請に応えるためには,セル格子の厚みを積極的に薄くして軽量化を図る一方,スキン層の厚みをできる限り厚くして全体の強度を向上させることが必要であるが,この場合には,従来の成形用ダイス90を適用させることは困難である。
【0009】
これに対し,特開昭57−157706号公報,特開平4−305077号公報には,それぞれセル格子の曲がりを防止することを目的とした成形用ダイスが記載されている。
そして,この成形用ダイスにおいては,上記内側ガイド部23と対向する位置に対向壁面を設けている。そして,内側ガイド部23と対向壁面との間においてスキン層の厚みを形成している。
【0010】
しかし,両公報に示される成形用ダイスは,セル格子の曲がり等の形状向上に対しては有効であるが,上記内側ガイド部23と対向壁面によってスキン層の厚みを規制すると共に両者によって成形しようとするハニカム構造体の外径も規制してしまう。そのため,外径寸法の設定替えが極めて困難であるという問題がある。
即ち,例えば材料ロット毎に製品の乾燥後の収縮率が変動する場合があるが,この場合に製品寸法精度を維持するためには,金型とガイドリングの両方をその収縮率に適したものに交換しなければならない。
【0011】
本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので,比較的厚いスキン層を有するハニカム構造体においてもセル格子の曲がりを発生させることなく成形することができ,かつ,製品の収縮率の変動に対して迅速に対応可能なハニカム構造体成形用ダイス,及びセル格子の曲がりがなく強度が高いハニカム構造体を提供しようとするものである。
【0012】
【課題の解決手段】
本発明は,成形材料を導入する導入穴を設けた導入穴部と,上記導入穴に連通しハニカム構造体を押出し成形するスリットを有するスリット部とからなる金型と,
該金型の外周縁部において上記スリット部の一部とクリアランス部を介して対向する当接面を有するとともに外側部が上記金型に固定され,内側部が開放されたガイドリングとからなる成形用ダイスであって,
上記金型の上記スリット部は,上記ガイドリングと対向する外周スリット部と該外周スリット部よりも内側に位置する本体スリット部とよりなり,上記本体スリット部の本体端面と上記外周スリット部の外周端面との間には上記成形材料の押し出し方向に突出した突出面を形成しており,
上記突出面と上記ガイドリングとの最短直線距離dは,上記スリット部の外周端面と上記ガイドリングの上記当接面とによって形成される上記クリアランス部のクリアランス距離cよりも大であることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイスにある。
【0013】
本発明において最も注目すべきことは,上記金型と上記ガイドリングとの間には上記クリアランス部を設けてあり,また上記ガイドリングは上記内側ガイド部を有し,一方上記金型は上記外周端面よりも押出し方向へ突出した上記本体スリット部を有し,かつ上記最短直線距離dは上記クリアランス距離cよりも大きいことである。
【0014】
上記最短直線距離dが上記クリアランス距離cよりも小さい場合には,スキン層がスムーズに形成されず,ササクレ不良が発生するという問題がある。
また,上記金型における上記導入穴は,上記スリットの間隔と同一間隔に設けることもできるし,スリット間隔の2倍以上の間隔に設けることもできる。導入穴の配設間隔により,押出し速度等の条件を変更することができる。また,導入穴の形状は,金型作製作業の容易性から丸穴形状が好ましいが,四角穴等でも問題ない。
【0015】
また,上記金型における上記スリットは,上記外周スリット部,突出面,本体スリット部に連なって連続的に設けてある。また,スリットの形状としては,得ようとするハニカム構造体のセル形状に対応して,四角形状,六角形状等,種々の形状が選択される。
【0016】
次に,本発明における作用につき説明する。
本発明のハニカム構造体成型用ダイスにおいては,上記金型とガイドリングとの間に上記クリアランス部を設けてある。そのため,金型から押出された成形材料は,クリアランス部において,そのクリアランス距離により規定される厚みを有するスキン層を形成し内周方向に押し出される。
【0017】
また,ガイドリングは上記内側部が開放されている。そのため,内周方向に押し出されたスキン層は上記ガイドリングよりも内側から押し出されてくるセル格子の押し出し力によって,上記ガイドリングの内側部の表面に沿ってハニカム構造体の軸方向に方向転換する。
【0018】
それ故,ハニカム構造体の外径,即ちスキン層の外径寸法は上記ガイドリングの内側部の内径寸法により決定される。したがって,ハニカム構造体の乾燥による収縮率の変化に対しては,このガイドリングの内側部の内径寸法を変更するのみで容易に対応することができる。そのため,金型を含めて成型用ダイス全体を異なる寸法のものに交換する必要がない。
【0019】
また,上記金型は,上記外周スリット部の内側に,上記突出面を介して押出し方向に突出した上記本体スリット部を有すると共に,これらにはセル格子を形成するための上記スリットが連続して設けられている。そのため,上記クリアランス部から内周側に押し出されてくるスキン層をハニカム構造体の軸方向に方向転換する際に,その近傍のセル格子が曲がって変形するということがない。
【0020】
即ち,上記クリアランス部において形成されたスキン層は,ハニカム構造体の径方向から軸方向に方向転換する際に,金型から押し出されてくるセル格子に対して径方向に分力を与える。
そして,この分力が形成されたばかりのセル格子の剛性よりも大きい場合には,セル格子が曲がってしまう。しかし,本発明においては,上記本体スリット部が上記外周端面よりも押出し方向に突出している。
【0021】
そのため,スキン層から分力を受けるセル格子は,上記本体スリット部のスリット内に存在する押し出し直前のセル格子に連なっており,従来よりも剛性が高い。それ故,スキン層から押圧力を受けるセル格子は,スキン層を方向転換させる際に曲がることがない。
【0022】
また,上記最短直線距離dは,上記クリアランス距離cよりも大きい。そのため,クリアランス部のクリアランス距離cにより規定された厚みを有するスキン層は,方向転換時に無理な抵抗を受けない。
それ故,スキン層は,ササクレ不良等を発生させることもなく,ハニカム構造体の外周部にスムーズに移動する。
【0023】
次に,上記ガイドリングは,上記金型に対してその軸方向に平行にスライド可能に配設してあることが好ましい。これにより,上記クリアランス部のクリアランス距離cを容易に変更することができ,ハニカム構造体のスキン層の厚みを容易に変更することができる。
【0024】
また,上記ガイドリングの外周部分と上記金型との間には,クリアランス距離調整用のスペーサを配置することが好ましい。これにより,クリアランス部のクリアランス距離cをさらに容易に変更することができる。
【0025】
また,上記突出面の高さaと,上記外周スリット部の高さbとの関係は,a≦0.5bであることが好ましい。これにより,スキン層が波打って形成されるヨレ不良を確実に防止することができる。
一方,a>0.5bの場合には,外周端面におけるスリットを成形材料が通過する抵抗が,本体スリット部のスリットを通過する抵抗に比べて低くなりすぎるため,外周端面から押し出される成形材料が必要以上に多くなる。そのため,スキン層の形成速度がセル格子形成速度よりも速くなり,その分スキン層が波打ってしまうおそれがある。
【0026】
また,上記クリアランス距離cと上記突出面の高さaとの関係は,c≦aであることが好ましい。これにより,押出されてくるスキン層の分力を受けるセル格子の剛性を高めることができ,セル格子の曲がり発生を確実に防止することができる。
【0027】
また,上記クリアランス距離cと上記最短直線距離dとの関係は,c<d<3cであることが好ましい。これにより,ササクレ不良の発生を防止することができるだけでなく,セル格子の曲がりをさらに確実に防止することができる。一方,d≧3cの場合には,セル格子の剛性向上効果が少ないために,スキン層の厚みを厚くした場合にセル格子の曲がりが発生するおそれがある。
【0028】
次に,上記ハニカム構造体成型用ダイスにおいて成形するセル格子の曲がりがなく,圧縮破壊強度が高いハニカム構造体としては,以下のものがある。
即ち,ハニカム本体を構成するセル格子と,該セル格子の軸方向の外周部を被うスキン層とを一体成形してなるハニカム構造体において,上記セル格子の厚さkと,上記スキン層の厚さsとの関係が,s≧2kであることを特徴とするハニカム構造体がある。
【0029】
上記ハニカム構造体においては,スキン層の厚さsがセル格子の厚さkの2倍以上である。さらに,上記ハニカム構造体成形用ダイスによって成形するためセル格子に曲がりが生じない。そのため,セル格子の厚みを十分に薄くして軽量化を図った際においても,その2倍以上の厚みを有するスキン層において全体の強度を維持することができる。
【0030】
また,上記セル格子の厚さkは0.04〜0.15mmにすることができる。これにより,ハニカム構造体全体の重量を従来のものよりも大幅に軽量化することができる。
【0031】
【発明の実施の形態】
実施形態例1
本発明の実施形態例にかかるハニカム構造体成形用ダイスにつき,図1〜図13を用いて説明する。
本例のハニカム構造体成形用ダイス10は,図1〜図3に示すごとく,成形材料を導入する導入穴15を設けた導入穴部14と,導入穴15に連通しハニカム構造体を押出し成形するスリット12を設けたスリット部11とを一体的に有する金型1と,金型1の外周縁部において,スリット部11の一部と対面すると共に金型1との間にクリアランス部22を介して配設したガイドリング2とよりなる。
【0032】
スリット部11は,ハニカム構造体の本体部を形成する本体スリット部160と,主にハニカム構造体のスキン層を形成する外周スリット部130とよりなる。
クリアランス部22においては,図1,図2に示すごとく,外周スリット部130はハニカム構造体の押出し方向と直角な外周端面13を有し,一方ガイドリング2は外周スリット部130より押出された成形材料が当接する当接面25が外周端面13と平行に形成されている。そして,外周端面13と当接面25とによってドーナツ状で,かつスキン層の厚みを規定するクリアランス部22を形成している(図9)。
【0033】
また,図1〜図4に示すごとく,ガイドリング2は,外側部が金型1に固定され,内側部が開放されている。そしてその内側部には,スキン層の外周をハニカム構造体の軸方向に案内する内側ガイド部23を有している。
一方,図1〜図3,図5に示すごとく,金型1においては,ガイドリング2の内周よりも内側に位置する部分に,外周端面13よりも押出し方向へ突出した本体部成形用の本体スリット部160を有し,また本体スリット部160の本体端面16と外周端面13との間には,突出面17を有してなる。
【0034】
また,図6〜図8に示すごとく,金型1にける導入穴部14の導入穴15は,断面円形状に設けてあり(図6),その上端部において格子状のスリット12と連通し(図7),さらにその上方はスリット12だけで構成されるスリット部11(図8)となる。そして,さらに上方においては,金型1の外周縁部に,図9,図10に示すごとく,ドーナツ状のクリアランス部22が設けられている。
【0035】
また,図2に示すごとく,突出面17と内側ガイド部23との間の最短直線距離,即ち,突出面17とガイドリング2との最短直線距離dは,クリアランス部22のクリアランス距離cよりも大きく形成してある。
さらにクリアランス距離cと上記最短直線距離dとの関係は,c<d<3cにしてある。
【0036】
また,ガイドリング2は,金型1に対してその軸方向に平行にスライド可能に配設してある。即ち,金型1とガイドリング2とは,図3〜図5,図11に示すごとく,それぞれ軸方向に平行なピン穴19,29に対してピン3を嵌合することによって固定してある。したがって,ガイドリング2は,金型1に対してその軸方向にスライドさせることができる。尚,この固定方法は,図12に示すごとく単なる嵌め込み方法,図13に示すごとくボルト39によるボルト締め方法等,種々の固定方法を用いることができる。
【0037】
また,図2に示すごとく,上記突出面の高さaと,上記外周スリット部130の高さbとの関係は,a≦0.5bにしてある。
また,上記クリアランス距離cと上記突出面の高さaとの関係は,c≦aにしてある。
【0038】
次に,本例における作用効果につき説明する。
本例のハニカム構造体成型用ダイス10においては,金型1とガイドリング2との間にクリアランス部22を設けてある。そのため,クリアランス部22に押出された成形材料は,そのクリアランス距離cによって規定される厚さ(実施形態例2参照)を有するスキン層を形成する。即ち,クリアランス距離cの寸法によって,スキン層の厚みを規定することができる。
【0039】
また,ガイドリング2は,金型1に対してその軸方向に平行にスライド可能に配設してある。そのため,クリアランス距離cを容易に変更することができ,スキン層の厚みを容易に調整することができる。
【0040】
また,ガイドリング2は,内側部が開放されており,内側ガイド部23を有する。そのため,クリアランス部22において形成されたスキン層は,内周方向に押し出されると共に,セル格子の押し出し力によって,内側ガイド部23に沿ってハニカム構造体の軸方向に方向転換する。
【0041】
そのため,ハニカム構造体の外径,即ちスキン層の外径寸法はガイドリング2の内側ガイド部23の内径寸法により決定される。それ故,ハニカム構造体の乾燥による収縮率の変化に対しては,このガイドリング2の内側ガイド部23の内径寸法を変更するのみで容易に対応することができ,従来のように金型を含めて成型用ダイス全体を異なる寸法のものに交換する必要がない。
【0042】
また,金型1は,外周端面13の内周側に,突出面17を介して押出し方向に突出した本体スリット部160を有する。そして,これらにはセル格子を形成するためのスリット12が連続して設けてある。また,クリアランス距離c,突出面高さa,上記最短直線距離dの関係は,c<d<3c,c≦aの関係を満たす。そのため,従来に比べて外周スリット部130から押出されるセル格子は,従来の本体スリット部160及び突出面17を有さない場合に比べて剛性が高くなる。それ故,クリアランス部22から内周側に押し出されてくるスキン層をハニカム構造体の軸方向に方向転換する際に,その近傍のセル格子が曲がって変形することがない。
【0043】
また,上記最短直線距離dは,上記クリアランス距離cよりも大きい。そのため,スキン層が方向転換時に無理な抵抗を受けずササクレ不良等が発生することもない。
さらに,上記a≦0.5bであるため,スキン層の形成速度がセル格子形成速度に適合し,スキン層のヨレ不良が発生することもない。
【0044】
実施形態例2
本例においては,図14〜図16に示すごとく,実施形態例1のハニカム構造体成形用ダイス10を用いて,上記クリアランス距離cとスキン層の厚さとの関係を測定した。
成形した製品は,図14に示すごとく,自動車の排気ガス浄化用触媒担体等として用いられるコーディェライト質セラミックよりなるハニカム構造体7である。
【0045】
上記ハニカム構造体7は,出発材料として,カオリン,タルク,アルミナ,水酸化アルミからなるセラミック材料を選定し,該セラミック材料100重量部に対して結合剤,潤滑剤の有機成分を7重量部,水21重量部を加えて混練し,これを成形材料として作製した。
【0046】
また,金型は,ハニカム穴数400セル/inch2 ,セル格子厚さ0.10mmの寸法とした。
そして,金型とガイドリングとの間に形成される上記クリアランス部のクリアランス距離cを順次変更し,形成されるスキン層72の厚さs(図15)を測定した。
【0047】
その結果を図16に示す。図16は,横軸にクリアランス距離c,縦軸にスキン層72の厚さsを取った。図16より知られるごとく,スキン層72の厚みsは,クリアランス距離cによってほぼ一義的に決定され比例関係にある。したがって,スキン層72の厚さは,クリアランス距離cにより制御することができることがわかる。
【0048】
実施形態例3
本例においては,図17に示すごとく,実施形態例1のハニカム構造体成形用ダイス10を用い,ガイドリング2の内径,即ち内側ガイド部23の内径とハニカム構造体の乾燥品の外径との関係を測定した。
【0049】
成形した製品は,実施形態例2と同じく,図14に示すごとく,コーディェライト質セラミックよりなるハニカム構造体7である。成形材料等も実施形態例2と同様である。
そして,ガイドリング2の内径寸法(即ち内側ガイド部23における内径寸法)を順次変更し,ハニカム構造体の成形乾燥後の外径寸法R(図14)を測定した。
【0050】
その結果を図17に示す。図17は,横軸にガイドリングの内径寸法,縦軸にハニカム構造体の成形乾燥後の外径寸法Rを取った。図17より知られるごとく,ハニカム構造体の外径寸法は,ガイドリングの内径寸法とほぼ比例関係にある。したがって,ガイドリングの内径寸法によりハニカム構造体の外径を制御することが可能であることがわかる。
【0051】
また,実施形態例2の結果と合わせて説明すると,クリアランス距離cによりスキン層72の厚みsがほぼ決定されるため,上記内側ガイド部23と突出面17との最短直線距離dとクリアランス距離cとの差は,ガイドリング2の内径寸法を縮めるための自由度ということができる。したがって,1種類の金型に対してその自由度の範囲内の内径寸法差を有する複数種類のガイドリングを準備することにより,ハニカム構造体の外径寸法変更に容易に対応することができる。
【0052】
ただし,ガイドリングの内径寸法を大きくして,上記最短直線距離dがクリアランス距離cの3倍以上になった場合には,スキン層72近傍のセル格子71の剛性が弱くなり,従来のようにセル格子71に曲がりが発生するおそれがある。
【0053】
実施形態例4
本例においては,図18に示すごとく,実施形態例1のハニカム構造体成形用ダイス10を用いて作製したハニカム構造体の圧縮破壊強度を,種々のスキン層の厚みに対して測定した。
また,比較のために,図29に示すごとく,本体スリット部及び突出面を有さない従来のハニカム構造体成形用ダイス90を用いて作製したハニカム構造体についても同様の測定を行った。
【0054】
作製したハニカム構造体は,実施形態例2と同様の成形材料を用いて,それぞれの成形用ダイス10,90により成型後,焼成したものであって,セル格子厚みk(図15)を0.10mmとした。また,スキン層の厚みs(図15)は,約0.2mm〜0.75mmの範囲で変更した。
【0055】
圧縮破壊強度は,静水圧圧縮破壊試験により測定した。その結果を図18に示す。図18は,横軸にスキン層の厚さs,縦軸に圧縮破壊強度を取った。図18より知られるごとく,本発明の成形用ダイス10を用いて作製したハニカム構造体は,測定した全ての領域において圧縮破壊強度が2MPaを超え非常に良好な性能を示した。また,その強度は,スキン層の厚みの増加に従い向上した。
【0056】
一方,従来の成形用ダイス90を用いて作製したハニカム構造体は,スキン層の厚みの増加にしたがって強度が向上するものの,測定した全ての領域において2MPaを下回る劣悪な結果となった。また,この従来の場合には,特にセル格子の曲がり発生部において,局部的に陥没するという形態の破壊モードが多かった。
【0057】
即ち,このような差異が発生した原因は,本発明の成形用ダイス10を用いて作製したハニカム構造体は,セル格子に殆ど曲がりが発生しなかったのに対して,従来の成形用ダイス90を用いて作製したハニカム構造体は,セル格子に多くの曲がりが発生し,ここに曲げ応力が集中したためと考えられる。
したがって,セル格子の厚みkが0.10mmと非常に薄く,その2倍以上の厚みsのスキン層を形成する場合には,本発明の成形用ダイスの構造が,従来のものに比べて非常に有利であることがわかる。
【0058】
実施形態例5
本例においては,図19〜図21に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10における,金型1とガイドリング2の外周部分との間に,クリアランス距離調整用のスペーサ4を配置した。スペーサ4は,リング形状を呈している。その他は,実施形態例1と同様である。
【0059】
この場合には,異なる厚みのスペーサ4を複数種類準備しておき,これを交換することにより,クリアランス距離c,即ちスキン層の厚みs(図15)を容易に変更することができる(実施形態例2参照)。その他,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0060】
実施形態例6
本例においては,図22に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10において,金型1の外周端面13に直接ガイドリング2を当接させて,さらにその外周においてピン止めしてある(図11参照)。その他,実施形態例1と同様である。
【0061】
この場合には,金型1の有効な外径を大きくしておくことができ,ハニカム構造体の外径寸法拡大可能量を大きくすることができる。その他,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0062】
実施形態例7
本例においては,図23に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10におけるガイドリング2の内側ガイド部23の形状を,円弧状曲面から平面状にしてある。その他は,実施形態例1と同様である。
【0063】
この場合には,ガイドリング2の製作を容易にすることができ,成形用ダイス10全体のコストを低減することができる。その他,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0064】
実施形態例8
本例においては,図24に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10におけるガイドリング2の内側ガイド部23上方の上部壁231を鋭角状から垂直状に変更した。その他は,実施形態例1と同様である。
この場合においては,スキン層外面と上部壁231との接触により僅かな面抵抗が発生するが,実際上は問題なく,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0065】
実施形態例9
本例においては,図25に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10における金型1の突出面17の断面形状を鈍角状から垂直状に変更した。その他は,実施形態例1と同様である。
この場合においても,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0066】
実施形態例10
本例においては,図26に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10における金型1の突出面17の断面形状を鈍角状から円弧状曲面に変更した。その他は,実施形態例1と同様である。
この場合においても,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0067】
実施形態例11
本例においては,図27に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイス10における金型1の導入穴15を,スリット12の間隔毎に設けた。その他は,実施形態例1と同様である。
この場合においては,ハニカム構造体の押出し速度を向上させることができる。その他,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0068】
実施形態例12
本例においては,図28に示すごとく,実施形態例1の成形用ダイスにおけるガイドリング2の当接面25を,外周端面13に対して若干押出し方向に傾斜させて,非平行に形成してある。その他は,実施形態例1と同様である。
【0069】
この場合においても,突出面17とガイドリング2との最短直線距離dがクリアランス部22の最大のクリアランス距離cよりも大きいため,ササクレ不良等の品質上の不具合を防止するとができる。その他,実施形態例1と同様の効果が得られる。
【0070】
【発明の効果】
上述のごとく,本発明によれば,比較的厚いスキン層を有するハニカム構造体においてもセル格子の曲がりを発生させることなく成形することができ,かつ,製品の収縮率の変動に対して迅速に対応可能なハニカム構造体成形用ダイス,及びセル格子の曲がりがなく強度が高いハニカム構造体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態例1の成形用ダイスの一部切欠き断面図。
【図2】実施形態例1の成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図3】実施形態例1の成形用ダイスの,(A)平面図,(B)本体スリット部の拡大平面図。
【図4】実施形態例1におけるガイドリングの,(A)平面図,(B)J−J線矢視断面図。
【図5】実施形態例1における金型の,(A)平面図,(B)一部切欠き断面図,(C)正面図。
【図6】図1のE−E線矢視断面図。
【図7】図1のF−F線矢視断面図。
【図8】図1のG−G線矢視断面図。
【図9】図1のH−H線矢視断面図。
【図10】図1のI−I線矢視断面図。
【図11】図3(A)のL−L線矢視断面図。
【図12】実施形態例1における,金型とガイドリングとの別の固定方法を示す説明図。
【図13】実施形態例1における,金型とガイドリングとの別の固定方法を示す説明図。
【図14】実施形態例2における,ハニカム構造体の斜視図。
【図15】図14におけるハニカム構造体の外周部Mの拡大平面図。
【図16】実施形態例2における,クリアランス距離とスキン層厚さとの関係を示す説明図。
【図17】実施形態例3における,ガイドリングの内径とハニカム構造体成形乾燥後の外径寸法との関係を示す説明図。
【図18】実施形態例4における,スキン層厚さとハニカム構造体の圧縮破壊強度との関係を示す説明図。
【図19】実施形態例5における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図20】図19のT−T線矢視断面図。
【図21】図19のU−U線矢視断面図。
【図22】実施形態例6における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図23】実施形態例7における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図24】実施形態例8における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図25】実施形態例9における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図26】実施形態例10における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図27】実施形態例11における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図28】実施形態例12における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図29】従来例における,成形用ダイスの要部断面を示す説明図。
【図30】従来例における,ハニカム構造体の斜視図。
【符号の説明】
10...ハニカム構造体成形用ダイス,
1...金型,
11...スリット部,
12...スリット,
13...外周端面,
14...導入穴部,
15...導入穴,
16...本体スリット部,
17...突出面,
2...ガイドリング,
22...クリアランス部,
23...内側ガイド部,
25...当接面,
3...ピン,
4...スペーサ,
7,8...ハニカム構造体,
71,81...セル格子,
72,82...スキン層,
Claims (7)
- 成形材料を導入する導入穴を設けた導入穴部と,上記導入穴に連通しハニカム構造体を押出し成形するスリットを有するスリット部とからなる金型と,該金型の外周縁部において上記スリット部の一部とクリアランス部を介して対向する当接面を有するとともに外側部が上記金型に固定され,内側部が開放されたガイドリングとからなる成形用ダイスであって,上記金型の上記スリット部は,上記ガイドリングと対向する外周スリット部と該外周スリット部よりも内側に位置する本体スリット部とよりなり,上記本体スリット部の本体端面と上記外周スリット部の外周端面との間には上記成形材料の押し出し方向に突出した突出面を形成しており,上記突出面と上記ガイドリングとの最短直線距離dは,上記スリット部の外周端面と上記ガイドリングの上記当接面とによって形成される上記クリアランス部のクリアランス距離cよりも大であり、上記突出面の高さaと,上記外周スリット部の高さbとの関係が,a≦0.5bであることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイス。
- 請求項1において,上記ガイドリングは,上記金型に対してその軸方向に平行にスライド可能に配設してあることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイス。
- 請求項1又は2において,上記ガイドリングの外周部分と上記金型との間には,クリアランス距離調整用のスペーサを配置してなることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイス。
- 請求項1〜3のいずれか1項において,上記クリアランス距離cと上記突出面の高さaとの関係がc≦aであることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイス。
- 請求項1〜4のいずれか1項において,上記クリアランス距離cと上記最短直線距離dとの関係がc<d<3cであることを特徴とするハニカム構造体成形用ダイス。
- ハニカム本体を構成するセル格子と,該セル格子の軸方向の外周部を被うスキン層とを一体成形してなり、上記セル格子の厚さkと、上記スキン層の厚さsとの関係が、s≧2kであるハニカム構造体を形成する方法において、請求項1〜5のいずれか1項に記載のハニカム構造体成形用ダイスを用いて押出成形することを特徴とするハニカム構造体の成形方法。
- 請求項6において,上記セル格子の厚さkは0.04〜0.15mmであることを特徴とするハニカム構造体の成形方法。
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