JP4706784B2 - 六角セルハニカム構造体 - Google Patents

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Description

本発明は、自動車等の内燃機関の排ガス浄化装置の触媒担体に用いられるセラミックス製の六角セルハニカム構造体に関する。
近年、自動車用の排ガス浄化装置における触媒担体として用いられるハニカム構造体は、担持する触媒の早期活性化等を目的として、セル壁の厚みを薄肉化してハニカム構造体全体を軽量化し、その熱容量を低減させる試みがなされている。
また、排ガス浄化性能の向上等を目的として、触媒を均一な厚みで担持させることができる、排ガスを良好に流通させて圧力損失を低減することができるといった形状的な特性から、セル形状を六角形としたハニカム構造体(以下、六角セルハニカム構造体という)が採用されている。
ところが、通常、触媒担体であるハニカム構造体は、外周側から所定の圧力をかけた状態でケース内に把持される。そのため、セル壁の薄肉化(例えば140μm以下の厚み)による剛性の低下によって、外周面からの圧力に対する破壊強度が低下するという問題が生じる(後述する特許文献1参照)。また、通常の生産過程では、成形、乾燥等の工程においてセル壁に若干の歪みが生じることは避けられない。特に、セル壁の厚みを140μm以下の薄肉とした場合には、アイソスタティック強度が低下する傾向が見られるため、強度を向上させるための何らかの対策が必要となる。
また、この破壊強度の低下は、セル形状が三角形又は四角形の場合よりも六角形である六角セルハニカム構造体のほうが特に深刻な問題となっていた。
そこで、六角セルハニカム構造体の強度向上に関する技術としては、様々な先行文献が開示されている。
例えば、特許文献1には、セル壁同士の交点部分に内接する内接円直径DaとセルピッチPとの関係をDa/P≧0.13とすることが示されている。これにより、セル壁の厚みが140μm以下の薄肉の六角セルハニカム構造体であっても、破壊強度を十分に確保することができる。
特開2007−196212号公報
しかしながら、上記特許文献1の発明では、機械的な強度を十分に確保することができるものの、上記条件を満たすことによってセル壁同士の交点部分が大きくなり、その分だけ質量が増えて熱容量が大きくなってしまう。そのため、触媒の早期活性化という面では不利となり、薄肉にして触媒の早期活性化を図ることができるという効果を十分に発揮することができなかった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので、強度を向上させることができると共に、触媒の早期活性化、排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができる六角セルハニカム構造体を提供しようとするものである。
本発明は、排ガス浄化触媒の触媒担体として用いられ、六角形格子状のセル壁と、該セル壁に囲まれた六角形状の多数のセルと、外周側面を覆う筒状のスキン層とを有するセラミックス製の六角セルハニカム構造体において、
上記セル壁のうち、上記スキン層と組み合わせられることなく6つのセル壁によって実質的に完全な六角形状のセルを形成する要素となるセル壁である基本セル壁の平均厚みが140μm以下であり、
3つの上記基本セル壁同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Daの平均値Daxと、セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.13であり、
上記六角セルハニカム構造体の横断面において、上記基本セル壁の両側の表面がいずれも内方に曲線状に凹んで形成されていると共に、隣接する2つの上記基本セル壁がなす内角部がその2つの上記基本セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されていることを特徴とする六角セルハニカム構造体にある(請求項1)。
本発明は、上記基本セル壁の平均厚みが140μm以下であるという薄肉の六角セルハニカム構造体である場合を前提として、3つの上記基本セル壁同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Daの平均値Daxと、セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.13であることにより、破壊強度(例えば、アイソスタティック強度)を向上させることができる。すなわち、この関係を具備することによって、交点部分における強度を向上させ、全体の破壊強度を高めることができる。これにより、上記六角セルハニカム構造体は、薄肉であっても排ガス浄化装置の触媒担体として実用に耐え得る強度を有するものとなる。
また、本発明では、上記六角セルハニカム構造体の横断面において、上記基本セル壁の両側の表面がいずれも内方に曲線状に凹んで形成されている。そのため、上記基本セル壁の表面を略直線状とした場合に比べて、内方に凹ませた分だけ上記六角セルハニカム構造体を軽量化し、その熱容量を低減することができる。これにより、担持させた触媒の早期活性化を実現することができる。
また、上記基本セル壁同士の交点部分が上記条件を満たすことによって大きくなり、上記六角セルハニカム構造体全体の質量が増大するおそれがある場合でも、これを相殺することができる。これにより、機械的な強度を維持しながら、触媒の早期活性化を実現することができる。
また、上記基本セル壁の表面を曲線状にしたことにより、略直線状とした場合に比べて上記基本セル壁の表面積を大きくすることができる。すなわち、触媒を担持させる担持面積を大きくすることができる。これにより、触媒による排ガス浄化性能の向上を図ることができる。
また、上記基本セル壁の表面を曲線状にしたことにより、略直線状とした場合に比べて上記各セルのセル開口部の面積を大きくすることができる。これにより、上記六角セルハニカム構造体全体として、排ガスを良好に流通させて圧力損失を低減することができる。
さらに、本発明では、上記六角セルハニカム構造体の横断面において、隣接する2つの上記基本セル壁がなす内角部がその2つの上記基本セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されている。すなわち、上記内角部は、角張って形成されることなく、隣接する2つの上記基本セル壁の表面と表面とを滑らかに直線状又は曲線状につなげ、あたかもその部分が肉盛りされているかのように形成されている。そのため、上記六角セルハニカム構造体に発生する応力を上記内角部において分散・緩和させることができる。これにより、上記六角セルハニカム構造体の破壊強度をさらに向上させることができる。
このように、本発明によれば、強度を向上させることができると共に、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができる六角セルハニカム構造体を提供することができる。
実施例1における、六角セルハニカム構造体の全体構造を示す説明図。 実施例1における、六角セルハニカム構造体の横断面を示す説明図。 実施例1における、実質的に完全な六角形状のセルを示す説明図。 実施例1における、基本セル壁の平均厚みを求めるための説明図。 実施例5における、圧縮破壊強度の試験体を示す説明図。 実施例5における、基本セル壁の最薄部厚みとc軸における圧縮破壊強度との関係を示す説明図。 本発明における、直径Da及びセル壁の表面の形状を示す説明図。 (a)本発明品のセル開口部の面積を示す説明図、(b)従来品のセル開口部の面積を示す説明図。
本発明において、「実質的に完全な六角形状」とは、いわゆる幾何学上の六角形に限るものではなく、スキン層を要素とせずに、6つのセル壁を組み合わせて一般的な概念における六角形となる形状を意味している。より具体的には、スキン層を一部の要素としてセル開口部を形成しているセル(実質的に不完全な六角形状のセル)を除いたセルが「実質的に完全な六角形状」のセルということとなる。
また、上記のごとく、3つの上記基本セル壁同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Daの平均値Daxと、セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.13である。このDax/Pが0.13未満の場合には、十分な破壊強度向上効果が得られない。
ここで、上記直径Daは、図7に示すごとく、六角セルハニカム構造体1における基本セル壁2a同士の交点部分において、隣接する3つのセル開口部c1〜c3の輪郭、つまり基本セル壁2aの表面位置のどこかでそれぞれ接するように円Caを描いてその直径Daを求める。そして、この円Caとセル開口部c1〜c3の輪郭とが接する位置は、実際には、その交点部分の内角部29aの微細な形状のばらつきや基本セル壁2aの厚み等によって変化するが、いずれの場合にも、セル開口部c1〜c3の内部にはみ出さないように、すべてのセル開口部c1〜c3の輪郭に接する最大の円を描いて求める。
また、上記平均値Daxは、上記基本セル壁同士の全交点における上記直径Daの平均値のことである。
また、上記のごとく、上記基本セル壁の両側の表面がいずれも内方に曲線状に凹んで形成されている。ここで、上記基本セル壁の表面が内方に凹んでいるとは、上記平均値Daxと上記セルピッチPとが上記条件を満たし、かつ、上記基本セルの表面位置が、基本セル壁の表面を直線状に形成した場合のその基本セル壁の表面位置よりも内方(六角形状のセルの中心から離れる方向)にあることをいう(後述する図3参照)。
また、上記基本セル壁の表面は、後述する円弧等の曲線によって構成してもよいし、例えば複数の直線を曲線状につないで構成してもよい。
また、上記のごとく、隣接する2つの上記基本セル壁がなす上記内角部がその2つの上記基本セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されている。ここで、上記内角部が隣接する2つの上記基本セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されているとは、上記平均値Daxと上記セルピッチPとが上記条件を満たし、かつ、上記内角部の表面位置が、基本セル壁の表面を直線状に形成した場合のその内角部の表面位置よりも外方(六角形状のセルの中心に近づく方向)にあり、あたかも肉盛りされているかのように形成されていることをいう(後述する図3参照)。
また、上記内角部は、後述する円弧等の曲線によって構成してもよいし、例えば複数の直線を曲線状につないで構成してもよい。また、1本の直線によって構成してもよい。
また、上記六角セルハニカム構造体を構成する材料は、コーディエライトであることが好ましい(請求項2)。
すなわち、コーディエライトは、触媒担体として用いられる他のセラミックスであるSiC等と比べて強度的に若干劣る傾向にある。そのため、本発明の構造的な強度向上策を採用することが非常に有効となる。
また、上記基本セル壁の表面が曲率半径1〜32mmの円弧状のR面によって形成されていると共に、上記内角部が曲率半径0.1〜0.4mmの円弧状のR面によって形成されており、かつ、上記六角セルハニカム構造体における細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/g以下であることが好ましい(請求項3)。
上記基本セル壁の表面の曲率半径が1mm未満の場合には、上記基本セル壁(特に後述する最薄部)において厚みを十分に確保することができず、破壊強度が低下するおそれがある。一方、32mmを超える場合には、上記六角セルハニカム構造体の軽量化を十分に行うことができず、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図るという本発明の効果を十分に得ることができないおそれがある。
また、上記内角部の曲率半径が0.1mm未満の場合には、上記六角セルハニカム構造体に発生する応力を上記内角部において分散・緩和させる効果を十分に得ることができず、破壊強度の向上を図ることができないおそれがある。一方、0.4mmを超える場合には、上記基本セル壁同士の交点部分の容積が大きくなることにより、その交点部分の吸水量が増加する。そのため、スラリー状の触媒材料をコートする際に、触媒材料の水分が上記交点部分において吸収され、触媒材料を均一に精度良くコートすることができないおそれがあり、さらには上記セルに触媒材料が目詰まりするおそれもある。
また、上記基本セル壁の表面及び上記内角部の曲率半径は、上記ハニカム構造体のメッシュ数(一定面積当たりのセル数)や上記セル壁の厚み等に応じて設定すればよい。例えば、上記内角部の曲率半径は、六角形状を呈する上記セルの構造上、上記基本セル壁の表面の曲率半径によって設定可能な範囲が決まるため、その設定可能な範囲で設定すればよい。
また、上記の曲率半径を設定する場合には、図8(a)に示すごとく、基本セル壁2aの表面20aが内方に曲線状に凹んで形成された本発明の六角セルハニカム構造体1における、基本セル壁2aに囲まれた各セル3aのセル開口部の面積をS1とし、図8(b)に示すごとく、基本セル壁92aの表面が直線状に形成された従来の六角セルハニカム構造体91における、基本セル壁92aに囲まれた各セル93aのセル開口部の面積をS2とした場合に、S1≧S2の関係を満たすようにすることが好ましい。
この場合には、高強度を実現しつつ、軽量化を図って触媒の早期活性化を実現し、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図るという本発明の効果を十分に得ることができる。
また、上記六角セルハニカム構造体における細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/gを超える場合には、上記六角セルハニカム構造体の破壊強度を十分に確保することができないおそれがある。
また、上記六角セルハニカム構造体の気孔率は、40%以下であることが好ましい。
上記気孔率は、ポロシメータを用いた水銀圧入法により測定することができるが、その気孔率が40%を超える場合には、上記六角セルハニカム構造体全体の強度を十分に確保することができないおそれがある。
なお、上記気孔率の下限値は、十分な量の触媒を担持させることができないという理由により10%とすることが好ましい。
また、上記基本セル壁における最も厚みの小さい最薄部の厚みは、40μm以上であることが好ましい(請求項4)。
上記基本セル壁の上記最薄部の厚みが40μm未満の場合には、上記基本セル壁の強度を十分に確保することができないおそれがあり、さらには上記六角セルハニカム構造体全体の破壊強度が低下するおそれがある。また、上記六角セルハニカム構造体を押出成形により成形する際には、金型のスリット幅が狭くなり、材料の供給が十分に行われず、精度良く成形することができないおそれがある。また、これによって成形品の強度が低下するおそれがある。
また、上記基本セル壁の上記最薄部の厚みは、上記基本セル壁における最も厚みの大きい最厚部の厚みの90%以下であることが好ましい。
上記最薄部の厚みが上記最厚部の厚みの90%を超える場合には、上記六角セルハニカム構造体の軽量化を十分に行うことができず、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図るという本発明の効果を十分に得ることができないおそれがある。
また、上記直径Daの平均値Daxと上記セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.16であることがより好ましい(請求項5)。
この場合には、上記六角セルハニカム構造体全体の破壊強度を向上させるという効果をさらに高めることができる。
上記直径Daの平均値Daxと上記セルピッチPとの関係がDax/P<0.16の場合には、破壊強度を向上させるという効果を十分に得ることができないおそれがある。
また、上記Dax/Pの上限値は、開口面積の低下により圧力損失が上昇してしまうという理由で0.30であることが好ましい。
また、上記セル壁のうち、上記スキン層近傍において該スキン層と組み合わせられて実質的に不完全な六角形状のセルを形成する要素となる最外周セル壁同士の交点部分、又は該最外周セル壁と上記基本セル壁との交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Dbの平均値Dbxと、上記直径Daの平均値Daxとの関係が、Dbx/Dax≧1.05であることが好ましい(請求項6)。
この場合には、上記六角セルハニカム構造体全体の破壊強度を向上させるという効果をさらに高めることができる。これは、Dbx/Dax≧1.05の関係を満たすことによって、最外周側近傍の強度をその内側よりも高めることができるが、その最外周側近傍の強度の向上が上記六角セルハニカム構造体全体の強度向上に大きく寄与し、さらに破壊強度を向上させることができる。
ここで、上記直径Db及び上記平均値Dbxは、前述した直径Da及び平均値Daxと同様の求め方で求めることができる。
また、上記最外周セル壁は、上記基本セル壁と同様の形状で構成されていることが好ましい。すなわち、上記最外周セル壁の両側の表面は、いずれも内方に曲線状に凹んで形成されていることが好ましい。また、隣接する2つの上記最外周セル壁がなす内角部は、その2つの上記最外周セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されていることが好ましい。
この場合には、上記最外周セル壁においても、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができるという本発明の効果を十分に得ることができる。
(実施例1)
本発明の実施例にかかる六角セルハニカム構造体について、図を用いて説明する。
本例の六角セルハニカム構造体1は、図1に示すごとく、排ガス浄化触媒の触媒担体として用いられるセラミックス製の六角セルハニカム構造体である。
六角セルハニカム構造体1は、六角形格子状のセル壁2と、セル壁2に囲まれた六角形状の多数のセル3と、外周側面を覆う筒状のスキン層4とを有している。
また、図2に示すごとく、六角セルハニカム構造体1の横断面において、セル壁2のうち、スキン層4と組み合わせられることなく6つのセル壁によって実質的に完全な六角形状のセル3aを形成する要素となるセル壁である基本セル壁2aの平均厚みTが140μm以下である。
また、同図に示すごとく、3つの基本セル壁2a同士の交点部分における、3つのセル開口部の輪郭に接する円Caの直径をDa、すべての交点における直径Daの平均値をDax、セルピッチをPとした場合、平均値DaxとセルピッチPとがDax/P≧0.13の関係を満たしている。
本例では、セルピッチPは、後述する基本セル壁2aの最薄部21aにおける距離としている。
また、同図に示すごとく、セル壁2のうち、スキン層4近傍においてスキン層4と組み合わせられて実質的に不完全な六角形状のセル3bを形成する要素となる最外周セル壁2b同士の交点部分、又は最外周セル壁2bと基本セル壁2aとの交点部分における、3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径をDb、すべての交点における直径Dbの平均値をDbxとした場合、平均値Daxと平均値DbxとがDbx/Dax≧1.05の関係を満たしている。
また、図2、図3に示すごとく、基本セル壁2aは、その表面20aが内方に曲線状に凹んで形成されている。すなわち、図3に示すごとく、平均値DaxとセルピッチPとが上記条件を満たし、かつ、基本セル壁2aの表面を直線状とし、これを仮想線A(点線)とした場合、基本セル壁2aの表面20aが仮想線Aよりも内方(六角形状のセル3aの中心から離れる方向)にある。
本例では、基本セル壁2aの表面20aは、曲率半径が1.0〜32mmの範囲内の円弧状のR面によって形成されている。また、基本セル壁2aにおける最も厚みの小さい最薄部21aの厚みT1は、40μm以上である。また、最薄部21aの厚みT1は、基本セル壁2aにおける最も厚みの大きい最厚部22aの厚みT2の90%以下である。
また、図2、図3に示すごとく、隣接する2つの基本セル壁2aがなす内角部29aは、その2つの基本セル壁2aの表面20a同士を滑らかにつなぐように曲線状に形成されている。すなわち、図3に示すごとく、内角部29aが仮想線Aよりも外方(六角形状のセル3aの中心に近づく方向)にあり、あたかもその部分が肉盛りされているかのように形成されている。
本例では、内角部29aは、曲率半径が0.1〜0.4mmの範囲内の円弧状のR面によって形成されている。
また、図2に示すごとく、最外周セル壁2bは、基本セル壁2aと同様の形状である。すなわち、最外周セル壁2bの表面20bは、基本セル壁2の表面20aと同様の形状である。また、隣接する2つの最外周セル壁2bがなす内角部29bは、隣接する2つの基本セル壁2aがなす内角部29aと同様の形状である。
また、六角セルハニカム構造体1は、コーディエライトよりなる。また、六角セルハニカム構造体1において、単位質量当たりの細孔径40μm以上の細孔の合計容積は、0.02cm3/g以下である。
なお、本例のような六角セルハニカム構造体1においては、基本セル壁2aの平均厚みTを以下のようにして求めることができる。すなわち、図4に示すごとく、基本セル壁2aの中央部分に当たる最薄部21aから、基本セル壁2aの表面20aと内角部29aとの接点部分に当たる最厚部22aまでの間において等間隔に5点の厚みを測定する。厚みt1、t5は、それぞれ最薄部21a、最厚部22aの厚みT1、T2と同じである。そして、基本セル壁の平均厚みTを、T=(t1+t2+t3+t4+t5)/5の式から求める。
次に、上記六角セルハニカム構造体1の製造方法について簡単に説明する。
六角セルハニカム構造体1を製造するに当たっては、少なくとも、セラミックス原料を押出成形してハニカム成形体を成形する押出成形工程と、上記ハニカム成形体を所望長さに切断する切断工程と、上記ハニカム成形体を乾燥させる乾燥工程と、上記ハニカム成形体を焼成してハニカム構造体(六角セルハニカム構造体1)を得る焼成工程とを含む。
そして、上記押出成形工程では、セル壁2の形状に対応する形状のスリット溝を有する押出成形用金型(図示略)を用いて押出成形する。
まず、押出成形工程では、ハニカム成形体を構成するセラミックス原料を準備する。本例では、セラミックス原料の原料粉末として、カオリン、溶融シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、タルク等を含有し、化学組成が重量比にて最終的にSiO2:45〜55%、Al23:33〜42%、MgO:12〜18%よりなるコーディエライトを主成分とする組成となるように調整したものを用いた。この原料粉末に水、バインダー等を所定量添加し、混練することでセラミックス原料を得る。そして、このセラミックス原料を上記押出成形金型を用いて押出成形し、ハニカム成形体を成形する。
その後、成形したハニカム成形体を所望の長さに切断する切断工程と、90〜100℃で乾燥させる乾燥工程と、最高温度1400℃で焼成する焼成工程とを行うことにより、上記六角セルハニカム構造体1を得る。
次に、上記六角セルハニカム構造体1における作用効果について説明する。
本例は、基本セル壁2aの平均厚みTが140μm以下であるという薄肉の六角セルハニカム構造体1である場合を前提として、3つの基本セル壁2a同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円Caの直径Daの平均値Daxと、セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.13であることにより、破壊強度(例えば、アイソスタティック強度)を向上させることができる。すなわち、この関係を具備することによって、交点部分における強度を向上させ、全体の破壊強度を高めることができる。これにより、六角セルハニカム構造体1は、薄肉であっても排ガス浄化装置の触媒担体として実用に耐え得る強度を有するものとなる。
また、本例では、六角セルハニカム構造体1の横断面において、基本セル壁2aの表面20aが内方(六角形状のセル3aの中心から離れる方向)に曲線状に凹んでいる。そのため、基本セル壁2aの表面20aを略直線状とした場合に比べて、内方に凹ませた分だけ六角セルハニカム構造体1を軽量化し、その熱容量を低減することができる。これにより、担持させた触媒の早期活性化を実現することができる。
また、基本セル壁2aの交点部分が上記条件を満たすことによって大きくなり、六角セルハニカム構造体1全体の質量が増大するおそれがある場合でも、これを相殺することができる。これにより、機械的な強度を維持しながら、触媒の早期活性化を実現することができる。
また、基本セル壁2aの表面20aを曲線状にしたことにより、略直線状とした場合に比べて基本セル壁2aの表面積を大きくすることができる。すなわち、触媒を担持させる担持面積を大きくすることができる。これにより、触媒による排ガス浄化性能の向上を図ることができる。
また、基本セル壁2aの表面20aを曲線状にしたことにより、略直線状とした場合に比べて各セル3のセル開口部の面積を大きくすることができる。これにより、六角セルハニカム構造体1全体として、排ガスを良好に流通させて圧力損失を低減することができる。
さらに、本例では、六角セルハニカム構造体1の横断面において、隣接する2つの基本セル壁2aがなす内角部29aがその2つの基本セル壁2aの表面20aを滑らかにつなぐように曲線状に形成されている。すなわち、内角部29aは、角張って形成されることなく、隣接する2つの基本セル壁2aの表面20a同士を滑らかに曲線状につなげ、あたかもその部分が六角形状のセル3aの中心に近づく方向に肉盛りされているかのように形成されている。そのため、六角セルハニカム構造体1に発生する応力を内角部29aにおいて分散・緩和させることができる。これにより、六角セルハニカム構造体1の破壊強度をさらに向上させることができる。
また、本例においては、基本セル壁2aの表面20aが曲率半径1.0〜32mmの円弧状のR面によって形成されていると共に、内角部29aが曲率半径0.1〜0.4mmの円弧状のR面によって形成されており、かつ、六角セルハニカム構造体1における細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/g以下である。そのため、強度を向上させることができると共に、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができるという本発明の効果を十分に得ることができる。
また、基本セル壁2aにおける最も厚みの小さい最薄部21aの厚みT1は、40μm以上である。そのため、基本セル壁2aの強度を十分に確保すると共に、六角セルハニカム構造体1全体の破壊強度を十分に確保することができる。また、六角セルハニカム構造体1を押出成形により成形する際には、金型のスリット幅を十分に確保することができ、精度良く成形することができる。
また、セル壁2のうち、スキン層4近傍においてスキン層4と組み合わせられて実質的に不完全な六角形状のセル3bを形成する要素となる最外周セル壁2b同士の交点部分、又は最外周セル壁2bと基本セル壁2aとの交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円Cbの直径Dbの平均値Dbxと、直径Daの平均値Daxとの関係が、Dbx/Dax≧1.05である。そのため、六角セルハニカム構造体1全体の破壊強度を向上させるという効果をさらに高めることができる。これは、Dbx/Dax≧1.05の関係を満たすことによって、最外周側近傍の強度をその内側よりも高めることができるが、その最外周側近傍の強度の向上が六角セルハニカム構造体1全体の強度向上に大きく寄与し、さらに破壊強度を向上させることができる。
また、最外周セル壁2bは、基本セル壁2aと同様の形状である。すなわち、最外周セル壁2bの表面20bは、基本セル壁2の表面20aと同様の形状である。また、隣接する2つの最外周セル壁2bがなす内角部29bは、隣接する2つの基本セル壁2aがなす内角部29aと同様の形状である。そのため、最外周セル壁2bにおいても、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができるという本発明の効果を十分に得ることができる。
このように、本例によれば、強度を向上させることができると共に、触媒の早期活性化、触媒による排ガス浄化性能の向上、圧力損失の低減を図ることができる六角セルハニカム構造体1を提供することができる。
(実施例2)
本例では、本発明の六角セルハニカム構造体の特性を評価すべく、各部の寸法を変更した複数の六角セルハニカム構造体(本発明品としての試料E11〜E13、比較品としての試料C11〜C13)を作製し、開口面積を測定した。
本発明品としての試料E21〜E23は、基本的な構成が実施例1と同様の六角セルハニカム構造体である。
比較品としての試料C11〜C13は、平均値DaxとセルピッチPとの関係がDax/P≧0.13を満たし、セル壁の表面を直線状(図3の仮想線A)にした六角セルハニカム構造体である。すなわち、セル壁の交点部分の強度を向上させ、全体の強度を向上させたタイプのものである。
各試料における各部の寸法は、表1に示すとおりである。ここで、表中の「ミル」とは、セル壁の厚みを表しており、単位は1/1000インチである。また、「メッシュ」とは、1平方インチ当たりのセル数を表している。また、「曲率半径R1」とは、基本セル壁の表面の曲率半径である。
また、六角セルハニカム構造体としては、直径103mm、長さ105mmの円柱状のものを用いた。また、開口面積は、CAD図又はマイクロスコープを用いて測定した。
Figure 0004706784
次に、各試料の開口面積の測定結果を表1に示す。
表1からわかるように、試料E11〜E13は、試料C11〜C13に比べて各セルの開口面積が大きくなっている。
この結果から、本発明の六角セルハニカム構造体は、基本セル壁の表面が内方に曲線状(円弧状)に凹んで形成されていることにより、各セルの開口面積を大きくして排ガスを良好に流通させることができ、圧力損失を低減することができることがわかる。
(実施例3)
本例では、本発明の六角セルハニカム構造体の特性を評価すべく、各部の寸法等を変更した複数の六角セルハニカム構造体(本発明品としての試料E21、E22、比較品としての試料C21、C22)を作製し、質量、アイソスタティック強度を測定した。
本発明品としての試料E21、E22は、基本的な構成が実施例1と同様の六角セルハニカム構造体である。
比較品としての試料C21は、セル壁の表面を直線状とした一般的な従来の六角セルハニカム構造体である。また、試料C22は、平均値DaxとセルピッチPとの関係がDax/P≧0.13を満たし、セル壁の表面を直線状にした六角セルハニカム構造体である。
各試料における各部の寸法等は、表2に示すとおりである。
六角セルハニカム構造体としては、実施例2と同様の寸法、形状(直径103mm、長さ105mmの円柱状)のものを作製した。また、隣接する2つの基本セル壁がなす内角部の曲率半径(後述する曲率半径R2)は、すべて0.25mmとした。
アイソスタティック強度は、「JASO規格:M505−87」に定められた測定法に基づき、六角セルハニカム構造体に対して静水圧を印加することにより測定した。その判定は、アイソスタティック強度が3.5MPa以上:◎、1.5MPa以上3.5MPa未満:○、1.0MPa以上1.5MPa未満:△、1.0MPa未満:×とした。
Figure 0004706784
次に、各試料の質量、アイソスタティック強度の測定結果を表2に示す。
表2からわかるように、試料E21は、Dax/P≧0.13の条件を満たし(基本セル壁同士の交点部分が大きく)、基本セル壁の表面が内方に曲線状に凹んで形成されている(曲率半径R1が設定されている)ことにより、十分なアイソスタティック強度が得られた(判定:○)。また、質量も従来(試料C21)とほぼ同等であるため、触媒の早期活性化を実現することができる。
また、試料E22は、試料E21に比べてさらにDbx/Dax≧1.05の条件を満たし、最外周側近傍の強度を向上させていることにより、より優れたアイソスタティック強度が得られた(判定:◎)。また、質量は、最外周側近傍の強度向上のために従来(試料C21)よりも少し重くなったが問題のない範囲であり、触媒の早期活性化を実現することができる。
一方、試料C21は、Dax/P≧0.13の条件を満たしていないため、十分なアイソスタティック強度が得られなかった(判定:×)。
また、試料C22は、Dax/P≧0.13の条件を満たしていることで十分なアイソスタティック強度が得られたものの(判定:○)、基本セル壁の表面が直線状に形成されている(曲率半径R1が設定されていない)ことで質量が重くなっており、触媒の早期活性化という点では不利である。
以上の結果から、本発明の六角セルハニカム構造体は、基本セル壁の厚みが140μm以下であるという薄肉の場合を前提とした場合でも、3つの基本セル壁同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Daの平均値DaxとセルピッチPとの関係がDax/P≧0.13を満たすことにより、つまり基本セル壁同士の交点部分を大きくすることにより、全体の強度を向上させることができ、排ガス浄化触媒の触媒担体として実用に耐え得る強度を有するものとなることがわかる。
また、さらに、最外周セル壁同士の交点部分又は最外周セル壁と基本セル壁との交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Dbの平均値Dbxと、直径Daの平均値Daxとの関係がDbx/Dax≧1.05を満たすことにより、最外周側近傍の強度を高め、全体の強度をさらに向上させることが可能であることがわかる。
(実施例4)
本例では、本発明の六角セルハニカム構造体の特性を評価すべく、各部の寸法等を変更した複数の六角セルハニカム構造体(本発明品としての試料E31、E32、E41、E42、E51、E52、比較品としての試料C31、C32、C41、C42、C51、C52)を作製し、アイソスタティック強度を測定した。
各試料における各部の寸法等は、表3に示すとおりである。ここで、表中の「曲率半径R1」とは、基本セル壁の表面の曲率半径である。また、「曲率半径R2」とは、内角部の曲率半径である。また、「細孔容積」とは、単位質量当たりの細孔径40μm以上の細孔の合計容積のことである。
六角セルハニカム構造体としては、実施例2と同様の寸法、形状(直径103mm、長さ105mmの円柱状)のものを作製した。
また、試料E31、E32、E41、E42、E51、E52、C32、C42、C52については、細孔径40μm以上の細孔が増大しないように(細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/g以下となるように)、分級機を用いて原料中に含まれる45μm以上の粗大粒子を除去しておく。そして、この原料を用いて六角セルハニカム構造体を作製する。
また、アイソスタティック強度は、上述した実施例3と同様の方法で測定し、同様に判定を行った。
Figure 0004706784
次に、各試料のアイソスタティック強度の測定結果を表3に示す。
表3からわかるように、試料E31、E32、E41、E42、E51、E52は、基本セル壁の表面の曲率半径R1が1〜32mmの範囲であり、内角部の曲率半径R2が0.1〜0.4mmの範囲であり、細孔径40μm以上の細孔の合計容積(細孔容積)が0.02cm3/g以下であるため、十分なアイソスタティック強度が得られた(判定:◎)。
一方、試料C31、C41、C51は、曲率半径R1、R2が上記範囲であるものの、細孔容積が0.02cm3/gを超えているため、試料E31、E32、E41、E42、E51、E52に比べるとアイソスタティック強度が低くなった(判定:△)。
また、試料C32、C42、C52は、曲率半径R1が設定されておらず、すなわち基本セル壁の表面が直線状であり、また曲率半径R2も上記範囲でないため、十分なアイソスタティック強度を得ることができなかった(判定:×)。
以上の結果から、本発明の六角セルハニカム構造体は、基本セル壁の表面の曲率半径が1〜32mmの範囲であり、内角部の曲率半径が0.1〜0.4mmの範囲であり、細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/g以下であることが好ましく、これによって排ガス浄化触媒の触媒担体として実用に耐え得る強度を有するものとなることがわかる。
(実施例5)
本例では、本発明の六角セルハニカム構造体の特性を評価すべく、基本セル壁の最薄部の厚みT1を変更した六角セルハニカム構造体を作製し、圧縮破壊強度を測定した。
圧縮破壊強度は、次のようにして行った。すなわち、基本的な構成が実施例1と同様の六角セルハニカム構造体1(図1参照)を作製する。セルピッチPは1.36mmである。次いで、図5に示すごとく、その六角セルハニカム構造体1から、φ=1インチ、L=1インチの円柱状の試験体10を切り出す。このとき、六角セルハニカム構造体1の長手方向をa軸とした場合、試験体10の長手方向がc軸となるように切り出す。そして、この試験体10について、c軸における圧縮破壊強度を測定する。圧縮破壊強度は、インストロン社製のオートグラフを用いて、試験体10をc軸方向に圧縮することにより測定した。
次に、測定結果を図6に示す。同図は、セル壁の最薄部の厚みT1(最薄部厚み)とc軸方向における圧縮破壊強度(c軸強度)との関係を示している。
図6からわかるように、基本セル壁の最薄部の厚みT1が40μm未満になると、c軸における圧縮破壊強度が著しく低下する傾向が見られた。これは、六角セルハニカム構造体を押出成形により成形する際に、金型のスリット幅が狭くなるため、材料の供給が十分に行われず、精度良く成形することができないからである。また、これによって成形品の強度が低下するからである。
以上の結果から、本発明の六角セルハニカム構造体は、基本セル壁の最薄部の厚みT1が40μm以上であることが好ましく、これによって排ガス浄化触媒の触媒担体として実用に耐え得る強度を有するものとなることがわかる。
1 六角セルハニカム構造体
2 セル壁
2a 基本セル壁
20a 表面(基本セル壁の表面)
3 セル
4 スキン層

Claims (6)

  1. 排ガス浄化触媒の触媒担体として用いられ、六角形格子状のセル壁と、該セル壁に囲まれた六角形状の多数のセルと、外周側面を覆う筒状のスキン層とを有するセラミックス製の六角セルハニカム構造体において、
    上記セル壁のうち、上記スキン層と組み合わせられることなく6つのセル壁によって実質的に完全な六角形状のセルを形成する要素となるセル壁である基本セル壁の平均厚みが140μm以下であり、
    3つの上記基本セル壁同士の交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Daの平均値Daxと、セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.13であり、
    上記六角セルハニカム構造体の横断面において、上記基本セル壁の両側の表面がいずれも内方に曲線状に凹んで形成されていると共に、隣接する2つの上記基本セル壁がなす内角部がその2つの上記基本セル壁の表面同士を滑らかにつなぐように直線状又は曲線状に形成されていることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
  2. 請求項1において、上記六角セルハニカム構造体を構成する材料は、コーディエライトであることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
  3. 請求項1又は2において、上記基本セル壁の表面が曲率半径1〜32mmの円弧状のR面によって形成されていると共に、上記内角部が曲率半径0.1〜0.4mmの円弧状のR面によって形成されており、かつ、上記六角セルハニカム構造体における細孔径40μm以上の細孔の合計容積が0.02cm3/g以下であることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項において、上記基本セル壁における最も厚みの小さい最薄部の厚みは、40μm以上であることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項において、上記直径Daの平均値Daxと上記セルピッチPとの関係が、Dax/P≧0.16であることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項において、上記セル壁のうち、上記スキン層近傍において該スキン層と組み合わせられて実質的に不完全な六角形状のセルを形成する要素となる最外周セル壁同士の交点部分、又は該最外周セル壁と上記基本セル壁との交点部分における3つのセル開口部の輪郭に接する円の直径Dbの平均値Dbxと、上記直径Daの平均値Daxとの関係が、Dbx/Dax≧1.05であることを特徴とする六角セルハニカム構造体。
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