JP3813277B2 - 密閉化処理方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、溶剤を用いての、部品の機械加工油、鑞付けのフラックス、熱処理時の処理油、衣類のクリーニング等の洗浄処理や、溶剤にコーテイング剤を溶解して行うコーテイング処理や、溶剤を用いて廃プラスチックの溶解処理等の際に生じる溶剤損失を少なくする技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば、精密部品を洗浄操作する際には溶剤としては主に、塩素化フッ素化炭化水素や、塩素化炭化水素が用いられてきたが、地球のオゾン層破壊、その他自然環境破壊、労働環境問題からその使用制限が計られると共に、損失の減少、即ち密閉化が求められている。又、他の溶剤への転換として、炭化水素等の可燃溶剤も用いられているが、防爆や空気置換用の窒素ガス等のイナートガス使用量減少の為にも密閉化が求められている。
【０００３】
一方、従来、溶剤を用いた処理方法としては被処理物の出し入れの為、開放状態の開口部を持った開放的処理装置が一般的である。被処理物を処理装置に出し入れするに際し、溶剤ガスの拡散等による漏れや被処理物との同伴による溶剤の損失を避けることは困難であるとされてきた。又処理設備内に空気や空気中の水分が入り込む事で、溶剤が溶解した排水が発生したり、設備内で水の凍結や、設備腐食、溶剤の劣化等を起こす等、開放的設備に起因する問題が発生している為、水分除去装置や、多量の窒素導入が避けられない。
【０００４】
装置を密閉化する方策としては、処理装置全体を覆い、拡散してくる溶剤ガスを集め、回収装置にて回収する方法が提案されている。しかしながら、溶剤のほとんどを回収するためには多量の空気を同伴する事となり、回収溶剤濃度が希薄で、たかだか０．１パーセント程度にしかならない。このため、液化して再び液溶剤として用いるためには、複雑な操作と高い費用を必要とするのが普通である。
【０００５】
又、回収ガスの取扱い量も多く、大きな回収設備を要し、設備コストも高く、必要床面積も大きい。又回収される溶剤の回収率や品質にも問題がある。又、処理槽に被処理物を設置後密閉化し処理操作を行った後、処理槽内溶剤ガスを減圧装置にて回収装置に送って溶剤を回収後、処理槽の被処理物挿入用口を開け被処理物を取り出す方法が提案されている。しかしながら、この場合も溶剤回収装置がなければ大量の溶剤損失を生ずる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
溶剤回収装置が無くとも自然環境、労働環境が守れ、また、可燃溶剤を用いる際にも空気置換用のイナートガス使用量が僅少で、防爆上安全な密閉化処理方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は前述の問題点を解決する為になされたものであり、処理槽、処理支援設備、減圧装置及びガスホルダーを主要構成設備とし、それぞれが密閉状態を形成しながら連結された処理装置を用いて、処理槽を他の設備から絶縁後、処理槽の被処理物挿入用口を開け被処理物を処理槽内に設置し、処理槽の被処理物挿入用口を閉め密閉化後、処理槽内ガスを減圧装置にて系外へ排除し、被処理物の処理に必要な液溶剤やガス溶剤等を処理支援設備から処理槽に給排出し、被処理物の処理操作を行い、次いで処理槽を他の設備から絶縁後、処理槽内ガスを減圧装置にて処理支援設備系内に回収し、処理槽内に系外ガスを導入した後被処理物挿入用口を開け、被処理物を取り出す密閉化処理方法であって、ガスホルダーを処理槽及び処理支援設備に連結して、処理支援設備及び／または、処理槽のガス容積変化に応じて、ガスホルダーの容積を変化させる密閉化処理方法を提供するものである。
【０００８】
以下に、本発明を具体的な実施態様に従って説明する。これはあくまでも実施態様例であり他の具体的方法も採用可能である。説明は機能に関して説明するものであり、その都度のラインの開閉に付いては説明を省略する場合もある。
【０００９】
図１は密閉系内の主要構成設備とその主要関連を示す。
処理槽２は被処理物を出し入れし、密閉するための被処理物挿入用口を持っている。処理槽に被処理物の出し入れの為に被処理物挿入用口を開けている間、及び処理槽が減圧装置にて減圧操作を行っている間以外は処理槽２、処理支援設備１、及び系内ガス容量変化吸収用のガスホルダー４はライン１３ー２によって連結され、各設備は均圧化されている。
【００１０】
基本的にはバルブ１５ー９は閉じられており系内ガスが排出される箇所はない。ガスホルダーは処理支援設備系内に連絡し、ガス量変化を系内圧力に大きな変化無しに吸収出来る機能を持つような、例えば、浮上式ガスホルダーや伸縮可能なバッグである。
【００１１】
ガスホルダー内圧力は周知の方法により任意に設計出来、系内ガスの系外漏れ出しを嫌う場合はマイナス圧力に、空気の系内漏れ込みを嫌う場合はプラス圧力に設計する。以上により処理設備には系外からの空気の流入や系内ガスの流出がないようになされる。
【００１２】
処理支援設備１は、処理槽に処理液を送り出したり、循環したり、液を抜き取ったり、貯蔵したり、或いは、蒸気処理用の溶剤蒸気を発生したり、送り込んだり、凝縮した溶剤液を回収したり等、被処理物の処理に必要な手段を処理槽に提供できるように設けられた設備集団である。次にそれぞれの工程順に説明する。
【００１３】
第１の工程はバルブ１５ー１、１５ー２、１５ー３、１５ー４、１５ー６を閉め、処理槽２を他の設備から絶縁後、被処理物挿入用口を開け、被処理物を処理槽２内に設置し、被処理物挿入用口を閉め密閉化する。
第２の工程はバルブ１５ー８は閉の状態でバルブ１５ー１、減圧装置５、バルブ１５ー７を経て処理槽内のガスを系外に排出する。但し真空度が充分でない場合には真空度に応じた空気が残留する事になり、結果として処理設備系内に空気が流入する事になる。
【００１４】
その量は非常に少なく通常は問題とならないが、可燃性溶剤を用いる場合には処理設備系内への蓄積となる事からパージを行う事が望ましい。パージの方法としては、最初の処理槽内ガスを減圧排出後、イナートガスをバルブ１５ー６から減圧を維持できる流入速度で導入する方法が使用イナートガス量当たりの置換率を高く出来ることから望ましい。終了後バルブ１５ー６、１を閉め、減圧装置を止める。
【００１５】
第３の工程は処理槽２へ処理設備系ガス、具体的にはガスホルダー４に保留してあったガスを、バルブ１５ー２を開け処理槽２に戻し、処理槽内圧力を系内圧力と均圧にする。勿論、他のルート、例えばライン１３ー２から処理支援設備１を経てバルブ１５ー３からでも本発明の実施の上で差し支えない。処理槽２へガスホルダー４のガスを戻す本工程は、例えば、次の操作が処理液を処理槽２へ導入する操作であるような場合には本工程を省略し、処理槽内の減圧を利用して処理液槽から処理液を吸入する事が設備上便利である。この場合、処理液槽には均圧ラインを通じてガスホルダーのガスが導入される。
【００１６】
第４の工程は処理工程であり、バルブ１５ー２は開けた状態にて処理槽２と処理支援設備１との連絡バルブ１５ー３、１５ー４、ライン１３ー３、１３ー４を経て被処理物処理に必要な液やガス溶剤等を送り込んだり排出したりして、被処理物を処理する工程である。例えば、処理支援設備１からライン１３ー３、バルブ１５ー３にて被処理物が処理用溶剤液にて浸漬するまで前記液を処理槽２に送り込み、処理槽２の例えば超音波発生器にて処理する。
【００１７】
次に処理槽内の処理液をバルブ１５ー４、ライン１３ー４を経て処理支援設備１に抜き出す。次いで蒸気処理用の溶剤蒸気をライン１３ー３、バルブ１５ー３を経て処理槽２に送り込み、蒸気処理を行い、処理槽内の凝縮溶剤液及び非凝縮ガスは１５ー４を経て処理支援設備１に戻す。
【００１８】
その他必要な処理操作、例えば熱風を循環して被洗浄物を乾燥したり、或いは温度を上げたり、等をバルブ１５ー３、１５ー４及びライン１３ー３、１３ー４を通じて行う。処理操作の間、処理槽内や処理液槽、溶剤蒸気発生器等、系内設備の温度変化とそれに伴う溶剤の分圧変化が起こり、系内に保有するガス量に変化が生じる。この間に発生する系全体の保有ガス量の増減は、均圧管１３ー２によってガスホルダー４の容量変化にて吸収しその都度、系外に排出したり系外から空気を取り入れたりしなくてよい。
【００１９】
第５の工程は、処理完了後、処理槽内ガスをガスホルダー４に預けると共に、ガス排出後の処理槽内ガス濃度を低下させる工程である。ガス濃度を低下させることは、被処理物取り出しの際に同伴する溶剤ガスによる環境汚染、溶剤損失を防止するためと、可燃性溶剤を用いる場合に、引火点より低い溶剤濃度にしておくため、さらには、第２工程での排出溶剤量を低減させるためのものである。バルブ１５ー２、１５ー３、１５ー４、１５ー６、１５ー７を閉めた状態として処理槽２を他の設備から絶縁後、処理槽内ガスをバルブ１５ー１、減圧装置５、バルブ１５ー８を経てガスホルダー４に保留する。
【００２０】
この際、減圧装置５からのガスをコンデンサー６にて冷却し、非凝縮ガスをガスホルダー４に保留する事が望ましい。図示されてはいないが例えば、減圧装置５から処理支援設備１を経てガスホルダー４に通ずるようなルートを設ける事も出来る。凝縮液化した液はライン１３ー５にて処理支援設備１に戻す。
【００２１】
第６の工程は処理槽２にバルブ１５ー６を通じてガスを導入し、大気圧とする。第７の工程は被処理物挿入用口を開け被処理物を取りだす。
以上で全工程を完了する。系全体は密閉化されており、又、操作の開始時点と終了時点に於いて、即ち、被処理物の設置と取り出しの時点に於いて系内保有ガス量の変化は無く、更に、この操作期間に温度等による系全体の保有ガス量の増減は、ガスホルダーによって吸収し、その都度、系外に出したり系外から空気を取り入れたりしないことで本発明の密閉処理システムが形成される。系内外の間に於いてガスの流通がない事から、装置系内に空気同伴の水分や勿論酸素の流入も無い。
【００２２】
以上説明したシステムに於いて、被処理物を取り出す第７工程に於ける処理槽内の溶剤濃度、さらには第２工程での処理槽からの系外排出ガス中の溶剤濃度は、第５の工程後の処理槽内のガス濃度と、処理槽内の達成減圧度による。達成減圧度が高いほど溶剤濃度は低くなり望ましい。例えば、第５工程に入る前の処理槽内の濃度が１００％であり、減圧到達度が３０トールであった場合は、第６工程終了後の処理槽内の濃度は約４％となる。
【００２３】
又、同様２８％であれば約１．１％となる。第５工程後の処理槽内の溶剤ガス濃度を下げる方法として減圧操作に入る前に、例えば、バルブ１５ー１、減圧装置５、バルブ１５ー８、コンデンサー６、ガスホルダー４、ライン１３ー２、処理槽２の循環を行う方法が有効である。勿論、上記ガス循環に於いて図示されていないがガスホルダー４をバイパスするラインを設け、コンデンサー６からライン１３ー２に循環する事も差し支えない。
【００２４】
第５工程後の処理槽内の溶剤ガス濃度を下げる他の方法として、処理槽内ガスを減圧装置にて排出後、減圧を維持した状態にてガスホルダー４のガスを例えばライン１３ー２、バルブ１５ー２から導入し、置換する方法も有効である。
【００２５】
この場合、第４工程の終了時濃度が１００％であっても、２８％であってもその濃度に関係なく、処理槽内の液溶剤が蒸発後、処理槽内の濃度はコンデンサー出口のガス温度の平衡濃度まで低下させる事が出来る。例えば、溶剤がトリクロールエチレンであり、コンデンサーの温度を摂氏３度とした場合、その濃度は約３．２％となり、第６工程での減圧度が同様３０トールとした場合第２工程での排出ガス濃度は約０．１３％となる。更に、減圧到達度が１トールまでになれば、その濃度は４０ｐｐｍとすることができる。
【００２６】
以上の操作に於いて、第２の工程でのパージガス溶剤濃度が不足の場合は、第５補工程として、系外からのイナートガスでパージする。ここで供給するイナートガスの供給量はそのまま処理設備系からの系外排出ガスとなる。このことからパージ用イナートガスの使用量は、できるだけ少ない量で処理槽内の溶剤濃度を低下させる事が望ましい。
【００２７】
その方法として第５工程が終了し、処理槽内が減圧状態となった後、処理槽２に処理槽内の圧力が、減圧装置の能力から許容できる、出来るだけ高い減圧状態を維持しながら、処理槽２へイナートガスを供給し処理槽内の濃度を下げることで僅少なイナートガス量で効果適にパージすることができる。
【００２８】
特開昭５９ー１３２９１９では、処理槽内溶剤濃度を下げる方法として、減圧装置にて処理槽内ガスを吸引排除した後、空気を導入して常圧に戻す操作を繰り返す事によって、満足する濃度まで下げる事が提案されている。しかしながら同提案では、供給イナートガス量に対する濃度低減率は、例えば、減圧達成度が３０トールの場合、一回の繰り返しによる終了後の濃度は初期濃度に対して約４％にしか下がらない。この場合イナートガスの供給量は処理槽容積の０．９６倍である。
【００２９】
本発明の方法で上記方法と同様条件、即ち、到達真空度３０トール、使用イナートガス量が処理槽２の容積の０．９６倍量を用いてパージした場合と比較すると、処理槽内の圧力を３０トールに維持しながら処理槽容積の０．９６倍の常圧イナートガスを処理槽２に導入した場合、イナートガスは処理槽内にて約２５倍に膨張し、その結果、処理槽容積の約２４倍のガス量で無限希釈される事になり、終了後の濃度は、初期濃度に対し、１．４×１０^ー9％となる。以上から本発明の効果は絶大であると言える。
【００３０】
以上処理操作の間に、系内への空気の漏れ込みがあった場合はガスホルダー４の保有ガス量の増加となり、バルブ１５ー９より系外放出をせざるを得なくなる事から、装置の密閉化には特に留意を要する。この場合、系外に排出される溶剤量が許容できる範囲である場合はそのまま排出するが、許容できない場合は、圧縮冷却するとか、吸着剤を用いて吸着再生回収する等の一般的方法により回収するが、本発明を用いると通常処理必要量は僅少であり、非常に有利である。
【００３１】
次に本発明において複数個の処理槽（２個の処理槽２、２’）を持つ処理装置の場合について説明する。図２において、片方の処理槽２の処理工程が前記第３の工程であるガスホルダーガスを処理槽に戻すタイミングにあり、他方の処理槽２’が前記第５工程である処理槽内のガスを排出するタイミングにある場合、図１で説明のようにガスホルダー４を経ることなしに片方の処理槽２から他方の処理槽２’に直接に、減圧装置を用いガスを移動させれば、ガスホルダー４が不要となるか、小さくする事が可能である。
【００３２】
今、片方の処理槽２の処理工程が前記第３の工程であるガスホルダーから処理槽にガスを戻すタイミングにあり、他方の処理槽２’が前記第５工程である処理槽内のガスを排出するタイミングにあるように操作手順が設定されている場合に於いて、片方の処理槽２’からバルブ１５ー１’、減圧装置５、バルブ１５ー８、コンデンサー６、ライン１３ー６、バルブ１５ー５を通じてガスを移動させる事によって両処理槽の処理工程を実施することができる。又、この逆に処理槽２から処理槽２’へガスを移動させる事もできる。
【００３３】
その他、処理槽、ガスホルダー、処理支援設備の機能や使用方法、系内圧の調節、処理槽内のガスの濃度低下手段、余剰ガスの処理等は図１の説明と同じである。
【００３４】
図３は処理槽２、破線で囲んだ処理支援設備１、ガスホルダー４にて構成された洗浄装置のフローチャートを示す図である。
溶剤容器７、溶剤蒸気発生器９、コンデンサー６、ガスホルダー４は通常バルブ１５ー２、１０、均圧ライン１３ー２によってガスホルダー圧に均圧されている。溶剤蒸気発生器９の内部温度は、溶剤蒸気分圧が大気圧以下でありほぼ大気圧になるようヒーター９ー１で加熱調節され、又、溶剤７ー１の温度は溶剤蒸気発生器９の温度よりも低い温度になるよう温度調節器７ー２で調節しておく。
【００３５】
処理槽液排出用バルブ１５ー４の位置は、溶剤容器７の溶剤液面レベルよりも高い位置となるように設置することが便利であり本例ではそのように設定しているが、処理槽２の液を処理液槽に排出する際に、図に示されていないが移送装置を用いて移送する事で代える事が出来る。バルブ１５ー１、１５ー２、１５ー３ー１、１５ー３ー２、１５ー４、１５ー６を閉としておく。このような状態にて被処理物挿入用口２ー１を開き、処理槽２に被処理物１１を設置し、次いで被処理物挿入用口２ー１を閉めて密閉状態とする。
【００３６】
次いで処理槽内空気をバルブ１５ー１、減圧装置５、１５ー７を経て系外に排出する。次にバルブ１５ー１、１５ー７を閉め、減圧装置を止め、バルブ１５ー２を開けてガスホルダー４から均圧ライン１３ー２、逆止弁１５ー１２、バルブ１５ー２を経て処理槽内に系内ガスを導入し系内圧と均圧にする。ここでは、処理槽内圧力をガスホルダー圧に均圧する例を挙げたが、例えば、次の工程が、処理槽に処理液を導入するような場合のように減圧のままで次の工程に移る方が便利な場合には均圧しないで次の工程に移る。
【００３７】
処理槽を均圧にした場合には、次いでポンプ８によりバルブ１５ー３、１５ー２、を経て溶剤を処理槽２に導入し液溶剤による処理、及び被処理物の冷却操作を同時に行う。処理槽内のガスはノズル１５ー２、ライン１３ー２を経て溶剤容器７のガス相部に押し出される。処理槽を減圧のままで本工程に移った場合には、ポンプ８を用いないで、バルブ１５ー３ー２を開ける事によって処理液槽７の処理液７ー１を処理槽２に吸い上げる事が出来る。この場合、処理槽２にはガスホルダーのガスがライン１３ー２、逆止弁１５ー１２、を通って導入される。処理液での処理効果を高めるために必要に応じて回転翼や振動子や振動板を用いて撹拌を行う。
【００３８】
液による処理が完了後、バルブ１５ー３ー２、を閉め、ポンプを用いた場合にはポンプ８を止め、バルブ１５ー４を開け溶剤容器７に流下回収する。処理槽にはライン１３ー２を経て溶剤容器からガスが流入し均圧状態が維持される。
【００３９】
液排出後、バルブ１５ー１０を閉め、１５ー３ー１を開け、送風器１０によってガスホルダー４のガスを溶剤蒸気発生器９の液中にキャリアガスとして送入し、溶剤蒸気発生器温度相当の溶剤蒸気濃度まで溶剤が蒸発し吹き込みキャリアガスと同伴してバルブ１５ー３ー１を経て処理槽に導入する。
【００４０】
処理槽２では溶剤蒸気よりも低い温度の被処理物の表面に溶剤を凝縮させ、その凝縮溶剤液によって非処理物表面に付着している溶解物や、溶剤に対して不溶性の微小粒子を含んだ溶剤を洗い流し、バルブ１５ー４を経て溶剤容器７に回収する。溶剤蒸気発生器９にて蒸発した溶剤に相当する溶剤は、溶剤容器７から自動的に補給されるように設計する。被処理物の温度が上昇し、表面に凝縮が起こらなくなる頃に、送風器１０を止め、バルブ１５ー３ー１を閉め、バルブ１５ー１０を開け、蒸気処理工程を終了する。
【００４１】
次いでバルブ１５ー２、１５ー４を閉め処理槽２を他の設備から絶縁し、減圧装置５を用いて処理槽内溶剤ガスをバルブ１５ー１、１５ー８を経てコンデンサー６に導き、凝縮液化した溶剤は溶剤容器７に、非凝縮ガスはガスホルダー４に保留する。
【００４２】
次いでバルブ１５ー１を閉め、減圧装置を止め、１５ー６を開け、処理槽内を大気圧とした後に処理槽被処理物挿入用口２ー１を開け処理の完了した被処理物を取り出し終了する。
その他、処理槽、ガスホルダー、処理支援設備の機能や使用方法、系内圧の調節、処理槽内のガスの濃度低下手段、余剰ガスの処理等は図１の説明と同じである。
【００４３】
図４は、廃プラスチック屑を溶剤により溶解し、溶解した液から溶剤を蒸発回収すると共に、プラスチックを再生する操作において、多様な形状の上に嵩高い廃プラスチック屑を溶解する工程で溶剤の損失を僅少にする目的から本発明を用いた実施例である。
【００４４】
図４に従って以下に説明する。本例での廃プラスチックは発泡スチロールであり、処理液はジクロロメチレンである。廃プラスチック屑容器１２は、廃プラスチックを粉砕したものの貯槽である。処理槽２は廃プラスチックの粉砕品を廃プラスチック屑容器１２から受け入れる為のスクリュウコンベアー１３ー７及び受け入れ後処理槽を密閉するためのボールバルブ１５ー４にて連結されている。
【００４５】
バルブ１５ー１、１５ー２、１５ー３、１５ー４、を閉め、廃プラスチック容器１２のプラスチック粉砕品をスクリュウコンベアー１３ー７、ボールバルブ１５ー３にて処理槽に圧縮装入する。
【００４６】
次いでバルブ１５ー６、１５ー１３を閉め、処理槽内空気をバルブ１５ー１、減圧装置５、バルブ１５ー７にて系外に排出する。
【００４７】
次いでバルブ１５ー１を閉め、バルブ１５ー３を開け、処理液槽から処理液を吸引する。処理槽にはガスホルダーからガスが供給され、系内の均圧が維持される。処理液を吸引後バルブ１５ー３を閉める。
【００４８】
プラスチック屑が溶解した後バルブ１５ー２、１５ー４を開け、同液を処理液槽７に戻す。処理液槽内液のプラスチック濃度は約３０重量％になるよう同液をプラスチック回収器１４に移し、処理剤をガス化してプラスチックの再生品を得ると共にガス化した処理剤をライン１３ー８を経てコンデンサー６にて液化し処理液槽７に戻す。
【００４９】
次いで、バルブ１５ー２、１５ー４、１５ー７を閉め、バルブ１５ー１、１５ー８を開け、減圧装置を起動し、処理槽内処理剤をコンデンサー６、ガスホルダー４に流す。コンデンサー６では摂氏約３度迄冷却され、処理ガスの一部は凝縮液化され、ライン１３ー５を通して処理液槽７に回収される。凝縮しなかったガスはガスホルダー４に戻される。
【００５０】
処理槽の処理剤が排出された後バルブ１５ー６を開け、空気を導入後大気圧とし、一回の操作を終了する。
【００５１】
【発明の効果】
本発明の処理方法を用いると、溶剤損失が僅少となり、自然環境、労働環境の改善に寄与し、また、溶剤処理装置内に被処理物に同伴して、空気やそれに伴う水分が入らないために、溶剤が溶解した排水が発生したり、設備内での水の凍結や、設備腐食、溶剤の劣化等を起すことがない。また、可燃溶剤を用いる際にも空気置換用のイナートガス使用量が僅少で防爆上安全な密閉化処理設備となる。また、系外排ガスを無くするか、少なく出来る等の利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施態様を説明する説明図。
【図２】 本発明の別の実施態様を説明する説明図。
【図３】 本発明の又別の実施態様を説明する説明図。
【図４】 本発明の又別の実施態様を説明する説明図。
【 符号の説明】
符号は全図に共通した番号である
１ は処理支援設備。
２、２’ は処理槽。
２ー１ は処理槽の被処理物装入用口
４ はガスホルダー。
５ は減圧装置。
６ はコンデンサー。
７ は処理液槽。
７ー１ は処理液槽の溶剤
７ー２ は処理液槽の温度調節器
８ は処理液ポンプ。
９ は溶剤蒸気発生器。
９ー１ は溶剤蒸気発生器の加熱器
１０ は送風器。
１１ は被処理物。
１２ は廃プラスチック屑容器
１３ー１〜１３ー８は主要構成設備間の関連を示すライン。
１４ はプラスチック回収器
１５ー１〜１５ー１３はバルブ、逆止弁。

Claims (7)

1. 処理槽、処理支援設備、減圧装置及びガスホルダーを主要構成設備とし、それぞれが密閉状態を形成しながら連結された処理装置を用いて、処理槽を他の設備から絶縁後、処理槽の被処理物挿入用口を開け被処理物を処理槽内に設置し、処理槽の被処理物挿入用口を閉め密閉化後、処理槽内ガスを減圧装置にて系外へ排除し、被処理物の処理に必要な液溶剤やガス溶剤等を処理支援設備から処理槽に給排出し、被処理物の処理操作を行い、次いで処理槽を他の設備から絶縁後、処理槽内ガスを減圧装置にて処理支援設備系内に回収し、処理槽内に系外ガスを導入した後被処理物挿入用口を開け、被処理物を取り出す密閉化処理方法であって、ガスホルダーを処理槽及び処理支援設備に連結して、処理支援設備及び／または、処理槽のガス容積変化に応じて、ガスホルダーの容積を変化させる密閉化処理方法。
2. 処理槽が２個であり、一つの処理槽が、被処理物取り出し前の処理槽内ガスを排出し回収する工程にあり、他の処理槽が、被処理物を設置し、ガス排出後、処理槽内部に系内ガスを受け入れる工程にあるように調節し、両方の処理槽を減圧装置を介して連結して前記一つの処理槽内ガスを他の処理槽に移動させる請求項１記載の密閉化処理方法。
3. ガスホルダーが、これに導入保留するガスを、予めコンデンサーにて冷却処理した後、ガスホルダーに保留する請求項１記載の密閉化処理方法。
4. 被処理物を処理槽から取り出す際に於いて、処理槽内ガスを減圧装置にて移送操作を行う前に、処理槽内ガスを、コンデンサーの間でガス循環を行い、処理槽内溶剤ガス濃度を下げる請求項１記載の密閉化処理方法。
5. 被処理物を処理槽から取り出す際に於いて、処理槽内ガスを減圧装置にて吸引して取り出した後に、処理槽内ガスの圧力を減圧に維持した状態にてガスホルダーガスを供給し、処理槽内溶剤ガス濃度を下げる請求項１記載の密閉化処理方法。
6. 被処理物を処理槽から取り出す際に於いて、処理槽内ガスを減圧装置にて吸引して取り出した後、処理槽内の圧力を減圧に維持した状態にてイナートガスを供給し、処理槽内溶剤ガス濃度を下げる請求項１記載の密閉化処理方法。
7. 処理槽内に被処理物を設置後、処理槽内ガスを減圧装置にて系外に排出した後に、処理槽内ガスの圧力を減圧に維持した状態にてイナートガスを供給し、処理槽内に残存する空気や水分をパージする請求項１記載の密閉化処理方法。

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