JP3769745B2 - ウェーハ搬送システム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェーハ搬送ロボット（以下、単に搬送ロボットと称する）によりカセットからウェーハを取り出し加工装置や検査装置へ搬送するウェーハ搬送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ウェーハは、面取り、研削、洗浄等の様々な加工工程、検査工程、具体的には、面取り装置、研削装置、洗浄装置等の加工装置、酸素濃度測定装置、平坦度測定装置等の検査装置にかけられ製品化される。これらの工程においてウェーハは、その都度、搬送ロボットによりカセットから取り出され、これらのウェーハ処理装置に搬送される。
従来、図４に示すように、固定式カセットステージ11上に載置されたウェーハカセット12からウェーハＷを取り出し、ウェーハ処理装置13のウェーハステージ14上にウェーハＷを搬送し、さまざまな加工または検査を行っていた。ウェーハカセット12からウェーハＷを取り出し搬送する搬送ロボット15には、Ｘ軸方向（矢印Ｘ）、Ｙ軸方向（矢印Ｙ）、Ｚ軸方向（高さ方向）への移動機能及び搬送アーム16の回転機能が要求され、このため、搬送ロボット15の動作は複雑で移動距離も長くなり、ハンドリング時間が増え、タクトタイムが増大し、ウェーハ処理装置13の稼働率をさげていた。
また、搬送ロボット15は構造及び動作が複雑なため、故障しがちであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、搬送ロボットの構造及び動作を単純化して故障をなくし、かつウェーハのハンドリングに要する時間を短縮してウェーハ処理装置の稼働率を上げることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明のウェーハ搬送システムは、工程ラインより流れてきたウェーハを、第１の搬送ロボットにより受け取り転回して第１の移動式カセットステージ上に載置された、対向する両サイドが開口しているカセットに一方の開口側から一旦収納した後、該カセットの反対側から第２の搬送ロボットにより取り出し転回してウェーハ処理装置に移して処理した後、第３の搬送ロボットにより取り出し転回して第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットに収納するように構成され、前記移動式カセットステージは、基台上にスライドステージがＹ軸方向にスライド可能に設けられ、前記搬送ロボットは、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アームを有し、Ｘ軸方向に直線移動自在であることを特徴としている。さらに、前記第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットから、第４の搬送ロボットによりウェーハを取り出し転回して、１以上の工程ラインのいずれかに適宜選択して転送するように構成することもできる。
【０００５】
本発明のウェーハ搬送システムは、基台上にスライドステージがＹ軸方向にスライド可能に設けられた移動式カセットステージと、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アームを有する、Ｘ軸方向に直線移動自在の搬送ロボットとウェーハ処理装置が配設され、搬送ロボットにより、スライドステージ上に載置されたカセット内からウェーハを取り出し、ウェーハ処理装置に移送することができ、前記搬送アームには、この先端近傍上面にワークを吸着するためのエア吸引口が設けられている。
【０００６】
また、ウェーハの搬送処理は、前記ウェーハ搬送システムを用いてスライドステージ上のカセットからウェーハを搬送アームで吸着して取り出し、ウェーハ処理装置に供給し、処理後ウェーハを、別のスライドステージ上に載置されたカセットに収納するようにして行われる。
【０００７】
上記構成からなる本発明のウェーハ搬送システムは、基台上のスライドステージをＹ軸方向に移動可能としたことにより、搬送ロボットは、水平方向への回転と上下動（Ｚ軸方向）以外には、Ｘ軸方向のみの移動でよくなり、搬送ロボットの構造がより単純化され故障のない安定した操業が保証される。また、スライドステージはウェーハ処理装置が稼働している間に移動することができるためタクトタイムが短くなり、かつ搬送ロボットの移動距離も短くなっているためハンドリング時間が減少し、ウェーハ処理装置の稼働率が向上する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明のウェーハ搬送システムを実施例にもとづき図を用いてさらに詳細に説明する。
【０００９】
【実施例】
［実施例１］
図１は、本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す概略平面図であり、図２は、図１と同じ構成を有するウェーハ搬送システムの斜視図である。
図において、移動式カセットステージ１とウェーハ処理装置２との間に搬送ロボット３が配設されている。移動式カセットステージ１は、基台４とこの上に矢印Ｙで示すＹ軸方向にスライド可能に設けられたスライドステージ５から構成され、搬送ロボット３は、矢印Ｘで示すＸ軸方向にのみ移動でき、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アーム６を有している。Ｘ軸方向への移動は、搬送ロボット３本体を例えばレール上を移動するように、あるいは搬送アーム６が移動するようにしてもよい。ウェーハ処理装置２は、搬送ロボット３をはさんで、ウェーハＷが取り出されるカセット７と正対する位置に配設されている。
【００１０】
ウェーハＷは、搬送ロボット３の正面に位置するスライドステージ５上に載置されたカセット７から搬送アーム６の先端部で吸着して取り出され、反転して、ウェーハ処理装置２のウェーハステージ８上に移送され、加工又は検査等の処理がなされる。なお、カセット７に収容されたウェーハＷは、カセット７の内側壁に沿って等ピッチで設けられた溝内に個々に接触することなく支持されている。 処理されたウェーハＷは、搬送アーム６により元のカセット７に戻される。次に、このカセット７から１段上の未処理のウェーハＷを取り出し、同様の操作が繰り返えされる。すべてのウェーハＷの所定の処理が終了すると、スライドステージ５を１カセット分移動させて、未処理のウェーハＷを納めた別のカセット７を搬送ロボット３と正対させ、同様の操作を繰り返す。
【００１１】
ウェーハ処理装置２で処理されたウェーハＷを元のカセット７に戻す前記方法に替えて、ウェーハＷがウェーハ処理装置２で処理されている間に、スライドステージ５を１カセット分移動させて、未処理のウェーハＷで汚されていない清浄な別の空のカセット７を搬送ロボット３と正対させ、この新しいカセット７に処理済のウェーハＷを収納し、再度スライドステージ５を１カセット分移動させて元のカセット７から未処理のウェーハＷを取り出して処理を繰り返す方法を採用することもできる。
【００１２】
［実施例２］
図３は、本発明のウェーハ搬送システムの他の実施例を示す概略平面図である。複数の製造ライン（本実施例においては工程Ａ１，Ａ２の２ライン）より流れてきたウェーハは、搬送ロボット３ａにより移動式カセットステージ１のスライドステージ５上に載置されたカセット７に一旦収納された後、搬送ロボット３ｂによりウェーハ処理装置２である検査装置Ｂに移送して検査され、この検査結果によりウェーハは、検査基準にもとづき工程Ｃ１又は工程Ｃ２のいずれかに選別して移送される。なお、ここで使用するカセット７は、一方から収納して他方から取り出すことができるように両サイドが開口しているタイプが好適である。
【００１３】
製造ラインにこのようなウェーハ搬送システムを組み込むことにより、Ｙ軸方向への移送はスライドステージ５が担っているため、搬送ロボットはＸ軸方向への移送のみとなり、搬送ロボットによる移送時間は短くなる。さらに、スライドステージ５はウェーハを検査している間に移動することができ、検査装置Ｂの稼働率のアップに寄与する。このため検査装置Ｂのスループット量は増し、処理能力が向上する。
【００１４】
上記ウェーハ処理装置は、面取り装置、研削装置、洗浄装置等の加工装置、酸素濃度測定装置、平坦度測定装置等の検査装置をはじめとしてウェーハを処理する装置を指す。
なお、基台上のスライドステージの駆動方法は、エアシリンダ方式、モータ駆動方式等を採用することができ、特には限定されない。スライドステージの数も図１〜図３のように２台に限定されず、必要に応じ適宜設定すればよい。なお、スライドステージを移動するのではなく基台を移動する方式としてもよい。
【００１５】
【発明の効果】
上記構成としたことにより本発明のウェーハ搬送システムは、搬送ロボットの構造がより単純化され故障のない安定した操業が可能となり、かつ搬送ロボットの移動距離が短くハンドリング時間が減少し、タクトタイムが短くウェーハ処理装置の稼働率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す概略平面図である。
【図２】本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す斜視図である。
【図３】本発明のウェーハ搬送システムの他の実施例を示す概略平面図である。
【図４】従来のウェーハ搬送システムを示す概略平面図である。
【符号の説明】
１ ・・・・・・・・移動式カセットステージ
２，13・・・・・・ウェーハ処理装置
３，15・・・・・・搬送ロボット
４ ・・・・・・・・基台
５ ・・・・・・・・スライドステージ
６，16・・・・・・搬送アーム
７，12・・・・・・ウェーハカセット
８，14・・・・・・ウェーハステージ
11 ・・・・・・・・固定式カセットステージ
Ｗ ・・・・・・・・ウェーハ
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェーハ搬送ロボット（以下、単に搬送ロボットと称する）によりカセットからウェーハを取り出し加工装置や検査装置へ搬送するウェーハ搬送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ウェーハは、面取り、研削、洗浄等の様々な加工工程、検査工程、具体的には、面取り装置、研削装置、洗浄装置等の加工装置、酸素濃度測定装置、平坦度測定装置等の検査装置にかけられ製品化される。これらの工程においてウェーハは、その都度、搬送ロボットによりカセットから取り出され、これらのウェーハ処理装置に搬送される。
従来、図４に示すように、固定式カセットステージ11上に載置されたウェーハカセット12からウェーハＷを取り出し、ウェーハ処理装置13のウェーハステージ14上にウェーハＷを搬送し、さまざまな加工または検査を行っていた。ウェーハカセット12からウェーハＷを取り出し搬送する搬送ロボット15には、Ｘ軸方向（矢印Ｘ）、Ｙ軸方向（矢印Ｙ）、Ｚ軸方向（高さ方向）への移動機能及び搬送アーム16の回転機能が要求され、このため、搬送ロボット15の動作は複雑で移動距離も長くなり、ハンドリング時間が増え、タクトタイムが増大し、ウェーハ処理装置13の稼働率をさげていた。
また、搬送ロボット15は構造及び動作が複雑なため、故障しがちであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、搬送ロボットの構造及び動作を単純化して故障をなくし、かつウェーハのハンドリングに要する時間を短縮してウェーハ処理装置の稼働率を上げることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明のウェーハ搬送システムは、工程ラインより流れてきたウェーハを、第１の搬送ロボットにより受け取り転回して第１の移動式カセットステージ上に載置された、対向する両サイドが開口しているカセットに一方の開口側から一旦収納した後、該カセットの反対側から第２の搬送ロボットにより取り出し転回してウェーハ処理装置に移して処理した後、第３の搬送ロボットにより取り出し転回して第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットに収納するように構成され、前記移動式カセットステージは、基台上にスライドステージがＹ軸方向にスライド可能に設けられ、前記搬送ロボットは、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アームを有し、Ｘ軸方向に直線移動自在であることを特徴としている。さらに、前記第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットから、第４の搬送ロボットによりウェーハを取り出し転回して、１以上の工程ラインのいずれかに適宜選択して転送するように構成することもできる。
【０００５】
本発明のウェーハ搬送システムは、基台上にスライドステージがＹ軸方向にスライド可能に設けられた移動式カセットステージと、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アームを有する、Ｘ軸方向に直線移動自在の搬送ロボットとウェーハ処理装置が配設され、搬送ロボットにより、スライドステージ上に載置されたカセット内からウェーハを取り出し、ウェーハ処理装置に移送することができ、前記搬送アームには、この先端近傍上面にワークを吸着するためのエア吸引口が設けられている。
【０００６】
また、ウェーハの搬送処理は、前記ウェーハ搬送システムを用いてスライドステージ上のカセットからウェーハを搬送アームで吸着して取り出し、ウェーハ処理装置に供給し、処理後ウェーハを、別のスライドステージ上に載置されたカセットに収納するようにして行われる。
【０００７】
上記構成からなる本発明のウェーハ搬送システムは、基台上のスライドステージをＹ軸方向に移動可能としたことにより、搬送ロボットは、水平方向への回転と上下動（Ｚ軸方向）以外には、Ｘ軸方向のみの移動でよくなり、搬送ロボットの構造がより単純化され故障のない安定した操業が保証される。また、スライドステージはウェーハ処理装置が稼働している間に移動することができるためタクトタイムが短くなり、かつ搬送ロボットの移動距離も短くなっているためハンドリング時間が減少し、ウェーハ処理装置の稼働率が向上する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明のウェーハ搬送システムを実施例にもとづき図を用いてさらに詳細に説明する。
【０００９】
【実施例】
［実施例１］
図１は、本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す概略平面図であり、図２は、図１と同じ構成を有するウェーハ搬送システムの斜視図である。
図において、移動式カセットステージ１とウェーハ処理装置２との間に搬送ロボット３が配設されている。移動式カセットステージ１は、基台４とこの上に矢印Ｙで示すＹ軸方向にスライド可能に設けられたスライドステージ５から構成され、搬送ロボット３は、矢印Ｘで示すＸ軸方向にのみ移動でき、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アーム６を有している。Ｘ軸方向への移動は、搬送ロボット３本体を例えばレール上を移動するように、あるいは搬送アーム６が移動するようにしてもよい。ウェーハ処理装置２は、搬送ロボット３をはさんで、ウェーハＷが取り出されるカセット７と正対する位置に配設されている。
【００１０】
ウェーハＷは、搬送ロボット３の正面に位置するスライドステージ５上に載置されたカセット７から搬送アーム６の先端部で吸着して取り出され、反転して、ウェーハ処理装置２のウェーハステージ８上に移送され、加工又は検査等の処理がなされる。なお、カセット７に収容されたウェーハＷは、カセット７の内側壁に沿って等ピッチで設けられた溝内に個々に接触することなく支持されている。 処理されたウェーハＷは、搬送アーム６により元のカセット７に戻される。次に、このカセット７から１段上の未処理のウェーハＷを取り出し、同様の操作が繰り返えされる。すべてのウェーハＷの所定の処理が終了すると、スライドステージ５を１カセット分移動させて、未処理のウェーハＷを納めた別のカセット７を搬送ロボット３と正対させ、同様の操作を繰り返す。
【００１１】
ウェーハ処理装置２で処理されたウェーハＷを元のカセット７に戻す前記方法に替えて、ウェーハＷがウェーハ処理装置２で処理されている間に、スライドステージ５を１カセット分移動させて、未処理のウェーハＷで汚されていない清浄な別の空のカセット７を搬送ロボット３と正対させ、この新しいカセット７に処理済のウェーハＷを収納し、再度スライドステージ５を１カセット分移動させて元のカセット７から未処理のウェーハＷを取り出して処理を繰り返す方法を採用することもできる。
【００１２】
［実施例２］
図３は、本発明のウェーハ搬送システムの他の実施例を示す概略平面図である。複数の製造ライン（本実施例においては工程Ａ１，Ａ２の２ライン）より流れてきたウェーハは、搬送ロボット３ａにより移動式カセットステージ１のスライドステージ５上に載置されたカセット７に一旦収納された後、搬送ロボット３ｂによりウェーハ処理装置２である検査装置Ｂに移送して検査され、この検査結果によりウェーハは、検査基準にもとづき工程Ｃ１又は工程Ｃ２のいずれかに選別して移送される。なお、ここで使用するカセット７は、一方から収納して他方から取り出すことができるように両サイドが開口しているタイプが好適である。
【００１３】
製造ラインにこのようなウェーハ搬送システムを組み込むことにより、Ｙ軸方向への移送はスライドステージ５が担っているため、搬送ロボットはＸ軸方向への移送のみとなり、搬送ロボットによる移送時間は短くなる。さらに、スライドステージ５はウェーハを検査している間に移動することができ、検査装置Ｂの稼働率のアップに寄与する。このため検査装置Ｂのスループット量は増し、処理能力が向上する。
【００１４】
上記ウェーハ処理装置は、面取り装置、研削装置、洗浄装置等の加工装置、酸素濃度測定装置、平坦度測定装置等の検査装置をはじめとしてウェーハを処理する装置を指す。
なお、基台上のスライドステージの駆動方法は、エアシリンダ方式、モータ駆動方式等を採用することができ、特には限定されない。スライドステージの数も図１〜図３のように２台に限定されず、必要に応じ適宜設定すればよい。なお、スライドステージを移動するのではなく基台を移動する方式としてもよい。
【００１５】
【発明の効果】
上記構成としたことにより本発明のウェーハ搬送システムは、搬送ロボットの構造がより単純化され故障のない安定した操業が可能となり、かつ搬送ロボットの移動距離が短くハンドリング時間が減少し、タクトタイムが短くウェーハ処理装置の稼働率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す概略平面図である。
【図２】本発明のウェーハ搬送システムの一実施例を示す斜視図である。
【図３】本発明のウェーハ搬送システムの他の実施例を示す概略平面図である。
【図４】従来のウェーハ搬送システムを示す概略平面図である。
【符号の説明】
１ ・・・・・・・・移動式カセットステージ
２，13・・・・・・ウェーハ処理装置
３，15・・・・・・搬送ロボット
４ ・・・・・・・・基台
５ ・・・・・・・・スライドステージ
６，16・・・・・・搬送アーム
７，12・・・・・・ウェーハカセット
８，14・・・・・・ウェーハステージ
11 ・・・・・・・・固定式カセットステージ
Ｗ ・・・・・・・・ウェーハ
Claims (2)
- 工程ラインより流れてきたウェーハを、第１の搬送ロボットにより受け取り転回して第１の移動式カセットステージ上に載置された、対向する両サイドが開口しているカセットに一方の開口側から一旦収納した後、該カセットの反対側から第２の搬送ロボットにより取り出し転回してウェーハ処理装置に移して処理した後、第３の搬送ロボットにより取り出し転回して第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットに収納するように構成され、前記移動式カセットステージは、基台上にスライドステージがＹ軸方向にスライド可能に設けられ、前記搬送ロボットは、水平方向に回転自在で上下動（Ｚ軸方向）可能な搬送アームを有し、Ｘ軸方向に直線移動自在であることを特徴とするウェーハ搬送システム。
- 前記第２の移動式カセットステージ上に載置されたカセットから、第４の搬送ロボットによりウェーハを取り出し転回して、１以上の工程ラインのいずれかに適宜選択して転送する請求項１に記載のウェーハ搬送システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7414498A JP3769745B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | ウェーハ搬送システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7414498A JP3769745B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | ウェーハ搬送システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274262A JPH11274262A (ja) | 1999-10-08 |
| JP3769745B2 true JP3769745B2 (ja) | 2006-04-26 |
Family
ID=13538694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7414498A Expired - Fee Related JP3769745B2 (ja) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | ウェーハ搬送システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3769745B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4838293B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2011-12-14 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置 |
| CN115338705A (zh) * | 2022-06-30 | 2022-11-15 | 杭州众硅电子科技有限公司 | 一种连续式晶圆抛光系统 |
-
1998
- 1998-03-23 JP JP7414498A patent/JP3769745B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11274262A (ja) | 1999-10-08 |
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Legal Events
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