JP3748193B2 - 真空処理装置及びその運転方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は複数の処理室を持つ真空処理装置の試料搬入順序を決定する制御手段を備えた真空処理装置及びその運転方法に係り、特に複数の処理室で並列に処理を行なう運用において、試料処理の効率を向上する真空処理装置及びその運転方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
複数の処理室を持つ真空処理装置の試料搬入順序を決定する制御手段を備えたものとして、特開平10−189687号公報には、複数の処理室を接続したシステムの真空処理装置において、試料の優先順位に基づくスケジューリングを行うものが開示されている。
【0003】
また、複数の処理室で並列に処理を行なうものとして、特開昭63−133532号公報には、搬送室に複数の処理室を接続したシステムの真空処理装置において並列に処理を行なう場合、2つの処理室に対して試料を搬入する順序は2つの試料カセットから処理試料枚数が同じになるように処理室へ搬入するものが開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
複数の処理室で並列に処理を行なう場合に、上記特開昭63−133532号公報に記載のように、2つの試料カセットから搬出する試料枚数が同じになるように処理室へ搬入しても、全ての処理室で処理時間が同じとは限らないために処理室への試料搬入において無駄な待ち時間が発生するという問題が有る。
【0005】
本発明の目的は、複数の処理室で試料処理を並列に行なう運用において、真空処理装置全体の試料処理の効率向上を図った真空処理装置及びその運転方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、本発明は、試料を収納する複数のカセットと、該試料を搬送する搬送手段と、前記試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、前記装置制御手段は、前記試料の搬送時間及び前記処理室での処理時間を計測し、該計測された時間に基づいて次に前記複数のカセットから前記試料を取り出す順番を決定することを特徴とする。
【0007】
本発明の他の特徴は、試料を収納する複数のカセットと、該試料を搬送する搬送手段と、前記試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、前記装置制御手段は、各処理室への試料搬入、搬出時間や試料の処理時間から新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの時間を計算し、この時間が最も短い処理室に対応したカセットから試料を搬入することにある。
【0008】
本発明の他の特徴は、試料を収納する複数のカセットと、該試料を搬送する搬送手段と、前記試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、前記装置制御手段は、各々の処理室への試料搬入、搬出時間や、試料処理時間を計測して求める搬送・処理時間計測手段と、上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間などから、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの時間を演算により予測するための試料処理待時間予測手段と、求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎにカセットから試料を取り出す順番を決定する機能を持つ試料処理順決定手段と、この試料処理順決定手段で決定された結果に基づいて、試料の処理や搬送を行うよう真空処理装置全体を制御する機能を持つ試料搬送処理制御手段とを備えていることにある。
【0009】
本発明の真空処理装置では、複数有る処理室の中で、現在実行中の試料処理が終了して新たな試料を搬入する準備が完了するまでの時間が一番短い処理室を予測する。すなわち、複数の処理室で並列に処理を行なうものにおいて、装置内に搬入された試料が処理室への搬入するまでの待ち時間を少なくするには、複数有る処理室の中で現在実行中の試料処理が終了して新たな試料を搬入する準備が完了するまでの時間が一番短い処理室を予測することが必要である。
【0010】
本発明の真空処理装置によれば、待ち時間を考慮して試料処理の順序が決定されるため、試料処理の遅い処理室系列が1枚の試料を処理する間に、処理の早い処理室系列は2枚目、3枚目の試料処理を行なう事ができるので、試料処理効率を向上することができる。
本発明の真空処理装置によれば、真空処理装置内での待ち時間を最小限にすることができる。また、試料が、試料カセットから取り出され処理を行ない試料カセットに戻されるまでの時間を短縮することができる。
【0011】
さらに、試料1枚ずつに対して処理完了時間を短縮できるので、1つの試料カセットの処理時間を短くすることができる。
また、1つ目の試料カセットの処理時間を短くする事により、2つ目の試料カセットの処理を開始するタイミングが早くなるので、真空処理装置全体の単位時間あたりの試料処理効率を向上できる効果が有る。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を、図を用いて説明する。図1に本発明が適用される真空処理装置の構成例を示す。図1の真空処理装置は、第1処理室乃至第4処理室の4つの処理室8〜11と、3つの試料カセット1〜3を備えている。試料カセット2または試料カセット3に入っている試料は、大気搬送ロボット4により取り出され、オリフラ合わせユニット5を経てロードロック室6に搬送される。ロードロック室6は、大気圧状態と真空状態を切り替えることにより、真空状態にある真空搬送室13と連通状態にすることができる。真空搬送室13では、ロードロック室にある試料を、真空搬送ロボット7によりすでに真空状態にある処理室8〜11のいずれかへ搬送する。
【0013】
処理室8〜11で試料の処理を行ない、処理が完了すると処理済試料は再度真空搬送ロボット7によりアンロードロック室12に搬送される。アンロードロック室12も、ロードロック室6同様に、大気圧状態と真空状態に切り替えることができる。アンロードロック室12を大気圧状態にして、大気搬送ロボット4でアンロードロック室12から取り出した試料を試料カセット1〜3に戻す。
【0014】
上記一連の処理は、入出力処理手段14を介してマイクロコンピュータで構成される装置制御手段15により制御される。装置制御手段15は、CPUや、RAM、ROM等のメモリーや外部記憶手段、入出力制御手段、入出力手段等を備えており、予めROM等に保持されたプログラムやコマンド、メモリーに保持された各種データと、真空処理装置の状態を検知する各種センサーやカウンターなどの情報に基づいて、真空処理装置の動作を制御する。
【0015】
装置制御手段15に対しては、パソコンなどの操作手順入力手段16が接続されており、真空処理の各プロセスを実行するためのプログラムやコマンド、各種データが入力され、RAM、ROM、外部記憶装置などのメモリーに記録、保持される。
【0016】
図2は、上記装置制御手段15の機能構成例を示す。装置制御手段15は、真空処理装置にて試料の搬送時間及び処理室での処理時間、すなわち、それぞれの処理室への試料搬入、搬出時間や、試料処理時間を計測して求める搬送・処理時間計測手段300と、上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間などから、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの時間を演算により予測するための試料処理待時間予測手段400と、求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎにカセットから試料を取り出す順番を決定する機能を持つ試料処理順決定手段500と、この試料処理順決定手段500で決定された結果に基づいて、試料の処理や搬送を行うよう真空処理装置全体を制御する機能を持つ試料搬送処理制御手段600とを備えている。
【0017】
新たな試料の搬入タイミングからそれぞれの処理室が新たな試料の搬入する準備が完了するまでの時間は、現在実行中の試料処理残り時間と、処理済となった試料を取り出す時間や、装置の構成によっては別の試料を搬送するために処理済試料を取り出すのに待たされる時間などを考慮しながら、処理室への新たな試料を搬入できるまでの時間を演算することにより求める事ができる。
【0018】
以下、図3乃至図5により、本発明における試料搬入処理を行う手順について、説明する。
まず、搬送・処理時間計測手段300について説明する。搬送処理時間計測手段300は、具体的には試料カセット6が処理室1で試料カセット7が処理室3で並列に試料処理を行なう場合において計算する。処理室1の次試料処理開始準備完了までの時間をT1、処理室3の次試料処理開始準備完了までの時間をT2とする。
【0019】
処理室1が実行している試料処理の全体の時間をTe1とする、次に処理室1の処理経過時間をTz1とすると処理室1の残り処理時間Tn1は、
Tn1=Te1-Tz1
で求める事ができる同様に処理室3についても
Tn2=Te2-Tz2
で求める事ができる。
【0020】
処理室での1枚の試料処理にかかる時間については、前に実行した試料の処理の開始から終了までの時間を計測して記録しておくことにより求めることができる。試料カセットの1枚目の試料につては、以前に別の試料カセットで実行した時のデータを参照することにより求める事ができる。但し、以前に一度も実施したことが無く処理計測時間データも無い場合には、試料処理を実行するための処理データの中にある時間データを考慮して計算により求める。
【0021】
次に、上記時間計算の処理動作を、図3のフローチャートで説明する。図3に示す処理は、0.1秒毎に実行されるサイクリック処理であり、各搬送処理、及び処理室における試料処理時間を常に計測して、上記待時間予測処理の判定時の所要時間演算処理に使用する。
【0022】
まず、ロードロック室から処理室1へ試料搬送実行中か判断する(302)。ロードロック室から処理室1へ試料搬送実行中の場合には、ロードロック室から処理室1への搬送時間をカウントアップする(304)。
【0023】
次に、処理室1から処理室2へ試料を搬送実行中か判断する(306)。処理室1から処理室2へ試料搬送実行中のときは、処理室1から処理室2への搬送時間をカウントアップする(308)。
さらに、ロードロック室から処理室3へ試料搬送実行中か判断する(310)。ロードロック室から処理室3へ試料搬送実行中のときは、ロードロック室から処理室3への搬送時間をカウントアップする(312)。
【0024】
さらに、処理室3から処理室4へ試料を搬送実行中か判断する(314)。処理室3から処理室4へ試料を搬送実行中の場合、処理室3から処理室4への搬送時間をカウントアップする(316)。
【0025】
次に、処理室2からアンロードロック室へ試料を搬送実行中か判断する(318)。処理室2からアンロードロック室へ試料を搬送実行中の場合、処理室2からアンロードロック室への搬送時間をカウントアップする(320)。
さらに、処理室4からアンロードロック室へ試料を搬送実行中か判断する(322)。処理室4からアンロードロック室へ試料を搬送実行中の場合、処理室4からアンロードロック室への搬送時間をカウントアップする(324)。
【0026】
次に、処理室1にて試料を処理中か判断する(326)。処理室1にて試料を処理中の場合には、処理室1での試料処理時間をカウントアップする(328)。
【0027】
以下、同様に、各処理室2〜4にて試料を処理中か判断(330〜338)し、試料を処理中の場合には、各処理室での試料処理時間をカウントアップする(332〜340)。
【0028】
次に、試料処理待時間予測手段400と試料処理順決定手段500につて、説明する。この処理では、次の試料を搬入した時に各処理室8〜11処理を開始するまでの所要時間を演算する待時間予測処理がなされ、その結果に基づいて試料の搬送が開始される。
【0029】
現在実行中の試料処理経過時間については、処理室の処理時間を計測するプログラムの時間データを参照する事により経過時間を求める事ができる。更に、処理室1の試料処理が終了して処理室から試料搬出にかかる時間Tout1と新たな試料を処理室1に搬入するのにかかる時間Tin1を、試料処理残り時間Tn1に加算することにより計算される。
【0030】
以上の内容により、処理室1における新たな試料の処理を開始しする準備が完了までの時間T1は、
T1=Tn1+Tout1+Tin1
によって求める事ができる。同様に処理室3の時間T2も、
T2=Tn2+Tout2+Tin2
によって求める事ができる。
【0031】
図4は、上記した各処理室8〜11処理を開始するまでの所要時間を演算する、待時間予測処理のフローチャートである。図4において、処理室1が処理中であるか否か判断する(401)。処理室1が処理中の場合には、次に取り出す試料を試料カセット1とした場合に、処理室1でこの試料処理を開始できるまでの時間(T1)を、次式により計算する(402)。
【0032】
Figure 0003748193
次に、ロードロック室に試料カセット1の試料が有るか否か判断する(404)。
【0033】
ロードロック室に試料カセット1の試料が有る場合には、次に取り出す試料を試料カセット1とした場合に、処理室1でこの試料処理を開始できるまでの時間(T1)を、次式により計算する(406)。
【0034】
Figure 0003748193
次に、オリフラ合わせユニットに試料カセット1の試料が有るか否か判断する(408)。
オリフラ合わせユニットに試料カセット1の試料が有る場合には、次に取り出す試料を試料カセット1とした場合に、処理室1でこの試料処理を開始できるまでの時間(T1)を、次式により計算する(410)。
【0035】
Figure 0003748193
さらに、処理室3が処理中か否か判断する(412)。
【0036】
処理室3が処理中の場合には、次に取り出す試料を試料カセット2とした場合に、処理室3でこの試料処理を開始できるまでの時間(T2)を、次式により計算する(414)。
【0037】
Figure 0003748193
次に、ロードロック室に試料カセット2の試料が有るか否か判断する(416)。
【0038】
ロードロック室に試料カセット2の試料が有る場合には、次に取り出す試料を試料カセット2とした場合に、処理室3でこの試料処理を開始できるまでの時間(T2)を、次式により計算する(418)。
【0039】
Figure 0003748193
次に、オリフラ合わせユニットに試料カセット1の試料が有るか否か判断する(420)。
【0040】
オリフラ合わせユニットに試料カセット1の試料が有る場合には、次に取り出す試料を試料カセット1とした場合に、処理室3でこの試料処理を開始できるまでの時間(T2)を、次式により計算する(422)。
【0041】
Figure 0003748193
また、装置の構成上試料搬送の待ち時間が発生する場合については装置内の試料搬送順序プロトコルを考慮して待ちが発生するかどうかを判定し、待ちが発生する場合には待たされる原因となる別の搬送時間や試料処理時間を演算することにより待ち時間を求める事ができる。これらを考慮する事によって求められた全ての時間を加算すれば処理室が次の試料処理を実行する為の準備が完了するまでの時間を計算する事ができる。
【0042】
次に、試料カセット1の試料処理開始までの時間(T1)と試料カセット2の試料処理開始までの時間(T2)を比較する(424)。もし、試料カセット1の試料処理開始までの時間(T1)が短い場合には、試料カセット1から試料を取り出し、オリフラ合わせユニットへ搬送する処理を開始する(426)。逆に、試料カセット2の試料処理開始までの時間(T2)が短い場合には、試料カセット2から試料取り出しを開始する(428)。
【0043】
このように、演算によって求められたT1とT2を比較して、T1≦T2の時は、試料カセット1から試料を取り出しロードロック室に搬送し、T1>T2の時は、試料カセット2から試料を取り出しロードロック室に搬送する。
【0044】
以上の実施例の説明において、試料を取り出す順番を決める方法として前に実行した計測時間をそのまま使用する例について示したが、別の方法として過去の計測時間の平均値を使用して試料を取り出す順番を決めることも可能である。
【0045】
この場合、次の図5で説明する所要時間演算用データエリアに蓄積されたデータを用いて平均値を求める処理にて求めた時間を以上の説明で述べた搬入,搬送、処理時間に置き換えることで、以上にのべた処理と同様に試料を取り出す順番を決めることが出来る。平均値を取り扱う理由は、該搬入,搬送、処理時間にはばらつきがあり、平均値を用いることで真空処理装置全体の単位時間当たりの試料処理効率を向上することができるためである。
【0046】
次に、試料の処理と搬送のシーケンスを図5で説明する。図5(A)は、ロードロック室から処理室1への搬送シーケンスを示すものである。試料搬送カウントタイマ値をクリアし、「ロードロック室から処理室1へ搬送中」のフラグをセットする(502)。
【0047】
つぎに、試料搬送のシーケンスを実行する(504)。次に、「ロードロック室から処理室1への搬送シーケンス中」のフラグをクリアする(506)。さらに、搬送カウントタイマ値を、所要時間演算用データエリア(Tin1)に格納する(508)。
【0048】
図5(B)は、処理室1の試料処理シーケンスを示すものである。最初に、試料搬送カウントタイマ値をクリアし、「処理室1試料処理中」のフラグをセットする(512)。次に、指定のレシビ番号による試料処理シーケンスを実行する(514)。
【0049】
次に、「処理室1の試料処理中」のフラグをクリアする(516)。さらに、試料処理カウントタイマ値を、レシピ番号毎の所要時間演算用データエリア(Te1)に格納する(518)。
【0050】
試料の搬出や搬入にかかる時間については、搬送処理を実行するたびに計測を行ない時間データを記憶するようにすることにより真空処理装置の据え付けに伴う立上げ作業を行なっている段階から搬送処理時間を計測して時間データを記憶する事ができる。従って、試料処理を開始する時には必ずデータが蓄積されており、でデータが存在しないと言う問題は発生しない。
【0051】
次に、図6〜図7により、本発明の実施例による効果を説明する。ここでは、4つの処理室1〜4のうち、処理室3における処理が他の処理室における処理よりも時間を要する場合のプロセスについて考える。図6は、本発明による試料搬入順序に基づく試料処理タイミングチャートを示す図であり、2つの試料カセット1、2から各処理室への試料搬入において、無駄な待ち時間がほとんど発生していない。
【0052】
一方、図7は、従来の方法による試料搬入順序に基づく試料処理タイミングチャートを示す図であり、2つの試料カセット1、2から搬出する試料枚数が同じになるように処理室へ搬入しても、処理室3と他の処理室の処理時間に差があるため、処理室3への試料搬出入において大きな待ち時間が発生している。
【0053】
図6、図7の比較から明らかなように、本発明によれば、試料処理の遅い処理室系列が1枚の試料を処理する間に処理の早い処理室系列は2枚目、3枚目の試料処理を行なう事ができるので、試料処理効率を向上する効果の有ることが明瞭である。
【0054】
【発明の効果】
本発明の真空処理装置によれば、待ち時間を考慮して試料処理の順序が決定されるため、試料処理の遅い処理室系列が1枚の試料を処理する間に、処理の早い処理室系列は2枚目、3枚目の試料処理を行なう事ができるので、試料処理効率を向上することができる。
本発明の真空処理装置によれば、真空処理装置内での待ち時間を最小限にすることができる。また、試料が、試料カセットから取り出され処理を行ない試料カセットに戻されるまでの時間を短縮することができる。
【0055】
さらに、試料1枚ずつに対して処理完了時間を短縮できるので、1つの試料カセットの処理時間を短くすることができる。
また、1つ目の試料カセットの処理時間を短くする事により、2つ目の試料カセットの処理を開始するタイミングが早くなるので、真空処理装置全体の単位時間あたりの試料処理効率を向上できる効果が有る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される真空処理装置のシステム構成例を示す図である。
【図2】図1の装置制御手段の機能構成例を示す図である。
【図3】試料の処理や搬送の時間を計算する処理動作示すフローチャートである。
【図4】各処理室で処理を開始するまでの所要時間を演算する、待時間予測処理のフローチャートである。
【図5】試料の処理やの搬送のシーケンス示す図である。
【図6】本発明による、試料搬入手順の場合の試料処理のタイミングチャートを示す図である。
【図7】従来技術による、試料搬入手順の試料処理のタイミングチャートを示す図である。
【符号の説明】
1〜3…試料カセット、4…大気搬送ロボット、5…オリフラ合わせユニット、6…ロードロック室、7…真空搬送ロボット、8〜11…処理室、12…アンロードロック室、13…真空搬送室、14…入出力処理手段、15…装置制御手段、16…操作手順入力手段、300…搬送・処理時間計測手段、400…試料処理待時間予測手段、500…試料処理順決定手段、600…試料搬送処理制御手段

Claims (10)

  1. 大気雰囲気下で複数の試料を収納する複数の試料カセットと、真空搬送室に連結され前記複数の試料を夫々1枚毎に処理する複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、該ロード室またはアンロード室と前記複数の試料カセットの任意の試料カセットとの間で前記試料を1枚毎に搬送する大気搬送手段と、前記真空搬送室に設けられ前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記試料を1枚毎に搬送する真空搬送手段と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、
    前記装置制御手段は、前記試料を複数のレシピで同時に処理する制御を行うものであり、
    前記装置制御手段は、前記夫々の真空処理室への試料の搬入、搬出時及び前記各真空処理室での処理時間を計測して求める搬送・処理時間計測手段と、
    上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間から、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの待時間を演算により予測するための試料処理待時間予測手段と、
    求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎに前記大気雰囲気下にある試料カセットから試料を1枚毎取り出す順番を決定する機能を持つ試料処理順決定手段とを有し、
    前記装置制御手段により、前記各試料カセットと前記各真空処理室を1対1に対応させて並列に前記試料の処理を行う複数の処理室系列を構築し、
    前記試料処理順に基き、処理室で新たな試料処理を開始する準備が一番早く完了する処理室系列に対応した試料カセットから試料を1枚毎取り出して真空処理室に搬入することを特徴とする真空処理装置。
  2. 大気雰囲気下で試料を収納する複数の試料カセットと、該試料を夫々1枚毎に処理する真空搬送室に連結された複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、該ロード室またはアンロード室と記複数の試料カセットの任意の試料カセットとの間で前記試料を搬送する大気搬送手段と、前記真空搬送室に設けられ前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室とので前記試料を搬送する真空搬送手段と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、
    前記装置制御手段は、前記試料を複数のレシピで同時に処理する制御を行うものであり、
    前記装置制御手段は、前記夫々の真空処理室への試料の搬入、搬出時及び前記各真空処理室での処理時間を計測して求める搬送・処理時間計測手段と、
    上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間から、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの待時間を演算により予測するための試料処理待時間予測手段と、
    求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎに前記大気雰囲気下にある試料カセットから試料を1枚毎取り出す順番を決定する機能を持つ試料処理順決定手段と、
    この試料処理順決定手段で決定された結果に基づいて、試料の処理や搬送を行うよう真空処理装置全体を制御する機能を持つ試料搬送処理制御手段とを備え、
    前記装置制御手段により、前記各試料カセットと前記各真空処理室を1対1に対応させて並列に前記試料の処理を行なう複数の処理室系列を設定し、
    各真空処理室への試料搬入、搬出時間や試料の処理時間から新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの時間を計算し、この時が最も短い処理室系列に対応した前記大気雰囲気下にある試料カセットから試料を搬入することを特徴とする真空処理装置。
  3. 請求項2において、前記試料処理順決定手段は、求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎにカセットから試料を取り出す順番を決定する機能を持ち、
    前記試料搬送処理制御手段は、前記試料処理順決定手段で決定された結果に基づいて、試料の処理や搬送を行うよう真空処理装置全体を制御する機能を備えていることを特徴とする真空処理装置。
  4. 大気雰囲気下で試料を収納する複数のカセットと、該試料を夫々1枚毎に処理する真空搬送室に連結された複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、該ロード室またはアンロード室と前記複数のカセットの任意のカセットとの間で前記試料を搬送する大気搬送手段と、前記真空搬送室に設けられ前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記試料を搬送する真空搬送手段と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置において、
    前記装置制御手段は、前記試料を複数のレシピで同時に処理する制御を行うものであり、
    前記装置制御手段は、各々の真処理室への試料搬入、搬出時間や、試料処理時を計測して求める搬送・処理時間計測手段と、
    上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間から、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの時間を演算により予測するための試料処理待時間予測手段と、求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎに前記大気雰囲気下にあるカセットから試料を取り出す順番を決定する機能を持つ試料処理順決定手段と、
    この試料処理順決定手段で決定された結果に基づいて、試料の処理や搬送を行うよう真空処理装置全体を制御する機能を持つ試料搬送処理制御手段とを備え、
    前記装置制御手段により、前記各試料カセットと前記各真空処理室を1対1に対応させて並列に前記試料の処理を行なう複数の処理室系列を構築し、
    前記試料処理順に基き、処理室で新たな試料処理を開始する準備が一番早く完了する処理室系列に対応した試料カセットから試料を1枚毎取り出して真空処理室に搬入することを特徴とする真空処理装置。
  5. 請求項1において、前記試料の搬送時間、処理室での処理時間、試料搬入、搬出時間、試料の処理時間及び待ち時間として前に実行した計測時間そのまま使用して試料を取り出す順番を決めることを特徴とする真空処理装置。
  6. 請求項1において、前記試料の搬送時間、処理室での処理時間、試料搬入、搬出時間、試料の処理時間及び待ち時間として過去の計測時間の平均値を使用して試料を取り出す順番を決めることを特徴とする真空処理装置。
  7. 大気雰囲気下で試料を収納する複数のカセットと、該試料を夫々1枚毎に処理する真空搬送室に連結された複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、該ロード室またはアンロード室と前記複数のカセットの任意のカセットとの間で前記試料を搬送する大気搬送手段と、前記真空搬送室に設けられ前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記試料を搬送する真空搬送手段と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置の運転方法において、
    前記装置制御手段は、前記試料を複数のレシピで同時に処理する制御を行うものであり、
    前記各試料カセットと前記各真空処理室を1対1に対応させて並列に前記試料の処理を行なう複数の処理室系列を構築し、
    前記夫々の真空処理室への試料の搬入、搬出時及び前記各真空処理室での処理時間を計測して求め、
    上記試料搬入、搬出時間や試料処理時間から、新たに搬入する試料の処理を開始する準備が完了するまでの待時間を演算により予測し、
    求められた上記搬送・処理時間や待時間のデータをもとに、次ぎに前記大気雰囲気下にある試料カセットから試料を1枚毎取り出す順番を決定し、
    前記試料処理順に基き、処理室で新たな試料処理を開始する準備が一番早く完了する処理室系列に対応した試料カセットから試料を1枚毎取り出して真空処理室に搬入することを特徴とする真空処理装置の運転方法。
  8. 大気雰囲気下で試料を収納する複数のカセットと、該試料を夫々1枚毎に処理する真空搬送室に連結された複数の真空処理室と、該真空処理室を減圧排気する排気手段と、前記真空搬送室に連通したロード室およびアンロード室と、該ロード室またはアンロード室と前記複数のカセットの任意のカセットとの間前記試料を搬送する大気搬送手段と、前記真空搬送室に設けられ前記ロード室またはアンロード室と前記複数の真空処理室との間で前記試料を搬送する真空搬送手段と、試料の搬送や処理を制御する装置制御手段とを備えた真空処理装置の運転方法において、
    前記装置制御手段は、前記試料を複数のレシピで同時に処理する制御を行うものであり、
    前記各試料カセットと前記各真空処理室を1対1に対応させて、並列に前記試料の処理を行なえる複数の処理室系列を構築し、
    前記各試料カセットと前記真空処理を1対1の処理室系列とし、各処理室系列ごとに試料の処理を並列に行ない、次にどのカセットから試料を搬入するのかを決定する際に、新たな試料の処理を開始する準備が一番早く完了する処理室系列に対応した前記大気雰囲気下にあるカセットから前記試料を取り出して対応する真空処理室へ搬送することを特徴とする真空処理装置の運転方法。
  9. 請求項7において、前記試料の搬送時間、処理室での処理時間、試料搬入、搬出時間、試料の処理時間及び待ち時間として前に実行した計測時間そのまま使用して試料を取り出す順番を決めることを特徴とする真空処理装置の運転方法。
  10. 請求項8において、前記試料の搬送時間、処理室での処理時間、試料搬入、搬出時間、試料の処理時間及び待ち時間として過去の計測時間の平均値を使用して試料を取り出す順番を決めることを特徴とする真空処理装置の運転方法。
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