JP2004310179A - 半導体製造装置のロット処理終了予測装置およびロット処理終了予測方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体 - Google Patents
半導体製造装置のロット処理終了予測装置およびロット処理終了予測方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】半導体製造装置の処理室の稼動状態を収集し、ウェハの搬送経路を正しく求めることによりロット処理終了時間を予測する装置および方法を提供する。
【解決手段】半導体製造装置3の各処理室101の稼動状態を収集する第1の収集手段と、処理前の被処理物の枚数とレシピ名を収集する第2の収集手段と、第1の収集手段1と該第2の収集手段2によって収集された結果を基にロット処理終了時間を算出する演算手段と、演算結果を出力する手段からなる。その結果、半導体製造装置3の処理室101を使用可否の状態を収集することによって搬送経路を特定することが可能になり、より正確なロット処理終了予測時間を予測することが可能となる。
【選択図】 図1
【解決手段】半導体製造装置3の各処理室101の稼動状態を収集する第1の収集手段と、処理前の被処理物の枚数とレシピ名を収集する第2の収集手段と、第1の収集手段1と該第2の収集手段2によって収集された結果を基にロット処理終了時間を算出する演算手段と、演算結果を出力する手段からなる。その結果、半導体製造装置3の処理室101を使用可否の状態を収集することによって搬送経路を特定することが可能になり、より正確なロット処理終了予測時間を予測することが可能となる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造装置のロット処理終了予測時間を算出する装置および算出方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体製造装置のロット処理終了予測時間を算出する方法としては、例えば特許文献1に記載されているようなものがあった。
【0003】
半導体の製造工程においては、特許文献1に記載された図7に示すように、移載室102を中央にしてその周囲にはウェハの入ったウェハカセット105の出し入れを行う複数のロードロック103とウェハにエッチングやスパッタリングなどの加工処理を施す処理室101が設けられ、移載室102にウェハの出し入れを実行するロボットハンド104が設置された半導体製造装置が使用されている。
【0004】
この半導体製造装置に、ウェハが複数入ったウェハカセット105がロードロック103に供給されると、ロボットハンド104によりウェハが一枚ずつ取り出され、処理室101に搬送されて所定の加工処理が施される。
【0005】
ロット全ての加工処理を終了するのに要する時間は、ロボットハンド104がウェハカセット105からウェハを取り出して所定の処理室101に搬送する時間、処理室101内でプロセス処理を行う時間、プロセス処理の終了したウェハを処理室101からウェハカセット105に戻すのに必要な時間、ウェハカセット105をロードロック103に出し入れするのに必要な時間などの組み合わせによって決まる。
【0006】
図8は特許文献1に記載された従来のロット処理終了時間を予測する方法を示している。
【0007】
図8において、被処理物としてウェハを用い処理レシピから読み出したウェハ6a〜6cごとの工程時間を個々の搬送工程時間とプロセス処理工程時間T5a〜T5cとに分解して、分解した個別の工程時間をウェハ6a〜6cの処理手順に従って並行して実行できる処理が重なり合うように単一時間軸上に配列して、ロット内で最初に処理する被処理物6aの処理開始時刻と最終処理される被処理物の処理終了時刻に基づいてロット処理終了時間を予測する。
【0008】
【特許文献1】
特開2001−209421号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従来技術を示した図8によると、各ウェハが処理室101内でプロセス処理を行う時間であるT5a、T5b、T5cは重なったプロセス処理時間帯が存在しないことがわかる。
【0010】
しかし、従来技術の図7でも示したように、近年の半導体製造装置は複数の処理室101を設置し、その複数の処理室101に同時にウェハを搬送して、プロセス処理時間を短縮させる方法が一般的である。
【0011】
そのため、従来技術では複数の処理室101を備えた半導体製造装置の場合には、正確な処理時間を推定することが出来ない。
【0012】
また、近年の複数の処理室を備えた半導体製造装置において、一部の処理室101がトラブルにより処理出来ない場合は、ウェハは処理可能な処理室101のみを使用してプロセス処理を行う。すなわち、半導体製造装置の完全停止を防ぐために、ウェハの搬送経路を変更することを行うことが一般的である。
【0013】
しかしこの場合においても、従来技術では半導体製造装置の場合には正確な処理時間を推定することが出来ない。
【0014】
以上の理由により、従来技術では特に複数の処理室101を備えた半導体製造装置の場合、実際のウェハの搬送経路と処理レシピから読み取った搬送経路が異なり、作業者が正確な処理時間を予測できないという課題を有していた。
【0015】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、半導体製造装置の処理室の稼動状態を収集し、収集結果に基づいたウェハの搬送経路を正しく求めることにより、正確なロット処理終了時間を予測する装置および予測する方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明に係わる処理終了時間予測装置は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集手段と、処理前の被処理物の枚数と処理レシピを収集するロット情報収集手段と、装置情報収集手段とロット情報収集手段によって収集された結果を基にロット処理終了予測時間を算出する演算手段と、演算結果を出力する出力手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0017】
また本発明に係わる処理終了時間予測方法は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集するロット情報収集工程と、装置情報収集手順とロット情報収集手順によって収集された結果を基にロット処理終了予測時間を算出する演算する工程と、演算結果を出力する工程とを備えたことを特徴とするものである。
【0018】
また本発明に係わる媒体は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集する工程と、第1の収集値と第2の収集値を基にロット処理終了予測時間を演算する工程と、演算の結果を出力させることを特徴とする処理終了時間予測プログラムを記録したことを特徴とするものである。
【0019】
なお本発明の演算手段は、過去のロットの処理データを基に得られた算出式が登録されており、装置情報収集手段とロット情報収集手段によって収集された収集値を前記算出式に代入することにより処理終了予測時間を算出することがより好ましい。
【0020】
なお本発明のロット情報収集手段は、ロットの処理枚数を生産管理システムから得ることがより好ましい。
【0021】
なお本発明のロット情報収集手段は、ロットの処理枚数を半導体製造装置から得ることがより好ましい。
【0022】
なお本発明の装置情報収集手段は、半導体製造装置の処理室の状態をオンライン収集することがより好ましい。
【0023】
なお本発明のロット処理終了予測装置は、半導体製造装置内部に備えていることがより好ましい。
【0024】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【0025】
図1は本発明の実施形態1におけるロット処理終了予測装置の装置構成図である。
【0026】
また、図2は本実施形態で用いた半導体製造装置3の構成図である。図2において、複数の構成部を持つのは処理室101a、101b及びロードロック103a、103bである。
【0027】
図1、図2において、装置情報収集部1は半導体製造装置3に構成された複数のプロセス処理室101a、101b及びロードロック103a、103bの使用可否状態の情報取得を行う。
【0028】
この情報によりすべてのプロセス処理室101及びロードロック103に異常がない場合は、すべての処理室101及びロードロック103を用いて同時に複数のウェハをプロセス処理することが出来る。
【0029】
また一部の処理室101及びロードロック103に異常が見られる場合は、故障の処理室101及びロードロック103を除いてプロセス処理を行う。
【0030】
なお半導体製造装置3で故障が存在してもプロセス処理が可能な場合は、半導体製造装置3中の構成部のうち、同一の構成部を複数有している箇所に異常が見られる場合に限られる。
【0031】
例えば本実施形態ではロボットハンド104が故障の場合、この半導体製造装置3を用いてプロセス処理を行うことは不可能である。
【0032】
次に図1のロット情報収集部2は現在処理を行おうとしているロットのウェハ枚数及び処理レシピ名を生産管理システム上に登録されているロット情報から収集する。
【0033】
また、処理時間演算部4には、図3に示すような過去のロットの処理枚数と処理時間及び半導体製造装置3の使用可能処理室数の実績データから作成された処理時間を算出するためのパラメータテーブル6があらかじめ登録されている。
【0034】
また、出力部5は、処理時間演算部4により得られた処理予測時間を出力するものである。
【0035】
図3は、処理時間演算部4における処理時間算出方法を示した概念図である。
【0036】
図3において、ある設備Aのレシピ名Recipe1で処理したときのロットの処理枚数とロットの処理に要した処理時間の実績データをプロットしたグラフであり、横軸がロットの処理枚数(以下、wと呼ぶ)、縦軸が処理時間(以下、Tpと呼ぶ)を示している。
【0037】
この図を見てもわかるように、Tpは増分パラメータ(以下、aと呼ぶ)、初期所要時間(以下、bと呼ぶ)を用いて次式により求められる。
【0038】
Tp=a×w+b
bはロットの枚数によらず必ず処理に要する時間であり、例えば、半導体製造装置3におけるロードロック103内部の真空引きや大気開放に要する時間などが代表的な時間である。
【0039】
また、aは半導体製造装置3内部の1枚あたりのウェハ搬送時間および処理室101における処理時間を示しており、処理条件であるレシピによってaとは異なる値を示す。
【0040】
また、半導体製造装置3において複数の処理室101を有する装置の場合、使用できる処理室101数によってもaは異なる値となる。
【0041】
図4は、Tpの算出方法に基づき、設備別、レシピ別、使用可能処理室101数別に求めたaおよび初期所要時間bが登録されているパラメータテーブル6の概念図である。
【0042】
次にかかる構成により求められるロットの処理終了時間の予測算出処理について図5を用いて説明する。図5は、本発明の実施形態のロット処理終了予測装置の算出処理のフローチャートである。
【0043】
まずロットの処理を開始した時点(S101)で、ロット情報収集部2はロットのwと処理条件を示す処理レシピ名(Recipe1)を生産管理システム7から収集する(S102)。
【0044】
次に、装置情報収集部1は、半導体製造装置3の各処理室101の状態を収集し、使用可能な処理室101数を保持する(S103)。
【0045】
処理時間演算部4では、ロット情報収集部2により得られたwと処理レシピ名(Recipe1)および装置情報収集部1により得られた使用可能処理室101数から、パラメータテーブル6に登録されているaおよびbを索出し、増分パラメータ値a1、b1を決定し(S104)、決定したパラメータ値a1、b1およびロットのwをTp算出式に代入することにより処理時間を算出する(S105)。
【0046】
このようにして得られたロットの処理所要予測時間と処理開始時間(Ts)から、処理終了予測時間(Te)を算出し(S106)、出力部5に表示する(S107)。
【0047】
図6は本実施形態における出力部5のロット処理終了予測時間の出力例である。図6の出力部は、作業者がロットの生産進捗をコントロールするための端末画面上に表示されており、ロットが処理開始した時点で、図6に示すような表示画面により装置単位で処理中のロット処理終了時間を知ることができる。
【0048】
図6では、更新ボタンを設けて作業者が任意のタイミングで処理終了予測時間を求めることができるが、出力部5が一定周期で処理時間演算部4に対して、各ロットの処理終了予測時間を自動的に問い合わすことにより、作業者が更新ボタンを押下することなく、出力部に表示する方法であっても構わない。
【0049】
かかる構成及び手順によれば、作業者にロットの処理終了予測時間を与えることにより、作業者はこの終了予測時間を基にロットの生産進行を効率的に進めることができる。また、ロットの完成予定日を、ロットの処理時間を基に自動的に算出するスケジューラに対して、ロット処理終了時間を与えることにより、スケジューラはこの処理予測時間を基にした正確なロットの生産計画を計算することが可能となり、顧客に対して納期予定日を正確に回答することが可能となる。
【0050】
なお、ロット情報収集部2は、実際に装置内でセンサーなどにより検出した枚数から取得しても構わない。
【0051】
また、本実施形態として、上記構成からなるロット処理終了予測装置は、半導体製造装置3外部に構成される装置として説明したが、もちろん半導体製造装置3内部に上記構成を備えていても構わない。
【0052】
【発明の効果】
以上のように本発明のロット処理終了予測装置によると、半導体製造装置の処理室の使用可否の状態を収集することによって搬送経路を特定することが可能になり、作業者は、より正確なロット処理終了予測時間を容易に予測することが可能となり、半導体製造装置を効率的に運用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態におけるロット処理終了予測装置の構成図
【図2】本発明の実施形態における半導体製造装置の構成図
【図3】本発明の実施形態におけるロット処理時間算出方法の概念図
【図4】本発明の実施形態における処理時間算出式のパラメータテーブルを示す図
【図5】本発明の実施形態におけるロット処理終了予測装置の処理のフローチャート
【図6】本発明の実施形態における処理終了予測時間の出力例を示す図
【図7】従来技術の半導体製造装置の構成図
【図8】従来技術のロット処理終了時間の予測工程の説明図
【符号の説明】
1 装置情報収集部
2 ロット情報収集部
3 半導体製造装置
4 処理時間演算部
5 出力部
6 パラメータテーブル
7 生産管理システム
101 処理室
102 移載室
103 ロードロック
104 ロボットハンド
105 ウェハカセット
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造装置のロット処理終了予測時間を算出する装置および算出方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体製造装置のロット処理終了予測時間を算出する方法としては、例えば特許文献1に記載されているようなものがあった。
【0003】
半導体の製造工程においては、特許文献1に記載された図7に示すように、移載室102を中央にしてその周囲にはウェハの入ったウェハカセット105の出し入れを行う複数のロードロック103とウェハにエッチングやスパッタリングなどの加工処理を施す処理室101が設けられ、移載室102にウェハの出し入れを実行するロボットハンド104が設置された半導体製造装置が使用されている。
【0004】
この半導体製造装置に、ウェハが複数入ったウェハカセット105がロードロック103に供給されると、ロボットハンド104によりウェハが一枚ずつ取り出され、処理室101に搬送されて所定の加工処理が施される。
【0005】
ロット全ての加工処理を終了するのに要する時間は、ロボットハンド104がウェハカセット105からウェハを取り出して所定の処理室101に搬送する時間、処理室101内でプロセス処理を行う時間、プロセス処理の終了したウェハを処理室101からウェハカセット105に戻すのに必要な時間、ウェハカセット105をロードロック103に出し入れするのに必要な時間などの組み合わせによって決まる。
【0006】
図8は特許文献1に記載された従来のロット処理終了時間を予測する方法を示している。
【0007】
図8において、被処理物としてウェハを用い処理レシピから読み出したウェハ6a〜6cごとの工程時間を個々の搬送工程時間とプロセス処理工程時間T5a〜T5cとに分解して、分解した個別の工程時間をウェハ6a〜6cの処理手順に従って並行して実行できる処理が重なり合うように単一時間軸上に配列して、ロット内で最初に処理する被処理物6aの処理開始時刻と最終処理される被処理物の処理終了時刻に基づいてロット処理終了時間を予測する。
【0008】
【特許文献1】
特開2001−209421号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従来技術を示した図8によると、各ウェハが処理室101内でプロセス処理を行う時間であるT5a、T5b、T5cは重なったプロセス処理時間帯が存在しないことがわかる。
【0010】
しかし、従来技術の図7でも示したように、近年の半導体製造装置は複数の処理室101を設置し、その複数の処理室101に同時にウェハを搬送して、プロセス処理時間を短縮させる方法が一般的である。
【0011】
そのため、従来技術では複数の処理室101を備えた半導体製造装置の場合には、正確な処理時間を推定することが出来ない。
【0012】
また、近年の複数の処理室を備えた半導体製造装置において、一部の処理室101がトラブルにより処理出来ない場合は、ウェハは処理可能な処理室101のみを使用してプロセス処理を行う。すなわち、半導体製造装置の完全停止を防ぐために、ウェハの搬送経路を変更することを行うことが一般的である。
【0013】
しかしこの場合においても、従来技術では半導体製造装置の場合には正確な処理時間を推定することが出来ない。
【0014】
以上の理由により、従来技術では特に複数の処理室101を備えた半導体製造装置の場合、実際のウェハの搬送経路と処理レシピから読み取った搬送経路が異なり、作業者が正確な処理時間を予測できないという課題を有していた。
【0015】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、半導体製造装置の処理室の稼動状態を収集し、収集結果に基づいたウェハの搬送経路を正しく求めることにより、正確なロット処理終了時間を予測する装置および予測する方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明に係わる処理終了時間予測装置は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集手段と、処理前の被処理物の枚数と処理レシピを収集するロット情報収集手段と、装置情報収集手段とロット情報収集手段によって収集された結果を基にロット処理終了予測時間を算出する演算手段と、演算結果を出力する出力手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0017】
また本発明に係わる処理終了時間予測方法は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集するロット情報収集工程と、装置情報収集手順とロット情報収集手順によって収集された結果を基にロット処理終了予測時間を算出する演算する工程と、演算結果を出力する工程とを備えたことを特徴とするものである。
【0018】
また本発明に係わる媒体は、半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集する工程と、第1の収集値と第2の収集値を基にロット処理終了予測時間を演算する工程と、演算の結果を出力させることを特徴とする処理終了時間予測プログラムを記録したことを特徴とするものである。
【0019】
なお本発明の演算手段は、過去のロットの処理データを基に得られた算出式が登録されており、装置情報収集手段とロット情報収集手段によって収集された収集値を前記算出式に代入することにより処理終了予測時間を算出することがより好ましい。
【0020】
なお本発明のロット情報収集手段は、ロットの処理枚数を生産管理システムから得ることがより好ましい。
【0021】
なお本発明のロット情報収集手段は、ロットの処理枚数を半導体製造装置から得ることがより好ましい。
【0022】
なお本発明の装置情報収集手段は、半導体製造装置の処理室の状態をオンライン収集することがより好ましい。
【0023】
なお本発明のロット処理終了予測装置は、半導体製造装置内部に備えていることがより好ましい。
【0024】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【0025】
図1は本発明の実施形態1におけるロット処理終了予測装置の装置構成図である。
【0026】
また、図2は本実施形態で用いた半導体製造装置3の構成図である。図2において、複数の構成部を持つのは処理室101a、101b及びロードロック103a、103bである。
【0027】
図1、図2において、装置情報収集部1は半導体製造装置3に構成された複数のプロセス処理室101a、101b及びロードロック103a、103bの使用可否状態の情報取得を行う。
【0028】
この情報によりすべてのプロセス処理室101及びロードロック103に異常がない場合は、すべての処理室101及びロードロック103を用いて同時に複数のウェハをプロセス処理することが出来る。
【0029】
また一部の処理室101及びロードロック103に異常が見られる場合は、故障の処理室101及びロードロック103を除いてプロセス処理を行う。
【0030】
なお半導体製造装置3で故障が存在してもプロセス処理が可能な場合は、半導体製造装置3中の構成部のうち、同一の構成部を複数有している箇所に異常が見られる場合に限られる。
【0031】
例えば本実施形態ではロボットハンド104が故障の場合、この半導体製造装置3を用いてプロセス処理を行うことは不可能である。
【0032】
次に図1のロット情報収集部2は現在処理を行おうとしているロットのウェハ枚数及び処理レシピ名を生産管理システム上に登録されているロット情報から収集する。
【0033】
また、処理時間演算部4には、図3に示すような過去のロットの処理枚数と処理時間及び半導体製造装置3の使用可能処理室数の実績データから作成された処理時間を算出するためのパラメータテーブル6があらかじめ登録されている。
【0034】
また、出力部5は、処理時間演算部4により得られた処理予測時間を出力するものである。
【0035】
図3は、処理時間演算部4における処理時間算出方法を示した概念図である。
【0036】
図3において、ある設備Aのレシピ名Recipe1で処理したときのロットの処理枚数とロットの処理に要した処理時間の実績データをプロットしたグラフであり、横軸がロットの処理枚数(以下、wと呼ぶ)、縦軸が処理時間(以下、Tpと呼ぶ)を示している。
【0037】
この図を見てもわかるように、Tpは増分パラメータ(以下、aと呼ぶ)、初期所要時間(以下、bと呼ぶ)を用いて次式により求められる。
【0038】
Tp=a×w+b
bはロットの枚数によらず必ず処理に要する時間であり、例えば、半導体製造装置3におけるロードロック103内部の真空引きや大気開放に要する時間などが代表的な時間である。
【0039】
また、aは半導体製造装置3内部の1枚あたりのウェハ搬送時間および処理室101における処理時間を示しており、処理条件であるレシピによってaとは異なる値を示す。
【0040】
また、半導体製造装置3において複数の処理室101を有する装置の場合、使用できる処理室101数によってもaは異なる値となる。
【0041】
図4は、Tpの算出方法に基づき、設備別、レシピ別、使用可能処理室101数別に求めたaおよび初期所要時間bが登録されているパラメータテーブル6の概念図である。
【0042】
次にかかる構成により求められるロットの処理終了時間の予測算出処理について図5を用いて説明する。図5は、本発明の実施形態のロット処理終了予測装置の算出処理のフローチャートである。
【0043】
まずロットの処理を開始した時点(S101)で、ロット情報収集部2はロットのwと処理条件を示す処理レシピ名(Recipe1)を生産管理システム7から収集する(S102)。
【0044】
次に、装置情報収集部1は、半導体製造装置3の各処理室101の状態を収集し、使用可能な処理室101数を保持する(S103)。
【0045】
処理時間演算部4では、ロット情報収集部2により得られたwと処理レシピ名(Recipe1)および装置情報収集部1により得られた使用可能処理室101数から、パラメータテーブル6に登録されているaおよびbを索出し、増分パラメータ値a1、b1を決定し(S104)、決定したパラメータ値a1、b1およびロットのwをTp算出式に代入することにより処理時間を算出する(S105)。
【0046】
このようにして得られたロットの処理所要予測時間と処理開始時間(Ts)から、処理終了予測時間(Te)を算出し(S106)、出力部5に表示する(S107)。
【0047】
図6は本実施形態における出力部5のロット処理終了予測時間の出力例である。図6の出力部は、作業者がロットの生産進捗をコントロールするための端末画面上に表示されており、ロットが処理開始した時点で、図6に示すような表示画面により装置単位で処理中のロット処理終了時間を知ることができる。
【0048】
図6では、更新ボタンを設けて作業者が任意のタイミングで処理終了予測時間を求めることができるが、出力部5が一定周期で処理時間演算部4に対して、各ロットの処理終了予測時間を自動的に問い合わすことにより、作業者が更新ボタンを押下することなく、出力部に表示する方法であっても構わない。
【0049】
かかる構成及び手順によれば、作業者にロットの処理終了予測時間を与えることにより、作業者はこの終了予測時間を基にロットの生産進行を効率的に進めることができる。また、ロットの完成予定日を、ロットの処理時間を基に自動的に算出するスケジューラに対して、ロット処理終了時間を与えることにより、スケジューラはこの処理予測時間を基にした正確なロットの生産計画を計算することが可能となり、顧客に対して納期予定日を正確に回答することが可能となる。
【0050】
なお、ロット情報収集部2は、実際に装置内でセンサーなどにより検出した枚数から取得しても構わない。
【0051】
また、本実施形態として、上記構成からなるロット処理終了予測装置は、半導体製造装置3外部に構成される装置として説明したが、もちろん半導体製造装置3内部に上記構成を備えていても構わない。
【0052】
【発明の効果】
以上のように本発明のロット処理終了予測装置によると、半導体製造装置の処理室の使用可否の状態を収集することによって搬送経路を特定することが可能になり、作業者は、より正確なロット処理終了予測時間を容易に予測することが可能となり、半導体製造装置を効率的に運用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態におけるロット処理終了予測装置の構成図
【図2】本発明の実施形態における半導体製造装置の構成図
【図3】本発明の実施形態におけるロット処理時間算出方法の概念図
【図4】本発明の実施形態における処理時間算出式のパラメータテーブルを示す図
【図5】本発明の実施形態におけるロット処理終了予測装置の処理のフローチャート
【図6】本発明の実施形態における処理終了予測時間の出力例を示す図
【図7】従来技術の半導体製造装置の構成図
【図8】従来技術のロット処理終了時間の予測工程の説明図
【符号の説明】
1 装置情報収集部
2 ロット情報収集部
3 半導体製造装置
4 処理時間演算部
5 出力部
6 パラメータテーブル
7 生産管理システム
101 処理室
102 移載室
103 ロードロック
104 ロボットハンド
105 ウェハカセット
Claims (8)
- 半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集手段と、処理前の被処理物の枚数と処理レシピを収集するロット情報収集手段と、前記装置情報収集手段と前記ロット情報収集手段とによって収集された結果を基に前記ロット処理終了予測時間を算出する演算手段と、演算結果を出力する出力手段とを備えたことを特徴とする処理終了時間予測装置。
- 半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する装置情報収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集するロット情報収集工程と、前記装置情報収集する工程と前記ロット情報収集する工程によって収集された結果を基に前記ロット処理終了予測時間を算出する演算する工程と、演算結果を出力する工程とを備えたことを特徴とする処理終了時間予測方法。
- コンピュータに半導体製造装置の各構成要素の稼動状態を収集する工程と、処理前の被処理物の枚数および処理レシピを収集する工程と、第1の収集値と第2の収集値を基に前記ロット処理終了予測時間を演算する工程と、前記演算の結果を出力させる工程とを備えたことを特徴とする処理終了時間予測プログラムを記録した媒体。
- 前記演算手段は、過去のロットの処理データを基に得られた算出式が登録されており、前記装置情報収集手段と前記ロット情報収集手段によって収集された収集値を前記算出式に代入することにより処理終了予測時間を算出することを特徴とした請求項1記載のロット処理終了予測装置。
- 前記ロット情報収集手段は、前記ロットの処理枚数を生産管理システムから得ることを特徴とする請求項1または4記載のロット処理終了予測装置。
- 前記ロット情報収集手段は、前記ロットの処理枚数を前記半導体製造装置から得ることを特徴とする請求項1または4記載のロット処理終了予測装置。
- 前記装置情報収集手段は、前記半導体製造装置の処理室の状態をオンライン収集することを特徴とする請求項1または4または5または6記載のロット処理終了予測装置。
- 前記ロット処理終了予測装置は、半導体製造装置内部に備えていることを特徴とする請求項1記載のロット処理終了予測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003099081A JP2004310179A (ja) | 2003-04-02 | 2003-04-02 | 半導体製造装置のロット処理終了予測装置およびロット処理終了予測方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003099081A JP2004310179A (ja) | 2003-04-02 | 2003-04-02 | 半導体製造装置のロット処理終了予測装置およびロット処理終了予測方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体 |
Publications (1)
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Family
ID=33463642
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2003099081A Withdrawn JP2004310179A (ja) | 2003-04-02 | 2003-04-02 | 半導体製造装置のロット処理終了予測装置およびロット処理終了予測方法およびロット処理終了予測プログラムを記録した媒体 |
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JP (1) | JP2004310179A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009009380A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Nec Electronics Corp | 標準作業時間算出装置および標準作業時間算出方法 |
CN113299587A (zh) * | 2021-05-21 | 2021-08-24 | 无锡亚电智能装备有限公司 | 一种晶圆清洗工艺任务排列方法及装置 |
-
2003
- 2003-04-02 JP JP2003099081A patent/JP2004310179A/ja not_active Withdrawn
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