JP4184018B2 - 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法 - Google Patents

半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4184018B2
JP4184018B2 JP2002279506A JP2002279506A JP4184018B2 JP 4184018 B2 JP4184018 B2 JP 4184018B2 JP 2002279506 A JP2002279506 A JP 2002279506A JP 2002279506 A JP2002279506 A JP 2002279506A JP 4184018 B2 JP4184018 B2 JP 4184018B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
semiconductor manufacturing
substrate
load port
port
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2002279506A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004119614A (ja
Inventor
智之 宮田
裕幸 岩倉
修 守田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Kokusai Electric Inc
Original Assignee
Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Kokusai Electric Inc filed Critical Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority to JP2002279506A priority Critical patent/JP4184018B2/ja
Publication of JP2004119614A publication Critical patent/JP2004119614A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4184018B2 publication Critical patent/JP4184018B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本件は半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法に関し、特に、複数の半導体ウェーハを収容して搬送するのに使用されるキャリアの搬入・搬出方法に特徴を持つ半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置へのキャリアの搬入・搬出は、半導体製造装置前面部にあるLP(ロードポート)11、12で行われる(図1参照)。
【0003】
半導体製造装置にキャリアを搬入する場合は、ロードポートが2つの場合も4つの場合(上下にある場合)も同様にAMHS(Automated Material Handling Systems:キャリア搬送システム)やオペレータが搬送する(図2システム構成参照)。AMHSは、ホストコンピュータ19によって制御され、キャリアの搬送を行う。
【0004】
図3を参照すれば、半導体製造装置1で使用するキャリア10を内部バッファ15に搬送する場合には、ロードポート11または12から搬入を行う。搬入動作としては、まずAMHS14あるいはオペレータが運んできたキャリアを受け取る。次にロードポート11または12上でキャリアIDを読み取り、キャリアIDの検証結果がOKであれば、キャリア10内のスロットマップを読み取るために、FIMSポート13にキャリア10を搬送する。スロットマップを読み取り、スロットマップの検証結果がOKであったキャリアは、内部バッファ15に格納される。しかし、キャリアIDの読み取りやキャリア内のスロットマップの読み取り過程において、キャリアIDやスロットマップの異常、装置の異常を検知した場合には、対象のキャリア10あるいは搬入中のキャリア10を搬出する。その場合は、搬入されたロードポート11または12に対して対象キャリア10を搬出するので、次のキャリア10の搬入より先に対象キャリア10の搬出を行う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
従来技術では半導体製造装置1に複数のロードポート11、12が搭載されていても、搬入時のキャリアIDの読み取りやキャリア内のスロットマップの読み取り過程において、キャリア10の異常や装置の異常を検知した場合に、対象のキャリア10は搬入されたロードポート11または12に搬出されるため、その復旧あるいは搬出処理のために、次のキャリア10の搬入が出来なくなってしまう。
【0006】
しかも、実際にキャリアIDの読み取りやスロットマップの読み取り結果が異常な場合でも、これが、誤ったキャリアが搬入されたのか、キャリアID読み取り機構あるいはPODオープナー(キャリアオープナー)に起因するものなのか、またはそれ以外の要因に起因するものなのかがAMHS14では判断できず、その都度オペレータが対応する必要がある。しかし、ロードポート12を隣同士に持つ装置では搬入中のAMHS14と復旧を行うオペレータが衝突してしまう可能性があり、上下にロードポート11および12を持つ装置では上のロードポート11に置かれたキャリアをオペレータが確認できないため、キャリアIDの読み取りやスロットマップの読み取り結果が異常になった原因が何であれ、異常となれば全てキャリア10を装置から搬出しなければならないという問題がある。
【0007】
従って、本発明の主な目的は、上下2段からなるロードポートを持つ半導体製造装置において、キャリア等の基板保持具の情報に関する異常発生時には、オペレータが異常の内容を判断できるような構成の半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置であって、前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、上のロードポートに搬送されたキャリアであって前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下段の前記ロードポートに移載することを特徴とする半導体製造装置が提供される。
また、本発明によれば、
少なくとも上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置と、キャリア搬送システムを制御してキャリアの搬送を行うホストコンピュータとを備えて構成される半導体製造システムであって、
前記半導体製造装置は、前記キャリアのキャリアIDやキャリア内のスロットマップを前記ホストコンピュータに報告し、
前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合、前記ホストコンピュータの指示によって、前記半導体製造装置は、前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下のロードポートに搬出することを特徴とする半導体製造システムが提供される。
また、本発明によれば、
基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程と、前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程と、キャリア移載機によりキャリア内の基板をボートに移載する工程と、前記基板を搭載したボートを成膜室に移動させて基板に成膜を行う工程と、前記ボートをロードロック室に移動させ、基板移載機によりボート内の基板をFIMSポート上のキャリアに移載する工程と、キャリア移載機によりキャリアをFIMSポートからロードポートに移載する工程を有する半導体製造方法であって、
前記基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程および前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程において、前記基板が入ったキャリアのキャリアIDの読み取りや前記基板が入ったキャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、下段の前記ロードポートに前記異常が発生したキャリアを移載することを特徴とする半導体製造方法が提供される。
また、本発明によれば、
上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置であって、前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、上のロードポートに搬送されたキャリアであって前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下段の前記ロードポートに移載するとともに、上段のロードポートに次の処理用のキャリアを搬入することを特徴とする半導体製造装置が提供される。
また、本発明によれば、
少なくとも上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置と、キャリア搬送システムを制御してキャリアの搬送を行うホストコンピュータとを備えて構成される半導体製造システムであって、
前記半導体製造装置は、前記キャリアのキャリアIDやキャリア内のスロットマップを前記ホストコンピュータに報告し、
前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合、前記ホストコンピュータの指示によって、前記半導体製造装置は、前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下のロードポートに搬出するとともに、前記キャリア搬送システムで上のロードポートに次の処理用のキャリアを搬送することを特徴とする半導体製造システムが提供される。
また、本発明によれば、
基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程と、前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程と、基板移載機によりキャリア内の基板をボートに移載する工程と、前記基板を搭載したボートを成膜室に移動させて基板に成膜を行う工程と、前記ボートをロードロック室に移動させ、基板移載機によりボート内の基板をFIMSポート上のキャリアに移載する工程と、キャリア移載機によりキャリアをFIMSポートからロードポートに移載する工程を有する半導体製造方法であって、
前記基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程および前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程において、前記基板が入ったキャリアのキャリアIDの読み取りや前記基板が入ったキャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、下段の前記ロードポートに前記異常が発生したキャリアを移載すると共に、上段のロードポートに次の処理用のキャリアを搬送することを特徴とする半導体製造方法が提供される。
【0009】
本発明は、上下2段からなるロードポートを持つ半導体製造装置において、基板保持具をロードポートに戻すような異常(エラー)が発生した場合には、基板保持具を装置に搬入された際のロードポートに戻すのでは無く、下段のロードポートに戻す点に特徴がある。下段のロードポートに戻すことにより、オペレータが異常の内容を判断できる状態にする。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に図面を参照して本発明の一実施の形態を説明する。
図1は、本発明の一実施の形態の半導体製造装置を説明するための概略外観斜視図であり、図2は、本発明の一実施の形態の半導体製造装置のシステム構成を説明するための図であり、図3は、本発明の一実施の形態の半導体製造装置を説明するための概略縦断面図である。
【0011】
図1、図3に示すように、本実施の形態の半導体製造装置(成膜装置)1は、成膜室23、ロードロック室22および搬送室21を備え、搬送室21の前面部には、ロードポート11、12が上側に2つ(ロードポート11)、下側に2つ(ロードポート12)設けられている。ロードポート11、12は成膜されるウェーハの入ったキャリア10を半導体製造装置1に搬入する場所である。半導体製造装置1内でキャリア10は、各ロードポート11、12から搬入され内部バッファ15に搬送される。
【0012】
その過程で、一般的には、半導体製造装置1はホストコンピュータ19(図2参照)に対してキャリアIDやキャリア10内のスロットマップを報告する。ホストコンピュータ19は、半導体製造装置1から報告される情報を確認し、キャリアIDの違いやスロットマップの違いがあった場合は、キャリア10の搬出を指示する。半導体製造装置1側で照合する場合も同様に違いがあった場合はキャリア10を搬出できるようにロードポート11、12に戻す。
【0013】
復旧の仕方として、AMHSの場合は、そのまま搬出を行った後にキャリア10と半導体製造装置1の確認を行う。オペレータの場合は、半導体製造装置1の読み取り失敗かあるいは実際にキャリア10が異なっているかを判断する。オペレータで行う場合の方が、正確に異常部分を把握できる。
【0014】
そこで、本実施の形態では、通常時の運用をAMHS搬送で行い、異常時の復旧をオペレータが行うことが出来るように上のロードポート11からAMHS14でキャリア10を搬送し、異常時に下のロードポート12にキャリア10を搬出し、オペレータが異常を判断できる状態にする。
【0015】
これにより、次の搬入に影響をあたえずに半導体製造装置1またはキャリア10の異常な状態を検知できることが出来る。
【0016】
従来は、搬入の異常時(キャリア内のスロットマップ読み取りやキャリアID読み取りなど)または半導体製造装置1に異常が起きた場合には、キャリア10が搬入されたロードポート11または12に搬出されるために、AMHS14が異常であったキャリア10を搬出しなければならなかった。また、この異常時の復旧中にも半導体製造装置1では、成膜処理が実施されているため次の処理のキャリア10を搬入しなければならない。この発明により、異常があるキャリアの復旧処理でロードポート11が占有されることがなくなるため、次の処理用キャリア10の搬入が速やかに行えるため復旧時間の軽減・スループットの向上が図れるようになる。
【0017】
次に、本実施の形態の半導体製造装置1の動作について説明する。
最初に、キャリアIDの読み取りおよびスロットマップの読み取りが正常な場合における動作を説明する。まず、AMHS14が運んできたキャリア10を受け取り、次にロードポート11上でキャリアIDを読み取り、キャリアIDの検証結果がOKであれば、キャリア10内のスロットマップを読み取るために、キャリア移載機16によりFIMSポート13にキャリア10を搬送する。FIMSポート13でスロットマップを読み取り、スロットマップの検証結果がOKであったキャリア10は、キャリア移載機16により内部バッファ15に格納される。内部バッファ15に格納されているキャリア10のうち、次に成膜を行うものをキャリア移載機16によりFIMSポート13に搬送する。そして、ロードロック室11に設けられたウェーハ移載機17により、キャリア10内の半導体ウェーハをボート18に移載する。その後、半導体ウェーハを搭載したボート18を成膜室23に移動させて半導体ウェーハに成膜を行う。成膜が終了すると、ボート18をロードロック室22に移動させ、ウェーハ移載機17により、ボート18内の半導体ウェーハをFIMSポート13上のキャリア10に移載する。その後、キャリア移載機16によりキャリア10をFIMSポート13からロードポート11に移載し、AMHS14によりキャリア10を搬出する。
【0018】
AMHS14が運んできたキャリア10を受け取り、次にロードポート11上でキャリアIDを読み取り、キャリアIDの検証結果が異常であれば、キャリア移載機16によりそのキャリア10をロードポート12に搬出し、オペレータが異常を判断する。
【0019】
また、AMHS14が運んできたキャリア10を受け取り、次にロードポート11上でキャリアIDを読み取り、キャリアIDの検証結果がOKであれば、キャリア10内のスロットマップを読み取るために、キャリア移載機16によりFIMSポート13にキャリア10を搬送する。FIMSポート13でスロットマップを読み取り、スロットマップの検証結果が異常であれば、キャリア移載機16によりそのキャリア10をロードポート12に搬出し、オペレータが異常を判断する。
【0020】
【発明の効果】
本発明によれば、上下2段からなるロードポートを持つ半導体製造装置において、キャリア等の基板保持具の情報に関する異常発生時には、オペレータが異常の内容を判断できるような構成の半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の半導体製造装置を説明するための概略外観斜視図である。
【図2】本発明の一実施の形態の半導体製造装置のシステム構成を説明するための図である。
【図3】本発明の一実施の形態の半導体製造装置を説明するための概略縦断面図である。
【符号の説明】
1…半導体製造装置(成膜装置)
10…キャリア
11、12…ロードポート
13…FIMSポート
14…AMHS
15…内部バッファ
16…キャリア移載機
17…ウェーハ移載機
18…ボート
21…搬送室
22…ロードロック室
23…成膜室

Claims (6)

  1. 上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備す る半導体製造装置であって、前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、上のロードポートに搬送されたキャリアであって前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下段の前記ロードポートに移載することを特徴とする半導体製造装置。
  2. 少なくとも上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置と、キャリア搬送システムを制御してキャリアの搬送を行うホストコンピュータとを備えて構成される半導体製造システムであって、
    前記半導体製造装置は、前記キャリアのキャリアIDやキャリア内のスロットマップを前記ホストコンピュータに報告し、
    前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合、前記ホストコンピュータの指示によって、前記半導体製造装置は、前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下のロードポートに搬出することを特徴とする半導体製造システム。
  3. 基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程と、前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程と、キャリア移載機によりキャリア内の基板をボートに移載する工程と、前記基板を搭載したボートを成膜室に移動させて基板に成膜を行う工程と、前記ボートをロードロック室に移動させ、基板移載機によりボート内の基板をFIMSポート上のキャリアに移載する工程と、キャリア移載機によりキャリアをFIMSポートからロードポートに移載する工程を有する半導体製造方法であって、
    前記基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程および前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程において、前記基板が入ったキャリアのキャリアIDの読み取りや前記基板が入ったキャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、下段の前記ロードポートに前記異常が発生したキャリアを移載することを特徴とする半導体製造方法。
  4. 上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置であって、前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、上のロードポートに搬送されたキャリアであって前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下段の前記ロードポートに移載するとともに、上段のロードポートに次の処理用のキャリアを搬入することを特徴とする半導体製造装置。
  5. 少なくとも上下2段のロードポートとキャリアを移載するキャリア移載機とを具備する半導体製造装置と、キャリア搬送システムを制御してキャリアの搬送を行うホストコンピュータとを備えて構成される半導体製造システムであって、
    前記半導体製造装置は、前記キャリアのキャリアIDやキャリア内のスロットマップを前記ホストコンピュータに報告し、
    前記キャリアのキャリアIDの読み取りや前記キャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合、前記ホストコンピュータの指示によって、前記半導体製造装置は、前記異常が発生したキャリアを前記キャリア移載機により下のロードポートに搬出するとともに、前記キャリア搬送システムで上のロードポートに次の処理用のキャリアを搬送することを特徴とする半導体製造システム。
  6. 基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程と、前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程と、基板移載機によりキャリア内の基板をボートに移載する工程と、前記基板を搭載したボートを成膜室に移動させて基板に成膜を行う工程と、前記ボートをロードロック室に移動させ、基板移載機によりボート内の基板をFIMSポート上のキャリアに移載する工程と、キャリア移載機によりキャリアをFIMSポートからロードポートに移載する工程を有する半導体製造方法であって、
    前記基板が入ったキャリアをロードポートに搬入する工程および前記キャリアをFIMSポートに搬送する工程において、前記基板が入ったキャリアのキャリアIDの読み取りや前記基板が入ったキャリア内のスロットマップの読み取り結果が異常な場合には、下段の前記ロードポートに前記異常が発生したキャリアを移載すると共に、上段のロードポートに次の処理用のキャリアを搬送することを特徴とする半導体製造方法。
JP2002279506A 2002-09-25 2002-09-25 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法 Expired - Lifetime JP4184018B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002279506A JP4184018B2 (ja) 2002-09-25 2002-09-25 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002279506A JP4184018B2 (ja) 2002-09-25 2002-09-25 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004119614A JP2004119614A (ja) 2004-04-15
JP4184018B2 true JP4184018B2 (ja) 2008-11-19

Family

ID=32274486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002279506A Expired - Lifetime JP4184018B2 (ja) 2002-09-25 2002-09-25 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4184018B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4266197B2 (ja) 2004-10-19 2009-05-20 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004119614A (ja) 2004-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6351686B1 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus and control method thereof
US20080138176A1 (en) Apparatus for manufacturing semiconductor device
CN101877321B (zh) 临场检测的装置、系统、及方法
JP4716362B2 (ja) 基板処理システム及び基板処理方法
US7505828B2 (en) Carrier transportation management system and method for internal buffer process tools
CN110690139B (zh) 基板处理系统、基板搬送方法以及存储介质
KR102521418B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 그리고 기판 반송 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
KR102511267B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 수용 용기의 덮개를 개폐하는 방법
US7184851B2 (en) Method of providing cassettes containing control wafers to designated processing tools and metrology tools
US20230282504A1 (en) Method and apparatus for continuous substrate cassette loading
JP4184018B2 (ja) 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法
TWI520252B (zh) Substrate discrimination device
US6809510B2 (en) Configuration in which wafers are individually supplied to fabrication units and measuring units located in a fabrication cell
JP4229497B2 (ja) 基板処理装置および基板の処理方法
WO2020100381A1 (ja) 基板処理装置及び基板搬送方法
KR102166348B1 (ko) 이송 장치의 동작 제어 방법
JPS59128125A (ja) ロ−ダ・アンロ−ダ
JP4415006B2 (ja) カセットの運用管理方法及び基板の処理方法
JP5115501B2 (ja) 基板仕分け装置及び基板仕分け方法
JP2005129868A (ja) 搬送制御方法
JP4549942B2 (ja) 基板処理装置,基板処理方法及びコンピュータプログラム
JP3267266B2 (ja) カセットストッカー及び半導体装置の製造方法
JP2834970B2 (ja) 基板収納装置
KR100652286B1 (ko) 웨이퍼 카세트캐리어 이송시스템
KR20220026373A (ko) 이송 방법 및 이송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050329

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080204

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080304

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080520

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080716

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080812

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080903

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4184018

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140912

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term