JP3735759B2 - 弾性表面波基板 - Google Patents

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【産業上の利用分野】
本特許はポタジュームナイオベート単結晶及び薄膜を用いた大きな電気機械結合係数をもつ弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及び弾性波変換器に関する。
【従来技術】
圧電性の基板表面にインターディジタル変換器を用いて弾性表面波を励振・受信するデバイスでは、大きな電気機械結合係数の基板が要求されている。また、圧電性単結晶、及び圧電性薄膜を用いた弾性波変換器では、大きな電気機械結合係数をもつ変換器が要求されている。
【発明が解決しようとする課題】
これまでは、大きな圧電定数をもつニオブ酸リチュウム単結晶が用いられているが、更に大きな圧電定数をもつ単結晶、及び薄膜が得られるならば、高性能機能素子が得られる。
【課題を解決するための手段】
本特許では、ニオブ酸リチュウム単結晶より大きな圧電定数をもつポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶、及び薄膜を用いた弾性表面波基板、及び弾性波変換器に関するものであり、高性能の弾性表面波機能素子、及び弾性波機能素子を得ること目的としている。。
また、ポタジュームナイオベート単結晶上を伝搬する擬似弾性表面波を用いることにより、更に大きな電気機械結合係数の基板が得られることに関する特許である。
【実施例1】
ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶を用いた弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及びこの単結晶を用いた圧電性弾性波変換器、及びこれらの基板、及び変換器を用いた電子装置が、実施例の1である。
【実施例2】
特許請求の範囲第1項において、ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶の回転YカットX伝搬弾性表面波基板において、ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶のY−面を0度カット面として、0度から180度迄の範囲のカット面の弾性表面波基板、及び伝搬方向がX軸から±20度の範囲にある弾性表面波基板及びこの基板を用いた電子装置が実施例の2である。
【実施例3】
特許請求の範囲第1項、第2項において、これらの基板上に作製された短絡或いは開放型の浮き電極をもつ一方向性弾性表面波電極をもつ基板或いはグループ型の一方向性弾性表面波電極をもつ基板、及びこの基板を用いた電子装置が、実施例の3である。
【実施例4】
特許請求の範囲第1項、第2項、第3項において、ポタジュームナイオベート基板上に作製された半導体薄膜をもつ弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及びこれらの基板を用いた電子装置が実施例の4である。
【実施例5】
基板上に作製されたポタジュームナイオベート(KNbO)圧電性薄膜を用いた弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及びこの薄膜を用いた圧電性弾性波変換器、及びこれらの基板、及び変換器を用いた用いた電子装置が実施例の5である。
【実施例6】
特許請求の範囲第5項において、基板として、サファイヤ、水晶、熔融石英、シリコン半導体、InP,InAs,InSbを用いた弾性表面波基板、擬似弾性表面波基板、及びポタジュームナイオベート薄膜とこれらの基板との間に薄膜をもつ弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及びこれらの基板を用いた電子装置が実施例の6である。
【実施例7】
特許請求の薄膜第1項から第6項において、これらの基板を用いた非線形機能素子、及び弾性表面波コンボルバ、及びこれらの基板を用いた電子装置が実施例の7である。
【実施例8】
特許請求の範囲第1項から第5項において、これらの基板に熔融石英膜を付着させた弾性表面波基板、及び擬似弾性表面波基板、及びこれらの基板を用いた電子装置が実施例の8である。
ポタジュームナイオベート(KNbO単結晶の回転YカットX伝搬弾性表面波基板において、ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶のY−面を0度カット面として、60度回転した面上X−軸伝搬の弾性表面波の基板表面を開放、及び基板表面を短絡した場合の深さ方向の振幅特性を図1及び図2に示す。図から深さ1.5波長以内に振幅が集中した弾性表面波になっていることがが判る。
ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶の回転YカットX伝搬弾性表面波基板において、ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶のY−面を0度カット面として、0度面から180度面まで回転した、X−軸伝搬の弾性表面波の表面開放の場合の伝搬速度V、表面短絡の場合の伝搬速度Vを図3に示す。
また、図3から計算される電気機械結合係数K(=2(V−V)/V)を図4にに示す。図4から非常に大きな電気機械結合係数が得られることが判る。
【発明の効果】
非常にに大きな圧電性をもつポタジュームナイオベートを弾性表面波基板として用いることにより、効率の良い弾性表面波変換器が得られると共に、帯域の広いフィルタが得られる。また、大きな非線形をもつ基板であることから、効率の良いコンボルバが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】回転Y板の60度カット面、X−軸方向伝搬基板の表面開放の場合の弾性表面波の深さ方向の振幅分布を示す図である。
【図2】回転Y板の60度カット面、X−軸方向伝搬基板の表面短絡の場合の弾性表面波の深さ方向の振幅分布を示す図である。
【図3】回転Y板、X−軸伝搬の弾性表面波の伝搬速度を示す図である。
【図4】回転Y板、X−軸伝搬の弾性表面波の電気機械結合係数を示す図である。
【符号の説明】
1…波長で規格化した深さ方向、2…振幅分布、3…波長で規格化した深さ方向、4…振幅分布、5…回転Y板のYカット面から180度までのカット面の角度、6…伝搬速度、7…表面短絡の速度、8表面開放の速度、9…回転Y板のYカット面から180度まで回転した場合のカット面の角度、10…電気機械結合係数、

Claims (7)

  1. ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶から所定のカット角で切り出した弾性表面波基板、及び疑似弾性表面波基板。
  2. ポタジュームナイオベート(KNbO)単結晶のY−面を0度カット面として、0度から180度迄の範囲のカット面を持ち、伝搬方向がX軸から±20度の範囲である請求項1に記載の弾性表面波基板、もしくは疑似弾性表面波基板。
  3. 前記基板上に短絡もしくは開放型の浮き電極をもつ一方向性弾性表面波電極、または、グループ形の一方向性弾性表面波電極が作製されている請求項1または2に記載の弾性表面波基板、または疑似弾性表面波基板。
  4. 前記基板上に半導体薄膜が作製されている請求項1から3いずれかに記載の弾性表面波基板、または疑似弾性表面波基板。
  5. 前記基板に熔融石英膜を付着させた請求項1から4いずれかに記載の弾性表面波基板、または疑似弾性表面波基板。
  6. 請求項1から5いずれかに記載の弾性表面波基板、または疑似弾性表面波基板を用いた圧電性変換器、または、前記基板を用いた電子装置、または、前記基板と前記圧電性変換器を用いた電子装置。
  7. 請求項1からから4いずれかに記載の弾性表面波基板、または疑似弾性表面波基板を用いた非線形機能素子、及び弾性表面波コンボルバ。
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