JP3695205B2

JP3695205B2 - ＧａＮ系の半導体素子

Info

Publication number: JP3695205B2
Application number: JP6020699A
Authority: JP
Inventors: 潤伊藤; 直樹柴田; 敏明千代; 静代野杁
Original assignee: Toyoda Gosei Co Ltd
Current assignee: Toyoda Gosei Co Ltd
Priority date: 1999-03-08
Filing date: 1999-03-08
Publication date: 2005-09-14
Anticipated expiration: 2019-03-08
Also published as: JP2000261033A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明はＧａＮ系の半導体素子に関する。更に詳しくは、ＧａＮ系の半導体層の下地層の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＧａＮ系の半導体は例えば青色発光素子として利用できることが知られている。かかる発光素子では、基板として一般的にサファイアが用いられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このサファイア製の基板において解決すべき課題の一つとして次のものがある。即ちサファイア基板は透明であるため、本来素子の上面から取り出したい発光素子の光が素子下面のサファイア基板を透過してしまう。そのため、発光素子で発光させた光が有効に利用できない。
【０００４】
サファイア基板はまた高価である。
更には、サファイア基板は絶縁体であるため同一面側に電極を形成する必要があり、半導体層の一部をエッチングしなければならず、それに応じてボンディングの工程も２倍となる。また、同一面側にｎ、ｐ両電極を形成するため、素子サイズの小型化にも制限があった、加えて、チャージアップの問題もあった。
【０００５】
また、サファイア基板の代わりにＳｉ（シリコン）基板の使用が考えられるが、本発明者の検討によれば、Ｓｉ基板の上にＧａＮ系の半導体層を成長させることは非常に困難であった。その原因の一つとして、ＳｉとＧａＮ系の半導体の熱膨張率の差がある。Ｓｉの線膨張係数が４．７ X １０−６／Ｋであるのに対しＧａＮの線膨張係数は５．５９ X １０−６／Ｋであり、前者が後者より小さい。従って、ＧａＮ系の半導体層を成長させる際に加熱をすると、Ｓｉ基板が伸長されＧａＮ系の半導体層側が圧縮するように素子が変形する。このとき、ＧａＮ系の半導体層内に引っ張り応力が生じ、その結果クラックの発生するおそれがある。また、クラックが生じないまでも格子に歪みが生じる。従って、ＧａＮ系の半導体素子がその本来の機能を発揮できなくなる。
【０００６】
この発明はこのような課題に鑑みて、新規な構成のＧａＮ系の半導体素子を提供することを目的とする。
この発明の他の目的はＧａＮ系の半導体素子の中間体となる新規な構成の積層体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者らはＧａＮ系の半導体層を成長させるのに適した新規な基板を見いだすべく鋭意検討した。その結果、特願平９−２９３４６５号（出願人整理番号９７０１５２／代理人整理番号Ｐ００６０）において、以下の事項に想到し、これを開示した。
即ち、基板の上にＧａＮ系の半導体をヘテロエピタキシャル成長させるには、基板は下記の要件▲１▼〜▲５▼のうちの少なくとも２つを満足する必要があると考るに至った。
▲１▼ ＧａＮ系の半導体と基板との密着性が良好なこと
▲２▼ ＧａＮ系の半導体の熱膨張係数と基板の熱膨張係数とが近いこと
▲３▼ 基板の弾性率が低いこと
▲４▼ 基板の結晶構造がＧａＮ系の半導体と同じであること
▲５▼ ｜基板の格子定数−ＧａＮ系の半導体の格子定数｜／ＧａＮ系の半導体の格子定数 ≦ ０．０５である（即ち、基板の格子定数とＧａＮ系の半導体層の格子定数との差が±５％以下である）こと、
勿論、好ましくは上記の要件のうちの少なくとも３つ、更に好ましくは上記要件のうち少なくとも４つ、そして、最も好ましくは、５つの要件の全てを満足する。
【０００８】
このような条件を満足する材料として、既述の先の出願特願平９−２９３４６５号ではいくつかの金属材料に注目している。その中の一つとしてＴｉが開示されている。
また、当該先の出願によれば基板は少なくともその表面、即ちＧａＮ系の半導体層に接する面において上記の要件を満足しておればよい。
従って、基板の基体部分を任意の材料で形成して基板の表面部分を上記の要件を満足する材料で形成することもできる。
サファイア基板の場合と同様に、半導体層と基板との間にＡｌＮやＧａＮのようなＡｌａＩｎｂＧａ１−ａ−ｂＮ（ａ＝０、ｂ＝０、ａ＝ｂ＝０を含む）からなるバッファ層を介在させることができる。
【０００９】
一方、特願平９−２９３４６３号（出願人整理番号９７０１３６／代理人整理番号Ｐ００５７）によれば、Ｓｉ基板とＧａＮ系の半導体層との間に応力緩衝用の為のバッファ層が介在される構成の半導体素子が開示されている。この応力緩衝用バッファ層を構成する材料として当該先の出願特願平９−２９３４６５号ではいくつかの金属材料に注目しているが、その中の一つとしてＴｉが開示されている。即ち、Ｓｉ基板上にＴｉ層が形成され、その上にＧａＮ系の半導体層が形成される構成の半導体素子が開示されている。
【００１０】
Ｓｉ基板を用いるとき、ＧａＮ系の半導体層の下地層としてかかるＴｉ層が好ましいものであることは、特願平１０−２８７４８５号（出願人整理番号：９８１１２、代理人整理番号：Ｐ０１０５）において更に詳しく述べられている。
本発明者はＳｉ基板の上にＴｉ層を積層し、これを下地層としてこの上にＧａＮ系の半導体層を成長させる技術について更に検討を重ねてきた。その結果、Ｔｉ／Ｓｉなる基板が７００℃以上の環境にさらされると、Ｔｉ層表面のモフォロジー及びその結晶性が低下することを見出した。これは、かかる温度になるとＴｉとＳｉとが反応してしまうためであると考えられる。なお、通常ＧａＮ系の半導体層は１０００℃前後の温度で成長されるので、当該ＴｉとＳｉの反応がＧａＮ系の半導体層の結晶性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【００１１】
この発明は、本発明者により見出されたかかる課題を解決するものであり、その構成は次のとおりである。
即ち、Ｓｉ製の基板と、
該基板の上に形成されたＴｉ層と、
該Ｔｉ層の上に形成されたＧａＮ系の半導体層と、
前記基板と前記Ｔｉ層との間に介在され両者を分離する耐熱層であって、前記ＧａＮ系の半導体層の成形温度の下で前記基板と前記Ｔｉ層との分離状態を維持する耐熱層と、
を備えてなるＧａＮ系の半導体素子。
【００１２】
このように構成された本発明の半導体素子によれば、Ｔｉ層とＳｉ基板の間に耐熱層が介在されるので、Ｔｉ層とＳｉ基板との反応が未然にかつ確実に防止される。その結果ＧａＮ系の半導体層の結晶性が向上する。結晶性の好ましいＧａＮ系の半導体層から構成される素子は好適な動作を奏する。
【００１３】
（Ｓｉ基板）
上記において、Ｓｉ基板はその（１１１）面を利用し、その上に耐熱層等を順に成長させることが好ましい。
【００１４】
（耐熱層）
耐熱層はＧａＮ系の半導体層の成形温度の下でＳｉ基板とＴｉ層との分離状態を維持するものであれば特に限定されない。例えば、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｏ及びＮｉなどのシリサイド、Ｔａ及びＭｏなどの高融点金属、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ及び窒化タンタルなどの金属窒化物を利用できる。
上記において、シリサイドは各金属をＳｉ基板上に成膜し、熱処理することにより形成する。高融点金属や金属窒化物はプラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、光ＣＶＤ、ＭＯＣＶＤ等のＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｕｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、スパッタ、リアクティブスパッタ、レーザアブレーション、イオンプレーティング、蒸着、ＥＣＲ等のＰＶＤ（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｕｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等の方法で形成する。
耐熱層の厚さも、Ｓｉ基板及びＴｉ層の各材料が反応することを阻止できるものであれば特に限定されない。例えば、ＴｉＮを耐熱層に用いるとき、その厚さは５０〜１００００Åとする。
【００１５】
この耐熱層は導電性の材料とすることが好ましい。Ｓｉ基板及びＴｉ層も導電性を有するので、その結果、半導体素子の両面に電極を形成することができ、基板へアースを取ることによりチャージアップの問題も容易に解決される。
【００１６】
ＴｉＮを耐熱層に用いるとき、Ｓｉ基板と当該ＴｉＮの間にＡｌ層若しくはＡｇ層を介在させることが好ましい。これらの層の厚さは特に限定されないが、５０〜２５０Åとする。このＡｌ、Ａｇ層は例えば蒸着やスパッタ法より形成する。
【００１７】
（Ｔｉ層）
Ｔｉ層も記述のＣＶＤやＰＶＤ等の方法で形成される。本発明者らの検討によれば、ほぼ２５０Åを超えてＴｉ層を厚くすると、Ｔｉ層の剥離が発生するおそれがあった。そのため、Ｔｉ層の厚さを２５０Å以下とすることが好ましい。
しかしながら、Ｔｉ層を薄くした場合には、Ｔｉ層に期待される緩衝作用、即ちＳｉ基板とＧａＮ系の半導体との間の熱膨張係数の差に起因する内部応力の緩衝作用、が充分発揮されないおそれがある。
そこでこの発明では、耐熱層とＴｉ層（２５０Å以下のもの）とを繰り返し積層し、それぞれのＴｉ層において上記緩衝作用を負担させる。これにより、Ｔｉ層の剥離を確実に防止しつつ、Ｔｉ層による緩衝作用を確保しＧａＮ系の半導体層にクラックや歪が入ることを未然に防止できる。
耐熱層とＴｉ層との繰返し数は特に限定されないが、例えば２〜１０とする。
【００１８】
このようにしてＴｉ層を形成した後、Ｔｉ層／耐熱層／Ｓｉ基板を熱処理することが好ましい。熱処理温度は６００〜１２００℃、好ましくは８００〜１２００℃である。熱処理の雰囲気は真空若しくは水素流通下とする。
【００１９】
Ｔｉ層とＧａＮ系の半導体層との間にはバッファ層を介在させることが好ましい。バッファ層にはＡｌ_ａＧａ_１−ａＮ（ａ＝０．８５〜０．９５）が好ましく、更に好ましくは、Ａｌ_ａＧａ_１−ａＮ（ａはほぼ０．９）である。
【００２０】
（ＧａＮ系の半導体層）
ここにＧａＮ系の半導体とはIII族窒化物半導体であって、一般的にはＡｌ_ＸＧａ_ＹＩｎ_{１ーＸーＹ}Ｎ（０≦Ｘ≦１、０≦Ｙ≦１、０≦Ｘ＋Ｙ≦１）で表される。また、任意のドーパントを含むものであっても良い。
ＧａＮ系の半導体層の形成方法は特に限定されないが、例えば、周知の有機金属化合物気相成長法（以下、「ＭＯＣＶＤ法」という。）により形成される。また、周知の分子線結晶成長法（ＭＢＥ法）によっても形成することができる。
【００２１】
発光素子及び受光素子では、周知のように、発光層が異なる導電型のＧａＮ系の半導体層（クラッド層）で挟まれる構成であり、発光層には超格子構造やダブルヘテロ構造等が採用される。ＦＥＴ構造に代表される電子デバイスをＧａＮ系の半導体で形成することもできる。このように、Ｔｉ層の上に形成されるＧａＮ系の半導体層は複数の層が相互に作用して所望の機能を奏するものとなる。
【００２２】
（試験例）
以下、試験例について説明する。

Ｓｉ基板の（１１１）面にＡｌ層（膜厚：約１００Å）を蒸着する。このＡｌ層上にリアクティブスパッタ法により窒化チタン（膜厚：約３０００Å）を形成し、これを真空中で５分間、９５０℃に加熱した後のＸ線回折（φ（ＰＨＩ）スキャン）の結果を図１に示す。Ｘ線回折装置としてフィリップス社製の４軸型単結晶回折計（製品名：X-pert）を用いた（以下の試験例も同じ）。φ（ＰＨＩ）スキャンについてはJournal of Electronic Materials, Vol. 25, No. 11, pp. 1740-1747, 1996を参照されたい。φ（ＰＨＩ）スキャンでは、サンプルを３６０度回転させたときに結晶面に対応するピークが得られる。図１の縦軸の値が大きいほど良好な結晶が得られていると考えられる。ＴｉＮの結晶性が良好であれば、その上に成長されるＴｉ層の結晶性、ひいてはＧａＮ系の半導体層の結晶性もまた良好になると考えられる。
図１の結果から、上記のように製作したＴｉＮ結晶の結晶性は好ましいものであることがわかる。
【００２３】

図２は、試験例１において、Ａｌ層をＡｇ層（膜厚：約１００Å）に代えたときの、φ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合も良好な結晶性のＴｉＮ層が得られた。
【００２４】

図３は試験例１のＴｉＮ（但し膜厚：約５０００Å）の上にＴｉを成長させ、このＴｉについての結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。良好なＴｉ層が得られた。
【００２５】

この試験例では、試験例１において最初のＴｉＮ層の厚さを１００Åとし、その後１０００ÅのＴｉ層と３０００Åの第２のＴｉＮ層を連続的にリアクティブスパッタ法により形成した。
図４はＴｉＮ層の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合も良好な結晶性のＴｉＮ層が得られた。
【００２６】

この試験例では、試験例１において最初のＴｉＮ層の厚さを３０００Åとし、その後２５０ÅのＴｉ層と１００ÅのＴｉＮ層を交互に１０回繰返して形成した。各ＴｉＮ層及びＴｉ層は連続的にリアクティブスパッタ法により形成した。
図５はＴｉＮ層の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合も良好な結晶性のＴｉＮ層が得られた。
【００２７】

この試験例では、試験例１において最初のＴｉＮ層の厚さを６００Åとし、その後５０ÅのＴｉ層と６００ÅのＴｉＮ層を交互に４回繰返して形成した。各ＴｉＮ層及びＴｉ層は連続的にリアクティブスパッタ法により形成した。
図６はＴｉＮ層の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合も良好な結晶性のＴｉＮ層が得られた。
【００２８】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＡｌ層（膜厚：約１００Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、９５０℃、５分間加熱し、ＡｌとＳｉとを積極的に反応させて反応層を形成する。その後、スパッタによりＴｉ層（膜厚：１５０００Å）形成した。
図７は当該Ｔｉ層（１５０００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合、良好な結晶性のＴｉ層が得られた。
【００２９】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＴｉ層（膜厚：約５０Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、９５０℃、５分間加熱し、ＴｉとＳｉとを積極的に反応させてＴｉシリサイド層を形成する。その後、スパッタによりＴｉ層（膜厚：１５０００Å）形成した。
図８は当該Ｔｉ層（１５０００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合、６つのピークが明確に確認できる。よって、Ｔｉ層の結晶性が良好であることがわかる。
【００３０】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＣｏ層（膜厚：約１００Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、６００℃、５分間加熱し、ＣｏとＳｉとを積極的に反応させてＣｏシリサイド層を形成する。その後、スパッタによりＴｉ層（膜厚：１５０００Å）形成した。
図９は当該Ｔｉ層（１５０００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合、６つのピークが判別できるので、Ｔｉ層の単結晶成長が確認できる。
【００３１】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＮｉ層（膜厚：約１００Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、８００℃、５分間加熱し、ＮｉとＳｉとを積極的に反応させてＮｉシリサイド層を形成する。その後、スパッタによりＴｉ層（膜厚：１５０００Å）形成した。
図１０は当該Ｔｉ層（１５０００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合、６つのピークが判別できるので、Ｔｉ層の単結晶成長が確認できる。
【００３２】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＡｌ層（膜厚：約１００Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、９５０℃、５分間加熱し、ＡｌとＳｉとを積極的に反応させてＡｌシリサイド層を形成する。その後、スパッタによりＴｉＮ層（膜厚：１００００Å）形成した。
図１１は当該ＴｉＮ層（１００００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンの結果である。この場合、良好な結晶性のＴｉＮ層が得られた。
【００３３】

Ｓｉ基板の（１１１）面にＴｉ層（膜厚：約５０Å）を常温で蒸着する。そしてこれを真空環境下、９５０℃、５分間加熱し、ＴｉとＳｉとを積極的に反応させてＴｉシリサイド層を形成する。その後、スパッタによりＴｉＮ層（膜厚：１００００Å）形成した。
当該ＴｉＮ層（１００００Å）の結晶性を評価したφ（ＰＨＩ）スキャンをみると６つのピークが明確に確認できる。よって、ＴｉＮ層が単結晶成長していることがわかる。
【００３４】

サファイア基板のａ面にＴｉＮ（３０００Å）をリアクティブスパッタ法により形成する。Ｘ線回折（φ（ＰＨＩ）スキャン）の結果を図１２に示す。図１２の結果より、サファイア基板上にも好ましい結晶性のＴｉＮが形成されることがわかる。同様にｃ面サファイア基板上にも好ましい結晶性のＴｉＮが形成される。さらに、８００℃以上の高温熱処理を実施することにより、ＴｉＮの結晶性は格段と良くなる。当該ＴｉＮの上へ更にＴｉを形成し、その上にＧａＮ系の半導体層を形成することができる。Ｔｉ／ＴｉＮの積層体を繰返すこともできる。この場合の繰返し数及び各層の厚さは特に限定されない。
【００３５】

ＧａＮ上にＴｉＮ（３０００Å）をリアクティブスパッタ法により形成する。Ｘ線回折（φ（ＰＨＩ）スキャン）の結果を図１３に示す。図１３の結果より、ＧａＮ上にも好ましい結晶性のＴｉＮが形成されることがわかる。
【００３６】

試験例１５のサンプル（熱処理前のもの）のＴｉＮ上に更にＴｉをスパッタ法により成長させる。Ｘ線回折（φ（ＰＨＩ）スキャン）の結果を図１４に示す。図１４の結果より、ＴｉＮ／ＧａＮ上に形成されるＴｉ層はその結晶性が好ましいものであることがわかる。
【００３７】
次に、この発明の実施例について説明する。
【００３８】
（第１実施例）
この実施例は発光ダイオード１０であり、その構成を図１５に示す。
【００３９】
各層のスペックは次の通りである。

【００４０】
ｎクラッド層１６は発光層１７側の低電子濃度ｎ-層とバッファ層１５側の高電子濃度ｎ＋層とからなる２層構造とすることができる。
発光層１７は超格子構造のものに限定されず、シングルへテロ型、ダブルへテロ型及びホモ接合型のものなどを用いることができる。
発光層１７とｐクラッド層１８との間にマグネシウム等のアクセプタをドープしたバンドギャップの広いＡｌ_ＸＩｎ_ＹＧａ_{１−Ｘ−Ｙ}Ｎ（X=0,Y=0,X=Y=0を含む）層を介在させることができる。これは発光層１７中に注入された電子がｐクラッド層１８に拡散するのを防止するためである。
ｐクラッド層１８を発光層１７側の低ホール濃度ｐ−層と電極側の高ホール濃度ｐ＋層とからなる２層構造とすることができる。
【００４１】
実施例の発光ダイオード１０においてＴｉ層１４より上の発光体構造は周知の構成であり、従って、その形成方法も周知の方法が採用できる。
以下、詳述する。
Ｓｉ（１１１）面に形成されるＡｌ層１２は汎用的な蒸着方法によりエピタキシャル成長する。
ＴｉＮ層１３及びＴｉ層１４は汎用的なリアクティブスパッタ法により形成する。
その後、Ｔｉ／ＴｉＮ／Ａｌ／Ｓｉサンプルをスパッタ装置からＭＯＣＶＤ装置のチャンバ内へ移し変える。このチャンバ内を真空引き（２×１０^−３Ｐａ）し、その状態で当該サンプルを６５０℃まで昇温させて５分間維持する。この処理により、Ｔｉの平坦性が上がる。
【００４２】
その後、３５０℃の成長温度でＡｌＧａＮ製のバッファ層１５を成長させ、更に温度を１０００℃まで昇温してｎクラッド層１６以降を常法（ＭＯＣＶＤ法）に従い形成する。この成長法においては、アンモニアガスとIII族元素のアルキル化合物ガス、例えばトリメチルガリウム（ＴＭＧ)、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）やトリメチルインジウム（ＴＭＩ）とを適当な温度に加熱された基板上に供給して熱分解反応させ、もって所望の結晶を基板の上に成長させる。
このようにして形成された本実施例のＧａＮ系の半導体層の結晶性は好ましいものである。
【００４３】
透光性電極１９は金を含む薄膜であり、ｐクラッド層１８の上面の実質的な全面を覆って積層される。ｐ電極９も金を含む材料で構成されており、蒸着により透光性電極１９の上に形成される。
なお、Ｓｉ基板層１１がｎ電極となる。そしてその所望の位置にワイヤーがボンディングされる。
【００４４】
（第２実施例）
図１６にこの発明の第２の実施例の半導体素子を示す。この実施例の半導体素子は発光ダイオード２０である。なお、図１６と同一の要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
各層のスペックは次の通りである。

【００４５】
上記のように、この実施例では、Ｔｉ／ＴｉＮの積層体が繰返し形成されている。Ｔｉ／ＴｉＮの積層体の繰返し数は特に限定されるものではない。また、各層の厚さも特に限定されないが、剥離を確実に防止する見地からＴｉ層の厚さは２５０Å以下とすることが好ましい。
この実施例の製造方法は実施例１と同様である。
【００４６】
この実施例では、バッファ層１５の上にｐクラッド層２６、発光層１７及びｎクラッド層２８を順に成長させて発光ダイオード２０が構成される。この素子２０の場合、抵抗値の低いｎクラッド層２８が最上面となるのでここの透光性電極（図１５の符号１９参照）を省略することが可能となる。
図の符号３０はｎ電極である。Ｓｉ基板１１はそのままｐ電極として利用できる。
【００４７】
なお、本発明が適用される素子は上記の発光ダイオードに限定されるものではなく、受光ダイオード、レーザダイオード等の光素子の他、ＦＥＴ構造の電子デバイスにも適用できる。
また、これらの素子の中間体としての積層体にも本発明は適用されるものである。
【００４８】
この発明は上記発明の実施の形態及び実施例の記載に何ら限定されるものではなく、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で当業者が想到し得る種々の変形態様を包含する。
【００４９】
以下、次の事項を開示する
（１１）Ｓｉ製の基板と、
該基板の上に形成されたＴｉ層と、
該Ｔｉ層の上に形成されたＧａＮ系の半導体層と、
前記基板と前記Ｔｉ層との間に介在され両者を分離する耐熱層であって、前記ＧａＮ系の半導体層の成形温度の下で前記基板と前記Ｔｉ層との分離状態を維持する耐熱層と、
を備えてなる積層体。
（１２）前記耐熱層はシリサイド、高融点金属若しくは金属窒化物である、ことを特徴とする（１１）に記載の積層体。
（１３）前記シリサイドはＴｉシリサイド、Ａｌシリサイド、Ｃｏシリサイド若しくはＮｉシリサイドであり、前記高融点金属はＴａ若しくはＭｏであり、前記金属窒化物はＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ若しくは窒化タンタルである、ことを特徴とする（１２）に記載の積層体。
（１４）前記基板はその（１１１）面上に前記耐熱層が形成される、ことを特徴とする（１１）〜（１３）のいずれかに記載の積層体。
（１５）前記Ｔｉ層と前記耐熱層とが繰り返して積層されている、ことを特徴とする（１１）〜（１４）のいずれかに記載の積層体。
（１６）前記Ｔｉ層の厚さは１０〜２５０Åである、ことを特徴とする（１５）に記載の積層体。
（１７）基板と、
該基板の上に形成されるＴｉ層と耐熱層との繰り返しからなる層と、
該繰り返し層の上に形成されるＧａＮ系の半導体層と、を備えてなり、
前記耐熱層は前記ＧａＮ系の半導体層の成形温度より実質的に高い融点を持つ、ことを特徴とする積層体。
（１８）前記Ｔｉ層の厚さは１０〜２５０Åである、ことを特徴とする（１７）に記載の積層体。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は試験例１のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図２】図２は試験例２のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図３】図３は試験例３のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図４】図４は試験例４のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図５】図５は試験例５のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図６】図６は試験例６のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図７】図７は試験例７のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図８】図８は試験例８のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図９】図９は試験例９のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１０】図１０は試験例１０のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１１】図１１は試験例１１のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１２】図１２は試験例１３のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１３】図１３は試験例１４のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１４】図１４は試験例１５のφ（ＰＨＩ）スキャンの結果を示す。
【図１５】図１５は実施例１の発光ダイオードの構成を示す。
【図１６】図１６は実施例２の発光ダイオードの構成を示す。
１０、２０ 	発光ダイオード
１１基板
１３耐熱層
１４Ｔｉ層
１５ 	バッファ層
１６、２６クラッド層
１７発光層
１８、２８クラッド層
１９透光性電極
２０ 	発光ダイオード

Claims

Ｓｉ製の基板と、
該基板の上に形成されたＴｉ層と、
該Ｔｉ層の上に形成されたＧａＮ系の半導体層と、
前記基板と前記Ｔｉ層との間に介在され両者を分離する耐熱層であって、前記ＧａＮ系の半導体層の成形温度の下で前記基板と前記Ｔｉ層との分離状態を維持する耐熱層と、
を備えてなるＧａＮ系の半導体素子。
前記耐熱層はシリサイド、高融点金属若しくは金属窒化物である、ことを特徴とする請求項１に記載の半導体素子。
前記シリサイドはＴｉシリサイド、Ａｌシリサイド、Ｃｏシリサイド若しくはＮｉシリサイドであり、前記高融点金属はＴａ若しくはＭｏであり、前記金属窒化物はＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮ若しくは窒化タンタルである、ことを特徴とする請求項２に記載の半導体素子。
前記基板はその（１１１）面上に前記耐熱層が形成される、ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の半導体素子。
前記Ｔｉ層と前記耐熱層とが繰り返して積層されている、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の半導体素子。
前記Ｔｉ層の厚さは１０〜２５０Åである、ことを特徴とする請求項５に記載の半導体素子。
基板と、
該基板の上に形成されるＴｉ層と耐熱層との繰り返しからなる層と、
該繰り返し層の上に形成されるＧａＮ系の半導体層と、を備えてなり、
前記耐熱層は前記ＧａＮ系の半導体層の成形温度より実質的に高い融点を持つ、ことを特徴とするＧａＮ系の半導体素子。
前記Ｔｉ層の厚さは１０〜２５０Åである、ことを特徴とする請求項７に記載の半導体素子。