JP3675408B2 - 洗浄等の表面処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、工業製品等のワークを洗浄等する新規表面処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
機械加工等により、油が付着した加工部品や使用により汚れが付着した工業製品等の洗浄装置として、例えば、図3に示すようなコンベア搬送タイプのものや、搬送チェーンにワークを引掛け、シャワー洗浄するもの等が広く知られている。
コンベア搬送タイプのものは、図3に示すように、ガイドローラ24支持によるコンベアチェーン25を洗浄液121等が入った処理槽23の一端からゆっくり下部方向の傾斜部を設けてワーク10が液面23b下の液中に浸漬するようにし、再度、上部方向の傾斜部を設けてワークを搬出する方式である。
【0003】
このような従来のコンベア搬送方式においては、ワークが液中に完全に浸漬されるように本槽の液中深くコンベアを配置しなければならず、また、投入側及び搬出側の傾斜角度を大きくとるとコンベア上のワークの安定性が悪くなるためにワーク投入から搬出までのコンベア長さを長く設定しなければならなかった。
従って、洗浄装置が大きくなり、処理液量が多くなるだけで無く、洗浄時間も長くなるという技術的課題があった。
【0004】
そこで、洗浄装置をコンパクトにする目的で、ワークに洗浄液を噴射するシャワー洗浄装置が提案されている。
しかし、シャワー洗浄の場合には、ワーク形状が複雑になり、特に中空部や深いトング部があると、その部分に充分に洗浄液が当たらないという技術的課題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記実状に鑑みて、ワーク浸漬方式の洗浄装置等の表面処理装置において、装置の大きさをよりコンパクトにするのに効果的で、ワーク投入側又は搬出側の液面高さより洗浄室(表面処理室)の液面高さを簡単な構造で高くすることができる新規表面処理装置の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、処理液が入った本槽の液面上部に、上部が密閉され、下部が開放された処理室の側壁下端が本槽の液中に臨むように配設され、密閉された処理室を減圧することにより、処理室液面高さを本槽液面高さより高くし、この液面を高くした部分に超音波発振装置を配設したことを特徴とする。
また、請求項2記載の発明は、処理液が入った本槽の液面上部に、上部が密閉され、下部が開放された処理室の側壁下端が本槽の液中に臨むように配設され、本槽へワークをコンベア上に載せて投入及び搬出するコンベアチェーンの、ワーク投入側から下部方向に傾斜部を設け、ワーク搬出側に上部方向の傾斜部を設け、密閉された処理室を減圧することにより、処理室液面高さを本槽液面高さより高くしたものである。
【0007】
従来、ワーク通過部分のみ切り欠いた処理槽(洗浄室)に大量の処理液を供給し、その切り欠いた部分より処理液をオーバーフローさせることで洗浄室の液面を他の部分(本槽)の液面より高くする方法が知られている。
しかし、このような方法では大量の処理液をポンプアップしなければならず、付帯設備が大型化し、エネルギー消費量も多くなるだけでなく、水流によりワークが不安定になりやすい。
これに対して請求項1記載の構成によれば次のように作用する。
処理液が入った本槽の液面の上部に箱形の容器を逆さにして置いたように、上部が密閉され、下部が処理液中に開放された処理室を配置し、処理室の上部から真空ポンプ等で空気を抜くと処理室内が減圧されるのでその減圧分の圧力と平衡になるように処理室の周囲の液面より高くなる。
なお、処理室のワーク投入側と搬出側との側壁が本槽の液中にて開放端になっていればよく、その他の側壁(具体的にはワーク進行方向に対して両サイドになる部分)は本槽の側壁と一体的に形成してもよい。
【0009】
このように、ワークを洗浄等の表面処理する部分の液面をワーク投入側または搬出側の液面より高くなっているので、例えば、コンベア搬送方式の表面処理装置に適用した場合に、液中に浸漬するための傾斜部分の長さを前述の従来方法に比較して大幅に短くすることができる。
また、洗浄室(処理室)の液面を高くしたのでその部分に超音波振動子(超音波発振装置)を容易に配設する事ができ、洗浄効果をより高めることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
発明の適用例を以下図面に基づいて説明する。
図1に本発明に係る表面処理装置の要部断面図を示す。
洗浄液等の処理液3が入った本槽1の上部に処理室2が備えられている。
処理室2の側壁4は、上下に移動可能になっていて、図1(イ)に示すように側壁4を上昇させた状態にて被処理物たるワーク10を搬送手段6の上に置く。搬送手段6は、ワーク10を処理室2に投入及び排出できるものであれば、ベルトコンベア式、ロッドを用いたアーム式、エレベーター式等、通常採用されている各種手段が適宜選択使用される。
このワークを処理装置に投入した状態では、ワークが処理液3中に浸漬されている必要はなく、処理液の液面3aの上部にワークの一部又は全部が出ている。
【0011】
搬送手段6により、ワーク10が処理室2に搬入されると、側壁4が下降し、側壁の下端4aが処理液中に臨む状態になり、処理室2が密閉された状態になる。
処理室2の上部に設けられた開閉弁5を開き、図示を省略したが、真空ポンプ等の減圧手段にて処理室内の空気を吸引し、減圧する。
すると、処理室内の液面3aは、大気圧に押圧されて上昇し、処理室の外側の液面3bより高くなる。
このように処理室の液面3aが高くなると、図1(ロ)に示すようにワーク10が処理液中に浸かることになり、洗浄等の表面処理が施される。
【0012】
このように処理室の液面を減圧により上昇させたり、空気を供給して液面高さをもとの状態に復帰させたりして上下変動させた場合に、処理本槽の大気に開放された液面高さ3bを均一に保つことが望ましい。
即ち、処理本槽の液量を一定にすると、減圧により処理室内に処理液が流入するとその分、大気開放部液面3bが下がることになり、側壁4の下方向のストロークを長くする必要が生じたり、逆にその上下変動分を見込んで処理本槽を深くしたり大きくする必要が生じる。
そのような不具合を解決するために、液面計を取り付けて大気開放部の液面3bが均一になるように処理液を供給又は排出してもよいが、図1(ロ)に示すような構造にすると液面高さ管理が容易になる。
【0013】
処理本槽の側壁にオーバーフロー口1a又はオーバーフロー切欠け部7を設けて、サブタンク8にオーバーフローさせる。
サブタンク8に流入してきた処理液は、ポンプ9にてポンプアップして本槽に戻す。
このように処理液をオーバーフロー循環させておくと、容易に大気開放部の液面高さ3bを均一に保つことができ、処理室2の減圧に対応して処理室内の液面高さ3aを管理することができる。
【0014】
次に本発明をコンベア連続搬送タイプの表面処理装置に適用した場合の例を図2に示す。
処理本槽21にワーク10を一端から投入し、他端から排出できるようにコンベア25がガイドローラー24を介して備えられている。
本槽21の上部には、処理室22が設けられている。
この処理室22は、上部が密閉され、下部が液中に開放された構造になっている。
処理室22の上部から開閉弁5を介して真空ポンプ等にて減圧可能になっている。
処理室22の空気を吸引減圧すると、その分に対応して処理室内の液面23aがその外側の液面23bより高くなる。
これにより、コンベアの本槽の中への配置深さを浅くすることが出来、コンベアの全長を短くすることができる。
また必要に応じて、処理室内に超音波発振装置11を配設することもできる。
【0015】
【発明の効果】
本発明のように、本槽の液面の上部に、上部が密閉され、下部が本槽の液中に開放されるように洗浄室(処理室)を設けた簡単な構造を採用し、真空ポンプ等で洗浄室の空気を減圧するだけで液面が高くなり、その下部にワーク搬送コンベアを配置したので装置そのものがコンパクトになり、しかもワークをディッピング洗浄により、確実に洗浄できる。
また、付帯設備も液循環程度の小さな容量のポンプと、減圧用のポンプがあればよく、省エネルギー効果も大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る表面処理装置の例を示す。
【図2】本発明をコンベア搬送式表面処理装置に用いた例を示す。
【図3】従来のコンベア搬送式表面処理装置の例を示す。
【符号の説明】
1、21 処理装置の本槽
1a オーバーフロー口
2、22 処理室
3、23 処理液
3a、23a 処理室内の液面
3b、23b 処理室外(大気開放部)の液面
4 処理室側壁
4a 処理室側壁下端
5 開閉弁
6 ワーク搬送手段
7 オーバーフロー部
8 サブタンク
9 ポンプ
10 ワーク
11 超音波発振装置
24 ガイドローラー
25 コンベア
Claims (2)
- 処理液が入った本槽の液面上部に、上部が密閉され、下部が開放された処理室の側壁下端が本槽の液中に臨むように配設され、密閉された処理室を減圧することにより、処理室液面高さを本槽液面高さより高くし、この液面を高くした部分に超音波発振装置を配設したことを特徴とする表面処理装置。
- 処理液が入った本槽の液面上部に、上部が密閉され、下部が開放された処理室の側壁下端が本槽の液中に臨むように配設され、本槽へワークをコンベア上に載せて投入及び搬出するコンベアチェーンの、ワーク投入側から下部方向に傾斜部を設け、ワーク搬出側に上部方向の傾斜部を設け、密閉された処理室を減圧することにより、処理室液面高さを本槽液面高さより高くしたことを特徴とする表面処理装置。
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