JP5986900B2 - 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
6 基板
7 液処理槽
8 処理液供給機構
9 処理液排出機構
18 制御手段
29 乾燥処理槽
31 乾燥流体供給機構
32 乾燥流体排出機構
50 基板保持体
52 基板搬送機構
Claims (11)
- 処理液で基板の液処理を行うための液処理部と、
前記液処理部の上方に設けられ、乾燥流体で前記基板の乾燥処理を行うための乾燥処理部と、
前記基板を垂直状に保持した基板保持体を昇降させて前記液処理部と乾燥処理部との間で前記基板を搬送するための基板搬送機構と、
前記液処理部に前記処理液を供給するための処理液供給機構と、
前記液処理部から前記処理液を排出するための処理液排出機構と、
前記乾燥処理部に前記乾燥流体を供給するための乾燥流体供給機構と、
前記基板搬送機構、処理液供給機構、処理液排出機構、乾燥流体供給機構を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記基板搬送機構によって前記基板を上昇させて前記液処理部から前記乾燥処理部に搬送するとともに前記処理液排出機構によって前記液処理部から前記処理液を排出する間に、前記処理液排出機構によって前記液処理部から排出する前記処理液の流量を増大させることで、前記液処理部での前記処理液の液面に対する前記基板の相対的な上昇速度を増加させるように制御することを特徴とする基板処理装置。 - 前記制御手段は、前記処理液の液面が前記基板の表面に形成された回路パターン形成領域の下端縁部を通過した後に前記基板の上昇速度を増加させるように制御することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記乾燥流体供給機構は、前記乾燥流体を前記乾燥処理部から前記液処理部に向けて吐出する乾燥流体吐出ノズルを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記乾燥処理部から前記乾燥流体を排出するための乾燥流体排出機構をさらに有し、前記乾燥流体排出機構は、前記乾燥流体を吸引する乾燥流体吸引口を前記乾燥処理部よりも下方に配置したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記乾燥流体吸引口を前記液処理部の底部に配置したことを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 垂直状に保持した基板を処理液を用いて液処理部で液処理するための液処理工程と、
液処理後の前記基板を前記液処理部から上昇させて乾燥処理部に搬送するための基板搬送工程と、
前記基板を乾燥流体を用いて前記乾燥処理部で乾燥処理するための乾燥処理工程とを有し、
前記基板搬送工程では、前記基板を上昇させて前記液処理部から前記乾燥処理部に搬送するとともに前記液処理部から前記処理液を排出する間に、前記液処理部から排出する前記処理液の流量を増大させることで、前記液処理部での前記処理液の液面に対する前記基板の相対的な上昇速度を増加させることを特徴とする基板処理方法。 - 前記処理液の液面が前記基板の表面に形成された回路パターン形成領域の下端縁部を通過した後に前記基板の上昇速度を増加させることを特徴とする請求項6に記載の基板処理方法。
- 前記乾燥流体を前記乾燥処理部から前記液処理部に向けて吐出することを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記乾燥流体を前記乾燥処理部よりも下方で吸引することを特徴とする請求項6〜請求項8のいずれかに記載の基板処理方法。
- 前記処理液を前記液処理部から排出した後に、前記乾燥流体を前記液処理部の底部で吸引することを特徴とする請求項6〜請求項9のいずれかに記載の基板処理方法。
- 垂直状に保持した基板を処理液を用いて液処理部で液処理させる液処理工程と、
液処理後の前記基板を前記液処理部から上昇させて乾燥処理部に搬送させる基板搬送工程と、
前記基板を乾燥流体を用いて前記乾燥処理部で乾燥処理させる乾燥処理工程とを有し、
前記基板搬送工程では、前記基板を上昇させて前記液処理部から前記乾燥処理部に搬送するとともに前記液処理部から前記処理液を排出する間に、前記液処理部から排出する前記処理液の流量を増大させることで、前記液処理部での前記処理液の液面に対する前記基板の相対的な上昇速度を増加させることを特徴とする基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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