JP3653006B2 - 三フッ化窒素の回収方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素化合物を含有している多成分流体からフッ素化合物を分離及び回収することに関し、詳しく言えば連続の低温(cryogenic)蒸留による三フッ化窒素(NF3)の精製に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
フッ素化合物は半導体の製造において広く用いられている。これらの化合物は費用がかかることがあり、そして放出されると環境にとって有害になりかねない。三フッ化窒素は、エッチングガスやチャンバークリーニングガスとして用いられている。
【0003】
三フッ化窒素を製造する過程では、三フッ化窒素、窒素、酸素、亜酸化窒素、フッ化水素及びその他の成分を含有するガス混合物が作られる。窒素と酸素は三フッ化窒素よりも揮発性である一方、亜酸化窒素とフッ化水素はそれよりも揮発性が少なく、且つ低温及びより高い濃度では固形物を生成することがある。このガス混合物は、その後、高純度の三フッ化窒素が必要とされる場合、バルクレベルの活性フッ化物と重質成分の除去後に三フッ化窒素を得るため低温蒸留により精製されることがある。
【0004】
バッチ蒸留は、単純でありかなりの操作上の融通性があるので、比較的少量の製品を精製する原価効率的な方法である。この経済的利点は、大量の製品を精製しなくてはならない場合には喪失する。これは、バッチ蒸留は製造バッチ間の原料及び中間製品の貯蔵設備を必要とするからである。大量のガスの貯蔵はやっかいである。それは貯蔵容器への圧入によるかあるいは液化により行うことができる。両方の方法とも、大きな貯蔵容器の資本費のためと頻繁なバッチ輸送につきまとう運転費のために費用が高くつく。
【0005】
バッチ処理はまた、頻繁な移送、プロセス管路のパージ、及び貯蔵容器のガス抜きの際における、フッ素化合物の環境上有害な放出源でもある。
【0006】
洗浄液を追加してのフッ素化合物の低温蒸留が、米国特許第5502969号明細書(Jinら)、同第5626023号明細書(Fisherら)、及び同第5771713号明細書(Fisher)に開示されている。洗浄液は、キャリヤガスからフッ素化合物を吸収するため、又は一部の成分が固化するのを防止するために加えられる。一つ(あるいは二つ又は三つ)の低温蒸留塔を使って、洗浄液から高揮発性のフッ素化合物を分離する。(あるいはまた、その後の塔で洗浄液から又は残留重質成分からより低揮発性のフッ素化合物を分離する。)これらの蒸留装置の全てはバッチ処理を伴う。
【0007】
超高純度三フッ化窒素の製造のための連続法が、米国特許第5832746号明細書(ナガムラ)に開示されている。この方法は、三フッ化窒素原料ガスを昇圧し、原料ガスから湿分、CO2を除去しそして部分的にCF4を除去し、原料ガスを冷却し、そしてそれを低温吸着器を通過させてN2F2、N2F4、N2Oを除去し且つCF4含有量を更に低下させ、中圧蒸留塔の塔底リボイラー/コンデンサーで原料ガスを液化し、そして供給された熱を使ってその塔内で原料ガスのうちの重質成分を分離することを含む。次に、得られた混合物を、第2のリボイラー/コンデンサーにより中圧蒸留塔と熱的に複合化された低圧蒸留塔へ送り、そこでそれを蒸留して超高純度NF3を塔底生成物として得、また廃棄蒸気塔頂生成物を得る。この方法は、NF3原料ガスの昇圧が必要なために、比較的費用がかかるものになりかねない。この方法はまた、二重の複合化(原料ガスと中圧蒸留塔とのもの及び中圧蒸留塔と低圧蒸留塔とのもの)のために、制御が難しくなりかねない。
【0008】
これらの従来技術の蒸留法の全てにおいて、還流は塔頂生成物の蒸気のうちの一部を低温の液との、例えば液体窒素との熱交換で凝縮させて供給している。これは、コンデンサー及び関連する制御機器の使用を必要とする。
【0009】
所定の成分を取り除いてNF3原料ガスを浄化する一つの方法が、いくつかの特許文献に開示されている。米国特許第5069887号明細書(スエナガら)では、モレキュラーシーブでの吸着法を使ってCF4からNF3を分離している。米国特許第5183647号明細書(ハラダら)には、NF3原料ガスからのN2F2の化学分解に有利な条件が開示されている。米国特許第5779863号明細書(Haら)には、3又は4の蒸留塔を含む蒸留塔装置を使って、NF3を含めたパーフルオロ化合物(PFC類)を分離及び精製するための方法が開示されている。
【0010】
三フッ化窒素を精製するための安全で且つ経済的な連続の低温蒸留法を手に入れることが求められている。
フッ素化合物を環境へ少しも放出することなく、最高の回収率で所望される分離を行うそのような方法を手に入れることが、更に求められている。
従来技術の難点と不都合を克服してより良好で且つより有利な結果をもたらす、多成分流体から三フッ化窒素を回収するための方法を手に入れることが、なお更に求められている。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、NF3(三フッ化窒素)を含有している多成分流体(原料流)から連続蒸留によりNF3を回収するための方法である。
【0012】
本発明の第1の態様は、第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い1又は2種以上の成分、及びNF3より揮発性の高い1又は2種以上の成分を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法である。この方法は、第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用し、各蒸留塔は塔頂部と塔底部とを有する。この方法は多数の工程を含む。第1の工程は、上記の多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給するものである。第2の工程は、第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の箇所で低温(cryogenic)の液を供給するものである。第3の工程は、第1の蒸留塔の塔頂部からNF3より揮発性の高い成分を取り出すものである。第4の工程は、NF3とNF3より揮発性の低い成分とを含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所より下方の箇所で抜き出すものである。第5の工程は、この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給するものである。第6の工程は、第2の蒸留塔においてこの混合物からNF3を分離するものである。第7の工程は、第2の蒸留塔の塔頂部からNF3の流れを取り出すものである。
【0013】
第1の態様の変形において、上記の方法は追加の工程を含む。この追加の工程は、第2の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を含有している流れを取り出すものである。
【0014】
第2の態様は、第1の態様と同じ多数の工程を有するが、3つの追加工程を包含している。第1の追加工程は、第2の蒸留塔から第2の供給箇所で又はその近くで液の流れを抜き出すものである。第2の追加工程は、この液の流れを第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より下方の箇所で供給するものである。第3の追加工程は、第1の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を含有している流れを取り出すものである。
【0015】
第3の態様は、第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い1又は2種以上の成分、及びNF3より揮発性の高い1又は2種以上の成分を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法である。この方法は、第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用し、各蒸留塔は塔頂部と塔底部とを有する。この方法は多数の工程を含む。第1の工程は、上記の多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給するものである。第2の工程は、第1の蒸留塔の塔底部から揮発性がNF3より低い成分を取り出すものである。第3の工程は、NF3と揮発性がNF3より高い成分とを含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所より上方の箇所で抜き出すものである。第4の工程は、この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給するものである。第5の工程は、第2の蒸留塔へ第2の供給箇所より上方の箇所で低温の液を供給するものである。第6の工程は、第2の蒸留塔の塔頂部からNF3より揮発性の高い成分を取り出すものである。第7の工程は、第2の蒸留塔の塔底部からNF3の流れを取り出すものである。
【0016】
本発明の第4の態様は、第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い1又は2種以上の成分、及びNF3より揮発性の高い1又は2種以上の成分を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法である。この方法は、第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用し、各蒸留塔は塔頂部と塔底部とを有する。この方法は多数の工程を含む。第1の工程は、上記の多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給するものである。第2の工程は、低温の液を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の第2の供給箇所で供給するものである。第3の工程は、第1の蒸留塔の塔頂部から揮発性がNF3より高い成分を取り出すものである。第4の工程は、NF3を含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所と第2の供給箇所との間の中間の箇所で抜き出すものである。第5の工程は、この混合物を第2の蒸留塔へ第2の蒸留塔の塔頂部で又はその近くで供給するものである。第6の工程は、第2の蒸留塔の塔頂部から蒸気流を取り出すものである。第7の工程は、この蒸気流を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の箇所で供給するものである。第8の工程は、第2の蒸留塔の塔底部からNF3の流れを取り出すものである。第9の工程は、第1の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を取り出すものである。
【0017】
第5の態様は、第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い1又は2種以上の成分、及びNF3より揮発性の高い1又は2種以上の成分を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法である。この方法は、第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用し、各蒸留塔は塔頂部と塔底部とを有する。この方法は多数の工程を含む。第1の工程は、上記の多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の蒸留塔の塔頂部より下方の第1の供給箇所で供給するものである。第2の工程は、第1の蒸留塔又は第2の蒸留塔へ当該第1又は第2の蒸留塔の塔頂部に隣接するところで低温の液を供給するものである。第3の工程は、第1の蒸留塔からNF3を含有している混合物を抜き出すものである。第4の工程は、この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給するものである。第5の工程は、第2の蒸留塔においてこの混合物からNF3を分離するものである。第6の工程は、第2の蒸留塔からNF3の流れを取り出すものである。
【0018】
本発明の上述の種々の態様の変形がいくつかある。例えば、低温の液は、液体窒素、液体アルゴン、液体ヘリウム、及びそれらの混合物からなる群より選ぶことができる。一つの変形では、多成分流体中のNF3の濃度は約5モル%より高い。もう一つの変形では、NF3より揮発性の低い成分は酸化窒素及び/又はフッ化水素を包含し、そしてNF3より揮発性の高い成分は窒素及び/又は酸素を包含する。
【0019】
【発明の実施の形態】
添付の図面を参照して一例として本発明を説明することにする。
【0020】
本発明は、NF3を含有している多成分流体(原料流)からNF3を回収するための方法である。
【0021】
NF3よりも揮発性の成分とそれよりも揮発性の低い成分とを含有しているNF3原料流を、低温(cryogenic temperature)まで冷却しそして随意に凝縮後に、少なくとも2つの蒸留塔を含む蒸留塔装置の第1の蒸留塔へ導入し、そこへは液体の低温流(例えば液体窒素)も導入して、そして(i)NF3よりも揮発性の成分を第1の蒸留塔の塔頂部から取り出し、且つ第1の蒸留塔から原料供給箇所より下方で抜き出されたNF3とそれより揮発性の低い成分とを含有している混合物を第2の蒸留塔へ送り、そこでNF3を塔頂生成物として取り出すか、又は、(ii)NF3よりも揮発性の低い成分を第1の蒸留塔の塔底部から取り出し、且つ第1の蒸留塔から原料供給箇所より上方で抜き出されたNF3とそれよりも揮発性の成分とを含有している混合物を第2の蒸留塔へ送り、そこでNF3を塔底生成物として取り出す。
【0022】
NF3原料流中のより揮発性の成分の例は、窒素及び/又は酸素であり、より揮発性の低い成分の例は亜酸化窒素とフッ化水素である。融点が蒸留装置の運転温度より高い、より揮発性の低いいずれの不純物も、原料流中の濃度を蒸留装置の全ての点においてその溶解度限界未満にあることを保証するレベルまで低下させなくてはならない。より揮発性の低い不純物の濃度を低下させるための典型的な方法には、吸収と吸着が含まれる。例えば、水は、NF3原料流を低温まで冷却する前にそれから除去される。一般に、水は適切な吸着剤での吸着により除去される。この吸着法では、N2Oの含有量とHFの含有量も低下させられる。
【0023】
NF3原料流中のNF3の濃度に制約はないとは言うものの、蒸留法が経済的に魅力的であるためには、NF3原料流中のNF3の濃度はより高い方が好ましい。一般に、NF3原料流中のNF3の濃度は5モル%より高く、好ましくは10モル%より高く、より好ましくは30モル%より高い。
【0024】
低温の液体、例えば液体窒素の如きもの、の導入は、蒸留塔への液体の還流を提供する。(このほかの低温液体、例えば液体アルゴン、液体ヘリウム、あるいはそれらの混合物といったものを、液体窒素の代わりに使用してもよい。)液体窒素は一般に、蒸留塔の塔頂部へ導入される。液体窒素は、NF3よりも揮発性の成分が除かれる蒸留塔へ、すなわち蒸留塔の塔頂部から出てゆく蒸気がNF3の乏しいものであってより揮発性の成分に富んでいるものである蒸留塔へ導入される。
【0025】
このように、オプション(i)では、NF3より揮発性の成分が第1の蒸留塔の塔頂部から取り出される場合に、液体窒素が第1の蒸留塔の塔頂部へ導入される。オプション(ii)では、より揮発性の成分が第2の蒸留塔の塔頂部から取り出される場合に、液体窒素が第2の蒸留塔の塔頂部へ導入される。同様に、オプション(ii)では、より揮発性の成分が第1の蒸留塔の塔頂部から取り出される場合に、液体窒素が第1の蒸留塔の塔頂部へ導入される。好ましい様式においては、液体窒素は蒸留塔の塔頂部へ直接導入され、コンデンサーは使用されない。
【0026】
オプション(i)による本発明の態様を図1に示す。原料流101を第1の蒸留塔103へ導入し、そこでこの原料流を、NF3より揮発性である成分を含有している塔頂蒸気流105と、NF3及びそれより揮発性の低い成分を含有している塔底生成物流107とに分離する。流れ107は第1の蒸留塔103から、液として、又は蒸気として、又は2相流として抜き出される。次に、流れ107は第2の蒸留塔109へ導入され、そこで純粋NF3の塔頂製品流111と、NF3中にそれより揮発性の低い成分が溶解したものを含有している塔底製品流113とに分離される。純粋NF3の塔頂製品流111、又はその一部分は、蒸気又は液として抜き出すことができる。流れ113は、蒸留装置の上流の精製工程(図示せず)、例えば吸着プロセスといったようなものへ、再循環して戻してもよい。
【0027】
第1の蒸留塔103にはリボイラー106があり、一方、第2の蒸留塔109にはリボイラー112とコンデンサー110がある。好ましくは、第1の蒸留塔103にコンデンサーはなく、還流として液体窒素流115が第1の蒸留塔103の塔頂部へ直接導入される。随意に、第1の蒸留塔103にはコンデンサーがあってもよく、そして液体窒素流115を、還流として第1の蒸留塔103の塔頂部へ直接向かうのに代えて、この随意のコンデンサーにおける冷却媒体として使用してもよい。とは言え、この随意の方法は通常は好ましくはない。
【0028】
オプション(i)による本発明のもう一つの態様を図2に示す。これは、NF3より揮発性の低い成分を含有している塔底製品流113を、第1の蒸留塔103(第2の蒸留塔109ではなく)の塔底部から抜き出す点で、先の態様と異なる。流れ113は、蒸留装置の上流の精製工程(図示せず)、例えば吸着プロセスといったようなものへ、再循環して戻してもよい。第2の蒸留塔109への原料流117は、第1の蒸留塔103から側流として抜き出される。原料流117の抜き出し箇所は、原料流101の供給箇所より下方にある。第1の蒸留塔103にはリボイラー106がある。第2の蒸留塔109にはコンデンサー110があるが、リボイラーはない。第2の蒸留塔109からの塔底液流127は第1の蒸留塔103へ戻される。好ましくは、還流として液体窒素流115が第1の蒸留塔103の塔頂部へ直接導入される。随意に、第1の蒸留塔103にはコンデンサー(図示せず)があってもよく、そして液体窒素流115を、還流として第1の蒸留塔103の塔頂部へ直接向かうのに代えて、この随意のコンデンサーにおける冷却媒体として使用してもよい。とは言え、この随意の方法は通常は好ましくはない。
【0029】
オプション(ii)による本発明の態様を図3に示す。原料流101を第1の蒸留塔103へ導入し、そこで原料流を、NF3及びNF3より揮発性の全部の成分を含有している塔頂生成物流137と、NF3及びそれより揮発性の低い成分を含有している塔底生成物流113とに分離する。流れ113は、蒸留装置の上流の精製工程(図示せず)、例えば吸着プロセスといったようなものへ、再循環して戻してもよい。第1の蒸留塔103から、流れ137を蒸気流、液体流、又は2相流として抜き出すことができる。流れ137は第2の蒸留塔109へ導入され、そこで分離して、NF3より揮発性の成分を含有している塔頂生成物流105と純粋NF3の塔底生成物流111にされる。流れ111は液又は蒸気として抜き出すことができる。第1の蒸留塔103にはリボイラー106とコンデンサー108がある。第2の蒸留塔109にはリボイラー112がある。好ましくは、液体窒素流115を還流として第2の蒸留塔109の塔頂部へ直接導入する。随意に、第2の蒸留塔109にはコンデンサー(図示せず)があってもよく、そして液体窒素流115を、還流として第2の蒸留塔109の塔頂部へ直接向かうのに代えて、この随意のコンデンサーにおける冷却媒体として使用してもよい。とは言え、この方法は通常それほど好ましくはない。
【0030】
オプション(ii)による本発明の更にもう一つの態様を図4に示す。それは、第1の蒸留塔103の塔頂部からNF3より揮発性の成分を含有している塔頂生成物流105を抜き出す点で、先の態様(図3)と異なる。第2の蒸留塔109への原料流147は、第1の蒸留塔103から側流として抜き出される。原料流147の抜き出し箇所は、原料流101の箇所より上方に位置している。第1の蒸留塔103にはリボイラー106があり、第2の蒸留塔109にはリボイラー112があるが、どちらにもコンデンサーはない。第2の蒸留塔109からの塔頂蒸気流157は第1の蒸留塔103へ戻される。好ましくは、液体窒素流115を還流として第1の蒸留塔103の塔頂部へ直接導入し、そしてこの塔にはコンデンサーがない。随意に、第1の蒸留塔103にはコンデンサー(図示せず)があってもよく、そして液体窒素115を、還流として第1の蒸留塔103へ直接向かうのに代えて、この随意のコンデンサーにおける冷却媒体として使用してもよい。とは言え、この方法は通常それほど好ましくはない。
【0031】
図4に示した態様についてのコンピュータシミュレーションの例を表1に示す。各塔の区画部分には、8理論段に相当するトレイか充填物のいずれかがある。表中の[]内の数値は、それらの項目について[]内に表示した単位で表した数値である。
【0032】
【表1】
【0033】
本発明は、バッチ蒸留法よりも環境にやさしい連続蒸留法を提供しそしてより大規模な生産にとってむだを省くことになるので、価値があるものである。バッチ蒸留法では、原料と中間製品はそれらを使用するまで貯蔵しておかなくてはならない。生産規模がかなり大きくなると、多数の容器に貯蔵するのが複雑になり、そして多数の貯蔵タンクから大量の物質を移送するのが大変であり、またそれが環境への制御できない放出又は漏出の機会を多くする。同様に、バッチ蒸留塔の頻繁な始動と停止は、製品仕様を満たさずに中間貯蔵器へ移送し再循環させる必要があり且つ環境へたやすく放出されかねない分の物質を多くする。
【0034】
本発明は、三フッ化窒素を精製するための安全で且つ経済的な連続の低温蒸留法を提供する。最高の回収率で、且つフッ素化合物の環境への放出なしに、所望の分離が達成される。液体窒素の直接の還流の使用が、三フッ化窒素が環境へ放出されるのを防止する。また、重質成分とNF3とを含有している流れを連続的に再循環させてプロセスへ戻すことができるので、NF3は環境へ放出されない。本発明の方法の作業性は従来技術の方法のそれよりも優れている。
【0035】
ここでは特定の具体的態様を参照して例示及び説明してはいるが、本発明をここに示した細目に限定しようとするものではない。それどころか、特許請求の範囲に記載された事項と同等のものの範囲内で、且つ本発明の精神から逸脱することなしに、それらの細目に様々な改変を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一態様の模式図である。
【図2】本発明の第2の態様の模式図である。
【図3】本発明の第3の態様の模式図である。
【図4】本発明の第4の態様の模式図である。
【符号の説明】
101…原料流
103…第1の蒸留塔
106、112…リボイラー
109…第2の蒸留塔
108、110…コンデンサー
111…NF3の流れ
115…液体窒素流
Claims (7)
- 第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い成分としての亜酸化窒素及び/又はフッ化水素、及びNF3より揮発性の高い成分としての窒素及び/又は酸素を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法であり、おのおのに塔頂部と塔底部とがある第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用するNF3の回収方法であって、
当該多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給する工程、
第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の箇所で、液体窒素、液体アルゴン、液体ヘリウム及びそれらの混合物からなる群より選ばれる低温の液を還流として供給する工程、
第1の蒸留塔の塔頂部からNF3より揮発性の高い成分を取り出す工程、
NF3及びNF3より揮発性の低い成分を含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所より下方の箇所で抜き出す工程、
この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給する工程、
第2の蒸留塔において当該混合物からNF3を分離する工程、及び
第2の蒸留塔の塔頂部からNF3の流れを取り出す工程、
を含む、多成分流体からNF3を回収する方法。 - 第2の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を含有している流れを取り出す更なる工程を含む、請求項1記載の方法。
- 下記の更なる工程、すなわち
第2の蒸留塔から第2の供給箇所で又はその近くで液の流れを抜き出す工程、
この液の流れを第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より下方の箇所で供給する工程、及び
第1の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を含有している流れを取り出す工程、
を含む、請求項1記載の方法。 - 第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い成分としての亜酸化窒素及び/又はフッ化水素、及びNF3より揮発性の高い成分としての窒素及び/又は酸素を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法であり、おのおのに塔頂部と塔底部とがある第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用するNF3の回収方法であって、
当該多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給する工程、
第1の蒸留塔の塔底部から揮発性がNF3より低い成分を取り出す工程、
NF3及び揮発性がNF3より高い成分を含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所より上方の箇所で抜き出す工程、
この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給する工程、
第2の蒸留塔へ第2の供給箇所より上方の箇所で、液体窒素、液体アルゴン、液体ヘリウム及びそれらの混合物からなる群より選ばれる低温の液を還流として供給する工程、
第2の蒸留塔の塔頂部からNF3より揮発性の高い成分を取り出す工程、及び
第2の蒸留塔の塔底部からNF3の流れを取り出す工程、
を含む、多成分流体からNF3を回収する方法。 - 第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い成分としての亜酸化窒素及び/又はフッ化水素、及びNF3より揮発性の高い成分としての窒素及び/又は酸素を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法であり、おのおのに塔頂部と塔底部とがある第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用するNF3の回収方法であって、
当該多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所で供給する工程、
液体窒素、液体アルゴン、液体ヘリウム及びそれらの混合物からなる群より選ばれる低温の液を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の第2の供給箇所で還流として供給する工程、
第1の蒸留塔の塔頂部から揮発性がNF3より高い成分を取り出す工程、
NF3を含有している混合物を第1の蒸留塔から第1の供給箇所と第2の供給箇所との間の中間の箇所で抜き出す工程、
この混合物を第2の蒸留塔へ第2の蒸留塔の塔頂部で又はその近くで供給する工程、
第2の蒸留塔の塔頂部から蒸気流を取り出す工程、
この蒸気流を第1の蒸留塔へ第1の供給箇所より上方の箇所で供給する工程、
第2の蒸留塔の塔底部からNF3の流れを取り出す工程、及び
第1の蒸留塔の塔底部からNF3より揮発性の低い成分を取り出す工程、
を含む、多成分流体からNF3を回収する方法。 - 第1の揮発性を有するNF3、NF3より揮発性の低い成分としての亜酸化窒素及び/又はフッ化水素、及びNF3より揮発性の高い成分としての窒素及び/又は酸素を含有している多成分流体からNF3を回収するための方法であり、おのおのに塔頂部と塔底部とがある第1の蒸留塔と第2の蒸留塔を使用するNF3の回収方法であって、
当該多成分流体を第1の蒸留塔へ第1の蒸留塔の塔頂部より下方の第1の供給箇所で供給する工程、
第1の蒸留塔又は第2の蒸留塔へ当該第1又は第2の蒸留塔の塔頂部に隣接するところで、液体窒素、液体アルゴン、液体ヘリウム及びそれらの混合物からなる群より選ばれる低温の液を還流として供給する工程、
第1の蒸留塔からNF3を含有している混合物を抜き出す工程、
この混合物を第2の蒸留塔へ第2の供給箇所で供給する工程、
第2の蒸留塔において当該混合物からNF3を分離する工程、及び
第2の蒸留塔からNF3の流れを取り出す工程、
を含む、多成分流体からNF3を回収する方法。 - 前記多成分流体のNF3濃度が5モル%より高い、請求項1から6までのいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/566075 | 2000-05-08 | ||
US09/566,075 US6276168B1 (en) | 2000-05-08 | 2000-05-08 | Purification of nitrogen trifluoride by continuous cryogenic distillation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002012414A JP2002012414A (ja) | 2002-01-15 |
JP3653006B2 true JP3653006B2 (ja) | 2005-05-25 |
Family
ID=24261365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001137222A Expired - Fee Related JP3653006B2 (ja) | 2000-05-08 | 2001-05-08 | 三フッ化窒素の回収方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6276168B1 (ja) |
EP (1) | EP1153884B1 (ja) |
JP (1) | JP3653006B2 (ja) |
KR (1) | KR100398494B1 (ja) |
AT (1) | ATE288876T1 (ja) |
CA (1) | CA2345873C (ja) |
DE (1) | DE60108801T2 (ja) |
ES (1) | ES2237508T3 (ja) |
ZA (1) | ZA200103625B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050016829A1 (en) * | 2003-04-14 | 2005-01-27 | Miller Ralph Newton | Distillation process for reducing the concentration of dinitrogen difluoride and dinitrogen tetrafluoride in nitrogen trifluoride |
RU2272973C1 (ru) * | 2004-09-24 | 2006-03-27 | Салават Зайнетдинович Имаев | Способ низкотемпературной сепарации газа (варианты) |
CN111056540B (zh) * | 2019-12-25 | 2023-09-15 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种电解nf3连续预纯化装置及连续预纯化方法 |
RU2744357C1 (ru) * | 2020-07-14 | 2021-03-05 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки «Федеральный исследовательский центр «Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения Российской академии наук» (Институт катализа СО РАН, ИК СО РАН) | Способ очистки трифторида азота от примеси тетрафторида углерода |
CN112569625A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-03-30 | 中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司 | 一种用于三氟化氮粗品的精馏提纯装置 |
CN113800484A (zh) * | 2021-09-24 | 2021-12-17 | 中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司 | 一种放空尾气中三氟化氮气体的回收设备和回收方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01261208A (ja) | 1988-04-11 | 1989-10-18 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 三弗化窒素ガスの精製方法 |
JPH0798648B2 (ja) | 1990-01-10 | 1995-10-25 | セントラル硝子株式会社 | Nf3ガスの精製方法 |
US5502969A (en) | 1995-02-16 | 1996-04-02 | Praxair Technology, Inc. | Cryogenic rectification system for fluorine compound recovery |
US5626023A (en) | 1995-02-16 | 1997-05-06 | Praxair Technology, Inc. | Cryogenic rectification system for fluorine compound recovery using additive liquid |
JP3532345B2 (ja) * | 1996-05-14 | 2004-05-31 | 日本エア・リキード株式会社 | 超高純度三弗化窒素製造方法及びその装置 |
US5779863A (en) | 1997-01-16 | 1998-07-14 | Air Liquide America Corporation | Perfluorocompound separation and purification method and system |
US6047560A (en) * | 1997-03-12 | 2000-04-11 | Showa Denko K.K. | Process for separating pentafluoroethane and 1,1,1-trifluoroethane |
US5771713A (en) | 1997-08-20 | 1998-06-30 | Praxair Technology, Inc. | Cryogenic rectification system for recovery of fluorine compounds |
US6458249B2 (en) | 1997-11-10 | 2002-10-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for purifying perfluorinated products |
-
2000
- 2000-05-08 US US09/566,075 patent/US6276168B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-01 CA CA002345873A patent/CA2345873C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-05-03 EP EP01110115A patent/EP1153884B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-03 AT AT01110115T patent/ATE288876T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-05-03 KR KR10-2001-0023976A patent/KR100398494B1/ko active IP Right Grant
- 2001-05-03 DE DE60108801T patent/DE60108801T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-03 ES ES01110115T patent/ES2237508T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-04 ZA ZA200103625A patent/ZA200103625B/xx unknown
- 2001-05-08 JP JP2001137222A patent/JP3653006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1153884A1 (en) | 2001-11-14 |
ZA200103625B (en) | 2002-11-04 |
US6276168B1 (en) | 2001-08-21 |
ES2237508T3 (es) | 2005-08-01 |
CA2345873C (en) | 2003-10-28 |
ATE288876T1 (de) | 2005-02-15 |
JP2002012414A (ja) | 2002-01-15 |
DE60108801T2 (de) | 2005-08-04 |
DE60108801D1 (de) | 2005-03-17 |
KR20010104647A (ko) | 2001-11-26 |
KR100398494B1 (ko) | 2003-09-19 |
CA2345873A1 (en) | 2001-11-08 |
EP1153884B1 (en) | 2005-02-09 |
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