JP3632882B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係り、特に半導体チップが配線基板上にフリップチップ実装されている半導体装置及びその半導体チップの配線基板上へのフリップチップ実装方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、パーソナルデジタルセルラーホン、VCR(Video Cassette Recorder)、地上波/衛星放送チューナ等のAV(Audio-Visual)機器において、信号伝送/信号処理/記録のデジタル化が進行している。また、取り扱う情報量も増大化傾向にあり、システムクロックも年々増加する傾向にある。
また、セルラー電話、ISDN(Integrated Services Digital Net )、PC(パーソナルコンピュータ)等の情報通信ネットワーク技術の進展により、様々な機器への高周波通信ブロック、高速シリアルインターフェイス等の搭載が図られている。
【0003】
このようなデジタル化、信号の高速化といったシステムの変化に伴い、半導体チップの実装方法としてもノイズの減少や配線長の短縮が要請されることから、半導体チップをプリント配線板などの配線基板への直接的に実装する、いわゆるべアチップ実装の必要性が高まってきている。
また、機器の小型化、薄型化、軽量化といった観点からも、パッケージを取り去った半導体チップの実装方法の開発が望まれている。
【0004】
このような要請から、半導体チップの実装方法としてマルチチップモジュール(MCM:Multi−Chip一Module)や、フリップチップ実装等のべアチップ実装が注目されている。
特にフリップチップ実装は、通常、半導体チップのI/O(Input /Output)パッド(Pad )上にバンプ(Bump:突起状電極)を形成し、この半導体チップのバンプをフェイスダウンに配線基板の配線パッドにはんだ等によって接続するため、ワイヤーボンディング(Wire Bonding)等を用いて半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接続を行った場合と比較すると、低インダクタンス、低容量で、且つ配線パスが短く形成されるため、高速特性及び高周波特性に優れた特徴を有する。また、半導体チップを安価なガラスエポキシプリント基板等に直接に搭載することが可能になるため、高密度な実装が実現されると共に、コストの低減も実現される。
【0005】
なお、フリップチップ実装の際に半導体チップを搭載する配線基板としては、ガラスエポキシプリント基板等の有機基板や、アルミナ、ムライト等を材料とするセラミック基板、Cu(銅)/ポリイミド配線等を施したSi(シリコン)基板等が代表的なものである。
【0006】
また、従来のフリップチップ実装の例としては、半導体チップの接続パッド上に高融点のはんだバンプを形成し、配線基板の配線層上にはんだプリコートを形成し、これらのはんだバンプとはんだプリコートとを接続するはんだフリップチップ法や、半導体チップの接続パッド上にAu(金)ワイヤーボンディングを用いてAuバンプを形成し、このAuバンプ上にAg(銀)ペーストなどの導電性ペーストを適量転写した後、この導電性ペーストを介してAuバンプを配線基板の配線層上に直接にマウント接続する、いわゆる導電性樹脂を用いるフリップチップ法などがある。
【0007】
このような接続部における金属の溶融等を利用する従来のフリップチップ実装、例えばはんだフリップチップ法を用いるフリップチップ実装における熱的信頼性を、図11を用いて説明する。
図11において、半導体チップ70は、例えばSi基板71の回路面の接続パッド上に高融点のはんだバンプ72が形成されている。また、この半導体チップ70が実装される配線基板73は、ガラスエポキシ樹脂層74上にはんだプリコート75が形成されている。そして、これら半導体チップ70のはんだバンプ72と配線基板73のはんだプリコート75とが溶融されて接続されている。
【0008】
このようなフリップチップ実装における熱的信頼性は、半導体チップ70のはんだバンプ72と配線基板73のはんだプリコート75との接続部にかかる熱ストレスの大きさによって決まる。そして、この熱ストレスは、配線基板73の熱膨張係数と半導体チップ70の熱膨張係数との差、半導体チップ70の大きさ、熱サイクルの温度差、はんだバンプ72とプリコート75との接続部の直径、高さ、体積などの物理的構造によって決まる。
即ち、熱ストレスεFは、
【0009】
【数1】
【0010】
となる。また、ここで、Δαは、
Δα=|α2−α1|
但し、α2:配線基板73の熱膨張係数
α1:半導体チップ70の熱膨張係数
である。
従って、フリップチップ実装における熱的信頼性を確保するには、一般に接続部の高さを高くし、断面積を大きくとることが望ましい。
【0011】
また、配線基板73として例えばガラスエポキシプリント基板を用いた場合の熱膨張係数α2は10〜20×10−6/℃であるのに対し、例えばSi基板からなる半導体チップ70の熱膨張係数α1は3.5×10−6/℃であり、両者の熱膨張係数の差Δαは非常に大きい。このため、通常は半導体チップ70と配線基板73の間隙に樹脂を流入させて封止を行い、接続部にかかるストレスを分散し、緩和させることにより、熱的信頼性の向上を図っている。
【0012】
また、接続部における金属の溶融等を利用するフリップチップ実装法以外に、接着樹脂の接着力による金属間の接触を利用するフリップチップ実装法がある。このようなフリップチップ実装法を図12を用いて説明する。
【0013】
半導体チップ80は、例えばSi基板81の回路面にAl(アルミニウム)配線層82が形成され、このAl配線層82上にAlパッド83を介してAuバンプ84が形成されている。
また、ガラスエポキシ多層配線基板85は、複数のガラスエポキシ樹脂層86の表面、裏面、及び層間にそれぞれCu配線層87が形成されていると共に、その表面のCu配線層87は、Ni(ニッケル)/Auメッキ層88によって被覆されている。
【0014】
そして、このNi/Auメッキ層88によって被覆されたCu配線層87が形成されているガラスエポキシ多層配線基板85上に、例えばUV(紫外線)硬化性や熱収縮性の接着剤樹脂89を塗布する。続いて、このガラスエポキシ多層配線基板85上の接着剤樹脂89を介して、半導体チップ80をそのAuバンプ84が形成されている面を下向きにして圧着する。その後、接着剤樹脂89がUV硬化性樹脂の場合は、紫外線を照射して硬化させ、接着剤樹脂89が熱収縮性樹脂の場合は、加熱して硬化させる。
【0015】
こうして、半導体チップ80のAuバンプ84とガラスエポキシ多層配線基板85のNi/Auメッキ層88によって被覆されたCu配線層87を接触させると共に、この接触を接着剤樹脂89の収縮力を利用して、Auバンプ84とCu配線層87との電気的接続を確保する。
【0016】
なお、上記のような接着剤樹脂の接着力による金属間の接触を利用するフリップチップ実装法においては、配線基板上に接着剤樹脂を介して半導体チップを圧着する際に、半導体チップのバンプと配線基板の接続パッドとの間に接着剤樹脂が残留するため、接続抵抗が増大し、信頼性も低下するといった問題点があるが、こうした問題を解決するものとして、特公平6−82708号に係る半導体装置の製造方法が提案されている。
【0017】
この特公平6−82708号に係る半導体装置の製造方法は、上記のような接着剤樹脂の接着力による金属間の接触を利用するフリップチップ実装法において、配線基板上に接着剤樹脂を介して半導体チップを圧着する際に、先ず第1の樹脂を用い、半導体チップのバンプがこの第1の樹脂によって覆われないようにして配線基板上に半導体チップを固着し、半導体チップのバンプと配線基板の接続パッドとを接触させた後、半導体チップと配線基板との間隔に第2の樹脂を充填するものである。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、半導体集積回路の集積度が高くなるに連れて、取り出す信号線の数は上昇の一途を辿っており、従って半導体チップ周辺の接続パッドのピッチはどんどん減少している。
しかしながら、こうした半導体チップ周辺の接続パッドの狭ピッチ化の傾向に対して、上記従来の接続部における金属の溶融等を利用するはんだフリップチップ法や導電性樹脂を用いるフリップチップ法などのフリップチップ実装法においては、例えばガラスエポキシプリント基板を配線基板として用いる場合、十分な信頼性を確保できる接続部の高さとして70μm〜100μmが必要とされており、この結果、隣接する接続部と短絡することなく形成することができる接続パッドのピッチは約150μm程度が限界とされている。
即ち、半導体チップ周辺の接続パッドのピッチが狭ピッチ化してくると、接続部における金属の溶融等を利用する実装法では、接続部間の短絡などによりフリップチップ実装が困難となるという問題が生じる。
【0019】
また、前述のように、接続部にかかるストレスを分散、緩和させて熱的信頼性の向上を図るのためには、半導体チップと配線基板の間隙に樹脂を流入させて封止を行う必要があるが、この樹脂封止工程においては、接合部周囲にボイドなどが生じて接続部の信頼性を損なう不良が発生し易いという問題も生じる。
【0020】
特に、はんだを用いたフリップチップ実装方法においては、溶剤としてフラックス(Flux)を用いるため、十分な洗浄を行った後に樹脂封止を行う必要があるなど、実装工程が複雑になって時間がかかり、コスト高を招くという問題も生じる。
【0021】
なお、上記従来の接着剤樹脂の接着力による金属間の接触を利用するフリップチップ実装法は、このような接続部における金属の溶融等を利用する上記従来のフリップチップ実装法におけるような諸問題を生じることはない。
【0022】
しかし、こうした接着剤樹脂の接着力による金属間の接触を利用する実装法においては、前述の特公平6−82708号に係る半導体装置の製造方法の場合も含めて、半導体チップのバンプと配線基板の接続パッドとの接続の信頼性が接着剤樹脂の収縮力のみによっているため、特に高湿、高温下において接着剤樹脂の膨張が起きた場合に、接続の信頼性が確保されなくなるという弱点があった。
なお、この弱点を改良するために、例えば接着剤樹脂として架橋密度の高いエポキシ系接着剤樹脂を用いてガラス転移温度を上げることが考えられるが、この場合には接着剤樹脂の弾性率が高くなり固い特性となるため、接着剤樹脂が応力により破壊されるなどクリープ特性が悪化するおそれが生じる。
【0023】
そこで本発明は、上記問題点を鑑みてなされたものであり、接着剤樹脂の接着力による金属間の接触を利用するフリップチップ実装法を採用すると共に、高湿、高温下における接着剤樹脂の膨張に対しても、半導体チップのバンプと配線基板の接続パッドとの接続の信頼性を確保することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、以下の本発明に係る半導体装置及び製造方法により達成される。
即ち、請求項1に係る半導体装置は、半導体チップが樹脂接着剤フィルムを介して配線基板に実装されている半導体装置であって、樹脂接着剤フィルムは、中間層をなす第1の樹脂層が上下の第2の樹脂層及び第3の樹脂層によって挟まれた3層構造をなしており、かつ第1の樹脂層は半導体チップの突起状電極と配線基板の配線パッドとの接触部を取り囲み、第2の樹脂層は第1の樹脂層と半導体チップとの間に配され、第3の樹脂層は第2の樹脂層と配線基板との間に配されており、第2の樹脂層及び第3の樹脂層のガラス転移温度がそれぞれ第1の樹脂層のガラス転移温度より低く、第2の樹脂層及び3の樹脂層の弾性率がそれぞれ第1の樹脂層の弾性率より低いことを特徴とする。
【0025】
このように請求項1に係る半導体装置においては、半導体チップと配線基板との間に介在する樹脂接着剤フィルムが3層構造をなしており、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部を取り囲む第1の樹脂層が相対的に高いガラス転移温度と高い弾性率を有していることにより、その強い接着力/熱収縮力によって半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触を確保するように機能すると共に、たとえ高湿、高温下において樹脂接着剤フィルムの膨張が起きるような場合であっても、第1の樹脂層が対温度ストレスに対して安定して接触部を保持するように機能するため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性が確保される。
【0026】
また、この第1の樹脂層と半導体チップとの間に配された第2の樹脂層が、相対的に低いガラス転移温度と低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層と半導体チップとを接着保持するように機能すると共に、たとえ半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、バンプや配線パッドの根元にかかるストレスを緩和するように機能するため、第1の樹脂層と半導体チップとの密着性が確保される。
【0027】
また、同様に、第1の樹脂層と配線基板との間に配された第3の樹脂層が、相対的に低いガラス転移温度と低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層と配線基板とを接着保持するように機能すると共に、たとえ半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、バンプや配線パッドの根元にかかるストレスを緩和するように機能するため、第1の樹脂層と配線基板との密着性が確保される。
【0028】
従って、このような第1〜第3の樹脂層を有する3層構造の樹脂接着剤フィルムを介して半導体チップが配線基板にフリップチップ実装されていることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの信頼性の高い電気的接続が得られる。
【0029】
また、請求項2に係る半導体装置は、上記請求項1に係る半導体装置において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が、配線基板の配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が分散されている異方性導電膜であり、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部にこれらの導電性微粒子が介在している構成とすることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとがこれらの導電性微粒子を介しての電気的に接続されるため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性が向上する。
【0030】
また、請求項3に係る半導体装置は、上記請求項1に係る半導体装置において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が、熱可塑性樹脂からなる層である構成とすることにより、半導体チップが不良品であった場合等に加熱リワークを行うことが可能になる。
なお、熱可塑性樹脂からなる層とする樹脂層は、第1〜第3の樹脂層のうちのいずれの樹脂層であってもよいが、不良チップを交換して配線基板を再利用したい場合には、配線基板と接着している第3の樹脂層であることが望ましく、また半導体チップを再利用したい場合には、半導体チップと接着している第2の樹脂層であることが望ましい。
【0031】
また、請求項4に係る半導体装置の製造方法は、第1〜第3の樹脂層が積層された3層構造からなり、第1の樹脂層を上下に挟む第2の樹脂層及び第3の樹脂層のガラス転移温度がそれぞれ第1の樹脂層のガラス転移温度より低く、第2の樹脂層及び第3の樹脂層の弾性率がそれぞれ第1の樹脂層の弾性率より低い樹脂接着剤フィルムを、第3の樹脂層を下にして、配線基板上に載置した後、所定の位置合わせを行った半導体チップを樹脂接着剤フィルムを介して配線基板上に熱圧着する際に、配線基板のガラス転移温度をTg、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度をTaとすると、熱圧着条件が、
Ta≦Tg
を満足することを特徴とする。
【0032】
このように請求項4に係る半導体装置の製造方法においては、半導体チップを樹脂接着剤フィルムを介して配線基板上に熱圧着する際に、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度Taが配線基板のガラス転移温度Tgよりも低温になるか又は等温になることにより、熱圧着の際の配線基板への応力が樹脂接着剤フィルムによって緩和されるため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの信頼性の高い電気的接続が得られる。
【0033】
また、請求項5に係る半導体装置の製造方法は、上記請求項4に係る半導体装置の製造方法において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を、配線基板の配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が分散されている異方性導電膜とし、半導体チップを樹脂接着剤フィルムを介して配線基板上に熱圧着する際に、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に導電性微粒子を介在させる構成とすることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとがこれらの導電性微粒子を介して電気的に接続されるため、バンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性が向上する。
【0034】
また、請求項6に係る半導体装置の製造方法は、上記請求項4に係る半導体装置の製造方法において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を、熱可塑性樹脂からなる層とする構成とすることにより、半導体チップが不良品であった場合等に加熱リワークを行うことが可能になる。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。
(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態に係る半導体装置、即ち半導体チップが配線基板上にフリップチップ実装されている半導体装置を示す断面図、図2は半導体チップを配線基板上にフリップチップ実装する際に半導体チップと配線基板との間に介在させる樹脂接着剤フィルムを示す断面図である。
【0036】
図1に示されるように、本実施形態に係る半導体装置は、半導体チップ10が例えばガラスエポキシ多層配線基板20上に樹脂接着剤フィルム30を介してフリップチップ実装されている。
ここで、半導体チップ10は、例えばSi基板11の回路面にAl配線層12が形成され、このAl配線層12の所定の位置に設けられたAlパッド上にバリアメタル層13が形成されている。そして、Al配線層12及びバリアメタル層13を覆っている絶縁膜14の開口部を介して、バリアメタル層13上にAuバンプ15が形成されている。
【0037】
また、ガラスエポキシ多層配線基板20は、FR−4などの複数のガラスエポキシ樹脂層21の表面、裏面、及び層間にそれぞれCu配線層22が形成されている。そして、ガラスエポキシ樹脂層21表面のCu配線層22は、Ni/Auメッキ層23によって被覆されている。そして、このCu配線層22を被覆するNi/Auメッキ層23を形成する方法としては、無電解メッキ又は電解メッキのいずれのメッキ法を用いてもよい。なお、このガラスエポキシ多層配線基板20のガラス転移温度は、130℃〜150℃とする。
【0038】
更に、樹脂接着剤フィルム30は、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部を取り囲んで保持する第1の樹脂層31と、この第1の樹脂層31と半導体チップ10との間に配され、両者を接着保持する第2の樹脂層32と、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20との間に配され、両者を接着保持する第3の樹脂層33とを有する3層構造をなしている。
【0039】
この樹脂接着剤フィルム30について更に詳しく説明する。
図2に示されるように、この樹脂接着剤フィルム30は、中間層をなす第1の樹脂層31が上下の第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33によって挟まれた3層構造をなしている。そして、第1の樹脂層31としては、例えばビスフェノ一ル系エポキシ等の主剤にフィラー等を添加したものであって、ガラス転移温度が130℃より高く、且つ弾性率が2.5MPa以上の特性の樹脂を用いている。また、第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33としては、例えばビスフェノ一ル系エポキシ樹脂を主剤とする樹脂にゴム系樹脂等を配合し、イミダゾールなど速硬化性の硬化剤を添加したものであって、ガラス転移温度が80℃〜130℃であり、且つ弾性率が2.5MPa以下の特性の樹脂を用いている。
即ち、樹脂接着剤フィルム30が第1〜第3の樹脂層31、32、33からなる3層構造をなしており、第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33のガラス転移温度がそれぞれ第1の樹脂層31のガラス転移温度より低く、且つ第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33の弾性率がそれぞれ第1の樹脂層31の弾性率より低くなっている点に特徴がある。
【0040】
次に、図1の半導体装置の製造方法を、図3〜図6を用いて説明する。ここで、図3は図2の樹脂接着剤フィルムの製造方法を説明するための概略図、図4は半導体チップのバンプの形成を説明するための工程断面図、図5は図2の樹脂接着剤フィルムの配線基板上への張り付けを説明するための工程断面図、図6は図2の樹脂接着剤フィルムを介しての半導体チップの配線基板上へのフリップチップ実装を説明するための工程断面図である。なお、上記図1及び図2に示す構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0041】
先ず、図2に示す樹脂接着剤フィルム30の製造方法について説明する。
図3に示されるように、容器40内のビスフェノ一ル系エポキシ等の主剤にフィラー等を添加した第1のエポキシ合成剤41に所定の圧力を加えて、スリット状の開口部から射出した後、この第1のエポキシ合成剤41を2対の成形ローラ42、43にかける。こうして、ガラス転移温度が130℃より高く且つ弾性率が2.5MPa以上の特性をもつ第1の樹脂層31に成形する。
【0042】
また、容器44内のビスフェノ一ル系エポキシ樹脂を主剤とする樹脂にゴム系樹脂等を配合し、硬化剤としてイミダゾールなど速硬化性の硬化剤を添加した第2のエポキシ合成剤45に所定の圧力を加えて、スリット状の開口部から射出した後、この第2のエポキシ合成剤45を2対の成形ローラ46、47によりガラス転移温度が80℃〜130℃であり且つ弾性率が2.5MPa以下の特性をもつ第2の樹脂層32に成形する。
【0043】
同様にして、容器48内のビスフェノール系エポキシ樹脂を主剤とする樹脂にゴム系樹脂等を配合し、硬化剤としてイミダゾールなど速硬化性の硬化剤を添加した第3のエポキシ合成剤49に所定の圧力を加えて、スリット状の開口部から射出した後、この第3のエポキシ合成剤49を2対のローラ50、51によりガラス転移温度が80℃〜130℃であり且つ弾性率が2.5MPa以下の特性をもつ第3の樹脂層33に成形する。
【0044】
続いて、これら第1〜第3の樹脂層31、32、33の各々特性の異なる3枚の樹脂層を、一対の圧着ローラ52を用いて、第1の樹脂層31を中間に挟んで重ね合わせ、圧着する。その後、この一対の圧着ローラ52により圧着された第1〜第3の樹脂層31、32、33を乾燥機53を用いて乾燥する。なお、この乾燥機53は、圧着された第1〜第3の樹脂層31、32、33を搬送する複数個の搬送ローラ54と、この複数個の搬送ローラ54によって搬送される第1〜第3の樹脂層31、32、33を上方及び下方から加熱する複数個の加熱ランプ55から構成される。
【0045】
続いて、乾燥機53により乾燥された第1〜第3の樹脂層31、32、33を一対の成型/圧着ローラ56を用いて成型/圧着し、第2の樹脂層32、第1の樹脂層31、及び第3の樹脂層33が順に積層された3層構造の樹脂接着剤フィルム30を形成する。その後、この樹脂接着剤フィルム30を巻取り装置57に巻き取る。
【0046】
このようにして、図2に示されるような、中間層をなす第1の樹脂層31が上下の第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33によって挟まれた3層構造をなす樹脂接着剤フィルム30が形成される。
【0047】
次いで、半導体チップ10のAuバンプ15の形成について説明する。
図4に示されるように、Si基板11表面に所定の集積回路を形成した後、この回路面にAl配線層12を形成して配線を行う。更にこのAl配線層12の所定の位置に設けられたAlパッド上にバリアメタル層13を形成した後、基体全面を覆うように絶縁膜14を形成する。
続いて、例えばリソグラフィ技術を用いて、バリアメタル層13上の絶縁膜14を選択的に除去し、開口部を形成する。更に、この絶縁膜14の開口部を介して、例えばメッキ法を用いて、バリアメタル層13上にAuバンプ15を形成する。
このようにして、半導体チップ10のSi基板11の回路面に形成されたAl配線層12の所定の位置に設けられたAlパッド上に、バリアメタル層13を介して、Auバンプ15が形成される。
【0048】
次いで、ガラスエポキシ多層配線基板20上への樹脂接着剤フィルム30の張り付けについて説明する。
図5に示されるように、Ni/Auメッキ層23によって覆われているCu配線層22がガラスエポキシ樹脂層21表面に形成されているガラスエポキシ多層配線基板20上に、上記図2に示される3層構造の樹脂接着剤フィルム30を、その第3の樹脂層33を下にして載置する。そして、エポキシ樹脂からなる樹脂接着剤フィルム30の硬化反応率が5%〜10%以下となるような温度、例えば80℃〜120℃において軽く圧着を行う。
こうして、ガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22を被覆しているNi/Auメッキ層23の最上端部が、3層構造の樹脂接着剤フィルム30の中間層をなす第1の樹脂層31中に位置するように、仮圧着する。
【0049】
次いで、樹脂接着剤フィルム30を介した半導体チップ10のガラスエポキシ多層配線基板20へのフリップチップ実装について説明する。
【0050】
樹脂接着剤フィルム30が仮圧着されたガラスエポキシ多層配線基板20上方において、上記図4に示される半導体チップ10の位置合わせを行う。即ち、半導体チップ10の回路面を下にして、半導体チップ10の各Auバンプ15がガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって覆われた各Cu配線層22に対応するように位置合わせを行う。
【0051】
続いて、図6に示されるように、この位置合わせを行った半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム30を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する。こうして、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部は、3層構造の樹脂接着剤フィルム30の中間層をなす第1の樹脂層31に取り囲まれることになる。また、この第1の樹脂層31と半導体チップ10との間には第2の樹脂層32が配され、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20との間には第3の樹脂層33が配されることになる。
なお、このときの熱圧着条件は、加熱圧着温度を150℃〜250℃、圧着圧力を5g〜l00g/バンプに設定し、圧着時間は圧着温度によって変動するが通常1、2秒〜3分程度として、樹脂接着剤フィルム30の硬化反応率が少なくとも80%以上となるよう設定する。
【0052】
従って、有機材料基板であるガラスエポキシ多層配線基板20のガラス転移温度をTg、3層構造の樹脂接着剤フィルム30のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度、即ち第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33のガラス転移温度をTa、加熱圧着温度をTbとすると、半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム30を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する際の温度条件は、
Ta≦Tg≦Tb
を満足することになる。
【0053】
このように、本実施形態によれば、半導体チップ10がベアチップとしてガラスエポキシ多層配線基板20上にダイレクトで実装されるため、ガラスエポキシ多層配線基板20の高密度化、コンパクト化を達成することが可能になる。
【0054】
また、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22とを電気的に接続する原理が、従来のはんだフリップチップ法等の場合のように金属の溶融等によるものではなく、樹脂接着剤フィルム30の接着力/熱収縮力による金属間の接触によるものであることから、Auバンプ15とNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部における熱的信頼性は金属疲労断裂モードによって支配されず、その接触部の微細化が可能になると共に、微細化した接触部の熱的信頼性が非常に高くなる。このため、半導体チップ10のAuバンプ15間の間隔、即ちパッドピッチが狭ピッチ化しても、Auバンプ15間の短絡を生じるころなく、高い歩留りでフリップチップ実装することが可能になり、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との接続部の寄生成分の低下による信号の高速化や低ノイズ化を実現することが可能になる。
【0055】
また、従来のはんだフリップチップ法などと異なり、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との接続の際にフラックスを用いないため、洗浄工程が不要になるのみならず、接続後の樹脂封止工程も不要になることから、クリーンかつ簡素な工程でフリップチップ実装を完結することができるため、製造コストの低下を実現することができる。
【0056】
そして、以上のような半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22とを電気的に接続する原理が樹脂接着剤フィルム30の接着力/熱収縮力による金属間の接触によることに基づく効果のみならず、この樹脂接着剤フィルム30が、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部を取り囲んで保持する第1の樹脂層31と、この第1の樹脂層31と半導体チップ10との間に配され、両者を接着保持する第2の樹脂層32と、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20との間に配され、両者を接着保持する第3の樹脂層33とを有する3層構造をなしていることにより、次のような効果を奏することができる。
【0057】
即ち、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部を取り囲んで保持する第1の樹脂層31が、130℃よりも高いガラス転移温度と2.5MPa以上の弾性率を有していることにより、その強い接着力/熱収縮力によってAuバンプ15とNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触を確保すると共に、たとえ高湿、高温下において樹脂の膨張が起きるような場合であっても、対温度ストレスに対して安定して接触部を保持することが可能になるため、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との電気的接続の信頼性を十分に確保することができる。
【0058】
また、この第1の樹脂層31と半導体チップ10との間に配され、両者を接着保持する第2の樹脂層32が、80℃〜130℃という相対的に低いガラス転移温度と2.5MPa以下という相対的に低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層31と半導体チップ10とを接着保持すると共に、たとえ半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、Auバンプ15やCu配線層22の根元にかかるストレスを緩和することが可能になるため、第1の樹脂層31と半導体チップ10との密着性を十分に確保することができる。
【0059】
また、同様に、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20との間に配され、両者を接着保持する第3の樹脂層33が、80℃〜130℃という相対的に低いガラス転移温度と2.5MPa以下という相対的に低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20とを接着保持すると共に、たとえ半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、Auバンプ15やCu配線層22の根元にかかるストレスを緩和することが可能になるため、第1の樹脂層31とガラスエポキシ多層配線基板20との密着性を十分に確保することができる。
従って、このような第1〜第3の樹脂層31、32、33を有する3層構造の樹脂接着剤フィルム30を介して半導体チップ10がガラスエポキシ多層配線基板20にフリップチップ実装されていることにより、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との信頼性の高い電気的接続を得ることができる。
【0060】
また、ガラスエポキシ多層配線基板20のガラス転移温度をTg、3層構造の樹脂接着剤フィルム30のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度、即ち第2の樹脂層32及び第3の樹脂層33のガラス転移温度をTa、加熱圧着温度をTbとすると、半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム30を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する際の温度条件が、
Ta≦Tg≦Tb
を満足することにより、半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム30を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する際に、ガラスエポキシ多層配線基板20への応力が樹脂接着剤フィルム30によって緩和されるため、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との信頼性の高い電気的接続を得ることができる。
【0061】
(第2の実施形態)
図7は本発明の第2の実施形態に係る半導体装置、即ち半導体チップが配線基板上にフリップチップ実装されている半導体装置を示す断面図、図8は半導体チップと配線基板との間に介在させる樹脂接着剤フィルムを示す断面図である。なお、上記図1に示す半導体装置の構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0062】
本実施形態に係る半導体装置は、上記第1の実施形態に係る半導体装置における樹脂接着剤フィルムを構成する一部の樹脂層が、多数の導電性粒子が分散されて異方性導電膜となっている点に特徴がある。
即ち、図7に示されるように、本実施形態に係る半導体装置は、Si基板11の回路面のAl配線層12の所定の位置に設けられたAlパッド上にバリアメタル層13を介してAuバンプ15が形成されている半導体チップ10が、ガラスエポキシ樹脂層21表面のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22が形成されているガラスエポキシ多層配線基板20上に、樹脂接着剤フィルム60を介して、フリップチップ実装されている。
【0063】
ここで、樹脂接着剤フィルム60は、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部を取り囲んで保持する第1の樹脂層61と、この第1の樹脂層61と半導体チップ10との間に配され、両者を接着保持する第2の樹脂層62と、第1の樹脂層61とガラスエポキシ多層配線基板20との間に配され、両者を接着保持する第3の樹脂層63とを有する3層構造をなしていると共に、この最下層の第3の樹脂層63中に多数の導電粒子64が分散されており、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22とは複数の導電粒子64を介して接触している。
【0064】
この樹脂接着剤フィルム60について更に詳しく説明する。
図8に示されるように、この樹脂接着剤フィルム60は、中間層をなす第1の樹脂層61が上下の第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63によって挟まれた3層構造をなしている。そして、これら第1〜第3の樹脂層61、62、63は、それぞれ上記第1の実施形態における樹脂接着剤フィルム30の第1〜第3の樹脂層31、32、33と同様の材料からなっている。従って、上記第1の実施形態の場合と同様に、第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63のガラス転移温度がそれぞれ第1の樹脂層61のガラス転移温度より低く、且つ第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63のの弾性率がそれぞれ第1の樹脂層61の弾性率より低くなっている点に特徴がある。
【0065】
更に、この特徴に加えて、樹脂接着剤フィルム30の最下層の第3の樹脂層63中に多数の導電粒子64が分散されて、異方性導電膜となっている点に本実施形態の特徴がある。
【0066】
また、第3の樹脂層63中に多数の導電粒子64が分散されている導電粒子64は、NiやAuなどがメッキされたプラスチックボール(Plastic Ball)や、Ni、はんだ、Mo(モリブデン)、Ag(銀)などの粒子からなり、その粒径がガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22の幅よりも小さい1μm〜50μm程度のものが用いられる。
【0067】
なお、ここでは、樹脂接着剤フィルム60の最下層である第3の樹脂層63が多数の導電性粒子64が分散されている異方性導電膜となっているが、異方性導電膜となる樹脂層は第3の樹脂層63に限定されるものではなく、最上層の第2の樹脂層62であってもよいし、中間層の第1の樹脂層61であってもよい。いずれの樹脂層に導電性粒子を分散して異方性導電膜とするかは、半導体チップのバンプの構造や配線基板の配線層の形状により決定すればよい。また、異方性導電膜となる樹脂層は1層に限る必要もない。
【0068】
次に、図7の半導体装置の製造方法を、図9及び図10を用いて説明する。ここで、図9は図8の樹脂接着剤フィルムの配線基板上への張り付けを説明するための工程断面図、図10は図8の樹脂接着剤フィルムを介しての半導体チップの配線基板上へのフリップチップ実装を説明するための工程断面図である。なお、樹脂接着剤フィルムの製造方法を説明するための概略図及び半導体チップのバンプの形成を説明するための工程断面図はそれぞれ上記図3及び図4と略同様であるため、図示を省略する。また、上記図3〜図6に示す構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0069】
先ず、図8に示す樹脂接着剤フィルム60の製造方法について説明する。
この樹脂接着剤フィルム60の製造方法は、上記第1の実施形態において図3を用いて説明したものと略同様である。即ち、ビスフェノ一ル系エポキシ等の主剤にフィラー等を添加した第1のエポキシ合成剤をスリット状の開口部から射出し、成形ローラにかけ、ガラス転移温度が130℃より高く且つ弾性率が2.5MPa以上の特性をもつ第1の樹脂層61に成形する。また、ビスフェノ一ル系エポキシ樹脂を主剤とする樹脂にゴム系樹脂等を配合し、硬化剤としてイミダゾールなど速硬化性の硬化剤を添加した第2のエポキシ合成剤及び第3のエポキシ合成剤をスリット状の開口部から射出し、成形ローラにかけ、ガラス転移温度が80℃〜130℃であり且つ弾性率が2.5MPa以下の特性をもつ第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63にそれぞれ成形する。
但し、このとき、第3の樹脂層63の材料となる第3のエポキシ合成剤中に多数の導電粒子64を添加することにより、これらの導電粒子64が第3の樹脂層63中に分散されるようにする点が、上記第1の実施形態の場合と異なる特徴である。
【0070】
続いて、これら第1〜第3の樹脂層61、62、63の各々特性の異なる3枚の樹脂層を、圧着ローラにより第1の樹脂層61を中間に挟んで重ね合わせて圧着した後、乾燥機を用いて乾燥し、更に成型/圧着ローラにより成型/圧着し、第2の樹脂層62、第1の樹脂層61、及び第3の樹脂層63が順に積層された3層構造の樹脂接着剤フィルム60を形成する。
【0071】
このようにして、図8に示されるような、中間層をなす第1の樹脂層61が上下の第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63によって挟まれた3層構造をなすと共に、第3の樹脂層63中に多数の導電粒子64が分散されている樹脂接着剤フィルム60が形成される。
【0072】
次いで、半導体チップ10のAuバンプ15の形成についてであるが、その内容は上記第1の実施形態において図4を用いて説明したものと全く同様であるため、説明を省略する。
【0073】
次いで、ガラスエポキシ多層配線基板20上への樹脂接着剤フィルム60の張り付けについて説明する。
図9に示されるように、Ni/Auメッキ層23によって覆われたCu配線層22がガラスエポキシ樹脂層21表面に形成されているガラスエポキシ多層配線基板20上に、上記図8に示される3層構造の樹脂接着剤フィルム60を、多数の導電粒子64が分散されている第3の樹脂層63を下にして載置する。そして、エポキシ樹脂からなる樹脂接着剤フィルム60の硬化反応率が5%〜10%以下となるような温度、例えば80℃〜120℃において軽く圧着を行う。
このようにして、ガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22を被覆しているNi/Auメッキ層23の最上端部が3層構造の樹脂接着剤フィルム60の中間層をなす第1の樹脂層61中に位置すると共に、Ni/Auメッキ層23上面上に複数の導電粒子64が載置されるように、仮圧着する。
【0074】
次いで、半導体チップ10の樹脂接着剤フィルム60を介したガラスエポキシ多層配線基板20へのフリップチップ実装について説明する。
図10に示されるように、3層構造の樹脂接着剤フィルム60が仮圧着されたガラスエポキシ多層配線基板20上方において、半導体チップ10の位置合わせを行った後、この位置合わせを行った半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム60を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する。
【0075】
こうして、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22とが複数の導電粒子64を介して接触すると共に、この接触部は3層構造の樹脂接着剤フィルム60の中間層をなす第1の樹脂層61に取り囲まれることになる。また、この第1の樹脂層61と半導体チップ10との間には第2の樹脂層62が配され、第1の樹脂層61とガラスエポキシ多層配線基板20との間には第3の樹脂層63が配されることになる。
【0076】
なお、このときの熱圧着条件は、加熱圧着温度を150℃〜250℃、圧着圧力を5g〜l00g/バンプに設定し、圧着時間は圧着温度によって変動するが通常1、2秒〜3分程度として、樹脂接着剤フィルム60の硬化反応率が少なくとも80%以上となるよう設定する。
【0077】
従って、有機材料基板であるガラスエポキシ多層配線基板20のガラス転移温度をTg、3層構造の樹脂接着剤フィルム60のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度、即ち第2の樹脂層62及び第3の樹脂層63のガラス転移温度をTa、加熱圧着温度をTbとすると、半導体チップ10を樹脂接着剤フィルム60を介してガラスエポキシ多層配線基板20上に熱圧着する際の温度条件は、
Ta≦Tg≦Tb
を満足することになる。
【0078】
このように、本実施形態によれば、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22とを電気的に接続する原理が樹脂接着剤フィルム60の接着力/熱収縮力による金属間の接触によると共に、この樹脂接着剤フィルム60が第1〜第3の樹脂層61、62、63からなる3層構造をなしており、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22との接触部を取り囲んで保持する第1の樹脂層61が相対的に高いガラス転移温度と相対的に高い弾性率を有し、この第1の樹脂層61と半導体チップ10とを接着保持する第2の樹脂層62が相対的に低いガラス転移温度と相対的に低い弾性率を有し、第1の樹脂層61とガラスエポキシ多層配線基板20とを接着保持する第3の樹脂層63が相対的に低いガラス転移温度と相対的に低い弾性率を有していることにより、上記第1の実施形態の場合と同様の効果を奏することができる。
【0079】
また、樹脂接着剤フィルム60の最下層の第3の樹脂層63が、多数の導電性粒子64が分散されている異方性導電膜となっていることにより、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のNi/Auメッキ層23によって被覆されているCu配線層22とが複数の導電粒子64を介して接触することになるため、半導体チップ10のAuバンプ15とガラスエポキシ多層配線基板20のCu配線層22との電気的接続の信頼性を更に向上させることができる。
【0080】
なお、上記第1及び第2の実施形態においては、半導体チップ10のAlパッド上にバリアメタル層13を介してAuバンプ15を形成する際にメッキ法を用いているが、半導体チップのバンプ形成方法はメッキ法に限定されるものではない。例えば半導体チップのパッド上にAu又はその合金からなるワイヤ(Wire)を加熱・溶融してボールを形成し、更に超音波を印加しながら加熱・圧着した後、上方に引きちぎり、続いて上方から金属等で叩いてレベリングして、逆さマッシュルーム型のいわゆるボ−ルバンプを形成してもよい。
【0081】
また、上記第1及び第2の実施形態においては、配線基板としてガラスエポキシ多層配線基板20を使用しているが、このガラスエポキシ多層配線基板20の代わりに、例えばセラミック多層基板やSi配線基板などを使用してもよく、本発明は配線基板の材質に拘るものではない。
【0082】
また、上記第1及び第2の実施形態においては、樹脂接着剤フィルム30、60の第1の樹脂層31、61として、ビスフェノ一ル系エポキシ等の主剤にフィラー等を添加したものを用い、第2の樹脂層32、62及び第3の樹脂層33、63として、ビスフェノ一ル系エポキシ樹脂を主剤とする樹脂にゴム系樹脂等を配合し、イミダゾールなど速硬化性の硬化剤を添加したものを用いているが、樹脂接着剤フィルム30、60の材料はこれらに限定されるものではない。
【0083】
例えば樹脂接着剤フィルムの第1の樹脂層として、多官能基エポキシ樹脂、例えばビスフェノ一ル系エポキシ樹脂にグリシルエーテル、スルホン酸などの官能基を合成し、硬化剤としてイミダゾールの他、有機酸無水物等を添加したものを用いていてもよいし、また上記のエポキシ樹脂にシリカ、セラミック粉等を添加したものを用いていてもよい。また、第2の樹脂層及び第3の樹脂層として、高架橋密度エポキシ樹脂、例えばビスフェノ一ル系エポキシ樹脂にウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の変性アクリル系樹脂を添加し、硬化剤としてイミダゾール等を添加したものを用いていてもよいし、またエラストマー系エポキシ樹脂、例えばビスフェノ一ル系エポキシ樹脂にクロロプロピレンゴム系エラストマーを添加し、硬化剤としてイミダゾール等を添加したものを用いていてもよい。
【0084】
更に、上記第1及び第2の実施形態において、3層構造をなす樹脂接着剤フィルム30、60の第1の樹脂層31、61、第2の樹脂層32、62、第3の樹脂層33、63のうちの、少なくとも1層を熱可塑性樹脂からなる層とすることが望ましい。
【0085】
この熱可塑性樹脂からなる層とする樹脂層は、いずれの樹脂層であってもよいが、半導体チップ10が不良品であって、この不良チップを交換してガラスエポキシ多層配線基板20の再利用を図りたい場合には、ガラスエポキシ多層配線基板20と接着している第3の樹脂層33、63を熱可塑性樹脂からなる層とすることが好適である。また、半導体チップ10の再利用を図りたい場合には、半導体チップ10と接着している第2の樹脂層32、62を熱可塑性樹脂からなる層とすることが好適である。
【0086】
このようにして、半導体チップが不良品であった場合等に加熱リワークを行うことが可能になるため、従来困難であった、高信頼性の接続と加熱リワークとが両立するフリップチップ実装技術を達成することができる。
【0087】
【発明の効果】
以上、詳細に説明した通り、本発明に係る半導体装置及び製造方法によれば、次のような効果を奏することができる。
即ち、請求項1に係る半導体装置によれば、半導体チップが配線基板に実装されている半導体装置において、半導体チップと配線基板との間に介在する樹脂接着剤フィルムが第1〜第3の樹脂層からなる3層構造をなしており、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部を取り囲む中間層をなす第1の樹脂層が相対的に高いガラス転移温度と高い弾性率を有していることにより、その強い接着力/熱収縮力によって半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触を確保することができると共に、たとえ高湿、高温下において樹脂の膨張が起きるような場合であっても、第1の樹脂層が対温度ストレスに対して安定して接触部を保持するため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性を確保することができる。
【0088】
また、第1の樹脂層と半導体チップとの間に配された第2の樹脂層が、相対的に低いガラス転移温度と低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層と半導体チップとを接着保持することができると共に、たとえ半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、バンプや配線パッドの根元にかかるストレスを緩和するため、第1の樹脂層と半導体チップとの密着性を確保することができる。
【0089】
また、第1の樹脂層と配線基板との間に配された第3の樹脂層が、相対的に低いガラス転移温度と低い弾性率を有していることにより、第1の樹脂層と配線基板とを接着保持することができると共に、たとえ半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に熱的応力が加わるような場合であっても、バンプや配線パッドの根元にかかるストレスを緩和するため、第1の樹脂層と配線基板との密着性を確保することができる。
従って、このような第1〜第3の樹脂層を有する3層構造の樹脂接着剤フィルムを介して半導体チップが配線基板にフリップチップ実装されていることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの信頼性の高い電気的接続を得ることが可能になる。
【0090】
また、請求項2に係る半導体装置によれば、上記請求項1に係る半導体装置において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が配線基板の配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が分散されている異方性導電膜であり、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部にこれらの導電性微粒子が介在していることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとがこれらの導電性微粒子を介して電気的に接続されるため、バンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性を向上することができる。
【0091】
また、請求項3に係る半導体装置によれば、上記請求項1に係る半導体装置において、樹脂接着剤フィルムの前記第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が熱可塑性樹脂からなる層であることにより、半導体チップが不良品であった場合等に加熱リワークを行うことが可能になる。従って、従来は困難であった、高信頼性の接続と加熱リワークとが両立するフリップチップ実装技術を達成することができる。
【0092】
また、請求項4に係る半導体装置の製造方法によれば、第1〜第3の樹脂層が積層された3層構造からなり、第1の樹脂層を上下に挟む第2の樹脂層及び第3の樹脂層のガラス転移温度がそれぞれ第1の樹脂層のガラス転移温度より低く、第2の樹脂層及び第3の樹脂層の弾性率がそれぞれ第1の樹脂層の弾性率より低い樹脂接着剤フィムルを介して、半導体チップを配線基板状に熱圧着する際に、配線基板のガラス転移温度Tgと樹脂接着剤フィムルの第1〜第3の樹脂層のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度Taとの関係が、
Ta≦Tg
を満足することにより、熱圧着の際の配線基板への応力が樹脂接着剤フィルムによって緩和されるため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの信頼性の高い電気的接続を得ることができる。
【0093】
また、請求項5に係る半導体装置の製造方法によれば、上記請求項4に係る半導体装置の製造方法において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を配線基板の配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が分散されている異方性導電膜とし、半導体チップを樹脂接着剤フィルムを介して配線基板上に熱圧着する際に、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの接触部に導電性微粒子を介在させることにより、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとがこれらの導電性微粒子を介して電気的に接続されるため、半導体チップのバンプと配線基板の配線パッドとの電気的接続の信頼性を向上することができる。
【0094】
また、請求項6に係る半導体装置の製造方法によれば、上記請求項4に係る半導体装置の製造方法において、樹脂接着剤フィルムの第1〜第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を熱可塑性樹脂からなる層とすることにより、半導体チップが不良品であった場合等に加熱リワークを行うことが可能になる。従って、従来は困難であった、高信頼性の接続と加熱リワークとが両立するフリップチップ実装技術を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置、即ち半導体チップが配線基板上にフリップチップ実装されている半導体装置を示す断面図である。
【図2】半導体チップを配線基板上にフリップチップ実装する際に、半導体チップと配線基板との間に介在させる樹脂接着剤フィルムを示す断面図である。
【図3】図2の樹脂接着剤フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【図4】半導体チップのバンプの形成を説明するための工程断面図である。
【図5】図2の樹脂接着剤フィルムの配線基板上への張り付けを説明するための工程断面図である。
【図6】図2の樹脂接着剤フィルムを介しての半導体チップの配線基板上へのフリップチップ実装を説明するための工程断面図である。
【図7】本発明の第2の実施形態に係る半導体装置、即ち半導体チップが配線基板上にフリップチップ実装されている半導体装置を示す断面図である。
【図8】半導体チップを配線基板上にフリップチップ実装する際に、半導体チップと配線基板との間に介在させる樹脂接着剤フィルムを示す断面図である。
【図9】図8の樹脂接着剤フィルムの配線基板上への張り付けを説明するための工程断面図である。
【図10】図8の樹脂接着剤フィルムを介しての半導体チップの配線基板上へのフリップチップ実装を説明するための工程断面図である。
【図11】従来のはんだフリップチップ法を用いて実装した半導体装置を示す断面図である。
【図12】従来の接着樹脂の接着力による金属間の接触を利用してフリップチップ実装した半導体装置を示す断面図である。
【符号の説明】
10…半導体チップ、11…Si基板、12…Al配線層、13…バリアメタル層、14…絶縁膜、15…Auバンプ、20…ガラスエポキシ多層配線基板、21…ガラスエポキシ樹脂層、22…Cu配線層、23…Ni/Auメッキ層、30…樹脂接着剤フィルム、31…第1の樹脂層、32…第2の樹脂層、33…第3の樹脂層、40…容器、41…第1のエポキシ合成剤、42、43…1対の成形ローラ、44…容器、45…第2のエポキシ合成剤、46、47…1対の成形ローラ、48…容器、49…第3のエポキシ合成剤、50、51…1対の成形ローラ、52…一対の圧着ローラ、53…乾燥機、54…搬送ローラ、55…加熱ランプ、56…一対の成型/圧着ローラ、57…巻取り装置、60…樹脂接着剤フィルム、61…第1の樹脂層、62…第2の樹脂層、63…第3の樹脂層、64…導電粒子、70…半導体チップ、71…はんだバンプ、72…配線基板、73…はんだプリコート、80…半導体チップ、81…Si基板、82…Al配線層、83…Alパッド、84…Auバンプ、85…ガラスエポキシ多層配線基板、86…ガラスエポキシ樹脂層、87…Cu配線層、88…Ni/Auメッキ層、89…接着樹脂。
Claims (6)
- 半導体チップが樹脂接着剤フィルムを介して配線基板に実装されている半導体装置であって、
前記樹脂接着剤フィルムは、中間層をなす第1の樹脂層が上下の第2の樹脂層及び第3の樹脂層によって挟まれた3層構造をなしており、かつ前記第1の樹脂層は前記半導体チップの突起状電極と前記配線基板の配線パッドとの接触部を取り囲み、前記第2の樹脂層は前記第1の樹脂層と前記半導体チップとの間に配され、前記第3の樹脂層は前記第1の樹脂層と前記配線基板との間に配されており、
前記第2の樹脂層及び前記第3の樹脂層のガラス転移温度がそれぞれ前記第1の樹脂層のガラス転移温度より低く、前記第2の樹脂層及び前記3の樹脂層の弾性率がそれぞれ前記第1の樹脂層の弾性率より低い
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記樹脂接着剤フィルムの前記第1乃至第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が、前記配線基板の前記配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が分散されている異方性導電膜であり、
前記半導体チップの前記突起状電極と前記配線基板の配線パッドとの接触部に前記導電性微粒子が介在している
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記樹脂接着剤フィルムの前記第1乃至第3の樹脂層のうち、少なくとも1層が、熱可塑性樹脂からなる層である
ことを特徴とする半導体装置。 - 第1乃至第3の樹脂層が積層された3層構造からなり、前記第1の樹脂層を上下に挟む前記第2の樹脂層及び前記第3の樹脂層のガラス転移温度がそれぞれ前記第1の樹脂層のガラス転移温度より低く、前記第2の樹脂層及び前記第3の樹脂層の弾性率がそれぞれ前記第1の樹脂層の弾性率より低い樹脂接着剤フィムルを、前記第3の樹脂層を下にして、配線基板上に載置した後、所定の位置合わせを行った半導体チップを前記樹脂接着剤フィルムを介して前記配線基板上に熱圧着する際に、
前記配線基板のガラス転移温度をTg、前記樹脂接着剤フィルムの前記第1乃至第3の樹脂層のガラス転移温度の内最も低いガラス転移温度をTaとした場合の熱圧着条件が、
Ta≦Tg
を満足する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記樹脂接着剤フィルムの前記第1及び第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を、前記配線基板の前記配線パッドの幅より小さな直径の導電性微粒子が文才されている異方性導電膜とし、
前記半導体チップを前記樹脂接着剤フィルムを介して前記配線基板上に熱圧着する際に、前記半導体チップの前記突起上電極と前記配線基板の配線パッドとの接触部に前記導電性微粒子を介在させる
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記樹脂接着剤フィルムの前記第1乃至第3の樹脂層のうち、少なくとも1層を、熱可塑性樹脂からなる層とする
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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