JP3604595B2 - Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 - Google Patents
Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3604595B2 JP3604595B2 JP24233699A JP24233699A JP3604595B2 JP 3604595 B2 JP3604595 B2 JP 3604595B2 JP 24233699 A JP24233699 A JP 24233699A JP 24233699 A JP24233699 A JP 24233699A JP 3604595 B2 JP3604595 B2 JP 3604595B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum alloy
- alloy support
- plate
- intermetallic compound
- rare earth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 14
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 14
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 11
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 claims description 10
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 22
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 15
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910018191 Al—Fe—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000914 Mn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷に用いるＰＳ版用のアルミニウム合金支持体に関し、特に電解エッチングによる粗面の均一性に優れるアルミニウム合金支持体に関するものである。また、本発明は、その製造方法にも関する。
【０００２】
【従来の技術】
平版印刷は、アルミニウム合金からなる支持体とジアゾ化合物等を感光物とする感光体とからなるＰＳ版（Ｐｒｅｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ Ｐｌａｔｅ）に画像露光、現像等の製版処理を行って画像部を形成した版を印刷機の円筒状版胴に巻付け、非画像部に付着した湿し水の存在のもとにインキを画像部に付着させてこのインキをゴム製ブランケットに転写、紙面に印刷するものである。
【０００３】
ＰＳ版の支持体としては、電解エッチングによる粗面化処理（砂目立て）、陽極酸化処理などの表面処理を施したアルミニウム合金板が用いられている。アルミニウム合金としては、当初、ＪＩＳ１０５０（純度９９．５％以上の純Ａｌ）、ＪＩＳ１１００（Ａｌ−０．０５〜０．２０％Ｃｕ合金）、ＪＩＳ３００３〈Ａｌ−０．０５〜０．２０％Ｃｕ−ｌ．５％Ｍｎ合金）が主に用いられてきた。
【０００４】
アルミニウム合金支持体には、
（１）電解エッチングによる粗面が均一であること。
（２）感光剤の密着性が良好であること。
（３）印刷中に画像部に汚れが生じないこと。
等の種々の特性が要求される。しかし、ＪＩＳ１０５０、ＪＩＳ１１００、ＪＩＳ３００３そのものでは以上の各要求を十分に満足させることができなかったため、種々の改良が行われてき・た。
【０００５】
例えば、特開昭５８−２２１２５４号公報には、Ｓｉ：０．０２〜０．１５％、Ｆｅ：０．１〜１．０％、Ｃｕ：０．００３％以下、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなるオフセット印刷用素板が開示されている。また、特開昭６２−１４８２９５号公報には、Ｆｅ：０．０５〜１．０％、Ｓｉ：０．２％以下、Ｃｕ：０．０５％以下、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなり、金属組織中に分布する単体Ｓｉが０．０１２％以下である平版印刷用アルミニウム合金支持体が開示されている。
【０００６】
前記特開昭５８−２２１２５４号は、Ｃｕ含有量の増加に伴い耐食性が低下し、その影響で印刷中に非画像部の汚れが増大するために、Ｃｕ含有量を０．００３％以下に規制することを提案している。また、特開昭６２−１４８２９５号によると、電解エッチングによるピットが均一な粗面が得られ、ストリーク（筋状ムラ）の発生がみられず、しかも印刷中に非画像部の汚れを抑制することができるという効果を有する。
【０００７】
しかるに、印刷精度向上の要求に対して、前記特開昭５８−２２１２５４号、特開昭６２−１４８２９５号に記載の従来のアルミニウム合金支持体では十分に対応することが困難となってきた。特に、電解エッチングによる粗面の均一性をより向上することが必要となってきている。しかも、コスト低減のために、短時問の電解粗面化処理で均一性に優れた粗面を形成することの要望が強くなってきている。
【０００８】
この要望に対し、特開平９−１８４０３９号には、重量％で、Ｆｅ：０．２５〜０．６％、Ｓｉ：０．０３〜０．１５％、Ｔｉ：０．００５〜０．０５％、Ｎｉ：０．００５〜０．２０％、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなる組成を有し、０．１≦Ｎｉ／Ｓｉ≦３．７を満たすことを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体が提案されている。
【０００９】
特開平９−１８４０９号のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は、Ｎｉを添加することにより向上する化学溶解性を、Ｓｉが有する化学溶解性の抑制性能により抑制することによって、粗面均一性を向上させると共に、電解処理前の無通電状態での電解液中浸演によるピットの発生を抑制することを可能としている。
【００１０】
また、特開平９，２７２９３７号には、重量％で、Ｆｅ：０．２０〜０．６％、Ｓｉ：０．０３〜０．１５％、Ｔｉ：０．００５〜０．０５％、Ｎｉ：０，００５〜０．２０％を含有し、更にＣｕ及びＺｎからなる群から選択された１種又は２種以上で０．００５〜０．０５０％、更にＩｎ，Ｓｎ及びＰｂからなる群から選択された１種又は２種以上で０．００１〜０．０２０％含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなるＰＳ版用アルミニウム合金支持体が提案されている。
【００１１】
特開平９−２７２９３７号のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は、Ｃｕ及びＺｎの１種又は２種、並びにＩｎ，Ｓｎ及びＰｂの１種又は２種以上を添加し、アルミニウムマトリクス中に固溶させることにより、アルミニウムマトリクスと金属間化合物との問の電位差を調整し、電解粗面を均一化させようというものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
前記特開平９−１８４０３９号及び前記特開平９−２７２９３７号の提案により、粗面均一性は従来に比べ向上したが、より高い印刷精度が要求されており、尚一層の粗面均一性が要望されている現状にある。そこで本発明は、電解エッチングによる粗面の均一性をより向上したＰＳ版用アルミニウム合金支持体の提供を課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者は前記課題を解決すべくＰＳ版用アルミニウム合金支持体の電解エッチングの均一性について検討を行ったところ、以下のことを知見するに至った。
（１）アルミニウムマトリクス中に晶出又は析出するＡｌ Ｆｅ系の金属間化合物が、電解エッチング中にカソード点として作用してその溶解性を支配して
いる。
（２）希土類元素を添加すると、当該希土類元素は上記したＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物に取り込まれ、Ａｌ‐Ｆｅ‐Ｘ系（Ｘは希土類元素の１種又は２種 以上）金属間化合物の晶・析出物を形成するが、この金属間化合物はＡｌ−Ｆｅ系金属問化合物、すなわちＸを含まない金属間化合物に比べて電流を流しやすい性質を備えているため、電解エッチングした際のカソード反応性をより向上させて、溶解均一性を向上させることができる。
【００１４】
本発明のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は以上の知見に基づくものであり、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以．上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成となることを特徴とするものである。
【００１５】
また、前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちの１種又は２種以上であることを特徴とするとともに、その含有量が０．０１〜０．０８％であればより均一性向上に資するものとなる。
【００１６】
また、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体に関する組織形態としては、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物を有するアルミニウム材において、当該アルミニウム材は、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（ただし、Ｘは希土類元素の１種又は２種以上）を分散させた組織形態を有することを特徴とするものである。
【００１７】
また、前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちの１種又は２種以上であることを特徴とする。さらには、前記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物の平均粒径が３μｍ以下であれば、均一性向上に効果的となる。
【００１８】
最後に、本発明におけるＰＳ版用アルミニウム合金支持体の製造方法は、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成の鋳塊を得、その後．均質熱処理を施さない状態で熱問圧延を行い、次いで冷間圧延及び中間焼鈍を施し、そして仕上げ冷間圧延を行うことを特徴とするものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下本発明の成分、その他限定理由を説明する。
＜Ｆｅ：０．１〜０．７％＞Ｆｅは、Ａｌ‐Ｆｅ系金属間化合物を形成し、電解エッチングによる粗面均一性を向上するとともに、耐疲労強度を向上する，しかし、０．１％未満ではこの効果が不十分であり、また０．７％を超えると金属間化合物の粗大化により電解エッチングによる粗面の均一性を害する傾向にあるので、０．１〜０．７％の範囲とする。望ましいＦｅの含有量は、０．２〜０．５％である。
【００２０】
＜Ｓｉ：０．０２〜０．２０％＞
ＳｉはＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉ系の金属間化合物を形成し、熱間圧延時の再結晶粒の微細化を促す。０．０２％未満ではこの効果が不足して粗大な結晶粒が生じてしまい、電解エッチングによる粗面の均一性を咀害したり、ストリークと呼ばれる軽い未エッチング部を生じさせる。一方、０．２０％を超えると、Ａｌ−Ｆｅ−Ｓｉ系の金属間化合物が粗大化し、電解エッチングによる粗面の均一性を阻害する。したがって、Ｓｉは０．０２〜０．２０％とした。望ましいＳｉの含有量は、０．０４〜０．０８％である。
【００２１】
＜Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄ：０．００５〜０．２％＞
希土類元素は、上記Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物に取り込まれて、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（Ｘ＝希土類元素の１種又は２種以上）の晶・析出物が形成される。これらの金属間化合物の晶・析出物は、電解エッチングした際のカソード反応性をより向上させて、溶解均一性を向上させる。しかし、含有量が０．００５％未満ではその効果が十分に得られなく、一方、０．２％を越えると粗大なＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物を形成してしまい、エッチングは不均一化してしまう。ちなみに、より望ましい希土類元素の含有量は、０．０１〜０．０８％である。
【００２２】
なお、希土類元素としては、ランタノイド元素の１種又は２種以上を適宜使用することができるが、本発明においてはＣｅ、Ｌａ、Ｎｄの１種又は２種以上を用いることが望ましい。また、これらＣｅ、Ｌａ、Ｎｄは、それぞれの純金属を上記条件を満たすようにアルミニウムに添加すればよい。ただし、本発明はこの純金属添加の方法によらずに、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄの混合物として産出される、いわゆるＭｌＳＣＨＭＥＴＡＬ（ミッシユメタル）を添加する方法により、上記条件を満たす・ようにしてもよい。これは、コスト的に有利な方法である。なお、ＭｌＳＣＨＭＥＴＡＬ中には、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄ以外の金属元素として、数％程度のＰｒや極微量のＰｂ、その他にＰやＳが含まれることがあるが、それらが含まれても本願ｉ発明の効果を損なうものとはならない。
【００２３】
＜その他不純物元素＞
本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体においては、以上の元素以外に不純物元素が含まれるが、以下の範囲であれば本発明の目的を阻害しない。
Ｍｇ：０．０２％以下 Ｚｎ：０．０２％以下 Ｔｉ：０．０３％以下
Ｖ：０．０１％以下 Ｂ：０．００２％以下
【００２４】
次に、本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体におけるＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物の寸法及び量について説明する。Ａｌ‐Ｆｅ系金属間化合物の寸法及び量は、鋳造条件（主に冷却速度）、鋳造後に行われる均質化処理、熱間及び冷間圧延条件（主に圧延率）に左右される。本発明では、本系アルミニウム合金で通常行われている均質化処理を省略することが効果的である。すなわち、均質化処理を行うとＡｌ−Ｆｅ系金属問化合物がマトりクス内に均一に分散するという利点がある反面、粗大化してしまう傾向にある。そこで、本発明ではＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物の粗大化を防止して粗面の均一性向上を図ることが有効である。ただし、「均質化処理を行わない」ということはあくまでも、本発明をより有効なものとするための一つの手段であって、このことを本発明が特に義務づけるものではない。
【００２５】
以下、上記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物の晶・析出物が形成されることにより、電解エッチングの際の溶解均一性が向上する機構について説明する。上記各金属間化合物が晶・析出したアルミニウム材を、電解エッチングの一方の電極としこれに交流電源を接続すると、アルミニウム材はアノード及びカソードの両反応を呈示することになる。
まずアノード反応時には、
Ａｌ→Ａｌ３＋＋３ｅ‐・・・（１）
なる反応が進行し、アルミニウムが溶液中に溶出するとともに、電子が放出される。すなわち、エッチングの中心的反応である。
また、カソード反応時には、
２Ｈ＋＋２ｅ−→Ｈ２（ｇａｓ）・・・（２）
なる反応が進行する。このとき、この（２）式における電子は、（１）式で放出された電子が充当されるものである。この（２）式の反応により、アルミニウム材表面には清浄作用が働くことになる。すなわち、Ａｌ（ＯＨ）３等のスマットがアルミニウム材表面から効果的に除去されることになる。なお、このような清浄効果は、エッチングをより進行させるために有効なものである。
【００２６】
さて、このような反応は、アルミニウム材表面に晶・析出した上記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物を中心として行われるものである。というのは、これらの金属間化合物は、電流が流れやすいものとなっているからである。また、これらの金属間化合物においては、Ｘ（＝希土類元素）が含まれていることにより、Ｘを含まない、例えばＡｌ−Ｆｅ系の金属間化合物に比べても、より電流が流れやすい性質を備えている。
【００２７】
ところで、一般にこのような金属間化合物における電流の流しやすさは、その金属間化合物の大きさに強く依存しており、それが大きいものほど電流が流れやすくなる。その結果、大きい晶・析出物となるＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物がある場合には、これを中心に上記式（１）（２）のような反応が進むことによって、最終的には不均一なエッチングとなる可能性がある。例えば、Ｘを含まないＡｌＦｅ系等の金属間化合物においては、電流の流しやすさは、その金属問化合物の大きさにも強く依存してしまうため、最終的には不均一なエッチングとなる可能性が大きい。しかし、Ｘを含む金属間化合物においては、上述したように、本質的に「電流を流しやすい」性質を備えているため、当該性質がＡｌ一Ｆｅ系金属間化合物の大きさに強く依存することがない。したがって、結果的にアルミニウム材表面のエッチングは均一に行われうることになるのである。
【００２８】
以下本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に有効な製造上における検討事項について説明する。
＜鋳造＞
鋳造は、本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体を製造する上で特に限定されるものではなく、例えばＤＣ鋳造法等従来公知の鋳造法を適用することができる。
【００２９】
＜熱処理＞
一般的には、鋳造により得られた鋳塊に４５０〜６００℃の温度範囲における均質熱処理を施す。この均質熱処理によりＦｅの一部が固溶するとともに、Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物が均一微細に分散する。ただし、上述の通り本発明においては必ずしも必須の工程ではない。また、均質熱処理後、一旦鋳塊を冷却した後に次工程である熱間圧延のための均熱処理を行うこともできるが、均質熱処理から直に熱間圧延を行うこともできる。
【００３０】
＜熱間圧延＞均質熱処理を経た後に熱間圧延を行う。熱間圧延は３００〜６００℃の温度範囲で行うのが適当である。６００℃を超えると再結晶粒が粗大化して、粗面化処理によりストリークが発生しやすくなる。
【００３１】
＜冷問圧延＞
熱間圧延後、冷間圧延を行う。この冷間圧延によりＡｌ−Ｆｅ系の金属間化合物が分散して結晶組織が均一微細となる。この効果を得るためには、５０％、望ましくは７０％以上の減面率とすることが必要である。
【００３２】
＜焼鈍＞
冷間圧延後に、適度な強度及び伸びを板材に付与することを主目的として焼鈍を行う。焼鈍は３００〜６００℃の温度範囲で行う。３００℃未満では目的を達成することができず、６００℃を超えると表面の酸化が著しくなり好ましくないからである。望ましい焼鈍温度は３５０〜５００℃である。焼鈍は連続焼鈍炉、バッチ式焼鈍炉の何れであっても構わない。
【００３３】
＜仕上げ冷間圧延＞
焼鈍後、再度冷間圧延を行う。この冷間圧延は、ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に要求される硬さに調整、仕上げすることを目的とする。ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に要求される硬さはＨ１６であるので、これに適合するように圧下率を調整する。
【００３４】
＜表面処理＞
仕上げ冷間圧延終了後、塩酸、硝酸等の電解液中に浸潰して電解エッチングによる粗面化処理を行う。粗面化処理は、画像部においては感光層との密着性、非画像部においては親水性及び保水性を向上させるために施される。粗面化処理を行った後に、陽極酸化処理を行って表面の耐摩耗性、親水性を向上させることもできる。
【００３５】
【実施例】
以下本発明を実施例に基づき説明する。
表１に示す組成（ｗｔ．％）の合金スラブをＤＣ鋳造法により得た。鋳造速度は３０ｍｍ／ｍｉｎ、スラブ厚は２００ｍｍである。このスラブを５１０℃に予備加熱して熱間圧延した後、焼鈍及び冷間圧延を施すことにより０．３ｍ ｍ厚の板状の供試材を得た。
【００３６】
【表１】
【００３７】
得られた供試材を、５０℃、１０％水酸化ナトリウム水溶液中に３０秒間浸漬、脱脂後、２５℃、１０％硝酸中に３０秒間浸演するデスマット処理を施した。ついでこの供試材を２５℃、１％硝酸中に浸漬し、６０Ｈｚ、５０Ａ／ｄｍ２の正弦波で交流電解エッチングし、次いで５０℃、１０％水酸化ナトリウム水溶液中に６秒間浸漬、２５℃、１０％硝酸中に３０秒間浸漬するデスマット処理を順次施した後、乾燥した。
【００３８】
乾燥後、粗面を走査型電子顕微鏡〈ＳＥＭ）により５００倍で０．０２５２ｍｍ２を写真撮影をしてピットの均一性評価を行った。評価は、円相当径が５μｍを超えるピットの合計面積が評価面積の５％未満のものを「○」、５％以上のものを「×」とした。
【００３９】
結果を表１に併せて示すが、本願発明による実施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３は、ピット均一性に優れ、電解エッチングによる粗面均一性に優れることがわかる。
【００４０】
実施例Ｎｏ．１は、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を、０．０１１％としたものである。この含有量は、本発明の範囲、すなわち、＜Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄ：０．００５〜０．２％＞なる条件を満たすものであることが明らかである。また、Ｆｅ、Ｓｉの含有量は、それぞれ０．２４％、０．０６％とされ、本発明の各条件を満たすものとなっている。このような場合において、エッチングの均一性は良好であることがわかる。すなわち、供試材表面においては、円相当径が５μｍを越えるピットの合計面積が評価面積の５％以下であって、当該評価面において均一にエッチングされた。
【００４１】
また、実施例Ｎｏ．２及び実施例Ｎｏ．３は、それぞれＣｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を、０．０２６％、０．１８０％としたものである。これらの含有量も本発明の条件を満たすことは明らかである。また、Ｆｅ、Ｓｉの条件は実施例Ｎｏ．１と同様である。このような場合についても、エッチングの均一性は良好であることがわかる。
【００４２】
これに対し、比較例Ｎｏ．１においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄを含まないものとしている。ちなみに、表１における「ｔｒ．」なる記号は、本発明の各元素がわずかにのみ含まれていることを示している。これはしたがって、本発明の条件を満たすものではない。また、その他のＦｅ、Ｓｉの含有量については、それぞれ０．２５％、０．０６％とされており、本発明の各条件を満たしている。この場合、表１からわかるとおり、エッチングの均一性は良好であるとはいえなくなっている。
【００４３】
また比較例Ｎｏ．２においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量は０．０２２％となっており、本発明の条件を満たしている。しかし、Ｆｅの含有量が０．７５％となっており、本発明における当該Ｆｅに関する条件、すなわちくＦｅ：０．１〜０．７％＞を満たすものとなっていない。ちなみにＳｉは比較例Ｎｏ．１と同様である。この場合においては、表１から明らかなとおり、エッチングの均一性は好ましい状態とはなっていない。すなわち、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄに限らず、その他の元素においても、そのそれぞれにおける本発明の各条件を満たす必要があることがわかる。
【００４４】
さらに、比較例Ｎｏ．３においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を０．２４０％としており、これは本発明の条件を上に外したものとなっている。その他のＦｅ、Ｓｉの含有量については、それぞれ０．２５％、０．１１％としており、本発明の各条件を満たしている。この場合においては、エッチング均一性は好ましいものとなっていないことがわかる。これは、上述したように、粗大な金属間化合物が形成されたことにより、エッチングが不均一なものとなったことによるものと考えられる。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明のように、本発明は、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄを代表とする希土類元素を０．０５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成となることを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体としたので、電解エッチングによる粗面を従来の支持体より均一に形成することができる。
【００４６】
また、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体においては、その組織形態を、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物を有するアルミニウム材において、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（ただし、Ｘは希土類元素の１種又は２種以上）を分散させたものとしているが、これについても上述した効果を享受することができる。
【００４７】
さらに、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体の製造方法においては、上述したように、均質熱処理を行わないから、晶出又は析出する金属間化合物の粗大化を防止することができる。このことにより、大きい金属間化合物において電解エッチングが進むことによって当該エッチングが不均一に実施されることを回避することができる。すなわち、均一な電解エッチング実施に大きく貢献することとなる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷に用いるＰＳ版用のアルミニウム合金支持体に関し、特に電解エッチングによる粗面の均一性に優れるアルミニウム合金支持体に関するものである。また、本発明は、その製造方法にも関する。
【０００２】
【従来の技術】
平版印刷は、アルミニウム合金からなる支持体とジアゾ化合物等を感光物とする感光体とからなるＰＳ版（Ｐｒｅｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ Ｐｌａｔｅ）に画像露光、現像等の製版処理を行って画像部を形成した版を印刷機の円筒状版胴に巻付け、非画像部に付着した湿し水の存在のもとにインキを画像部に付着させてこのインキをゴム製ブランケットに転写、紙面に印刷するものである。
【０００３】
ＰＳ版の支持体としては、電解エッチングによる粗面化処理（砂目立て）、陽極酸化処理などの表面処理を施したアルミニウム合金板が用いられている。アルミニウム合金としては、当初、ＪＩＳ１０５０（純度９９．５％以上の純Ａｌ）、ＪＩＳ１１００（Ａｌ−０．０５〜０．２０％Ｃｕ合金）、ＪＩＳ３００３〈Ａｌ−０．０５〜０．２０％Ｃｕ−ｌ．５％Ｍｎ合金）が主に用いられてきた。
【０００４】
アルミニウム合金支持体には、
（１）電解エッチングによる粗面が均一であること。
（２）感光剤の密着性が良好であること。
（３）印刷中に画像部に汚れが生じないこと。
等の種々の特性が要求される。しかし、ＪＩＳ１０５０、ＪＩＳ１１００、ＪＩＳ３００３そのものでは以上の各要求を十分に満足させることができなかったため、種々の改良が行われてき・た。
【０００５】
例えば、特開昭５８−２２１２５４号公報には、Ｓｉ：０．０２〜０．１５％、Ｆｅ：０．１〜１．０％、Ｃｕ：０．００３％以下、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなるオフセット印刷用素板が開示されている。また、特開昭６２−１４８２９５号公報には、Ｆｅ：０．０５〜１．０％、Ｓｉ：０．２％以下、Ｃｕ：０．０５％以下、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなり、金属組織中に分布する単体Ｓｉが０．０１２％以下である平版印刷用アルミニウム合金支持体が開示されている。
【０００６】
前記特開昭５８−２２１２５４号は、Ｃｕ含有量の増加に伴い耐食性が低下し、その影響で印刷中に非画像部の汚れが増大するために、Ｃｕ含有量を０．００３％以下に規制することを提案している。また、特開昭６２−１４８２９５号によると、電解エッチングによるピットが均一な粗面が得られ、ストリーク（筋状ムラ）の発生がみられず、しかも印刷中に非画像部の汚れを抑制することができるという効果を有する。
【０００７】
しかるに、印刷精度向上の要求に対して、前記特開昭５８−２２１２５４号、特開昭６２−１４８２９５号に記載の従来のアルミニウム合金支持体では十分に対応することが困難となってきた。特に、電解エッチングによる粗面の均一性をより向上することが必要となってきている。しかも、コスト低減のために、短時問の電解粗面化処理で均一性に優れた粗面を形成することの要望が強くなってきている。
【０００８】
この要望に対し、特開平９−１８４０３９号には、重量％で、Ｆｅ：０．２５〜０．６％、Ｓｉ：０．０３〜０．１５％、Ｔｉ：０．００５〜０．０５％、Ｎｉ：０．００５〜０．２０％、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなる組成を有し、０．１≦Ｎｉ／Ｓｉ≦３．７を満たすことを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体が提案されている。
【０００９】
特開平９−１８４０９号のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は、Ｎｉを添加することにより向上する化学溶解性を、Ｓｉが有する化学溶解性の抑制性能により抑制することによって、粗面均一性を向上させると共に、電解処理前の無通電状態での電解液中浸演によるピットの発生を抑制することを可能としている。
【００１０】
また、特開平９，２７２９３７号には、重量％で、Ｆｅ：０．２０〜０．６％、Ｓｉ：０．０３〜０．１５％、Ｔｉ：０．００５〜０．０５％、Ｎｉ：０，００５〜０．２０％を含有し、更にＣｕ及びＺｎからなる群から選択された１種又は２種以上で０．００５〜０．０５０％、更にＩｎ，Ｓｎ及びＰｂからなる群から選択された１種又は２種以上で０．００１〜０．０２０％含有し、残部Ａｌ及び不可避的不純物からなるＰＳ版用アルミニウム合金支持体が提案されている。
【００１１】
特開平９−２７２９３７号のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は、Ｃｕ及びＺｎの１種又は２種、並びにＩｎ，Ｓｎ及びＰｂの１種又は２種以上を添加し、アルミニウムマトリクス中に固溶させることにより、アルミニウムマトリクスと金属間化合物との問の電位差を調整し、電解粗面を均一化させようというものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
前記特開平９−１８４０３９号及び前記特開平９−２７２９３７号の提案により、粗面均一性は従来に比べ向上したが、より高い印刷精度が要求されており、尚一層の粗面均一性が要望されている現状にある。そこで本発明は、電解エッチングによる粗面の均一性をより向上したＰＳ版用アルミニウム合金支持体の提供を課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者は前記課題を解決すべくＰＳ版用アルミニウム合金支持体の電解エッチングの均一性について検討を行ったところ、以下のことを知見するに至った。
（１）アルミニウムマトリクス中に晶出又は析出するＡｌ Ｆｅ系の金属間化合物が、電解エッチング中にカソード点として作用してその溶解性を支配して
いる。
（２）希土類元素を添加すると、当該希土類元素は上記したＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物に取り込まれ、Ａｌ‐Ｆｅ‐Ｘ系（Ｘは希土類元素の１種又は２種 以上）金属間化合物の晶・析出物を形成するが、この金属間化合物はＡｌ−Ｆｅ系金属問化合物、すなわちＸを含まない金属間化合物に比べて電流を流しやすい性質を備えているため、電解エッチングした際のカソード反応性をより向上させて、溶解均一性を向上させることができる。
【００１４】
本発明のＰＳ版用アルミニウム合金支持体は以上の知見に基づくものであり、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以．上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成となることを特徴とするものである。
【００１５】
また、前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちの１種又は２種以上であることを特徴とするとともに、その含有量が０．０１〜０．０８％であればより均一性向上に資するものとなる。
【００１６】
また、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体に関する組織形態としては、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物を有するアルミニウム材において、当該アルミニウム材は、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（ただし、Ｘは希土類元素の１種又は２種以上）を分散させた組織形態を有することを特徴とするものである。
【００１７】
また、前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちの１種又は２種以上であることを特徴とする。さらには、前記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物の平均粒径が３μｍ以下であれば、均一性向上に効果的となる。
【００１８】
最後に、本発明におけるＰＳ版用アルミニウム合金支持体の製造方法は、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成の鋳塊を得、その後．均質熱処理を施さない状態で熱問圧延を行い、次いで冷間圧延及び中間焼鈍を施し、そして仕上げ冷間圧延を行うことを特徴とするものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下本発明の成分、その他限定理由を説明する。
＜Ｆｅ：０．１〜０．７％＞Ｆｅは、Ａｌ‐Ｆｅ系金属間化合物を形成し、電解エッチングによる粗面均一性を向上するとともに、耐疲労強度を向上する，しかし、０．１％未満ではこの効果が不十分であり、また０．７％を超えると金属間化合物の粗大化により電解エッチングによる粗面の均一性を害する傾向にあるので、０．１〜０．７％の範囲とする。望ましいＦｅの含有量は、０．２〜０．５％である。
【００２０】
＜Ｓｉ：０．０２〜０．２０％＞
ＳｉはＡｌ−Ｆｅ−Ｓｉ系の金属間化合物を形成し、熱間圧延時の再結晶粒の微細化を促す。０．０２％未満ではこの効果が不足して粗大な結晶粒が生じてしまい、電解エッチングによる粗面の均一性を咀害したり、ストリークと呼ばれる軽い未エッチング部を生じさせる。一方、０．２０％を超えると、Ａｌ−Ｆｅ−Ｓｉ系の金属間化合物が粗大化し、電解エッチングによる粗面の均一性を阻害する。したがって、Ｓｉは０．０２〜０．２０％とした。望ましいＳｉの含有量は、０．０４〜０．０８％である。
【００２１】
＜Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄ：０．００５〜０．２％＞
希土類元素は、上記Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物に取り込まれて、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（Ｘ＝希土類元素の１種又は２種以上）の晶・析出物が形成される。これらの金属間化合物の晶・析出物は、電解エッチングした際のカソード反応性をより向上させて、溶解均一性を向上させる。しかし、含有量が０．００５％未満ではその効果が十分に得られなく、一方、０．２％を越えると粗大なＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物を形成してしまい、エッチングは不均一化してしまう。ちなみに、より望ましい希土類元素の含有量は、０．０１〜０．０８％である。
【００２２】
なお、希土類元素としては、ランタノイド元素の１種又は２種以上を適宜使用することができるが、本発明においてはＣｅ、Ｌａ、Ｎｄの１種又は２種以上を用いることが望ましい。また、これらＣｅ、Ｌａ、Ｎｄは、それぞれの純金属を上記条件を満たすようにアルミニウムに添加すればよい。ただし、本発明はこの純金属添加の方法によらずに、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄの混合物として産出される、いわゆるＭｌＳＣＨＭＥＴＡＬ（ミッシユメタル）を添加する方法により、上記条件を満たす・ようにしてもよい。これは、コスト的に有利な方法である。なお、ＭｌＳＣＨＭＥＴＡＬ中には、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄ以外の金属元素として、数％程度のＰｒや極微量のＰｂ、その他にＰやＳが含まれることがあるが、それらが含まれても本願ｉ発明の効果を損なうものとはならない。
【００２３】
＜その他不純物元素＞
本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体においては、以上の元素以外に不純物元素が含まれるが、以下の範囲であれば本発明の目的を阻害しない。
Ｍｇ：０．０２％以下 Ｚｎ：０．０２％以下 Ｔｉ：０．０３％以下
Ｖ：０．０１％以下 Ｂ：０．００２％以下
【００２４】
次に、本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体におけるＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物の寸法及び量について説明する。Ａｌ‐Ｆｅ系金属間化合物の寸法及び量は、鋳造条件（主に冷却速度）、鋳造後に行われる均質化処理、熱間及び冷間圧延条件（主に圧延率）に左右される。本発明では、本系アルミニウム合金で通常行われている均質化処理を省略することが効果的である。すなわち、均質化処理を行うとＡｌ−Ｆｅ系金属問化合物がマトりクス内に均一に分散するという利点がある反面、粗大化してしまう傾向にある。そこで、本発明ではＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物の粗大化を防止して粗面の均一性向上を図ることが有効である。ただし、「均質化処理を行わない」ということはあくまでも、本発明をより有効なものとするための一つの手段であって、このことを本発明が特に義務づけるものではない。
【００２５】
以下、上記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物の晶・析出物が形成されることにより、電解エッチングの際の溶解均一性が向上する機構について説明する。上記各金属間化合物が晶・析出したアルミニウム材を、電解エッチングの一方の電極としこれに交流電源を接続すると、アルミニウム材はアノード及びカソードの両反応を呈示することになる。
まずアノード反応時には、
Ａｌ→Ａｌ３＋＋３ｅ‐・・・（１）
なる反応が進行し、アルミニウムが溶液中に溶出するとともに、電子が放出される。すなわち、エッチングの中心的反応である。
また、カソード反応時には、
２Ｈ＋＋２ｅ−→Ｈ２（ｇａｓ）・・・（２）
なる反応が進行する。このとき、この（２）式における電子は、（１）式で放出された電子が充当されるものである。この（２）式の反応により、アルミニウム材表面には清浄作用が働くことになる。すなわち、Ａｌ（ＯＨ）３等のスマットがアルミニウム材表面から効果的に除去されることになる。なお、このような清浄効果は、エッチングをより進行させるために有効なものである。
【００２６】
さて、このような反応は、アルミニウム材表面に晶・析出した上記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物を中心として行われるものである。というのは、これらの金属間化合物は、電流が流れやすいものとなっているからである。また、これらの金属間化合物においては、Ｘ（＝希土類元素）が含まれていることにより、Ｘを含まない、例えばＡｌ−Ｆｅ系の金属間化合物に比べても、より電流が流れやすい性質を備えている。
【００２７】
ところで、一般にこのような金属間化合物における電流の流しやすさは、その金属間化合物の大きさに強く依存しており、それが大きいものほど電流が流れやすくなる。その結果、大きい晶・析出物となるＡｌ−Ｆｅ系金属間化合物がある場合には、これを中心に上記式（１）（２）のような反応が進むことによって、最終的には不均一なエッチングとなる可能性がある。例えば、Ｘを含まないＡｌＦｅ系等の金属間化合物においては、電流の流しやすさは、その金属問化合物の大きさにも強く依存してしまうため、最終的には不均一なエッチングとなる可能性が大きい。しかし、Ｘを含む金属間化合物においては、上述したように、本質的に「電流を流しやすい」性質を備えているため、当該性質がＡｌ一Ｆｅ系金属間化合物の大きさに強く依存することがない。したがって、結果的にアルミニウム材表面のエッチングは均一に行われうることになるのである。
【００２８】
以下本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に有効な製造上における検討事項について説明する。
＜鋳造＞
鋳造は、本発明ＰＳ版用アルミニウム合金支持体を製造する上で特に限定されるものではなく、例えばＤＣ鋳造法等従来公知の鋳造法を適用することができる。
【００２９】
＜熱処理＞
一般的には、鋳造により得られた鋳塊に４５０〜６００℃の温度範囲における均質熱処理を施す。この均質熱処理によりＦｅの一部が固溶するとともに、Ａｌ−Ｆｅ系金属間化合物が均一微細に分散する。ただし、上述の通り本発明においては必ずしも必須の工程ではない。また、均質熱処理後、一旦鋳塊を冷却した後に次工程である熱間圧延のための均熱処理を行うこともできるが、均質熱処理から直に熱間圧延を行うこともできる。
【００３０】
＜熱間圧延＞均質熱処理を経た後に熱間圧延を行う。熱間圧延は３００〜６００℃の温度範囲で行うのが適当である。６００℃を超えると再結晶粒が粗大化して、粗面化処理によりストリークが発生しやすくなる。
【００３１】
＜冷問圧延＞
熱間圧延後、冷間圧延を行う。この冷間圧延によりＡｌ−Ｆｅ系の金属間化合物が分散して結晶組織が均一微細となる。この効果を得るためには、５０％、望ましくは７０％以上の減面率とすることが必要である。
【００３２】
＜焼鈍＞
冷間圧延後に、適度な強度及び伸びを板材に付与することを主目的として焼鈍を行う。焼鈍は３００〜６００℃の温度範囲で行う。３００℃未満では目的を達成することができず、６００℃を超えると表面の酸化が著しくなり好ましくないからである。望ましい焼鈍温度は３５０〜５００℃である。焼鈍は連続焼鈍炉、バッチ式焼鈍炉の何れであっても構わない。
【００３３】
＜仕上げ冷間圧延＞
焼鈍後、再度冷間圧延を行う。この冷間圧延は、ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に要求される硬さに調整、仕上げすることを目的とする。ＰＳ版用アルミニウム合金支持体に要求される硬さはＨ１６であるので、これに適合するように圧下率を調整する。
【００３４】
＜表面処理＞
仕上げ冷間圧延終了後、塩酸、硝酸等の電解液中に浸潰して電解エッチングによる粗面化処理を行う。粗面化処理は、画像部においては感光層との密着性、非画像部においては親水性及び保水性を向上させるために施される。粗面化処理を行った後に、陽極酸化処理を行って表面の耐摩耗性、親水性を向上させることもできる。
【００３５】
【実施例】
以下本発明を実施例に基づき説明する。
表１に示す組成（ｗｔ．％）の合金スラブをＤＣ鋳造法により得た。鋳造速度は３０ｍｍ／ｍｉｎ、スラブ厚は２００ｍｍである。このスラブを５１０℃に予備加熱して熱間圧延した後、焼鈍及び冷間圧延を施すことにより０．３ｍ ｍ厚の板状の供試材を得た。
【００３６】
【表１】
得られた供試材を、５０℃、１０％水酸化ナトリウム水溶液中に３０秒間浸漬、脱脂後、２５℃、１０％硝酸中に３０秒間浸演するデスマット処理を施した。ついでこの供試材を２５℃、１％硝酸中に浸漬し、６０Ｈｚ、５０Ａ／ｄｍ２の正弦波で交流電解エッチングし、次いで５０℃、１０％水酸化ナトリウム水溶液中に６秒間浸漬、２５℃、１０％硝酸中に３０秒間浸漬するデスマット処理を順次施した後、乾燥した。
【００３８】
乾燥後、粗面を走査型電子顕微鏡〈ＳＥＭ）により５００倍で０．０２５２ｍｍ２を写真撮影をしてピットの均一性評価を行った。評価は、円相当径が５μｍを超えるピットの合計面積が評価面積の５％未満のものを「○」、５％以上のものを「×」とした。
【００３９】
結果を表１に併せて示すが、本願発明による実施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３は、ピット均一性に優れ、電解エッチングによる粗面均一性に優れることがわかる。
【００４０】
実施例Ｎｏ．１は、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を、０．０１１％としたものである。この含有量は、本発明の範囲、すなわち、＜Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄ：０．００５〜０．２％＞なる条件を満たすものであることが明らかである。また、Ｆｅ、Ｓｉの含有量は、それぞれ０．２４％、０．０６％とされ、本発明の各条件を満たすものとなっている。このような場合において、エッチングの均一性は良好であることがわかる。すなわち、供試材表面においては、円相当径が５μｍを越えるピットの合計面積が評価面積の５％以下であって、当該評価面において均一にエッチングされた。
【００４１】
また、実施例Ｎｏ．２及び実施例Ｎｏ．３は、それぞれＣｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を、０．０２６％、０．１８０％としたものである。これらの含有量も本発明の条件を満たすことは明らかである。また、Ｆｅ、Ｓｉの条件は実施例Ｎｏ．１と同様である。このような場合についても、エッチングの均一性は良好であることがわかる。
【００４２】
これに対し、比較例Ｎｏ．１においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄを含まないものとしている。ちなみに、表１における「ｔｒ．」なる記号は、本発明の各元素がわずかにのみ含まれていることを示している。これはしたがって、本発明の条件を満たすものではない。また、その他のＦｅ、Ｓｉの含有量については、それぞれ０．２５％、０．０６％とされており、本発明の各条件を満たしている。この場合、表１からわかるとおり、エッチングの均一性は良好であるとはいえなくなっている。
【００４３】
また比較例Ｎｏ．２においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量は０．０２２％となっており、本発明の条件を満たしている。しかし、Ｆｅの含有量が０．７５％となっており、本発明における当該Ｆｅに関する条件、すなわちくＦｅ：０．１〜０．７％＞を満たすものとなっていない。ちなみにＳｉは比較例Ｎｏ．１と同様である。この場合においては、表１から明らかなとおり、エッチングの均一性は好ましい状態とはなっていない。すなわち、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄに限らず、その他の元素においても、そのそれぞれにおける本発明の各条件を満たす必要があることがわかる。
【００４４】
さらに、比較例Ｎｏ．３においては、Ｃｅ＋Ｌａ＋Ｎｄの含有量を０．２４０％としており、これは本発明の条件を上に外したものとなっている。その他のＦｅ、Ｓｉの含有量については、それぞれ０．２５％、０．１１％としており、本発明の各条件を満たしている。この場合においては、エッチング均一性は好ましいものとなっていないことがわかる。これは、上述したように、粗大な金属間化合物が形成されたことにより、エッチングが不均一なものとなったことによるものと考えられる。
【００４５】
【発明の効果】
以上説明のように、本発明は、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、Ｃｅ、Ｌａ、Ｎｄを代表とする希土類元素を０．０５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成となることを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体としたので、電解エッチングによる粗面を従来の支持体より均一に形成することができる。
【００４６】
また、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体においては、その組織形態を、重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物を有するアルミニウム材において、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（ただし、Ｘは希土類元素の１種又は２種以上）を分散させたものとしているが、これについても上述した効果を享受することができる。
【００４７】
さらに、本発明のＰＳ版用アルミニウム支持体の製造方法においては、上述したように、均質熱処理を行わないから、晶出又は析出する金属間化合物の粗大化を防止することができる。このことにより、大きい金属間化合物において電解エッチングが進むことによって当該エッチングが不均一に実施されることを回避することができる。すなわち、均一な電解エッチング実施に大きく貢献することとなる。
Claims (7)
- 重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成となることを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちの１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１記載のＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 前記希土類元素の含有量が０．０１〜０．０８％であることを特徴とする請求項１又は２記載のＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物を有するアルミニウム材において、当該アルミニウム材は、Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物（ただし、Ｘは希土類元素の１種又は２種以上）を分散させた組織形態を有することを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 前記希土類元素がＣｅ、Ｌａ、Ｎｄのうちのｌ種又は２種以上であることを特徴とする請求項４記載のＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 前記Ａｌ−Ｆｅ−Ｘ系金属間化合物の平均粒径が３μｍ以下であることを特徴とする請求項４又は５記載のＰＳ版用アルミニウム合金支持体。
- 重量％で、Ｆｅ：０．１〜０．７％、Ｓｉ：０．０２〜０．２％、希土類元素の１種又は２種以上を０．００５〜０．２％、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなる組成の鋳塊を得、その後均質熱処理を施さない状態で熱間圧延を行い、次いで冷間圧延及び中間焼鈍を施し、そして仕上げ冷問圧延を行うことを特徴とするＰＳ版用アルミニウム合金支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24233699A JP3604595B2 (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24233699A JP3604595B2 (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001063232A JP2001063232A (ja) | 2001-03-13 |
| JP3604595B2 true JP3604595B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=17087690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24233699A Expired - Fee Related JP3604595B2 (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3604595B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7063935B2 (en) | 2002-03-26 | 2006-06-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
| CN101525709B (zh) * | 2009-04-24 | 2010-08-11 | 安徽欣意电缆有限公司 | 电缆用高延伸率铝合金材料及其制备方法 |
| WO2020241040A1 (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 住友電気工業株式会社 | アルミニウム合金、アルミニウム合金線、及びアルミニウム合金の製造方法 |
-
1999
- 1999-08-27 JP JP24233699A patent/JP3604595B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001063232A (ja) | 2001-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4318587B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金板 | |
| JP4913816B2 (ja) | 石版印刷版支持体用のアルミニウムストリップ | |
| US6337136B1 (en) | Aluminum alloy support for lithographic printing plate and process for producing substrate for support | |
| JP4913008B2 (ja) | 平版印刷用アルミニウム合金材料およびその製造方法 | |
| US6572715B2 (en) | Aluminum alloy support body for a presensitized plate and method of producing the same | |
| JP3604595B2 (ja) | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 | |
| JP4105042B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金材料およびその製造方法 | |
| JPS6280255A (ja) | オフセツト印刷用アルミニウム合金支持体の製造方法 | |
| JP3677213B2 (ja) | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 | |
| JP4016310B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金支持体および該支持体用素板の製造方法 | |
| JPS6274693A (ja) | オフセツト印刷用アルミニウム合金支持体 | |
| JP3600081B2 (ja) | Ｐｓ版用アルミニウム合金支持体の素体及びｐｓ版用アルミニウム合金支持体の製造方法 | |
| JP4925248B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法 | |
| JP2001219662A (ja) | 印刷版用アルミニウム合金支持体 | |
| JP3983611B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板の製造方法 | |
| JP2778661B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JP4021743B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金材料 | |
| JP3256106B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JP4105043B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金材料およびその製造方法 | |
| JP2865270B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JP4064258B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法 | |
| JP4064259B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法 | |
| JP3295276B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JP3788837B2 (ja) | 印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 | |
| JPH08269599A (ja) | 印刷版用アルミニウム合金支持体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040212 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040511 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040712 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040921 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040929 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101008 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111008 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |