JP3601171B2 - 露光装置 - Google Patents

露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3601171B2
JP3601171B2 JP07289496A JP7289496A JP3601171B2 JP 3601171 B2 JP3601171 B2 JP 3601171B2 JP 07289496 A JP07289496 A JP 07289496A JP 7289496 A JP7289496 A JP 7289496A JP 3601171 B2 JP3601171 B2 JP 3601171B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
outside air
unit
exposure apparatus
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07289496A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09266148A (ja
Inventor
正幸 村山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP07289496A priority Critical patent/JP3601171B2/ja
Priority to KR1019970012127A priority patent/KR100542414B1/ko
Publication of JPH09266148A publication Critical patent/JPH09266148A/ja
Priority to US09/266,873 priority patent/US6535270B1/en
Priority to US10/237,133 priority patent/US20030035087A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3601171B2 publication Critical patent/JP3601171B2/ja
Priority to US11/071,106 priority patent/US20050185156A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路、液晶表示素子等の微細パターンの形成に用いられる露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造用クリーンルームでは、粒子状汚染物質の除去のためにHEPAフィルターやULPAフィルターを用いた空気浄化システムが採用されている。また、半導体製造工程で使用する装置、例えば紫外域の光又は遠紫外域の光(以下、両者をまとめて紫外線という)を使用する露光装置の場合、雰囲気中にNH やSOxのようなガス状不純物が存在すると、それが化学変化又は物理変化を起こして、例えば(NHSOの様な物質としてレンズやミラー等の硝材表面に付着し、曇りを生じさせたり透過率を低下させることがあった。
【0003】
また、紫外線を用いるホトリソグラフィー工程では化学増幅型レジストが多く使用される。化学増幅型レジストは、一般に樹脂、感光性の酸発生剤、溶解促進剤あるいは架橋剤からなる。そして、露光によって酸発生剤から酸が発生し、露光後のベーク時にその酸がポジ型の場合は高分子鎖を切断する分解促進剤の触媒として、ネガ型の場合は高分子鎖を架橋させる架橋剤の触媒として働き、現像によってパターンを形成するものである。溶解促進剤を用いたものはポジタイプのパターンを形成し、架橋剤を用いたものはネガタイプのパターンを形成する。ポジ型の化学増幅型レジストの例としてはフジハント社製の「FH−EX1」があり、ネガ型の例としてはシプレイ社製の「XP」がある。
【0004】
この化学増幅型レジストを使用するとき、基板雰囲気中にアンモニアやアミン類などの塩基性のガス状不純物が存在すると、露光から露光後ベーク時までの間に、酸発生剤から発生した酸とこれらのガス状不純物が中和反応を起こしてしまうために、感度低下を起こし、特にポジ型レジストの場合には表面難溶化層を形成してパターン転写に悪影響を及ぼす等の問題を生じる。
【0005】
従来は、このようなガス状不純物による影響を防止するため、装置の全体もしくは一部をチャンバーで覆い、チャンバーに設定された外気取り入れ口にケミカルフィルター等のガス状不純物除去手段を設置してチャンバー内にガス状不純物が進入しないようにするとともに、チャンバー内部を循環するガスをケミカルフィルターに通してガス状不純物を除去するようにしていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
装置の全体もしくは一部を覆うチャンバー内のガスは圧送ファンによって循環されている。従って、チャンバー内部の圧送ファンの上流側には負圧が発生している領域がある。外気取り入れ口からチャンバー内への外気導入も、この圧送ファンによって外気取り入れ口に発生された負圧を利用して行われる。この負圧の領域は、その領域を囲むチャンバーパネルの間隙をシリコンシール剤等で密封したりして気密性を向上させ、外気取り入れ口以外にチャンバーパネルの隙間等から外気の吸い込みが生じないようにしている。
【0007】
しかし、負圧になる領域のチャンバーに施してあるシールが欠落もしくはひび割れ等して隙間が生じても、その隙間が微小であったり、目に付きにくい場所であると、装置の使用者はチャンバーに施したシールに不具合を生じたことを知ることができない。この場合、シールの欠落箇所からチャンバー内へ不純物を含んだ外気が吸い込まれ、チャンバー内部のガス状不純物除去フィルターの劣化を加速させたり、チャンバー内部を汚染する可能性があった。
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、気密性の低下した箇所から直接チャンバー内に外気が吸い込まれることを極力防止することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明では、チャンバー内で外圧に対して負圧になる箇所にチャンバーの気密状態を検知する手段を設けることで前記目的を達成する。
すなわち、本発明は、照明光学系を介して、光源部から射出された紫外線でレチクルを照明し、レチクルのパターンを投影系を介して感光性基板上に転写する露光部と、外気導入部を有し、露光部の一部もしくは全部を収容するチャンバーと、チャンバー内に設置され外気導入部に負圧を発生してチャンバー内に外気を導入するとともにチャンバー内のガスを循環させるガス循環手段と、チャンバー内で、外圧に対して負圧になる領域の気密状態を検知する気密状態検知手段を備えることを特徴とする。
【0009】
気密状態検知手段によってチャンバーの気密性が低下していることが検知されると、そのことを報知する。あるいは、ガス循環手段を停止させて外気の吸い込みを防止することで、チャンバー内に配置された不純物除去フィルターの急激な劣化を防ぐことができる。
気密状態検知手段としては、差圧計あるいは風速計を用いることができる。風速計は外気導入部に設置する。差圧計と風速計を併用してもよい。チャンバーのシールに不具合が生じてシール部からチャンバー内に外気が吸い込まれると、チャンバー内の圧力あるいは外気導入部から導入される外気の流量が変化するため、その変化を検知することでチャンバーの気密性を管理することができる。
【0010】
チャンバーの外気導入部及びチャンバー内部のガス循環経路にはガス状不純物除去手段を備えるのが好ましい。ガス状不純物除去フィルターとしては、ケミカルフィルターを用いることができる。ケミカルフィルターは、HEPAフィルターやULPAフィルターでは除去できない雰囲気中のガス状不純物を除去できるフィルターであり、繊維状又は粒状の活性炭を用いたもの、イオン交換樹脂によるイオン交換反応を利用したもの、活性炭繊維に薬品を添着したもの等がある。イオン交換反応を利用したケミカルフィルターの例としては荏原製作所製の「EPIX」があり、活性炭繊維に薬品を添着したケミカルフィルターの例としては近藤工業製の「CLEAN SORB」などがある。
本発明によると、また、初期状態において、パネル部のシール等のチャンバーの気密工事に不具合がないかの検査判定を行うことも可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、露光部の一例を示す概念図である。遠紫外線を射出する例えばエキシマレーザーやHgランプのような光源1からの照射光は、ミラー2で反射され、フライアイレンズ等のオプチカルインテグレータやコンデンサーレンズ等の照度均一化手段、各種レンズやミラー等からなる照明光学系3によって均一な照明光に整形される。照明光学系3で均一化された照明光は、再びミラー2によって光路を折り曲げられ、パターンが形成されたレチクル4を均一に照明する。レチクル4のパターンは投影レンズ5によって、レジストの塗布されたウエハ等の感光性基板(以下、ウエハという)6上に像を結び、転写される。ウエハ6は、2次元方向に移動可能なXYステージ7上に載置されている。
【0012】
図2は、図1に略示した露光部をチャンバー内に配置した本発明による露光装置の概略図である。
チャンバー9内のエアーは、チャンバー内に設置された空調機10によって温度調整されたのち圧送ファン11によって送風され、ケミカルフィルターと除塵フィルターからなる不純物除去部13を通して露光部雰囲気に送られる。露光部雰囲気は、圧送ファン11によるエアー送風によってチャンバー外圧に対して正の圧力となっている。そのため、露光部雰囲気の扉部やパネルの隙間等からはチャンバー内部から外部に向かってエアーが吹き出しており、チャンバー外部から塵や不純物ガスの吸い込みが生じることはない。不純物除去部13から露光部雰囲気に供給されたエアーは、リターン部16を通り、再び空調機10によって温度調整されたのち圧送ファン11を通ってチャンバー内を循環する。
【0013】
圧送ファン11は多量のエアーを送風しているため、圧送ファン11の上流側は外気に対して負圧となっている。この負圧によって、露光部雰囲気で外部に漏洩した量のエアーが外気取り入れ口17から補給される。外気取り入れ口17にはガス状不純物除去フィルターと除塵フィルターからなる不純物除去フィルター18が設置され、外気はこの不純物除去フィルター18を通してチャンバー内に取り込まれる。
図の例では、チャンバー9内の負圧部分に差圧計14を設け、外気との差圧を測定する。また、外気取り入れ口17に風速計15を設け、外気取り入れ口17からチャンバー内に導入される外気の風速、すなわち流量を測定する。差圧計14及び風速計15の出力は制御部8に入力される。
【0014】
チャンバー内部の負圧部分を包囲するチャンバー領域において、チャンバーパネルの隙間を充填するためのシールが欠落すると、そのシール欠落部よりチャンバー内に外気が吸い込まれる。チャンバー壁から外気吸い込みが生じると、負圧部分の圧力が上昇するとともに、外気取り入れ口17からの取り入れ風量が減少する。制御部8は、この風量と外気との差圧を常時モニターし、そのいずれか一方あるいは両方に変化が現れた場合に、報知部12に信号を送って装置オペレータに異常を知らせる。あるいは、異常を検出した場合に送風機11を停止させることで負圧領域を消滅させ、シール欠落部からチャンバー内への外気吸い込みを防止する。
図の例では、チャンバー9は露光部全体を包囲しているが、光源部1や電源部など発熱量の大きな部分をチャンバーの外に出して露光部の一部をチャンバーで包囲するようにしてもよい。
【0015】
【発明の効果】
本発明によれば、チャンバーの気密性を常時モニターしてチャンバー内への不純物の混入を防ぐことができるので、シールの不具合によって生じる不純物除去フィルターの劣化や装置内部の汚染を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】露光部の概略図。
【図2】本発明による露光装置の一例を示す概略図。
【符号の説明】
1…光源部、2…照射光反射部材、3…照明系部、4…レチクル、5…投影レンズ、6…ウエハ、7…ステージ、8…制御部、9…チャンバー、10…空調機、11…圧送ファン、12…報知部、13…不純物除去部、14…差圧計、15…風速計、16…リターン部、17…外気取り入れ口、18…不純物除去部

Claims (7)

  1. 照明光学系を介して、光源部から射出された紫外線でレチクルを照明し、該レチクルのパターンを投影系を介して感光性基板上に転写する露光部と
    外気導入部を有し、前記露光部の一部もしくは全部を収容するチャンバーと、前記チャンバー内に設置され前記外気導入部に負圧を発生して前記チャンバー内に外気を導入するとともに、前記チャンバー内のガスを循環させるガス循環手段と、
    前記チャンバー内で、外圧に対して負圧になる領域の気密状態を検知する気密状態検知手段とを備えることを特徴とする露光装置。
  2. 前記気密状態検知手段によって前記チャンバーの気密性が低下していることが検知されたとき、その報知と前記ガス循環手段の停止の少なくとも一方を行う制御手段を備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
  3. 前記気密状態検知手段は、外気との差圧を測定する差圧計であることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
  4. 前記気密状態検知手段は前記チャンバーの外気導入部に設けられた風速計であることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
  5. 前記チャンバーの外気導入部及び前記チャンバー内部のガス循環経路にガス状不純物除去手段を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の露光装置。
  6. 前記チャンバーの外気導入部は、ガス状不純物除去手段を備え、
    前記チャンバー内のガスは、前記ガス状不純物除去手段を通して取り入れられた外気であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の露光装置。
  7. 前記負圧になる領域は、前記チャンバーのシール欠落部であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載の露光装置。
JP07289496A 1996-03-27 1996-03-27 露光装置 Expired - Fee Related JP3601171B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07289496A JP3601171B2 (ja) 1996-03-27 1996-03-27 露光装置
KR1019970012127A KR100542414B1 (ko) 1996-03-27 1997-03-27 노광장치및공조장치
US09/266,873 US6535270B1 (en) 1996-03-27 1999-03-12 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus
US10/237,133 US20030035087A1 (en) 1996-03-27 2002-09-09 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus
US11/071,106 US20050185156A1 (en) 1996-03-27 2005-03-04 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07289496A JP3601171B2 (ja) 1996-03-27 1996-03-27 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09266148A JPH09266148A (ja) 1997-10-07
JP3601171B2 true JP3601171B2 (ja) 2004-12-15

Family

ID=13502525

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07289496A Expired - Fee Related JP3601171B2 (ja) 1996-03-27 1996-03-27 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3601171B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105988296B (zh) * 2015-01-28 2017-12-29 南通大学 一种净化曝光装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09266148A (ja) 1997-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100542414B1 (ko) 노광장치및공조장치
US5685895A (en) Air cleaning apparatus used for an exposure apparatus
US5430303A (en) Exposure apparatus
JP4816080B2 (ja) フィルタ装置及び露光システム並びにデバイスの製造方法
JP3595791B2 (ja) 半導体製造装置
JP2002158170A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JPH11204411A (ja) 塗布現像露光装置
US20020057425A1 (en) Exposure apparatus, device manufacturing method, gas substituting apparatus, and gas substituting method
KR20020036952A (ko) 노광장치 및 디바이스 제조방법, 그리고 노광장치의환경제어방법
JP3658852B2 (ja) 露光装置
JPH11288870A (ja) 露光装置
JP3601171B2 (ja) 露光装置
JP3433844B2 (ja) 露光装置用のフィルタ装置及び投影露光装置
JP3265666B2 (ja) 露光装置
JP2000306807A (ja) 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JPH09283401A (ja) 露光装置
WO2005038887A1 (ja) 環境制御装置、デバイス製造装置、デバイス製造方法、露光装置
JPH08306599A (ja) 空気浄化装置及び露光装置
JP4789352B2 (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JPH11111593A (ja) 環境制御装置
JPH09275054A (ja) 半導体製造装置
JP3633086B2 (ja) 空調装置及びそれを備えた露光装置
WO2002053267A1 (fr) Element de filtre de ventilateur, dispositif d'exposition et leur procede de fabrication
JP3061980B2 (ja) 半導体露光装置
JP3550627B2 (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040712

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040831

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040913

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071001

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees