JP3633086B2 - 空調装置及びそれを備えた露光装置 - Google Patents

空調装置及びそれを備えた露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3633086B2
JP3633086B2 JP07377696A JP7377696A JP3633086B2 JP 3633086 B2 JP3633086 B2 JP 3633086B2 JP 07377696 A JP07377696 A JP 07377696A JP 7377696 A JP7377696 A JP 7377696A JP 3633086 B2 JP3633086 B2 JP 3633086B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air conditioner
removal filter
impurity removal
filter
duct
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP07377696A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09266147A (ja
Inventor
正幸 村山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP07377696A priority Critical patent/JP3633086B2/ja
Priority to KR1019970012127A priority patent/KR100542414B1/ko
Publication of JPH09266147A publication Critical patent/JPH09266147A/ja
Priority to US09/266,873 priority patent/US6535270B1/en
Priority to US10/237,133 priority patent/US20030035087A1/en
Priority to US11/071,106 priority patent/US20050185156A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3633086B2 publication Critical patent/JP3633086B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Prevention Of Fouling (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造工場の空調あるいは露光装置の空調等に使用される空調装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造用クリーンルームでは、粒子状汚染物質の除去のためにHEPAフィルターやULPAフィルターを用いた空気浄化システムが採用されている。また、半導体製造工程で使用する装置、例えば紫外域の光又は遠紫外域の光(以下、両者をまとめて紫外線という)を使用する露光装置の場合、雰囲気中にNH やSOxのようなガス状不純物が存在すると、それが化学変化又は物理変化を起こして、例えば(NHSOの様な物質としてレンズやミラー等の硝材表面に付着し、曇りを生じさせたり透過率を低下させることがあった。
【0003】
したがって、このような紫外線を使用する露光装置においては、光源からの照明光を継続的効果的に使用するためにも、照射光の光路中を例えば窒素やヘリウム等の紫外線に不活性かつ不純物を含有しないガスで置換する必要があった。このため、紫外線を使用する従来の露光装置においては、光路部を密閉型とし、照明光に対して不活性なガスを、例えばガスボンベの様なガス供給部より供給するか、不純物除去フィルターを通して不純物の除去された大気ガスを光路部に供給するようにしていた。
【0004】
また、紫外線を用いるホトリソグラフィー工程では化学増幅型レジストが多く使用される。化学増幅型レジストは、一般に樹脂、感光性の酸発生剤、溶解促進剤あるいは架橋剤からなる。そして、露光によって酸発生剤から酸が発生し、露光後のベーク時にその酸がポジ型の場合は高分子鎖を切断する分解促進剤の触媒として、ネガ型の場合は高分子鎖を架橋させる架橋剤の触媒として働き、現像によってパターンを形成するものである。溶解促進剤を用いたものはポジタイプのパターンを形成し、架橋剤を用いたものはネガタイプのパターンを形成する。
【0005】
この化学増幅型レジストを使用するとき、基板雰囲気中にアンモニアやアミン類などの塩基性のガス状不純物が存在すると、露光から露光後ベーク時までの間に、酸発生剤から発生した酸とこれらのガス状不純物が中和反応を起こしてしまうために、感度低下を起こし、特にポジ型レジストの場合には表面難溶化層を形成してパターン転写に悪影響を及ぼす等の問題を生じる。
従来は、このようなガス状不純物による影響を防止するため、化学増幅型レジストが塗布されたウエハの塗布もしくは露光から露光後ベークまでの経路を不純物を含有していない不活性ガスで置換するか、不純物ガスの除去されたガスを供給するなどして対応していた。
【0006】
いずれの場合にも、大気中の不純物ガスの除去にはケミカルフィルターが用いられる。ケミカルフィルターは、HEPAフィルターやULPAフィルターでは除去できない雰囲気中のガス状不純物を除去できるフィルターであり、繊維状又は粒状の活性炭を用いたもの、イオン交換樹脂によるイオン交換反応を利用したもの、活性炭繊維に薬品を添着したもの等がある。イオン交換反応を利用したケミカルフィルターの例としては荏原製作所製の「EPIX」があり、活性炭繊維に薬品を添着したケミカルフィルターの例としては近藤工業製の「CLEAN
SORB」などがある。ケミカルフィルターはケースに収容され、このケースが入ったフィルターボックスを装置内、装置周辺又はガス供給経路に配置して使用される。
【0007】
図11は、従来の露光装置の概略図である。露光部は、光源1、ミラー2、照明光学系3、投影レンズ5、XYステージ7等からなり、レチクル4のパターンをXYステージ7上に載置された感光性基板6上に転写する。露光部は、チャンバー9内に配置されている。
【0008】
チャンバー9内のエアーは、空調装置10によって温度調整され、フィルターボックスに収容されたケミカルフィルター14及びHEPAフィルター等の除塵フィルター15を直列配置してなる不純物除去部を通して送風される。不純物除去部から露光部雰囲気に供給されたエアーは、リターン部16を通り、再び空調装置10によって温度調整されたのちチャンバー内を循環する。空調装置10内には、例えば温調機11や圧送ファン12が配置され、各部はダクト13a,13bによって結合されている。空調装置10の上流側のリターン部16は外気に対して負圧になっており、この負圧によって、露光部雰囲気で外部に漏洩した量のエアーが外気取り入れ口17から不純物除去フィルター18を通してチャンバー9内に取り込まれる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ケミカルフィルター等のガス状不純物除去フィルターはフィルターボックスに収容されているため、そのフィルターボックスを設置するための場所を確保する必要があった。例えば、露光装置内にフィルターボックスを設置すると装置内で利用できる空間が減少し、またフィルターボックスの分だけ装置が大型になってしまう。
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、不純物除去フィルターが占有する空間を低減し、装置を小型化することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明では、空調装置内のガス供給用ダクトの内部に不純物除去フィルターを設置することで前記目的を達成する。
不純物除去フィルターは中空の筒状あるいは蛇腹状とすることができ、ダクトの内壁に接触しないように支持部材によってダクトの内壁から支持することができる。ダクトは不純物除去フィルターを設置したまま折り曲げ可能である。フィルターを筒状とすることで、フィルターの処理面積を増大し、同時にフィルターによる圧力損失を低減することができる。
【0011】
不純物除去フィルターは、ガス状不純物除去フィルターであってもよいし、ガス状不純物除去フィルターと除塵フィルターとの組み合わせであってもよい。ガス状不純物除去フィルターとしては、アンモニア、アルカリアミン類、硫酸イオン、N−メチル−2−ピロリドン、トリメチルシラノール等の不純物ガスを除去できるイオン交換樹脂あるいは薬品添着された活性炭繊維によるケミカルフィルターを用いることができる。除塵フィルターとしてはHEPAフィルターあるいはULPAフィルターを用いることができる。
【0012】
本発明によると、専用の設置場所を設けることなく既存のダクト内空間を利用して空調装置内に不純物除去フィルターを設置することができる。本発明の空調装置は、露光装置の空調装置やクリーンルームの空調装置に適用することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は、露光装置用の空調装置に本発明を適用した例を示す。露光装置の露光部はチャンバー9内に配置され、チャンバー9には空調装置10が接続されている。遠紫外線を射出する例えばエキシマレーザーやHgランプのような光源1からの照射光は、ミラー2で反射され、フライアイレンズ等のオプチカルインテグレータやコンデンサーレンズ等の照度均一化手段、各種レンズやミラー等からなる照明光学系3によって均一な照明光に整形される。照明光学系3で均一化された照明光は、再びミラー2によって光路を折り曲げられ、パターンが形成されたレチクル4を均一に照明する。レチクル4のパターンは投影レンズ5によって、レジストの塗布されたウエハ等の感光性基板(以下、ウエハという)6上に像を結び、転写される。ウエハ6は、2次元方向に移動可能なXYステージ7上に載置されている。
【0014】
チャンバー9内のエアーは、空調装置10によって温度調整される。空調装置10内には、例えば温調機11や圧送ファン12が配置され、各部はダクト13a,13によって結合されている。露光部を通ったエアーは、リターン部16を通り、再び空調装置10によって温度調整されたのちチャンバー9内を循環する。空調装置10の上流側のリターン部16は、外気に対して負圧になっており、この負圧によって、露光部雰囲気で外部に漏洩した量のエアーが外気取り入れ口17から不純物除去フィルター18を通してチャンバー9内に取り込まれる。
【0015】
この例においては、チャンバー9内を循環するエアー内のガス状不純物を除去するケミカルフィルターを空調装置10のダクト13b内に配置している。従って、チャンバー9内には除塵フィルター15を配置するだけでよく、チャンバー内スペースを有効活用することができる。
【0016】
図2〜図10により、ダクト内へのケミカルフィルターの設置方法について説明する。
図2は、内部にフィルターを設置したダクトの一部を破断した斜視図、図3はその断面図である。ガス供給ダクト13内に、底がない中空円筒形状のケミカルフィルター20を円環状の仕切板21によって固定配置する。仕切板21はケミカルフィルター20底部の縁とダクト内壁の間を塞ぎ、ダクト13を通るガスが全てケミカルフィルター20を通過するようにする。仕切板21をケミカルフィルター20で構成することも可能である。ダクト13内を流れるガスは筒状のケミカルフィルター20を外側から内側に向かって通過し、そのときガス状不純物が除去される。ケミカルフィルター20の交換は、ケミカルフィルター設置部分のダクトを取り外し可能とし、ダクトごと交換することで行われる。
【0017】
ケミカルフィルター20の天板部分22は、矢印で示すガスの流れに対して垂直となるため、側面部分と同じケミカルフィルターで構成すると通過風量が側面部分と比較して多くなり、劣化が速く起こる。従って、図3に示すように、天板部分22は電解研磨されたステンレス板やフッ素樹脂のような脱ガスがほとんどない部材で構成するのが好ましい。
【0018】
天板部分もケミカルフィルターで構成した場合には、図4に示すように、天板の上流側に電解研磨されたステンレス板やフッ素樹脂で作った邪魔板24を配置するのがよい。この場合には、邪魔板24によってガスの流れが拡散されて天板部分を通過するガス量が減少するため、天板部分のケミカルフィルターだけが急速に劣化することを防ぐことができる。
【0019】
中空筒状のケミカルフィルター20の配置としては、図2〜4に示す凸部を上流側に向けた配置の他に、図5に示すように凸部を下流側に向けて配置することもできる。この場合、ガスは筒状ケミカルフィルター20を内側から外側に向かって通過する。天板部分22を側面と同じケミカルフィルターで構成すると通過ガス量が多くなって急速に劣化してしまうため、天板部分22はガスを透過しない板とするのがよい。
【0020】
また、ダクト内壁とガス状不純物除去フィルターが接触すると、接触部分のフィルターはガスが流通しなくなってしまうか、通りうる流量が減少してしまう。一部分でもフィルターにガスが通らなくなると、圧力損失の増加及び、処理面積の低下によるフィルターの短寿命化などが起きる可能性がある。圧力損失が増加すると圧送ファンに負荷がかかってしまうため、必要量のガス供給がされなくなってしまう可能性がある。そのため、フィルターがダクト内壁に接触するのを防ぐ必要がある。
【0021】
図6及び図7は、ケミカルフィルターとダクトの接触を防ぐ手段の一例を示すものである。図6はダクト縦断面図、図7は横断面図である。この例では、ガスを透過しない部材で天板32を作製した筒状ケミカルフィルター30を円環状の仕切板31でダクト13内に固定し、さらに筒状ケミカルフィルター30をその長手方向の複数箇所で針金等の支持部材33によってダクト13の内壁に固定する。支持部材33はダクト内壁との間隔を規定する。従って、ダクト13を湾曲させると内部のケミカルフィルター30もダクト内壁と一定の間隔を保って同様に湾曲するため、ダクト13を曲げたとしても内部のケミカルフィルター30がダクト内壁に接触することが防止される。
【0022】
図8は、ケミカルフィルターの他の例を示す。この例では、ケミカルフィルター40を蛇腹状にして長手方向に伸縮自在とし、針金等の支持部材43によってダクト13の内壁に固定した。ケミカルフィルター40を蛇腹状にすることで、フィルターの表面積を大きくすることができ、またフィルターの変形が容易になる。従って、フィルター40の設置されたダクト13の折り曲げ自由度が増し、装置内の狭い空間で空き空間を利用した自由な引き回しが可能となる。フィルターの表面積を大きくできることで圧力損失の低下、長寿命化も期待できる。
【0023】
図9は、ケミカルフィルターのさらに他の例を示す。この例のケミカルフィルター50は、ひだ状の側面部を有し、フィルターの処理面積を大きくして、処理能力の向上、圧力損失の低下、長寿命化を図ったものである。天板部分52は、電解研磨されたステンレス板やフッ素樹脂のような部材で構成する。
中空筒状ケミカルフィルターの形状は円筒形に限られない。例えば、図10に示すような箱型ケミカルフィルター60であってもよいし、多角形状とすることもできる。
【0024】
なお、ダクト13内に設置するのはケミカルフィルターに限られず、除塵フィルター15もケミカルフィルターと一緒にダクト内に設置してもよい。その場合、露光装置のチャンバー内空間をより有効に活用することができる。また、本発明による空調装置は露光装置用の空調装置だけでなく、例えばクリーンルーム建て屋の空調装置に適用することもできる。
【0025】
【発明の効果】
本発明によれば、専用の設置空間を必要とせずに不純物除去フィルターを設置することができるため、露光装置やクリーンルーム内部の空間を有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による露光装置の概略説明図。
【図2】ダクト内に配置したフィルターの一例の概略図。
【図3】図2の断面模式図。
【図4】拡散板を使用した配置の概略説明図。
【図5】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略図。
【図6】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略図。
【図7】図6の断面模式図。
【図8】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略図。
【図9】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略図。
【図10】ダクト内に配置したフィルターの他の例の概略図。
【図11】従来の露光装置の概略説明図。
【符号の説明】
1…光源、2…ミラー、3…照明光学系、4…レチクル、5…投影レンズ、6…感光性基板、7…XYステージ、9…チャンバー、10…空調装置、11…温調機、12…圧送ファン、13,13,13b…ダクト、14…ケミカルフィルター、15…除塵フィルター、16…リターン部、17…外気取り入れ口、18…不純物除去フィルター、20…ケミカルフィルター、21…仕切板、22…天板部分、24…邪魔板、30…筒状ケミカルフィルター、31…仕切板、32…天板、33…支持部材、40…ケミカルフィルター、43…支持部材、50…ケミカルフィルター、60…ケミカルフィルター

Claims (15)

  1. ガス供給用ダクトと、
    前記ガス供給用ダクト内に配置される不純物除去フィルターと、
    前記ガス供給用ダクトの内壁に対し、前記不純物除去フィルターを所定間隔離して支持する支持部材とを有する
    ことを特徴とする空調装置。
  2. 前記不純物除去フィルターは中空の筒状であることを特徴とする請求項1記載の空調装置。
  3. 前記不純物除去フィルターは蛇腹状であることを特徴とする請求項1記載の空調装置。
  4. 前記不純物除去フィルターは中空の箱型あるいは中空の多角形状であることを特徴とする請求項1記載の空調装置。
  5. 前記不純物除去フィルターの底部を前記ガス供給用ダクトの内壁に固定する円環状の仕切板を有することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の空調装置。
  6. 前記仕切板は、不純物除去フィルターで構成されることを特徴とする請求項5記載の空調装置。
  7. 前記不純物除去フィルターの天板部分は、ステンレス板又はフッ素樹脂で構成されることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の空調装置。
  8. 前記不純物除去フィルターの天板部分の上流側に配置される邪魔板を有することを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の空調装置。
  9. 前記支持部材は、前記不純物除去フィルターの長手方向の複数箇所を支持することを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の空調装置。
  10. 前記不純物除去フィルターの側面は、ひだ状に形成されることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の空調装置。
  11. 前記不純物除去フィルターは、前記ガス供給用ダクトとともに交換されることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載の空調装置。
  12. 照明光学系を介して、光源から射出された光でレチクルを照明し、前記レチクルのパターンを感光性基板上に転写する露光部と、
    前記露光部の一部又は全部を収容するチャンバーと、
    前記チャンバー内のガスを温度調整する空調装置とを含む露光装置において、
    前記空調装置として請求項1〜11のいずれかに記載された空調装置を用いることを特徴とする露光装置。
  13. 照明光学系を介して、光源から射出された光でレチクルを照明し、前記レチクルのパターンを感光性基板上に転写する露光部と、
    前記露光部の一部又は全部を収容するチャンバーと、
    前記チャンバー内のガスを温度調整する空調装置とを含む露光装置において、
    前記空調装置は、前記チャンバーに接続されるダクトと、該ダクト内に配置される不純物除去フィルターと、前記ダクトの内壁に対し、前記不純物除去フィルターを所定間隔離して支持する支持部材とを有することを特徴とする露光装置。
  14. 前記不純物除去フィルターが配置された前記ダクトは、取り外し可能であることを特徴とする請求項13記載の露光装置。
  15. 前記不純物除去フィルターは、ケミカルフィルターあるいは除塵フィルターであることを特徴とする請求項13又は14記載の露光装置。
JP07377696A 1996-03-27 1996-03-28 空調装置及びそれを備えた露光装置 Expired - Lifetime JP3633086B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07377696A JP3633086B2 (ja) 1996-03-28 1996-03-28 空調装置及びそれを備えた露光装置
KR1019970012127A KR100542414B1 (ko) 1996-03-27 1997-03-27 노광장치및공조장치
US09/266,873 US6535270B1 (en) 1996-03-27 1999-03-12 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus
US10/237,133 US20030035087A1 (en) 1996-03-27 2002-09-09 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus
US11/071,106 US20050185156A1 (en) 1996-03-27 2005-03-04 Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07377696A JP3633086B2 (ja) 1996-03-28 1996-03-28 空調装置及びそれを備えた露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09266147A JPH09266147A (ja) 1997-10-07
JP3633086B2 true JP3633086B2 (ja) 2005-03-30

Family

ID=13527954

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07377696A Expired - Lifetime JP3633086B2 (ja) 1996-03-27 1996-03-28 空調装置及びそれを備えた露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3633086B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6313953B1 (en) * 1999-01-15 2001-11-06 Donaldson Company, Inc. Gas chemical filtering for optimal light transmittance; and methods
KR100462672B1 (ko) * 2002-01-23 2004-12-20 주식회사 케이피씨 반도체 제조용 공정가스의 정제장치
KR100710227B1 (ko) * 2005-05-20 2007-04-20 엘지전자 주식회사 조명겸용 환기 시스템 및 그 제어방법과 조명겸용 환기덕트

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09266147A (ja) 1997-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100542414B1 (ko) 노광장치및공조장치
US7186285B2 (en) Chemical filter arrangement for a semiconductor manufacturing apparatus
US6288769B1 (en) Optical device method of cleaning the same, projection aligner, and method of producing the same
KR100433349B1 (ko) 노광 장치에 사용되는 기체 정화 장치 및 기체 정화 방법과 노광장치
JP3448670B2 (ja) 露光装置及び素子製造方法
JP2002158170A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JPH11204411A (ja) 塗布現像露光装置
JP3633086B2 (ja) 空調装置及びそれを備えた露光装置
JP3658852B2 (ja) 露光装置
JP2004259786A (ja) 露光装置
JP3265666B2 (ja) 露光装置
JP3433844B2 (ja) 露光装置用のフィルタ装置及び投影露光装置
JPH11111593A (ja) 環境制御装置
JPH08306599A (ja) 空気浄化装置及び露光装置
JPH09275054A (ja) 半導体製造装置
JP3061980B2 (ja) 半導体露光装置
JP3601171B2 (ja) 露光装置
JP4174239B2 (ja) ガス供給装置、露光システムおよびデバイス製造方法
WO2002053267A1 (fr) Element de filtre de ventilateur, dispositif d'exposition et leur procede de fabrication
JPH09275053A (ja) 半導体製造装置
JPH10106939A (ja) 露光システムおよび基板搬送方法
JP3550627B2 (ja) 露光装置
JP2010067904A (ja) 露光装置
JP2005072076A (ja) 露光装置及びケミカルフィルタ並びにデバイスの製造方法
JPH06318538A (ja) 半導体装置及びその製造方法並びにその製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040713

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040817

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080107

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20170107

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term