JP3596101B2 - ワークの自動含浸装置と自動含浸濯ぎ装置 - Google Patents
ワークの自動含浸装置と自動含浸濯ぎ装置 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、磁性材を積層してなる磁気コア等のワークに樹脂液を含浸あるいは被覆せしめる自動含浸装置と、樹脂液を含浸あるいは被覆せしめたワークから余剰の樹脂液を濯ぎ落とす自動濯ぎ装置を備えた自動含浸濯ぎ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、トロイダルコアはフェライト等の強磁性体を焼結して製造するのが一般的であったが、近年では、磁気特性に優れたアモルファス金属等からなる薄い帯板を環状に巻回して製造する手法も多く採用されるている。このトロイダルコアの製造方法に関しては、例えば特開昭６０―１３４４１１号公報に開示されている。
【０００３】
この種のトロイダルコアの一部には、薄い帯板を巻回した後にエポキシ等の樹脂液を含浸し、液切りの後に樹脂液を硬化させ、更にその後にトロイダルコアにスリットを切り、このスリットにスペーサを介挿させたものがある。
【０００４】
ここでトロイダルコアに樹脂液を含浸し硬化するのは、スリットを入れた時にトロイダルコアが分解しないようにするためと、切り込んだスリットの隙間寸法が変化しないようにするため等の理由から行っている。
【０００５】
又、このようにスリットを設けないトロイダルコアや、磁性板を積層して構成されたＥＩ型、ＣＩ型の磁気コアについても、種々の理由から樹脂液を含浸し硬化させるものもある。
【０００６】
従来は磁気コアに樹脂液を含浸する工程をバッチ式で行っていた。例えば、上部にマンホールを有し内部に樹脂液が充填された大きなタンクの中に、多数の磁気コアを納めたラックを収納し、タンク内を真空ポンプで吸引して負圧状態にして、この状態を所定時間保持することにより行っている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように樹脂液の含浸工程をバッチ式で行うと、磁気コアをタンク内へ収容する際やタンクから磁気コアを取り出す際に、タンクのマンホールを開閉する作業が必要であり、更に、重量の重いラックをクレーン等で吊り上げて出し入れする作業が必要であり、時間と手間がかかっていた。
【０００８】
又、マンホールを開けた際には樹脂液から発生するガスが放出されるが、タンク内に充填されている樹脂液の量が多いので発生するガスも無視できず、このガスの放出により作業環境が悪化するという問題もあった。
【０００９】
更に、従来は樹脂液含浸後の液切りを自然落下に任せていたが、これだと樹脂液の粘性が高いこともあって完全な液切れが難しく、図１４に示すように磁気コアＷ′の外面に樹脂液が液滴状に残留したまま、次工程である硬化工程に進行させていた。その結果、磁気コアＷ′の外面で硬化した樹脂液の粒々がバリＰとして残存することとなった。
【００１０】
このようにバリＰが残存していると、その後の工程（例えば、磁気コアをケースに収納する工程）で作業に支障を来すこととなるので、従来はバリ取り工程が必要であった。このバリ取り工程は機械化が難しく殆ど手作業で行っており、この作業にも時間と手間がかかっていた。
【００１１】
本発明はこのような従来の技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、樹脂液含浸工程を自動化して生産性を向上せしめることができるワークの自動含浸装置を得ることにある。
【００１２】
又、本発明の別の目的は、前記自動含浸装置で樹脂液を含浸したワークに付着する余剰の樹脂液を硬化工程に移行する前に除去 してバリの発生を未然に防ぎ、この余剰樹脂液除去工程を自動化して生産性を向上せしめることができる自動含浸濯ぎ装置を得ることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記課題を解決するために、以下の手段を採用した。
〈本発明の要旨〉
本発明は、上部を開口させ内部に樹脂液を収容する含浸槽と、前記含浸槽内にワークを搬入する第１搬送機構と、前記含浸槽の上部開口を気密に閉塞可能な蓋体と、この蓋体を開動作あるいは閉動作せしめる蓋体移動機構と、前記蓋体で密閉された含浸槽の内部を負圧化する吸引機構と、前記含浸槽内からワークを含浸槽外に搬出する第２搬送機構、とを備えたことを特徴とするワークの自動含浸装置である。
【００１４】
ここで、本発明でワークとは被含浸物のことを意味し、具体的には磁気コア等を例示できる。
【００１５】
樹脂液としては、エポキシ樹脂液（以下、Ｅｐと略す）、及び、Ｅｐと稀釈剤との混合液等を例示することができる。稀釈剤としてはフルフリルアルコール（以下、ＦＦＡと略す）等を例示することができる。樹脂液の混合比率としては、樹脂液全体に対しＥｐを３０〜１００重量％、好ましくは、Ｅｐを７５〜９５重量％とするのがよい。
【００１６】
含浸槽の真空度は０〜７５０ｔｏｒｒ． 、好ましくは２０〜７００ｔｏｒｒ． とするのがよい。
【００１７】
又、本発明でバリの発生を防止または抑制するには、含浸工程の条件として、大気圧と含浸槽内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液の粘度μ（Ｃｐ）との比ΔＰ／μが１〜１０、特に２〜８の範囲とすることが好ましい。
【００１８】
負圧状態保持時間は、１〜６０秒、好ましくは３〜２０秒とするのがよい。
前記含浸槽の内部に、ワークを載置可能とする含浸篭を上下動可能に設置して、ワークを含浸槽の樹脂液に浸漬せしめたりあるいは樹脂液から引き上げたりすることができるようにし、この含浸篭に前記第１搬送機構及び第２搬送機構を連繋することも可能である。
【００１９】
前記吸引機構を前記蓋体に連結することも可能である。吸引機構としては真空ポンプを例示することができる。
前記第１搬送機構及び第２搬送機構は、ワークを把持する手段として電磁石を備えたものとすることができる。ただし、これら搬送機構のワーク把持手段は電磁石に限るものではない。
【００２０】
自動含浸装置は、前記含浸槽内の樹脂液の液位を検出する液位センサと、含浸槽内の樹脂液の液位を一定レベルに保つべく前記液位センサの検出結果に基いて樹脂液を補充する樹脂液注入機構、とを備えるのが好ましい。
【００２１】
又、自動含浸装置は、少なくとも３つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００２２】
更に、自動含浸装置は、少なくとも４つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋され、更にまた別の一つの含浸槽が前記液位センサ及び樹脂液注入機構に連繋されるように構成してもよい。
【００２３】
尚、本発明の自動含浸装置は、固定された一つの含浸槽に対して、第１搬送機構と蓋体と第２搬送機構が順番に連繋されるようにして構成してもよい。
【００２４】
又、本発明は、前記自動含浸装置と、この自動含浸装置で樹脂液を含浸せしめた磁気コイルに付着した余剰の樹脂液を濯ぎ液で濯ぎ落とす自動濯ぎ装置とを備え、前記自動含浸装置の第２搬送機構によってワークが自動濯ぎ装置に供給されることを特徴とするワークの自動含浸濯ぎ装置である。
【００２５】
濯ぎ液としては、エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコールを例示することができる。
【００２６】
前記自動含浸濯ぎ装置における自動濯ぎ装置は、上部を開口させ内部に濯ぎ液を収容した濯ぎ槽と、前記濯ぎ槽内の濯ぎ液を撹拌する撹拌機構と、前記濯ぎ篭内からワークを濯ぎ篭外に搬出する第３搬送機構、とを備えたものとすることができる。
【００２７】
前記自動濯ぎ装置の濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設け、この濯ぎ槽を回転可能とし、濯ぎ槽の回転と撹拌羽根によって撹拌機構を構成することも可能である。ただし、撹拌機構はこれに限るものではなく、濯ぎ槽に撹拌機を設置して構成することも可能である。
【００２８】
自動濯ぎ装置における濯ぎ槽の内部に、ワークを載置可能とする濯ぎ篭を上下動可能に設置して、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるようにし、この濯ぎ篭に前記第２搬送機構及び第３搬送機構を連繋することも可能である。
【００２９】
自動濯ぎ装置における第３搬送機構は、ワークを把持する手段として電磁石を備えたものとすることができる。ただし、これら搬送機構のワーク把持手段は電磁石に限るものではない。
【００３０】
自動濯ぎ装置の濯ぎ槽の回転中に前記濯ぎ篭が上下動せしめるように構成してもよい。
【００３１】
自動濯ぎ装置は、少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽が前記第３搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００３２】
又、自動濯ぎ装置は、少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、各濯ぎ槽の内部には、ワークを載置可能とする濯ぎ篭が、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるように上下動可能に設置されており、これら濯ぎ篭は前記回転テーブルに対して上下動可能な昇降テーブルに取り付けられていて、全ての濯ぎ篭が同期して上下動せしめられるようにされており、前記回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第３搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００３３】
〈本発明の作用〉
ワークは第１搬送機構により含浸槽に搬送され、含浸槽内の樹脂液に浸漬される。次に蓋体が蓋体移動機構によって移動せしめられて含浸槽に被せられ、含浸槽を気密に閉塞する。その後、吸引機構が含浸槽の内部を吸引して含浸槽内を所定時間の間、所定の真空度に保つ。この間に、ワークに樹脂液が含浸する。含浸完了後、蓋体が蓋体移動機構により含浸槽から外され、第２搬送機構によってワークが含浸槽の外に搬送される。これによって、ワークに樹脂液を含浸あるいは被覆する工程を自動化することができ、生産性が向上する。
【００３４】
この自動含浸装置では、１回の含浸工程で使用される樹脂液の量を少なくでき、これによって樹脂液から放出されるガスの量を少なくできる。その結果、作業環境が向上する。
【００３５】
自動含浸装置に含浸篭を備えた場合には、第１搬送機構及び第２搬送機構によるワークの受け渡しを樹脂液から引き上げた位置で行える。
吸引機構を蓋体に連結した場合には、含浸槽が移動するシステムに自動含浸装置を構築する時に有利である。
【００３６】
自動含浸装置に樹脂液注入機構を備えた場合には、含浸槽内の樹脂液が減った時に自動的に樹脂液を補給することができ、これにより含浸槽内の樹脂液量を常に一定量に保持することができる。
【００３７】
請求項６に記載するように少なくとも３つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合、あるいは、請求項７に記載するように少なくとも４つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができる。
【００３８】
又、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設けると、樹脂液を硬化する前に、ワークに付着した余剰の樹脂液を除去することができ、これによって、余剰樹脂液付着に起因してワーク表面に形成されるバリの発生を未然に防止することができる。
【００３９】
濯ぎ槽と撹拌機構と第３搬送機構とを備えた自動濯ぎ装置では、構造が簡単にでき、しかも濯ぎ効果を大きくすることができる。
濯ぎ槽を回転可能とし、この濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設けて撹拌機構とすると、撹拌機構を簡単な構造にできるという効果がある。
【００４０】
自動濯ぎ装置は、濯ぎ槽内で上下する濯ぎ篭を備えると、第２搬送機構及び第３搬送機構によるワークの受け渡しを濯ぎ液から引き上げた位置で行うことができる。
【００４１】
濯ぎ槽の回転中に濯ぎ篭が上下動するようにした場合には、濯ぎ効果を更に向上させることができる。
少なくとも３つの濯ぎ槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにすると、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができる。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の一形態を図１から図１３の図面に基いて説明する。
【００４３】
〔全体構成：自動含浸濯ぎ装置〕
図１は本発明の自動含浸濯ぎ装置の平面図であり、図２は同側面図である。自動含浸濯ぎ装置は、自動含浸装置１００、自動濯ぎ装置２００を主要な構成としており、この実施の形態では、自動含浸濯ぎ装置の前段にワーク搬入コンベア１が設置され、後段に硬化炉３００が設置されている。
【００４４】
尚、自動含浸装置１００、自動濯ぎ装置２００、硬化炉３００をも含めて広義に自動含浸装置と称する場合もあるが、本出願においては前述のように名称を使い分けて説明する。
【００４５】
この実施の形態におけるワークとしての磁気コアＷは、アモルファス金属からなる薄い帯板を環状に巻回して、その始端と終端をテープ又は溶接で端止めしたものであり、その外観斜視図を図１３に示す。
【００４６】
この磁気コアＷは、図示しない前流装置により所定条件の下で前処理をしてからワーク搬入コンベア１に乗せられる。又、ワーク搬入コンベア１の終端には整列機（図示せず）が配されており、整列機で所定数の磁気コアＷを所定に配置して自動含浸装置１００への搬入に備えている。
【００４７】
自動含浸装置１００と自動濯ぎ装置２００は共通の基台２に互いに隣接して設けられている。自動含浸装置１００と自動濯ぎ装置２００について以下に詳述する。
【００４８】
〈自動含浸装置〉
図４は自動含浸装置１００の要部の概略外観斜視図であり、図５及び図６は自動含浸装置１００の要部を断面で示した概略構成図である。
【００４９】
自動含浸装置１００は基台２に回転可能に支持された回転テーブル１１０を備えており、この回転テーブル１１０は、駆動モータ３、ベルト伝達機構４、駆動シャフト５によって一方向に９０度ずつ間欠的に回転駆動されるようになっている。
【００５０】
回転テーブル１１０には上部を開口させた４つの有底円筒状の含浸槽１２０が周方向９０度間隔に固定されている。含浸槽１２０の上縁にはフランジ部１２１が設けられており、この含浸槽１２０にはエポキシ系の樹脂液Ｑが収容可能になっている。
【００５１】
各含浸槽１２０の内部には上部を開口させた含浸篭１３０が上下動可能に設置されている。含浸篭１３０は、上下のリング部１３１，１３２を複数本の連結プレート１３３によって連結し、下リング１３２に網体１３４を張設して構成されている。この網体１３４はその上に複数の磁気コアＷを平面的に載置できる大きさを有している。
【００５２】
含浸篭１３０はスプリング１３５によって回転テーブル１１０に支持されており、通常は図５に示すように、網体１３４が含浸槽１２０の樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも上方に位置せしめられており、その時に上リング１３１が含浸槽１２０の上縁よりも上方に突出して位置するようにされている。
【００５３】
又、この含浸篭１３０は、図６に示すように上リング１３１の上縁が含浸槽１２０の上縁と同じ高さになるまで、スプリング１３５の弾性に抗して押し下げることができるようにされており、この時に、網体１３４が樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも下方に位置せしめられて磁気コアＷを樹脂液Ｑに浸漬することができるようになっている。
【００５４】
図３は自動含浸装置１００及び自動濯ぎ装置２００を中心にした概略平面配置図である。前述したように回転テーブル１１０は図３において矢印Ｒ１方向に９０度ずつ間欠的に回転するので、４つの含浸槽１２０は４つの定点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに順次移動停止することとなる。
【００５５】
自動含浸装置１００はまた、図３において第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの上方に設置された第１搬送機構１４０と、第２の定点Ｂに停止した含浸槽１２０Ｂの上方に設置された蓋体１５０と、第３の定点Ｃに停止した含浸槽１２０Ｃの上方に設置された第２搬送機構１６０と、第４の定点Ｄに停止した含浸槽１２０Ｄの上方に設置された樹脂液補充機構１７０とを備えている。
【００５６】
第１搬送機構１４０は、ワーク搬入コンベア１の終端の前記整列機で整列させた複数の磁気コアＷを搬送して、第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０に載置するものであり、図１においてＸ方向に沿って直線的に延びるガイドレール１４１と、このガイドレール１４１に沿って往復動するスライダ１４２と、エアシリンダ１４４を介してスライダ１４２に上下動可能に取り付けられた磁着部１４３とを備えている。
【００５７】
この磁着部１４３は電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができるように構成されており、電磁石に対して通電あるいは停電することにより磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００５８】
蓋体１５０はエアシリンダ（蓋体移動機構）１５１によって上下動可能に設置されている。詳述すると、基台２には第２の定点Ｂの上方に配されたブラケット１５３が固定されており、このブラケット１５３にエアシリンダ１５１が固定され、エアシリンダ１５１の駆動ロッド１５２の先端に蓋体１５０が固定されている。
【００５９】
この蓋体１５０は下降した時に第２の定点Ｂに停止した含浸槽１２０Ｂの含浸篭１３０を押し下げ、図６に示す如く含浸槽１２０Ｂのフランジ部１２１に密接して、含浸槽１２０Ｂを気密に閉塞する。又、この蓋体１５０はエアシリンダ１５１によって上昇せしめられ、図５に示すように含浸槽１２０Ｂ及び含浸篭１３０から離反して、これらの上方にて停止する。
【００６０】
この蓋体１５０の上面には吸気ノズル１５４と覗き窓１５５が設置されている。
吸気ノズル１５４は、蓋体１５０に設けられた吸気孔１５０ａに連通するとともに、フレキシブルホース１５８や開閉弁（図示せず）を介して真空ポンプ（吸引機構）１５６のリザーブタンク１５７に接続されており、蓋体１５０によって閉蓋され密閉された含浸槽１２０Ｂ内を吸引して、含浸槽１２０Ｂ内を所定時間の間、所定の真空度に保持できるようになっている。
【００６１】
例えば、真空度を２０〜７００ｔｏｒｒ． とし、大気圧と含浸槽１２０内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液Ｑの粘度μ（Ｃｐ）との比 ΔＰ／μを２〜８の範囲とした場合、３〜２０秒の間、設定した真空度に保持することができるようになっている。
尚、図５及び図６ではエアシリンダ１５１及び覗き窓１５５を省略している。
【００６２】
第２搬送機構１６０は、第３の定点Ｃに停止した含浸槽１２０Ｃの含浸篭１３０に載置されている磁気コアＷを自動濯ぎ装置２００に搬送するものであり、その構成は第１搬送機構１４０と同じである。
【００６３】
即ち、図１においてＸ方向に沿って直線的に延びるガイドレール１６１と、このガイドレール１６１に沿って往復動するスライダ１６２と、エアシリンダ１６３を介してスライダ１６２に上下動可能に取り付けられた磁着部１６４とを備えている。
【００６４】
磁着部１６４の構成及び機能は、前記第１搬送機構１４０における磁着部１４３と同じであり、電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができ、電磁石に対する通電あるいは停電により磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００６５】
この第２搬送機構１６０と第１搬送機構１４０とではその動作が若干異なっている。即ち、第１搬送機構１４０の場合には、磁着部１４３が下降するのはスライダ１４２の走行始端と終端の２ヶ所だけであるが、第２搬送機構１６０の場合には、磁着部１６４の下降がスライダ１６２の走行始端と終端の２ヶ所に加えて走行途中においても１回行われる。
【００６６】
即ち、スライダ１６２はガイドレール１６１を自動濯ぎ装置２００に接近する方向に移動する途中で一旦停止し、この一旦停止地点において磁着部１６４が下降し、回転テーブル１１０と後述する自動濯ぎ装置２００の回転テーブル２１０との間に設置された第１液切りポット１９０の中にこの磁着部１６４が進入し、第１液切りポット１９０内に所定時間停止した後に磁着部１６４が上昇し、その後、スライダ１６２が再び自動濯ぎ装置２００に接近移動する。
【００６７】
第１液切りポット１９０は上部を開口させた円筒状をなし、その内部には磁気コアＷを受ける網（図示せず）が張設されている。この第１液切りポット１９０の内部には圧縮空気が送り込まれるようになっており、第１液切りポット１９０内に進入した磁着部１６４に磁着した磁気コアＷに前記圧縮空気を吹き付けて、磁気コアＷに付着する樹脂液を払い落としている。尚、払い落とされた樹脂液は第１液切りポット１９０に接続されたドレン管（図示せず）から排出される。
【００６８】
樹脂液補充機構１７０は、第４の定点Ｄに停止した含浸槽１２０Ｄの樹脂液Ｑの液位Ｌ１を検出する超音波液位センサ（液位センサ）１７１と、含浸槽１２０Ｄに樹脂液Ｑを補充するための樹脂液注入ノズル（樹脂液注入機構）１７２とを備え、これら超音波液位センサ１７１と樹脂液注入ノズル１７２は含浸槽１２０Ｄの上方に設置されたブラケット１７３に固定されている。尚、このブラケット１７３は基台２に固定されている。
【００６９】
樹脂液補充機構１７０は、含浸槽１２０Ｄの樹脂液Ｑの液位Ｌ１を常に一定レベルに保持するために、超音波液位センサ１７１からの検出信号に基づいて必要量の樹脂液Ｑを樹脂液注入ノズル１７２から注出すべく自動制御運転される。
【００７０】
〈自動濯ぎ装置〉
図７は自動濯ぎ装置２００の要部の概略外観斜視図であり、図８及び図９は自動濯ぎ装置２００の要部を断面で示した概略構成図である。
【００７１】
自動濯ぎ装置２００は基台２に回転可能に支持された回転テーブル２１０を備えており、この回転テーブル２１０は、前記駆動モータ３、ベルト伝達機構６、回転駆動シャフト７によって、自動含浸装置１００の回転テーブル１１０の回転方向Ｒ１と同方向（即ち、図中矢印Ｒ２方向）に且つ回転テーブル１１０と同期して、９０度ずつ間欠的に回転駆動されるようになっている。
【００７２】
回転テーブル２１０には上部を開口させた４つの有底円筒状の濯ぎ槽２２０が周方向９０度間隔に取り付けられており、これら４つの濯ぎ槽２２０は、回転テーブル２１０の間欠回転動作によって図３に示す４つの定点Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈに順次移動停止することとなる。
【００７３】
各濯ぎ槽２２０は回転テーブル２１０に回転自在に支持されており、回転テーブル２１０の下部に設置された駆動機構により間欠的に回転駆動されるようになっている。即ち、図３における第３の定点Ｇに停止した濯ぎ槽２２０Ｇは、基台２に固定された駆動モータ２３０及び歯車機構２３１によって回転テーブル２１０の回転方向Ｒ２と同方向に間欠的に回転駆動せしめられる。そして、互いに隣接する濯ぎ槽２２０同士は遊び車を備えた歯車機構２３２によって連結されており、他の３つの定点Ｅ，Ｆ，Ｈに停止した３つの濯ぎ槽２２０Ｅ，２２０Ｆ，２２０Ｈも前記濯ぎ槽２２０Ｇと同期して同方向に回転駆動せしめられるようになっている。
【００７４】
各濯ぎ槽２２０には所定量のアルコール系の濯ぎ液Ｓが収容可能になっている。又、各濯ぎ槽２２０の底部内面には複数の撹拌羽根２２１が設けられており、濯ぎ槽２２０が回転すると撹拌羽根２２１によって濯ぎ液Ｓが撹拌され、濯ぎ液Ｓに渦流を生じせしめることができるようになっている。
【００７５】
又、自動濯ぎ装置２００は回転テーブル２１０の上方に配された昇降テーブル２４０を備えている。この昇降テーブル２４０は、図２に示すように、前記回転テーブル２１０の回転駆動シャフト７を軸線方向（換言すれば上下方向）に相対移動自在で且つ相対回転不能に貫通する昇降駆動シャフト８に連結されており、この昇降駆動シャフト８はカップリング９を介して、上下方向に直線的に往復動するリニアモータ１０に連結されている。ここでカップリング９は、リニアモータ１０の駆動軸と昇降駆動シャフト８とを互いに相対回転自在で且つ相対昇降不能に連結する。
【００７６】
リニアモータ１０は所定の時間間隔毎に所定回数の往復動を行うように運転制御されており、これによって、昇降テーブル２４０は複数回数の上下動を一動作単位として、この動作単位を所定の時間間隔毎に間欠的に行うように運転制御されている
又、昇降駆動シャフト８が回転駆動シャフト７に対して相対回転不能に貫通していることにより、昇降テーブル２４０は回転テーブル２１０と同期して且つ同方向に同角度だけ間欠的に回転することとなる。
【００７７】
昇降テーブル２４０には上部を開口させた４つの濯ぎ篭２５０が周方向９０度間隔に固定されている。各濯ぎ篭２５０は昇降テーブル２４０が上下動した時にそれぞれ対応する濯ぎ槽２２０内に進入可能な位置に設置されている。
【００７８】
各濯ぎ篭２５０は昇降テーブル２４０に設けられた貫通孔２４１を貫通して下方に突出するように固定されており、昇降テーブル２４０に固定されたフランジ部２５１から複数本の連結プレート２５２が下方に延び、これら連結プレート２５２の下端に下リング２５３が固定され、下リング２５３に網体２５４が張設されている。この網体２５４はその上に複数の磁気コアＷを平面的に載置できる大きさを有している。
【００７９】
図８に示すように昇降テーブル２４０が上死点に位置している時には、網体２５４は濯ぎ槽２２０内の濯ぎ液Ｓの液面Ｌ２よりも上方に位置しており、網体２５４に載置された磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに接触させないようにしている。
【００８０】
一方、図９に示すように昇降テーブル２４０が下死点に位置している時には、網体２５４は濯ぎ液Ｓ内に没して撹拌羽根２２１の上方に位置しており、網体２５４に載置された磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに没入させ、浸漬せしめるようになっている。
【００８１】
この自動濯ぎ装置２００と前記第２搬送機構１６０とは次のように連繋されている。第２搬送機構１６０のスライダ１６２の走行終端は図３における第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅの上方に位置している。この走行終端において、第２搬送機構１６０の磁着部１６４が下降し、濯ぎ槽２２０Ｅ内で上死点に位置している濯ぎ篭２５０内に進入して、磁着部１６４に磁着されている磁気コアＷを離反して濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に載置する。
【００８２】
自動濯ぎ装置２００は、第４の定点Ｈに停止する濯ぎ槽２２０Ｈの濯ぎ篭２５０に載置されている磁気コアＷを硬化炉３００に移送する第３搬送機構２６０を備えている。
【００８３】
第３搬送機構２６０は、図１に示すように回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０の左方に配されて図中Ｙ方向に沿って直線的に移動する可動台２６１を有し、この可動台２６１には図中Ｘ方向に沿って直線的に延びるガイドレール２６２が固定され、このガイドレール２６２に沿ってスライダ２６３が移動可能に取り付けられ、スライダ２６３に磁着部２６５がエアシリンダ２６４を介して上下動可能に取り付けられている。
【００８４】
磁着部２６５の構成及び機能は、前記第１搬送機構１４０における磁着部１４３と同じであり、電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができ、電磁石に対する通電あるいは停電により磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００８５】
この第３搬送機構２６０は可動台２６１のＹ方向移動とスライダ２６３のＸ方向移動により、磁着部２６５をＸ―Ｙの二次元的に移動せしめることができる。第３搬送機構２６０は次のように動作する。即ち、第３搬送機構２６０の可動台２６１及びスライダ２６３によって水平移動する磁着部２６５は、第４の定点Ｈに停止した濯ぎ槽２２０Ｈの上方に位置したところで一旦停止する。そして、この位置でエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降し、濯ぎ槽２２０Ｈ内において上死点に位置する濯ぎ篭２５０に載置された磁気コアＷを磁着して、磁着部２６５は再び上昇する。
【００８６】
次に、磁着部２６５が再び水平移動せしめられ、定点Ｈの近傍に設置された第２液切りポット２７０の上方に磁着部２６５が位置したところで、磁着部２６５は水平移動を一旦停止する。
【００８７】
ここで、第２液切りポット２７０について説明すると、第２液切りポット２７０は前記第１液切りポット１９０と同じ構成及び機能を備えている。即ち、第２液切りポット２７０は上部を開口させた円筒状をなし、その内部には磁気コアＷを受ける網（図示せず）が張設されている。この第２液切りポット２７０の内部には圧縮空気が送り込まれるようになっており、第２液切りポット２７０内に進入した磁着部２６５に磁着した磁気コアＷに前記圧縮空気を吹き付けて、磁気コアＷに付着する樹脂液を払い落としている。尚、払い落とされた樹脂液は第２液切りポット２７０に接続されたドレン管（図示せず）から排出される。
【００８８】
前述の如く第２液切りポット２７０の上方で磁着部２６５の水平移動が停止せしめられると、この位置でエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降して第２液切りポット２７０内に進入する。
【００８９】
そして、磁着部２６５は所定の短時間だけ第２液切りポット２７０内に停止せしめられ、ここで磁気コアＷに付着する濯ぎ液を圧縮空気の吹き付けにより除去する。その後、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が上昇する。
【００９０】
次に磁着部２６５が再び水平移動せしめられ、可動台２６１に固定された吸着皿２６６の上方に磁着部２６５が位置したところで、磁着部２６５は水平移動を一旦停止する。吸着皿２６６は上部を開口させていて、底部に濯ぎ液を吸着するためのスポンジ製の吸着マットを備えている。
【００９１】
前記停止位置においてエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着する磁気コアＷを吸着皿２６６の吸着マットに押し当てる。そして、磁着部２６５を所定の短時間だけ吸着マットに押し付けた後、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が上昇する。
【００９２】
次に、再び磁着部２６５が水平移動せしめられ、硬化炉３００の搬入部３０３における所定位置まで移動する。
【００９３】
〈硬化炉〉
次に、硬化炉３００について説明する。
図１０は硬化炉３００の概略構成図である。硬化炉３００は、所定温度に加熱された熱風が内部で循環している炉体３０１と、この炉体３０１内を貫通して設置されたコンベア３０２とを備えており、炉体３０１から突出するコンベア３０２の始端が硬化炉３００の搬入部３０３になっていて、炉体３０１から突出するコンベア３０２の終端が搬出部３０４になっている。
【００９４】
炉体３０１から突出して露出するコンベア３０２の始端、即ち搬入部３０３には、ポリエステル製の不織布で形成された敷きマット３１１が順次自動供給されて載置されるようになっている。
【００９５】
この敷きマット３１１の所定位置の上方に前記第３搬送装置２６０の磁着部２６５が位置すると、磁着部２６５の水平移動が停止せしめられ、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が降下し、磁着部２６５に磁着されている磁気コアＷを敷きマット３１１上に載置して、この後、磁着部２６５の電磁石への通電を停止して磁気コアＷを磁着部２６５から離反するようになっている。
【００９６】
そして、敷きマット３１１の上に所定数の磁気コアＷを整列せしめた後に、これら磁気コアＷの上に、ポリエステル製の不織布で形成されたカバーシート３１２が自動供給され、上から被せられるようになっている。
【００９７】
即ち、コンベア３０２の始端において、磁気コアＷは敷きマット３１１とカバーシート３１２の間に挟装され、この状態のまま磁気コアＷはコンベア３０２によって炉体３０１内に搬送され、炉体３０１を通過してコンベア３０２の終端である搬出部３０４まで搬送されることとなる。
【００９８】
敷きマット３１１は図１１に示すように平坦な１枚のシート状をなしているのに対して、カバーシート３１２は図１２に示すようにその中央部分が多数のスリット３１２ａによって多数の帯状部３１２ｂに分割されている。このような形態にカバーシート３１２を形成したのは、カバーシート３１２の柔軟性を高めてカバーシート３１２を磁気コアＷの上面に当接し易くするためである。
【００９９】
ところで、敷きマット３１１及びカバーシート３１２を構成するポリエステル製の不織布は、濯ぎ液Ｓを吸収し易いが、水分を吸収し難く、且つ、水分を放出しにくい性質を有している。
【０１００】
磁気コアＷに付着する濯ぎ液Ｓは、コンベア３０２の始端から比較的に近い領域で敷きマット３１１及びカバーシート３１２によって吸着される。一方、敷きマット３１１及びカバーシート３１２は炉体３０１の外では空気中の湿気等を吸着することがなく、又、炉体３０１内では自己が保有する水分を炉体３０１内に放出することがない。
【０１０１】
炉体３０１内における水分の存在は、樹脂液の硬化に悪影響を及ぼすことがわかっている。したがって、上述のように、敷きマット３１１及びカバーシート３１２が、水分を吸収し難く且つ自己の保有する水分を放出し難いという性質を有していると、炉体３０１内を樹脂液の硬化に好ましい環境に形成するのに非常に有利である。
【０１０２】
尚、乾燥条件が比較的に緩やかな場合は、敷きマット３１１に黄ボール紙を用いてもよい。
【０１０３】
〔この実施の形態の作用〕
次に、本発明の自動含浸濯ぎ装置の作用を説明する。この実施の形態では、磁気コアＷの帯板間に樹脂液Ｑを染み込ませる含浸工程と、磁気コアＷに付着した余剰の樹脂液Ｑを除去する濯ぎ工程と、磁気コアＷに染み込ませた樹脂液Ｑを硬化せしめる硬化工程を経て、磁気コアＷに対する含浸が達成される。以下、各工程について説明する。
【０１０４】
〈含浸工程〉
初めに、ワーク搬入コンベア１の終端において整列せしめた磁気コアＷを、自動含浸装置１００の第１搬送機構１４０によって第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０に搬送する。
【０１０５】
磁気コアＷを前記含浸篭１３０に受け入れる時には、回転テーブル１１０は停止しており、又、当該含浸篭１３０はスプリング１３５によって最上位に位置し、その上部を含浸槽１２０のフランジ部１２１から突出させている。
【０１０６】
ワーク搬入コンベア１の終端において整列せしめた磁気コアＷは、その上方から下降してくる第１搬送機構１４０の磁着部１４３に磁着される。磁気コアＷを磁着した磁着部１４３はエアシリンダ１４４によって上昇した後、スライダ１４２によって回転テーブル１１０に接近する方向に水平移動する。
【０１０７】
磁着部１４３は含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０の上方に位置して水平移動を停止し、エアシリンダ１４４によって下降せしめられて、磁着部１４３に磁着した磁気コアＷを含浸篭１３０の網体１３４の上に載置し、ここで磁気コアＷを磁着部１４３から離脱する。磁気コア１４３を離脱させた磁着部１４３は上昇し、更にワーク搬入コンベア１の終端側に水平移動して退行し、次の磁気コアＷを搬送するために待機状態となる。
【０１０８】
この時点では、当該含浸篭１３０の網体１３４が樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも上方に位置しており、含浸篭１３０に載置された磁気コアＷは樹脂液Ｑに接触していない。
【０１０９】
次に、回転テーブル１１０が９０度回転して、当該含浸篭１３０を備えた含浸槽１２０は第１の定点Ａから第２の定点Ｂに移動し、ここで回転テーブル１１０が停止する。
【０１１０】
回転テーブル１１０の停止後にエアシリンダ１５１が動作して蓋体１５０が下降し、その下降途中で当該含浸篭１３０を押し下げ、最終的には図６に示すように蓋体１５０は含浸槽１２０のフランジ部１２１に密接して、含浸槽１２０を気密に閉塞する。この時、含浸篭１３０の下部が含浸槽１２０に収容されていた樹脂液Ｑの中に没し、網体１３４に載置された磁気コアＷが樹脂液Ｑに浸漬される。
【０１１１】
次に、吸気ノズル１５４に連なる開閉弁が開弁され、含浸槽１２０とリザーブタンク１５７が接続され、これにより含浸槽１２０の内部が吸引されて、含浸槽１２０内は所定の真空度になる。
【０１１２】
そして、含浸槽１２０内を所定の時間、所定の真空度に保持する。例えば、真空度を６００ｔｏｒｒ． とし、大気圧と含浸槽１２０内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液Ｑの粘度μ（Ｃｐ）との比 ΔＰ／μを２．５として、７秒間保持する。あるいは、真空度を２０ｔｏｒｒ． とし、 ΔＰ／μを５．０として、７秒間保持する。この間に、含浸篭１３０に収容した磁気コアＷに樹脂液Ｑが含浸する。
【０１１３】
所定の保持時間経過後に、蓋体１５０が上昇する。すると、含浸篭１３０はスプリング１３５の弾性で最上位位置まで上昇せしめられ、図５に示すように磁気コアＷが樹脂液Ｑから引き上げられる。
【０１１４】
次に、回転テーブル１１０が９０度回転して、当該含浸篭１３０を備えた含浸槽１２０は第２の定点Ｂから第３の定点Ｃに移動し、ここで回転テーブル１１０が停止する。
【０１１５】
回転テーブル１１０の停止後に第２搬送機構１６０の磁着部１６４がエアシリンダ１６３によって下降し、当該含浸篭１３０に載置された磁気コアＷを磁着する。磁気コアＷを磁着した後、磁着部１６４は上昇し、スライダ１６２によって自動濯ぎ装置２００に接近する方向に水平移動する。
【０１１６】
そして、磁着部１６４は第１液切りポット１９０の上方に位置したところで水平移動を停止し、ここで下降して第１液切りポット１９０内に進入する。尚、第１液切りポット１９０内においては磁着部１６４から磁気コアＷを離脱させない。
【０１１７】
この第１液切りポット１９０内において磁気コアＷに圧縮空気が吹き付けられ、磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｑが除去される。
この後、磁着部１６４は上昇して、再び自動濯ぎ装置２００に接近する方向に水平移動する。そして、磁着部１６４は、自動濯ぎ装置２００の第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅの上方に位置したところで、水平移動を停止する。
【０１１８】
〈濯ぎ工程〉
磁着部１６４の水平移動停止時において、自動濯ぎ装置２００の回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０は回転を停止しており、昇降テーブル２４０は最上位に位置して昇降を停止しており、各濯ぎ槽２２０は回転を停止している。
【０１１９】
この状態において、第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅ内に位置する濯ぎ篭２５０は、図８に示すように濯ぎ槽２２０Ｅ内に収容された濯ぎ液Ｓの液面
Ｌ２よりも上方に位置している。
【０１２０】
濯ぎ槽２２０Ｅの上方において水平移動を停止した第２搬送装置１６０の磁着部１６４はこの停止位置で下降し、濯ぎ槽２２０Ｅ内に配された濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に磁気コアＷを載置し、磁着部１６４から磁気コアＷを離脱する。この後、磁気コアＷを離脱させた磁着部１６４は上昇し、更に自動含浸装置１００の回転テーブル１１０に接近する方向に水平移動して退行し、次の磁気コアＷを搬送するために待機状態となる。
【０１２１】
濯ぎ槽２２０Ｅの濯ぎ篭２５０に磁気コアＷを載置した後、回転テーブル２１０と昇降テーブル２４０が同期して９０度回転し、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第１の定点Ｅから第２の定点Ｆに移動する。そして、ここで回転テーブル１１０及び昇降テーブル２４０が停止する。
【０１２２】
次に、昇降テーブル２４０が図９に示すように最下位まで下降し、当該濯ぎ篭２５０の下部を濯ぎ液Ｓ内に没し、濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に載置されている磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに浸漬する。昇降テーブル２４０は最下位下降後に所定時間が経過するまでは、昇降動作をすることなく最下位の位置を維持する。又、この昇降テーブル２４０の下降と同時に、濯ぎ槽２２０が回転を開始する。この時の濯ぎ槽２２０の回転数は、例えば、６０〜３００ＲＰＭ．である。
【０１２３】
その結果、濯ぎ槽２２０の底部に設けられた撹拌羽根２２１が濯ぎ液Ｓに対して回転するので、濯ぎ液Ｓに渦流が生じる。つまり、昇降テーブル２４０が最下位に達した後、所定時間の間は、昇降テーブル２４０が最下位の位置を維持しつつ、濯ぎ槽２２０の回転により濯ぎ液Ｓに渦流が生じる。この渦流状態の濯ぎ液Ｓは磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｓを濯ぎ落とす。
【０１２４】
そして、昇降テーブル２４０が最下位に達してから所定時間経過すると、濯ぎ槽２２０の回転を続行したまま、昇降テーブル２４０が上下に所定のストロークで往復動を開始する。ここで、昇降テーブル２４０のストロークは、濯ぎ槽２５０に載置された磁気コアＷが濯ぎ液Ｓに没した状態を維持しつつ上下動するように設定されている。即ち、昇降テーブル２４０の上下往復動時における上死点位置は、昇降テーブル２４０の前記最上位の位置よりも低位に設定されている。
【０１２５】
このように、昇降テーブル２４０が上下往復動している時には、濯ぎ槽２２０内の濯ぎ液Ｓに、濯ぎ槽２２０の回転による渦流と、昇降テーブル２４０の上下動（即ち濯ぎ篭２５０の上下動）による相対上下流とが生じ、濯ぎ液Ｓに対する撹拌効果が極めて大きい。したがって、磁気コアＷに余剰に付着した樹脂液Ｑに対する濯ぎ落とし効果も大きい。
【０１２６】
昇降テーブル２４０の往復上下動開始から所定時間経過後、あるいは、所定回数運動後、昇降テーブル２４０は最上位まで上昇して昇降動作を停止し、濯ぎ篭２５０の磁気コアＷを濯ぎ液Ｓから引き上げる。又、昇降テーブル２４０が最上位に上昇するのとほぼ同時に、濯ぎ槽２２０は回転動作を停止する。
【０１２７】
この後、昇降テーブル２４０を最上位に保持するとともに濯ぎ槽２２０を回転させない状態に保持しつつ、回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０が９０度回転して、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第２の定点Ｆから第３の定点Ｇに移動する。
【０１２８】
この第３の定点Ｇにおいても第２の定点Ｆで行ったのと同じ濯ぎ工程が行われる。即ち、初めの一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流だけにより磁気コアＷの濯ぎが行われ、その後の一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流と相対上下流により磁気コアＷの濯ぎが行われる。
【０１２９】
この後、昇降テーブル２４０を最上位に保持するとともに濯ぎ槽２２０を回転させない状態に保持しつつ、回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０が９０度回転して、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第３の定点Ｇから第４の定点Ｈに移動する。
【０１３０】
この第４の定点Ｈにおいても第２の定点Ｆ、第３の定点Ｇで行ったのと同じ濯ぎ工程が行われる。即ち、初めの一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流だけにより磁気コアＷの濯ぎが行われ、その後の一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流と相対上下流により磁気コアＷの濯ぎが行われる。
【０１３１】
つまり、この実施の形態では、濯ぎ工程を連続して３回行うこととなり、これによって磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｑを十分に濯ぎ落とすようにしている。尚、磁気コアＷの帯板間に含浸した樹脂液Ｑは、粘度の高い樹脂液Ｑの表面張力でしっかりと保持されており、濯ぎ液Ｓで濯がれても磁気コアＷから離脱することはない。したがって、濯ぎ工程終了後も磁気コアＷには必要な部位に必要且つ十分な量の樹脂液Ｓが含浸されていることとなる。
【０１３２】
そして、第４の定点Ｈにおける濯ぎ工程終了後、第４の定点Ｈにおいて最上位に位置している濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に、第３搬送機構２６０の磁着部２６５が下降してきて、網体２５４に載置されている磁気コアＷを磁着部２６５に磁着する。
【０１３３】
磁気コアＷを磁着した後、磁着部２６５は上昇し、更に、可動台２６１及びスライダ２６３による２軸水平移動により第２液切りポット２７０の上方に位置したところで磁着部２６５は水平移動を停止する。
【０１３４】
この停止位置において、磁着部２６５は下降して第２液切りポット２７０内に進入する。尚、第２液切りポット２７０内においては磁着部２６５から磁気コアＷを離脱させない。この第２液切りポット２７０内において磁気コアＷに圧縮空気が吹き付けられ、磁気コアＷに付着する余剰の濯ぎ液Ｓが除去される。
【０１３５】
この後、磁着部２６５は上昇し、スライダ２６３による１軸水平移動により吸着皿２６６の上方に位置したところで磁着部２６５は水平移動を停止する。この停止位置で磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着する磁気コアＷを吸着皿２６６の吸着マットに押し当てて、磁気コアＷの底部に残る濯ぎ液を除去する。ここまでの工程で、磁気コアＷに付着する濯ぎ液Ｓは殆ど除去される。
【０１３６】
この後、磁着部２６５は上昇し、可動台２６１及びスライダ２６３によって硬化炉３０３に接近する方向に２軸水平移動せしめられる。
【０１３７】
〈硬化工程〉
第３搬送機構２６０の磁着部２６５は、硬化炉３００の搬入部３０３におけるコンベア３０２の上に載置された敷きマット３１１の上方に位置したところで、水平移動を停止する。
【０１３８】
ここで、磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着されている磁気コアＷを敷きマット３１１の上に載置し、磁着部２６５から離脱させる。
敷きマット３１１に所定数の磁気コアＷを平面的に整列させた後、これら磁気コアＷの上にカバーシート３１２が被せられる。ここで、磁気コアＷに未だ付着している濯ぎ液Ｓが敷きマット３１１及びカバーシート３１２に吸着される。
【０１３９】
磁気コアＷの上にカバーシート３１２を被せた後、コンベア３０２が動作し、敷きマット３１１とカバーシート３１２で磁気コアＷを挟んだ状態のまま、これらを所定の酸素濃度以下に制御された雰囲気の炉体３０１内に進入させる。
【０１４０】
炉体３０１内において、磁気コアＷは所定温度の熱風にさらされ、これによって磁気コアＷに含浸した樹脂液Ｑが硬化する。尚、この実施の形態では、炉体３０１内の熱風の温度を１２０〜２２０°Ｃとし、磁気コアＷが炉体３０１を通過するのに要する時間、即ち硬化時間を６０〜２４０分間とした。
【０１４１】
敷きマット３１１とカバーシート３１２の間に挟装された磁気コアＷは、炉体３０１を通過する間に完全に硬化され、搬出部３０４に運び出される。
【０１４２】
尚、自動含浸装置１００において、含浸槽１２０が第３の定点Ｃに停止し、第２搬送機構１６０によって含浸篭１３０から磁気コアＷが取り出された後では、回転テーブル１１０が９０度回転して当該含浸槽１２０を第３の定点Ｃから第４の定点Ｄに移動する。
【０１４３】
この回転テーブル１１０の停止中に、樹脂液補充機構１７０が動作して、磁気コアＷを浸漬する前の含浸槽１２０内の樹脂液Ｑの量が、予め設定しておいた一定量となるようにする。即ち、超音波液位センサ１７１によって含浸槽１２０の樹脂液Ｑの液位を検出し、この検出信号に基づいて、不足する量の樹脂液Ｑが樹脂液注入ノズル１７２から補給される。
【０１４４】
この実施の形態の場合には、自動含浸装置により磁気コアＷへの樹脂液の含浸工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず、生産性も向上する。
【０１４５】
又、自動含浸装置による１回の含浸工程で使用される樹脂液の量が少なくて済むので、樹脂液から放出されるガスの量も少なく、作業環境を悪化させることもない。
【０１４６】
更に、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設け、この自動濯ぎ装置により濯ぎ工程を行っているので、樹脂を硬化させる前に余剰の樹脂液Ｑを除去することができ、したがって、硬化後の磁気コアＷにバリが生じることがない。
【０１４７】
しかも、この自動濯ぎ装置により濯ぎ工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず生産性も向上する。
特に、この実施の形態の場合には、含浸工程、濯ぎ工程、硬化工程の一連の製造工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず、生産性も向上する。
【０１４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、自動含浸装置が含浸槽と第１搬送機構と蓋体と蓋体移動機構と吸引機構と第２搬送機構とを備えていることにより、ワークに樹脂液を含浸あるいは被覆する工程を自動化することができ、生産性が向上するという優れた効果が奏される。
【０１４９】
又、本発明の自動含浸装置によれば、１回の含浸工程で使用される樹脂液の量を少なくでき、これによって樹脂液から放出されるガスの量を少なくできるので、作業環境を向上することができる。
【０１５０】
自動含浸装置に含浸篭を備えた場合には、第１搬送機構及び第２搬送機構によるワークの受け渡しを樹脂液から引き上げた位置で行えるので、搬送がし易いという効果がある。
【０１５１】
吸引機構を蓋体に連結した場合には、含浸槽が移動するシステムに自動含浸装置を構築する時に有利である。
【０１５２】
自動含浸装置に樹脂液注入機構を備えた場合には、含浸槽内の樹脂液が減った時に自動的に樹脂液を補給することができ、これにより含浸槽内の樹脂液量を常に一定量に保持することができ、手間がかからず生産性が向上するという効果がある。
【０１５３】
請求項６に記載するように少なくとも３つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合、あるいは、請求項７に記載するように少なくとも４つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができ、生産性を更に向上させることができるという優れた効果が奏される。
【０１５４】
又、本発明によれば、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設けたことにより、樹脂液を硬化する前に、ワークに付着した余剰の樹脂液を除去することができ、これによって、余剰樹脂液付着に起因してワーク表面に形成されるバリの発生を未然に防止することができる。
【０１５５】
自動濯ぎ装置が濯ぎ槽と撹拌機構と第３搬送機構とを備えた場合には、簡単な構造ながら濯ぎ効果の大きい装置を得ることができるという効果がある。
濯ぎ槽を回転可能とし、この濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設けて撹拌機構とした場合には、撹拌機構を簡単な構造にできるという効果がある。
【０１５６】
濯ぎ槽内で上下する濯ぎ篭を備えた自動濯ぎ装置の場合には、第２搬送機構及び第３搬送機構によるワークの受け渡しを濯ぎ液から引き上げた位置で行えるので、搬送がし易いという効果がある。
【０１５７】
濯ぎ槽の回転中に濯ぎ篭が上下動する自動濯ぎ装置の場合には、濯ぎ効果を更に向上させることができる。
少なくとも３つの濯ぎ槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動濯ぎ装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができ、生産性を更に向上させることができるという優れた効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における全体平面図である。
【図２】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における全体正面図である。
【図３】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における要部平面配置図である。
【図４】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の概略外観斜視図である。
【図５】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の開蓋状態を示す概略断面構成図である。
【図６】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の閉蓋状態を示す概略断面構成図である。
【図７】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略外観斜視図である。
【図８】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略断面構成図であり、昇降テーブルが最上位に位置した状態を示す図である。
【図９】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略断面構成図であり、昇降テーブルが最下位に位置した状態を示す図である。
【図１０】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における硬化炉の概略構成図である。
【図１１】硬化炉に使用される敷きマットの外観斜視図である。
【図１２】硬化炉に使用されるカバーシートの外観斜視図である。
【図１３】本発明の自動含浸濯ぎ装置による処理対象となるワークとしての磁気コアの外観斜視図である。
【図１４】表面にバリが生じた従来の磁気コアの外観斜視図である。
【符号の説明】
１００ 自動含浸装置
１１０ 回転テーブル
１２０ 含浸槽
１３０ 含浸篭
１４０ 第１搬送機構
１４３ 磁着部
１５０ 蓋体
１５１ エアシリンダ（蓋体移動機構）
１５６ 真空ポンプ（吸引機構）
１６０ 第２搬送機構
１６４ 磁着部
１７０ 樹脂液補充機構
１７１ 超音波液位センサ（液位センサ）
１７２ 樹脂液注入ノズル（樹脂液注入機構）
２００ 自動濯ぎ装置
２１０ 回転テーブル
２２０ 濯ぎ槽
２２１ 撹拌羽根（撹拌機構）
２４０ 昇降テーブル
２５０ 濯ぎ篭
２６０ 第３搬送機構
２６５ 磁着部
Ｑ 樹脂液
Ｓ 濯ぎ液
Ｗ 磁気コア（ワーク）
【産業上の利用分野】
本発明は、磁性材を積層してなる磁気コア等のワークに樹脂液を含浸あるいは被覆せしめる自動含浸装置と、樹脂液を含浸あるいは被覆せしめたワークから余剰の樹脂液を濯ぎ落とす自動濯ぎ装置を備えた自動含浸濯ぎ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、トロイダルコアはフェライト等の強磁性体を焼結して製造するのが一般的であったが、近年では、磁気特性に優れたアモルファス金属等からなる薄い帯板を環状に巻回して製造する手法も多く採用されるている。このトロイダルコアの製造方法に関しては、例えば特開昭６０―１３４４１１号公報に開示されている。
【０００３】
この種のトロイダルコアの一部には、薄い帯板を巻回した後にエポキシ等の樹脂液を含浸し、液切りの後に樹脂液を硬化させ、更にその後にトロイダルコアにスリットを切り、このスリットにスペーサを介挿させたものがある。
【０００４】
ここでトロイダルコアに樹脂液を含浸し硬化するのは、スリットを入れた時にトロイダルコアが分解しないようにするためと、切り込んだスリットの隙間寸法が変化しないようにするため等の理由から行っている。
【０００５】
又、このようにスリットを設けないトロイダルコアや、磁性板を積層して構成されたＥＩ型、ＣＩ型の磁気コアについても、種々の理由から樹脂液を含浸し硬化させるものもある。
【０００６】
従来は磁気コアに樹脂液を含浸する工程をバッチ式で行っていた。例えば、上部にマンホールを有し内部に樹脂液が充填された大きなタンクの中に、多数の磁気コアを納めたラックを収納し、タンク内を真空ポンプで吸引して負圧状態にして、この状態を所定時間保持することにより行っている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように樹脂液の含浸工程をバッチ式で行うと、磁気コアをタンク内へ収容する際やタンクから磁気コアを取り出す際に、タンクのマンホールを開閉する作業が必要であり、更に、重量の重いラックをクレーン等で吊り上げて出し入れする作業が必要であり、時間と手間がかかっていた。
【０００８】
又、マンホールを開けた際には樹脂液から発生するガスが放出されるが、タンク内に充填されている樹脂液の量が多いので発生するガスも無視できず、このガスの放出により作業環境が悪化するという問題もあった。
【０００９】
更に、従来は樹脂液含浸後の液切りを自然落下に任せていたが、これだと樹脂液の粘性が高いこともあって完全な液切れが難しく、図１４に示すように磁気コアＷ′の外面に樹脂液が液滴状に残留したまま、次工程である硬化工程に進行させていた。その結果、磁気コアＷ′の外面で硬化した樹脂液の粒々がバリＰとして残存することとなった。
【００１０】
このようにバリＰが残存していると、その後の工程（例えば、磁気コアをケースに収納する工程）で作業に支障を来すこととなるので、従来はバリ取り工程が必要であった。このバリ取り工程は機械化が難しく殆ど手作業で行っており、この作業にも時間と手間がかかっていた。
【００１１】
本発明はこのような従来の技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、樹脂液含浸工程を自動化して生産性を向上せしめることができるワークの自動含浸装置を得ることにある。
【００１２】
又、本発明の別の目的は、前記自動含浸装置で樹脂液を含浸したワークに付着する余剰の樹脂液を硬化工程に移行する前に除去 してバリの発生を未然に防ぎ、この余剰樹脂液除去工程を自動化して生産性を向上せしめることができる自動含浸濯ぎ装置を得ることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記課題を解決するために、以下の手段を採用した。
〈本発明の要旨〉
本発明は、上部を開口させ内部に樹脂液を収容する含浸槽と、前記含浸槽内にワークを搬入する第１搬送機構と、前記含浸槽の上部開口を気密に閉塞可能な蓋体と、この蓋体を開動作あるいは閉動作せしめる蓋体移動機構と、前記蓋体で密閉された含浸槽の内部を負圧化する吸引機構と、前記含浸槽内からワークを含浸槽外に搬出する第２搬送機構、とを備えたことを特徴とするワークの自動含浸装置である。
【００１４】
ここで、本発明でワークとは被含浸物のことを意味し、具体的には磁気コア等を例示できる。
【００１５】
樹脂液としては、エポキシ樹脂液（以下、Ｅｐと略す）、及び、Ｅｐと稀釈剤との混合液等を例示することができる。稀釈剤としてはフルフリルアルコール（以下、ＦＦＡと略す）等を例示することができる。樹脂液の混合比率としては、樹脂液全体に対しＥｐを３０〜１００重量％、好ましくは、Ｅｐを７５〜９５重量％とするのがよい。
【００１６】
含浸槽の真空度は０〜７５０ｔｏｒｒ． 、好ましくは２０〜７００ｔｏｒｒ． とするのがよい。
【００１７】
又、本発明でバリの発生を防止または抑制するには、含浸工程の条件として、大気圧と含浸槽内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液の粘度μ（Ｃｐ）との比ΔＰ／μが１〜１０、特に２〜８の範囲とすることが好ましい。
【００１８】
負圧状態保持時間は、１〜６０秒、好ましくは３〜２０秒とするのがよい。
前記含浸槽の内部に、ワークを載置可能とする含浸篭を上下動可能に設置して、ワークを含浸槽の樹脂液に浸漬せしめたりあるいは樹脂液から引き上げたりすることができるようにし、この含浸篭に前記第１搬送機構及び第２搬送機構を連繋することも可能である。
【００１９】
前記吸引機構を前記蓋体に連結することも可能である。吸引機構としては真空ポンプを例示することができる。
前記第１搬送機構及び第２搬送機構は、ワークを把持する手段として電磁石を備えたものとすることができる。ただし、これら搬送機構のワーク把持手段は電磁石に限るものではない。
【００２０】
自動含浸装置は、前記含浸槽内の樹脂液の液位を検出する液位センサと、含浸槽内の樹脂液の液位を一定レベルに保つべく前記液位センサの検出結果に基いて樹脂液を補充する樹脂液注入機構、とを備えるのが好ましい。
【００２１】
又、自動含浸装置は、少なくとも３つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００２２】
更に、自動含浸装置は、少なくとも４つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋され、更にまた別の一つの含浸槽が前記液位センサ及び樹脂液注入機構に連繋されるように構成してもよい。
【００２３】
尚、本発明の自動含浸装置は、固定された一つの含浸槽に対して、第１搬送機構と蓋体と第２搬送機構が順番に連繋されるようにして構成してもよい。
【００２４】
又、本発明は、前記自動含浸装置と、この自動含浸装置で樹脂液を含浸せしめた磁気コイルに付着した余剰の樹脂液を濯ぎ液で濯ぎ落とす自動濯ぎ装置とを備え、前記自動含浸装置の第２搬送機構によってワークが自動濯ぎ装置に供給されることを特徴とするワークの自動含浸濯ぎ装置である。
【００２５】
濯ぎ液としては、エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコールを例示することができる。
【００２６】
前記自動含浸濯ぎ装置における自動濯ぎ装置は、上部を開口させ内部に濯ぎ液を収容した濯ぎ槽と、前記濯ぎ槽内の濯ぎ液を撹拌する撹拌機構と、前記濯ぎ篭内からワークを濯ぎ篭外に搬出する第３搬送機構、とを備えたものとすることができる。
【００２７】
前記自動濯ぎ装置の濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設け、この濯ぎ槽を回転可能とし、濯ぎ槽の回転と撹拌羽根によって撹拌機構を構成することも可能である。ただし、撹拌機構はこれに限るものではなく、濯ぎ槽に撹拌機を設置して構成することも可能である。
【００２８】
自動濯ぎ装置における濯ぎ槽の内部に、ワークを載置可能とする濯ぎ篭を上下動可能に設置して、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるようにし、この濯ぎ篭に前記第２搬送機構及び第３搬送機構を連繋することも可能である。
【００２９】
自動濯ぎ装置における第３搬送機構は、ワークを把持する手段として電磁石を備えたものとすることができる。ただし、これら搬送機構のワーク把持手段は電磁石に限るものではない。
【００３０】
自動濯ぎ装置の濯ぎ槽の回転中に前記濯ぎ篭が上下動せしめるように構成してもよい。
【００３１】
自動濯ぎ装置は、少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽が前記第３搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００３２】
又、自動濯ぎ装置は、少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、各濯ぎ槽の内部には、ワークを載置可能とする濯ぎ篭が、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるように上下動可能に設置されており、これら濯ぎ篭は前記回転テーブルに対して上下動可能な昇降テーブルに取り付けられていて、全ての濯ぎ篭が同期して上下動せしめられるようにされており、前記回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第３搬送機構に連繋されるように構成してもよい。
【００３３】
〈本発明の作用〉
ワークは第１搬送機構により含浸槽に搬送され、含浸槽内の樹脂液に浸漬される。次に蓋体が蓋体移動機構によって移動せしめられて含浸槽に被せられ、含浸槽を気密に閉塞する。その後、吸引機構が含浸槽の内部を吸引して含浸槽内を所定時間の間、所定の真空度に保つ。この間に、ワークに樹脂液が含浸する。含浸完了後、蓋体が蓋体移動機構により含浸槽から外され、第２搬送機構によってワークが含浸槽の外に搬送される。これによって、ワークに樹脂液を含浸あるいは被覆する工程を自動化することができ、生産性が向上する。
【００３４】
この自動含浸装置では、１回の含浸工程で使用される樹脂液の量を少なくでき、これによって樹脂液から放出されるガスの量を少なくできる。その結果、作業環境が向上する。
【００３５】
自動含浸装置に含浸篭を備えた場合には、第１搬送機構及び第２搬送機構によるワークの受け渡しを樹脂液から引き上げた位置で行える。
吸引機構を蓋体に連結した場合には、含浸槽が移動するシステムに自動含浸装置を構築する時に有利である。
【００３６】
自動含浸装置に樹脂液注入機構を備えた場合には、含浸槽内の樹脂液が減った時に自動的に樹脂液を補給することができ、これにより含浸槽内の樹脂液量を常に一定量に保持することができる。
【００３７】
請求項６に記載するように少なくとも３つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合、あるいは、請求項７に記載するように少なくとも４つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができる。
【００３８】
又、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設けると、樹脂液を硬化する前に、ワークに付着した余剰の樹脂液を除去することができ、これによって、余剰樹脂液付着に起因してワーク表面に形成されるバリの発生を未然に防止することができる。
【００３９】
濯ぎ槽と撹拌機構と第３搬送機構とを備えた自動濯ぎ装置では、構造が簡単にでき、しかも濯ぎ効果を大きくすることができる。
濯ぎ槽を回転可能とし、この濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設けて撹拌機構とすると、撹拌機構を簡単な構造にできるという効果がある。
【００４０】
自動濯ぎ装置は、濯ぎ槽内で上下する濯ぎ篭を備えると、第２搬送機構及び第３搬送機構によるワークの受け渡しを濯ぎ液から引き上げた位置で行うことができる。
【００４１】
濯ぎ槽の回転中に濯ぎ篭が上下動するようにした場合には、濯ぎ効果を更に向上させることができる。
少なくとも３つの濯ぎ槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにすると、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができる。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の一形態を図１から図１３の図面に基いて説明する。
【００４３】
〔全体構成：自動含浸濯ぎ装置〕
図１は本発明の自動含浸濯ぎ装置の平面図であり、図２は同側面図である。自動含浸濯ぎ装置は、自動含浸装置１００、自動濯ぎ装置２００を主要な構成としており、この実施の形態では、自動含浸濯ぎ装置の前段にワーク搬入コンベア１が設置され、後段に硬化炉３００が設置されている。
【００４４】
尚、自動含浸装置１００、自動濯ぎ装置２００、硬化炉３００をも含めて広義に自動含浸装置と称する場合もあるが、本出願においては前述のように名称を使い分けて説明する。
【００４５】
この実施の形態におけるワークとしての磁気コアＷは、アモルファス金属からなる薄い帯板を環状に巻回して、その始端と終端をテープ又は溶接で端止めしたものであり、その外観斜視図を図１３に示す。
【００４６】
この磁気コアＷは、図示しない前流装置により所定条件の下で前処理をしてからワーク搬入コンベア１に乗せられる。又、ワーク搬入コンベア１の終端には整列機（図示せず）が配されており、整列機で所定数の磁気コアＷを所定に配置して自動含浸装置１００への搬入に備えている。
【００４７】
自動含浸装置１００と自動濯ぎ装置２００は共通の基台２に互いに隣接して設けられている。自動含浸装置１００と自動濯ぎ装置２００について以下に詳述する。
【００４８】
〈自動含浸装置〉
図４は自動含浸装置１００の要部の概略外観斜視図であり、図５及び図６は自動含浸装置１００の要部を断面で示した概略構成図である。
【００４９】
自動含浸装置１００は基台２に回転可能に支持された回転テーブル１１０を備えており、この回転テーブル１１０は、駆動モータ３、ベルト伝達機構４、駆動シャフト５によって一方向に９０度ずつ間欠的に回転駆動されるようになっている。
【００５０】
回転テーブル１１０には上部を開口させた４つの有底円筒状の含浸槽１２０が周方向９０度間隔に固定されている。含浸槽１２０の上縁にはフランジ部１２１が設けられており、この含浸槽１２０にはエポキシ系の樹脂液Ｑが収容可能になっている。
【００５１】
各含浸槽１２０の内部には上部を開口させた含浸篭１３０が上下動可能に設置されている。含浸篭１３０は、上下のリング部１３１，１３２を複数本の連結プレート１３３によって連結し、下リング１３２に網体１３４を張設して構成されている。この網体１３４はその上に複数の磁気コアＷを平面的に載置できる大きさを有している。
【００５２】
含浸篭１３０はスプリング１３５によって回転テーブル１１０に支持されており、通常は図５に示すように、網体１３４が含浸槽１２０の樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも上方に位置せしめられており、その時に上リング１３１が含浸槽１２０の上縁よりも上方に突出して位置するようにされている。
【００５３】
又、この含浸篭１３０は、図６に示すように上リング１３１の上縁が含浸槽１２０の上縁と同じ高さになるまで、スプリング１３５の弾性に抗して押し下げることができるようにされており、この時に、網体１３４が樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも下方に位置せしめられて磁気コアＷを樹脂液Ｑに浸漬することができるようになっている。
【００５４】
図３は自動含浸装置１００及び自動濯ぎ装置２００を中心にした概略平面配置図である。前述したように回転テーブル１１０は図３において矢印Ｒ１方向に９０度ずつ間欠的に回転するので、４つの含浸槽１２０は４つの定点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄに順次移動停止することとなる。
【００５５】
自動含浸装置１００はまた、図３において第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの上方に設置された第１搬送機構１４０と、第２の定点Ｂに停止した含浸槽１２０Ｂの上方に設置された蓋体１５０と、第３の定点Ｃに停止した含浸槽１２０Ｃの上方に設置された第２搬送機構１６０と、第４の定点Ｄに停止した含浸槽１２０Ｄの上方に設置された樹脂液補充機構１７０とを備えている。
【００５６】
第１搬送機構１４０は、ワーク搬入コンベア１の終端の前記整列機で整列させた複数の磁気コアＷを搬送して、第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０に載置するものであり、図１においてＸ方向に沿って直線的に延びるガイドレール１４１と、このガイドレール１４１に沿って往復動するスライダ１４２と、エアシリンダ１４４を介してスライダ１４２に上下動可能に取り付けられた磁着部１４３とを備えている。
【００５７】
この磁着部１４３は電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができるように構成されており、電磁石に対して通電あるいは停電することにより磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００５８】
蓋体１５０はエアシリンダ（蓋体移動機構）１５１によって上下動可能に設置されている。詳述すると、基台２には第２の定点Ｂの上方に配されたブラケット１５３が固定されており、このブラケット１５３にエアシリンダ１５１が固定され、エアシリンダ１５１の駆動ロッド１５２の先端に蓋体１５０が固定されている。
【００５９】
この蓋体１５０は下降した時に第２の定点Ｂに停止した含浸槽１２０Ｂの含浸篭１３０を押し下げ、図６に示す如く含浸槽１２０Ｂのフランジ部１２１に密接して、含浸槽１２０Ｂを気密に閉塞する。又、この蓋体１５０はエアシリンダ１５１によって上昇せしめられ、図５に示すように含浸槽１２０Ｂ及び含浸篭１３０から離反して、これらの上方にて停止する。
【００６０】
この蓋体１５０の上面には吸気ノズル１５４と覗き窓１５５が設置されている。
吸気ノズル１５４は、蓋体１５０に設けられた吸気孔１５０ａに連通するとともに、フレキシブルホース１５８や開閉弁（図示せず）を介して真空ポンプ（吸引機構）１５６のリザーブタンク１５７に接続されており、蓋体１５０によって閉蓋され密閉された含浸槽１２０Ｂ内を吸引して、含浸槽１２０Ｂ内を所定時間の間、所定の真空度に保持できるようになっている。
【００６１】
例えば、真空度を２０〜７００ｔｏｒｒ． とし、大気圧と含浸槽１２０内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液Ｑの粘度μ（Ｃｐ）との比 ΔＰ／μを２〜８の範囲とした場合、３〜２０秒の間、設定した真空度に保持することができるようになっている。
尚、図５及び図６ではエアシリンダ１５１及び覗き窓１５５を省略している。
【００６２】
第２搬送機構１６０は、第３の定点Ｃに停止した含浸槽１２０Ｃの含浸篭１３０に載置されている磁気コアＷを自動濯ぎ装置２００に搬送するものであり、その構成は第１搬送機構１４０と同じである。
【００６３】
即ち、図１においてＸ方向に沿って直線的に延びるガイドレール１６１と、このガイドレール１６１に沿って往復動するスライダ１６２と、エアシリンダ１６３を介してスライダ１６２に上下動可能に取り付けられた磁着部１６４とを備えている。
【００６４】
磁着部１６４の構成及び機能は、前記第１搬送機構１４０における磁着部１４３と同じであり、電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができ、電磁石に対する通電あるいは停電により磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００６５】
この第２搬送機構１６０と第１搬送機構１４０とではその動作が若干異なっている。即ち、第１搬送機構１４０の場合には、磁着部１４３が下降するのはスライダ１４２の走行始端と終端の２ヶ所だけであるが、第２搬送機構１６０の場合には、磁着部１６４の下降がスライダ１６２の走行始端と終端の２ヶ所に加えて走行途中においても１回行われる。
【００６６】
即ち、スライダ１６２はガイドレール１６１を自動濯ぎ装置２００に接近する方向に移動する途中で一旦停止し、この一旦停止地点において磁着部１６４が下降し、回転テーブル１１０と後述する自動濯ぎ装置２００の回転テーブル２１０との間に設置された第１液切りポット１９０の中にこの磁着部１６４が進入し、第１液切りポット１９０内に所定時間停止した後に磁着部１６４が上昇し、その後、スライダ１６２が再び自動濯ぎ装置２００に接近移動する。
【００６７】
第１液切りポット１９０は上部を開口させた円筒状をなし、その内部には磁気コアＷを受ける網（図示せず）が張設されている。この第１液切りポット１９０の内部には圧縮空気が送り込まれるようになっており、第１液切りポット１９０内に進入した磁着部１６４に磁着した磁気コアＷに前記圧縮空気を吹き付けて、磁気コアＷに付着する樹脂液を払い落としている。尚、払い落とされた樹脂液は第１液切りポット１９０に接続されたドレン管（図示せず）から排出される。
【００６８】
樹脂液補充機構１７０は、第４の定点Ｄに停止した含浸槽１２０Ｄの樹脂液Ｑの液位Ｌ１を検出する超音波液位センサ（液位センサ）１７１と、含浸槽１２０Ｄに樹脂液Ｑを補充するための樹脂液注入ノズル（樹脂液注入機構）１７２とを備え、これら超音波液位センサ１７１と樹脂液注入ノズル１７２は含浸槽１２０Ｄの上方に設置されたブラケット１７３に固定されている。尚、このブラケット１７３は基台２に固定されている。
【００６９】
樹脂液補充機構１７０は、含浸槽１２０Ｄの樹脂液Ｑの液位Ｌ１を常に一定レベルに保持するために、超音波液位センサ１７１からの検出信号に基づいて必要量の樹脂液Ｑを樹脂液注入ノズル１７２から注出すべく自動制御運転される。
【００７０】
〈自動濯ぎ装置〉
図７は自動濯ぎ装置２００の要部の概略外観斜視図であり、図８及び図９は自動濯ぎ装置２００の要部を断面で示した概略構成図である。
【００７１】
自動濯ぎ装置２００は基台２に回転可能に支持された回転テーブル２１０を備えており、この回転テーブル２１０は、前記駆動モータ３、ベルト伝達機構６、回転駆動シャフト７によって、自動含浸装置１００の回転テーブル１１０の回転方向Ｒ１と同方向（即ち、図中矢印Ｒ２方向）に且つ回転テーブル１１０と同期して、９０度ずつ間欠的に回転駆動されるようになっている。
【００７２】
回転テーブル２１０には上部を開口させた４つの有底円筒状の濯ぎ槽２２０が周方向９０度間隔に取り付けられており、これら４つの濯ぎ槽２２０は、回転テーブル２１０の間欠回転動作によって図３に示す４つの定点Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈに順次移動停止することとなる。
【００７３】
各濯ぎ槽２２０は回転テーブル２１０に回転自在に支持されており、回転テーブル２１０の下部に設置された駆動機構により間欠的に回転駆動されるようになっている。即ち、図３における第３の定点Ｇに停止した濯ぎ槽２２０Ｇは、基台２に固定された駆動モータ２３０及び歯車機構２３１によって回転テーブル２１０の回転方向Ｒ２と同方向に間欠的に回転駆動せしめられる。そして、互いに隣接する濯ぎ槽２２０同士は遊び車を備えた歯車機構２３２によって連結されており、他の３つの定点Ｅ，Ｆ，Ｈに停止した３つの濯ぎ槽２２０Ｅ，２２０Ｆ，２２０Ｈも前記濯ぎ槽２２０Ｇと同期して同方向に回転駆動せしめられるようになっている。
【００７４】
各濯ぎ槽２２０には所定量のアルコール系の濯ぎ液Ｓが収容可能になっている。又、各濯ぎ槽２２０の底部内面には複数の撹拌羽根２２１が設けられており、濯ぎ槽２２０が回転すると撹拌羽根２２１によって濯ぎ液Ｓが撹拌され、濯ぎ液Ｓに渦流を生じせしめることができるようになっている。
【００７５】
又、自動濯ぎ装置２００は回転テーブル２１０の上方に配された昇降テーブル２４０を備えている。この昇降テーブル２４０は、図２に示すように、前記回転テーブル２１０の回転駆動シャフト７を軸線方向（換言すれば上下方向）に相対移動自在で且つ相対回転不能に貫通する昇降駆動シャフト８に連結されており、この昇降駆動シャフト８はカップリング９を介して、上下方向に直線的に往復動するリニアモータ１０に連結されている。ここでカップリング９は、リニアモータ１０の駆動軸と昇降駆動シャフト８とを互いに相対回転自在で且つ相対昇降不能に連結する。
【００７６】
リニアモータ１０は所定の時間間隔毎に所定回数の往復動を行うように運転制御されており、これによって、昇降テーブル２４０は複数回数の上下動を一動作単位として、この動作単位を所定の時間間隔毎に間欠的に行うように運転制御されている
又、昇降駆動シャフト８が回転駆動シャフト７に対して相対回転不能に貫通していることにより、昇降テーブル２４０は回転テーブル２１０と同期して且つ同方向に同角度だけ間欠的に回転することとなる。
【００７７】
昇降テーブル２４０には上部を開口させた４つの濯ぎ篭２５０が周方向９０度間隔に固定されている。各濯ぎ篭２５０は昇降テーブル２４０が上下動した時にそれぞれ対応する濯ぎ槽２２０内に進入可能な位置に設置されている。
【００７８】
各濯ぎ篭２５０は昇降テーブル２４０に設けられた貫通孔２４１を貫通して下方に突出するように固定されており、昇降テーブル２４０に固定されたフランジ部２５１から複数本の連結プレート２５２が下方に延び、これら連結プレート２５２の下端に下リング２５３が固定され、下リング２５３に網体２５４が張設されている。この網体２５４はその上に複数の磁気コアＷを平面的に載置できる大きさを有している。
【００７９】
図８に示すように昇降テーブル２４０が上死点に位置している時には、網体２５４は濯ぎ槽２２０内の濯ぎ液Ｓの液面Ｌ２よりも上方に位置しており、網体２５４に載置された磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに接触させないようにしている。
【００８０】
一方、図９に示すように昇降テーブル２４０が下死点に位置している時には、網体２５４は濯ぎ液Ｓ内に没して撹拌羽根２２１の上方に位置しており、網体２５４に載置された磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに没入させ、浸漬せしめるようになっている。
【００８１】
この自動濯ぎ装置２００と前記第２搬送機構１６０とは次のように連繋されている。第２搬送機構１６０のスライダ１６２の走行終端は図３における第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅの上方に位置している。この走行終端において、第２搬送機構１６０の磁着部１６４が下降し、濯ぎ槽２２０Ｅ内で上死点に位置している濯ぎ篭２５０内に進入して、磁着部１６４に磁着されている磁気コアＷを離反して濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に載置する。
【００８２】
自動濯ぎ装置２００は、第４の定点Ｈに停止する濯ぎ槽２２０Ｈの濯ぎ篭２５０に載置されている磁気コアＷを硬化炉３００に移送する第３搬送機構２６０を備えている。
【００８３】
第３搬送機構２６０は、図１に示すように回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０の左方に配されて図中Ｙ方向に沿って直線的に移動する可動台２６１を有し、この可動台２６１には図中Ｘ方向に沿って直線的に延びるガイドレール２６２が固定され、このガイドレール２６２に沿ってスライダ２６３が移動可能に取り付けられ、スライダ２６３に磁着部２６５がエアシリンダ２６４を介して上下動可能に取り付けられている。
【００８４】
磁着部２６５の構成及び機能は、前記第１搬送機構１４０における磁着部１４３と同じであり、電磁石の磁力により磁気コアＷを磁着することができ、電磁石に対する通電あるいは停電により磁気コアＷを磁着したり離反させたりすることができるようになっている。
【００８５】
この第３搬送機構２６０は可動台２６１のＹ方向移動とスライダ２６３のＸ方向移動により、磁着部２６５をＸ―Ｙの二次元的に移動せしめることができる。第３搬送機構２６０は次のように動作する。即ち、第３搬送機構２６０の可動台２６１及びスライダ２６３によって水平移動する磁着部２６５は、第４の定点Ｈに停止した濯ぎ槽２２０Ｈの上方に位置したところで一旦停止する。そして、この位置でエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降し、濯ぎ槽２２０Ｈ内において上死点に位置する濯ぎ篭２５０に載置された磁気コアＷを磁着して、磁着部２６５は再び上昇する。
【００８６】
次に、磁着部２６５が再び水平移動せしめられ、定点Ｈの近傍に設置された第２液切りポット２７０の上方に磁着部２６５が位置したところで、磁着部２６５は水平移動を一旦停止する。
【００８７】
ここで、第２液切りポット２７０について説明すると、第２液切りポット２７０は前記第１液切りポット１９０と同じ構成及び機能を備えている。即ち、第２液切りポット２７０は上部を開口させた円筒状をなし、その内部には磁気コアＷを受ける網（図示せず）が張設されている。この第２液切りポット２７０の内部には圧縮空気が送り込まれるようになっており、第２液切りポット２７０内に進入した磁着部２６５に磁着した磁気コアＷに前記圧縮空気を吹き付けて、磁気コアＷに付着する樹脂液を払い落としている。尚、払い落とされた樹脂液は第２液切りポット２７０に接続されたドレン管（図示せず）から排出される。
【００８８】
前述の如く第２液切りポット２７０の上方で磁着部２６５の水平移動が停止せしめられると、この位置でエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降して第２液切りポット２７０内に進入する。
【００８９】
そして、磁着部２６５は所定の短時間だけ第２液切りポット２７０内に停止せしめられ、ここで磁気コアＷに付着する濯ぎ液を圧縮空気の吹き付けにより除去する。その後、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が上昇する。
【００９０】
次に磁着部２６５が再び水平移動せしめられ、可動台２６１に固定された吸着皿２６６の上方に磁着部２６５が位置したところで、磁着部２６５は水平移動を一旦停止する。吸着皿２６６は上部を開口させていて、底部に濯ぎ液を吸着するためのスポンジ製の吸着マットを備えている。
【００９１】
前記停止位置においてエアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着する磁気コアＷを吸着皿２６６の吸着マットに押し当てる。そして、磁着部２６５を所定の短時間だけ吸着マットに押し付けた後、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が上昇する。
【００９２】
次に、再び磁着部２６５が水平移動せしめられ、硬化炉３００の搬入部３０３における所定位置まで移動する。
【００９３】
〈硬化炉〉
次に、硬化炉３００について説明する。
図１０は硬化炉３００の概略構成図である。硬化炉３００は、所定温度に加熱された熱風が内部で循環している炉体３０１と、この炉体３０１内を貫通して設置されたコンベア３０２とを備えており、炉体３０１から突出するコンベア３０２の始端が硬化炉３００の搬入部３０３になっていて、炉体３０１から突出するコンベア３０２の終端が搬出部３０４になっている。
【００９４】
炉体３０１から突出して露出するコンベア３０２の始端、即ち搬入部３０３には、ポリエステル製の不織布で形成された敷きマット３１１が順次自動供給されて載置されるようになっている。
【００９５】
この敷きマット３１１の所定位置の上方に前記第３搬送装置２６０の磁着部２６５が位置すると、磁着部２６５の水平移動が停止せしめられ、エアシリンダ２６４が動作して磁着部２６５が降下し、磁着部２６５に磁着されている磁気コアＷを敷きマット３１１上に載置して、この後、磁着部２６５の電磁石への通電を停止して磁気コアＷを磁着部２６５から離反するようになっている。
【００９６】
そして、敷きマット３１１の上に所定数の磁気コアＷを整列せしめた後に、これら磁気コアＷの上に、ポリエステル製の不織布で形成されたカバーシート３１２が自動供給され、上から被せられるようになっている。
【００９７】
即ち、コンベア３０２の始端において、磁気コアＷは敷きマット３１１とカバーシート３１２の間に挟装され、この状態のまま磁気コアＷはコンベア３０２によって炉体３０１内に搬送され、炉体３０１を通過してコンベア３０２の終端である搬出部３０４まで搬送されることとなる。
【００９８】
敷きマット３１１は図１１に示すように平坦な１枚のシート状をなしているのに対して、カバーシート３１２は図１２に示すようにその中央部分が多数のスリット３１２ａによって多数の帯状部３１２ｂに分割されている。このような形態にカバーシート３１２を形成したのは、カバーシート３１２の柔軟性を高めてカバーシート３１２を磁気コアＷの上面に当接し易くするためである。
【００９９】
ところで、敷きマット３１１及びカバーシート３１２を構成するポリエステル製の不織布は、濯ぎ液Ｓを吸収し易いが、水分を吸収し難く、且つ、水分を放出しにくい性質を有している。
【０１００】
磁気コアＷに付着する濯ぎ液Ｓは、コンベア３０２の始端から比較的に近い領域で敷きマット３１１及びカバーシート３１２によって吸着される。一方、敷きマット３１１及びカバーシート３１２は炉体３０１の外では空気中の湿気等を吸着することがなく、又、炉体３０１内では自己が保有する水分を炉体３０１内に放出することがない。
【０１０１】
炉体３０１内における水分の存在は、樹脂液の硬化に悪影響を及ぼすことがわかっている。したがって、上述のように、敷きマット３１１及びカバーシート３１２が、水分を吸収し難く且つ自己の保有する水分を放出し難いという性質を有していると、炉体３０１内を樹脂液の硬化に好ましい環境に形成するのに非常に有利である。
【０１０２】
尚、乾燥条件が比較的に緩やかな場合は、敷きマット３１１に黄ボール紙を用いてもよい。
【０１０３】
〔この実施の形態の作用〕
次に、本発明の自動含浸濯ぎ装置の作用を説明する。この実施の形態では、磁気コアＷの帯板間に樹脂液Ｑを染み込ませる含浸工程と、磁気コアＷに付着した余剰の樹脂液Ｑを除去する濯ぎ工程と、磁気コアＷに染み込ませた樹脂液Ｑを硬化せしめる硬化工程を経て、磁気コアＷに対する含浸が達成される。以下、各工程について説明する。
【０１０４】
〈含浸工程〉
初めに、ワーク搬入コンベア１の終端において整列せしめた磁気コアＷを、自動含浸装置１００の第１搬送機構１４０によって第１の定点Ａに停止した含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０に搬送する。
【０１０５】
磁気コアＷを前記含浸篭１３０に受け入れる時には、回転テーブル１１０は停止しており、又、当該含浸篭１３０はスプリング１３５によって最上位に位置し、その上部を含浸槽１２０のフランジ部１２１から突出させている。
【０１０６】
ワーク搬入コンベア１の終端において整列せしめた磁気コアＷは、その上方から下降してくる第１搬送機構１４０の磁着部１４３に磁着される。磁気コアＷを磁着した磁着部１４３はエアシリンダ１４４によって上昇した後、スライダ１４２によって回転テーブル１１０に接近する方向に水平移動する。
【０１０７】
磁着部１４３は含浸槽１２０Ａの含浸篭１３０の上方に位置して水平移動を停止し、エアシリンダ１４４によって下降せしめられて、磁着部１４３に磁着した磁気コアＷを含浸篭１３０の網体１３４の上に載置し、ここで磁気コアＷを磁着部１４３から離脱する。磁気コア１４３を離脱させた磁着部１４３は上昇し、更にワーク搬入コンベア１の終端側に水平移動して退行し、次の磁気コアＷを搬送するために待機状態となる。
【０１０８】
この時点では、当該含浸篭１３０の網体１３４が樹脂液Ｑの液面Ｌ１よりも上方に位置しており、含浸篭１３０に載置された磁気コアＷは樹脂液Ｑに接触していない。
【０１０９】
次に、回転テーブル１１０が９０度回転して、当該含浸篭１３０を備えた含浸槽１２０は第１の定点Ａから第２の定点Ｂに移動し、ここで回転テーブル１１０が停止する。
【０１１０】
回転テーブル１１０の停止後にエアシリンダ１５１が動作して蓋体１５０が下降し、その下降途中で当該含浸篭１３０を押し下げ、最終的には図６に示すように蓋体１５０は含浸槽１２０のフランジ部１２１に密接して、含浸槽１２０を気密に閉塞する。この時、含浸篭１３０の下部が含浸槽１２０に収容されていた樹脂液Ｑの中に没し、網体１３４に載置された磁気コアＷが樹脂液Ｑに浸漬される。
【０１１１】
次に、吸気ノズル１５４に連なる開閉弁が開弁され、含浸槽１２０とリザーブタンク１５７が接続され、これにより含浸槽１２０の内部が吸引されて、含浸槽１２０内は所定の真空度になる。
【０１１２】
そして、含浸槽１２０内を所定の時間、所定の真空度に保持する。例えば、真空度を６００ｔｏｒｒ． とし、大気圧と含浸槽１２０内の圧力差ΔＰ（ｍｍＨｇ）と、樹脂液Ｑの粘度μ（Ｃｐ）との比 ΔＰ／μを２．５として、７秒間保持する。あるいは、真空度を２０ｔｏｒｒ． とし、 ΔＰ／μを５．０として、７秒間保持する。この間に、含浸篭１３０に収容した磁気コアＷに樹脂液Ｑが含浸する。
【０１１３】
所定の保持時間経過後に、蓋体１５０が上昇する。すると、含浸篭１３０はスプリング１３５の弾性で最上位位置まで上昇せしめられ、図５に示すように磁気コアＷが樹脂液Ｑから引き上げられる。
【０１１４】
次に、回転テーブル１１０が９０度回転して、当該含浸篭１３０を備えた含浸槽１２０は第２の定点Ｂから第３の定点Ｃに移動し、ここで回転テーブル１１０が停止する。
【０１１５】
回転テーブル１１０の停止後に第２搬送機構１６０の磁着部１６４がエアシリンダ１６３によって下降し、当該含浸篭１３０に載置された磁気コアＷを磁着する。磁気コアＷを磁着した後、磁着部１６４は上昇し、スライダ１６２によって自動濯ぎ装置２００に接近する方向に水平移動する。
【０１１６】
そして、磁着部１６４は第１液切りポット１９０の上方に位置したところで水平移動を停止し、ここで下降して第１液切りポット１９０内に進入する。尚、第１液切りポット１９０内においては磁着部１６４から磁気コアＷを離脱させない。
【０１１７】
この第１液切りポット１９０内において磁気コアＷに圧縮空気が吹き付けられ、磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｑが除去される。
この後、磁着部１６４は上昇して、再び自動濯ぎ装置２００に接近する方向に水平移動する。そして、磁着部１６４は、自動濯ぎ装置２００の第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅの上方に位置したところで、水平移動を停止する。
【０１１８】
〈濯ぎ工程〉
磁着部１６４の水平移動停止時において、自動濯ぎ装置２００の回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０は回転を停止しており、昇降テーブル２４０は最上位に位置して昇降を停止しており、各濯ぎ槽２２０は回転を停止している。
【０１１９】
この状態において、第１の定点Ｅに停止する濯ぎ槽２２０Ｅ内に位置する濯ぎ篭２５０は、図８に示すように濯ぎ槽２２０Ｅ内に収容された濯ぎ液Ｓの液面
Ｌ２よりも上方に位置している。
【０１２０】
濯ぎ槽２２０Ｅの上方において水平移動を停止した第２搬送装置１６０の磁着部１６４はこの停止位置で下降し、濯ぎ槽２２０Ｅ内に配された濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に磁気コアＷを載置し、磁着部１６４から磁気コアＷを離脱する。この後、磁気コアＷを離脱させた磁着部１６４は上昇し、更に自動含浸装置１００の回転テーブル１１０に接近する方向に水平移動して退行し、次の磁気コアＷを搬送するために待機状態となる。
【０１２１】
濯ぎ槽２２０Ｅの濯ぎ篭２５０に磁気コアＷを載置した後、回転テーブル２１０と昇降テーブル２４０が同期して９０度回転し、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第１の定点Ｅから第２の定点Ｆに移動する。そして、ここで回転テーブル１１０及び昇降テーブル２４０が停止する。
【０１２２】
次に、昇降テーブル２４０が図９に示すように最下位まで下降し、当該濯ぎ篭２５０の下部を濯ぎ液Ｓ内に没し、濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に載置されている磁気コアＷを濯ぎ液Ｓに浸漬する。昇降テーブル２４０は最下位下降後に所定時間が経過するまでは、昇降動作をすることなく最下位の位置を維持する。又、この昇降テーブル２４０の下降と同時に、濯ぎ槽２２０が回転を開始する。この時の濯ぎ槽２２０の回転数は、例えば、６０〜３００ＲＰＭ．である。
【０１２３】
その結果、濯ぎ槽２２０の底部に設けられた撹拌羽根２２１が濯ぎ液Ｓに対して回転するので、濯ぎ液Ｓに渦流が生じる。つまり、昇降テーブル２４０が最下位に達した後、所定時間の間は、昇降テーブル２４０が最下位の位置を維持しつつ、濯ぎ槽２２０の回転により濯ぎ液Ｓに渦流が生じる。この渦流状態の濯ぎ液Ｓは磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｓを濯ぎ落とす。
【０１２４】
そして、昇降テーブル２４０が最下位に達してから所定時間経過すると、濯ぎ槽２２０の回転を続行したまま、昇降テーブル２４０が上下に所定のストロークで往復動を開始する。ここで、昇降テーブル２４０のストロークは、濯ぎ槽２５０に載置された磁気コアＷが濯ぎ液Ｓに没した状態を維持しつつ上下動するように設定されている。即ち、昇降テーブル２４０の上下往復動時における上死点位置は、昇降テーブル２４０の前記最上位の位置よりも低位に設定されている。
【０１２５】
このように、昇降テーブル２４０が上下往復動している時には、濯ぎ槽２２０内の濯ぎ液Ｓに、濯ぎ槽２２０の回転による渦流と、昇降テーブル２４０の上下動（即ち濯ぎ篭２５０の上下動）による相対上下流とが生じ、濯ぎ液Ｓに対する撹拌効果が極めて大きい。したがって、磁気コアＷに余剰に付着した樹脂液Ｑに対する濯ぎ落とし効果も大きい。
【０１２６】
昇降テーブル２４０の往復上下動開始から所定時間経過後、あるいは、所定回数運動後、昇降テーブル２４０は最上位まで上昇して昇降動作を停止し、濯ぎ篭２５０の磁気コアＷを濯ぎ液Ｓから引き上げる。又、昇降テーブル２４０が最上位に上昇するのとほぼ同時に、濯ぎ槽２２０は回転動作を停止する。
【０１２７】
この後、昇降テーブル２４０を最上位に保持するとともに濯ぎ槽２２０を回転させない状態に保持しつつ、回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０が９０度回転して、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第２の定点Ｆから第３の定点Ｇに移動する。
【０１２８】
この第３の定点Ｇにおいても第２の定点Ｆで行ったのと同じ濯ぎ工程が行われる。即ち、初めの一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流だけにより磁気コアＷの濯ぎが行われ、その後の一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流と相対上下流により磁気コアＷの濯ぎが行われる。
【０１２９】
この後、昇降テーブル２４０を最上位に保持するとともに濯ぎ槽２２０を回転させない状態に保持しつつ、回転テーブル２１０及び昇降テーブル２４０が９０度回転して、当該濯ぎ槽２２０及び濯ぎ篭２５０を第３の定点Ｇから第４の定点Ｈに移動する。
【０１３０】
この第４の定点Ｈにおいても第２の定点Ｆ、第３の定点Ｇで行ったのと同じ濯ぎ工程が行われる。即ち、初めの一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流だけにより磁気コアＷの濯ぎが行われ、その後の一定時間は濯ぎ液Ｓの渦流と相対上下流により磁気コアＷの濯ぎが行われる。
【０１３１】
つまり、この実施の形態では、濯ぎ工程を連続して３回行うこととなり、これによって磁気コアＷに付着する余剰の樹脂液Ｑを十分に濯ぎ落とすようにしている。尚、磁気コアＷの帯板間に含浸した樹脂液Ｑは、粘度の高い樹脂液Ｑの表面張力でしっかりと保持されており、濯ぎ液Ｓで濯がれても磁気コアＷから離脱することはない。したがって、濯ぎ工程終了後も磁気コアＷには必要な部位に必要且つ十分な量の樹脂液Ｓが含浸されていることとなる。
【０１３２】
そして、第４の定点Ｈにおける濯ぎ工程終了後、第４の定点Ｈにおいて最上位に位置している濯ぎ篭２５０の網体２５４の上に、第３搬送機構２６０の磁着部２６５が下降してきて、網体２５４に載置されている磁気コアＷを磁着部２６５に磁着する。
【０１３３】
磁気コアＷを磁着した後、磁着部２６５は上昇し、更に、可動台２６１及びスライダ２６３による２軸水平移動により第２液切りポット２７０の上方に位置したところで磁着部２６５は水平移動を停止する。
【０１３４】
この停止位置において、磁着部２６５は下降して第２液切りポット２７０内に進入する。尚、第２液切りポット２７０内においては磁着部２６５から磁気コアＷを離脱させない。この第２液切りポット２７０内において磁気コアＷに圧縮空気が吹き付けられ、磁気コアＷに付着する余剰の濯ぎ液Ｓが除去される。
【０１３５】
この後、磁着部２６５は上昇し、スライダ２６３による１軸水平移動により吸着皿２６６の上方に位置したところで磁着部２６５は水平移動を停止する。この停止位置で磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着する磁気コアＷを吸着皿２６６の吸着マットに押し当てて、磁気コアＷの底部に残る濯ぎ液を除去する。ここまでの工程で、磁気コアＷに付着する濯ぎ液Ｓは殆ど除去される。
【０１３６】
この後、磁着部２６５は上昇し、可動台２６１及びスライダ２６３によって硬化炉３０３に接近する方向に２軸水平移動せしめられる。
【０１３７】
〈硬化工程〉
第３搬送機構２６０の磁着部２６５は、硬化炉３００の搬入部３０３におけるコンベア３０２の上に載置された敷きマット３１１の上方に位置したところで、水平移動を停止する。
【０１３８】
ここで、磁着部２６５が下降し、磁着部２６５に磁着されている磁気コアＷを敷きマット３１１の上に載置し、磁着部２６５から離脱させる。
敷きマット３１１に所定数の磁気コアＷを平面的に整列させた後、これら磁気コアＷの上にカバーシート３１２が被せられる。ここで、磁気コアＷに未だ付着している濯ぎ液Ｓが敷きマット３１１及びカバーシート３１２に吸着される。
【０１３９】
磁気コアＷの上にカバーシート３１２を被せた後、コンベア３０２が動作し、敷きマット３１１とカバーシート３１２で磁気コアＷを挟んだ状態のまま、これらを所定の酸素濃度以下に制御された雰囲気の炉体３０１内に進入させる。
【０１４０】
炉体３０１内において、磁気コアＷは所定温度の熱風にさらされ、これによって磁気コアＷに含浸した樹脂液Ｑが硬化する。尚、この実施の形態では、炉体３０１内の熱風の温度を１２０〜２２０°Ｃとし、磁気コアＷが炉体３０１を通過するのに要する時間、即ち硬化時間を６０〜２４０分間とした。
【０１４１】
敷きマット３１１とカバーシート３１２の間に挟装された磁気コアＷは、炉体３０１を通過する間に完全に硬化され、搬出部３０４に運び出される。
【０１４２】
尚、自動含浸装置１００において、含浸槽１２０が第３の定点Ｃに停止し、第２搬送機構１６０によって含浸篭１３０から磁気コアＷが取り出された後では、回転テーブル１１０が９０度回転して当該含浸槽１２０を第３の定点Ｃから第４の定点Ｄに移動する。
【０１４３】
この回転テーブル１１０の停止中に、樹脂液補充機構１７０が動作して、磁気コアＷを浸漬する前の含浸槽１２０内の樹脂液Ｑの量が、予め設定しておいた一定量となるようにする。即ち、超音波液位センサ１７１によって含浸槽１２０の樹脂液Ｑの液位を検出し、この検出信号に基づいて、不足する量の樹脂液Ｑが樹脂液注入ノズル１７２から補給される。
【０１４４】
この実施の形態の場合には、自動含浸装置により磁気コアＷへの樹脂液の含浸工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず、生産性も向上する。
【０１４５】
又、自動含浸装置による１回の含浸工程で使用される樹脂液の量が少なくて済むので、樹脂液から放出されるガスの量も少なく、作業環境を悪化させることもない。
【０１４６】
更に、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設け、この自動濯ぎ装置により濯ぎ工程を行っているので、樹脂を硬化させる前に余剰の樹脂液Ｑを除去することができ、したがって、硬化後の磁気コアＷにバリが生じることがない。
【０１４７】
しかも、この自動濯ぎ装置により濯ぎ工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず生産性も向上する。
特に、この実施の形態の場合には、含浸工程、濯ぎ工程、硬化工程の一連の製造工程が自動的に且つ連続的に行われるので、手間がかからず、生産性も向上する。
【０１４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、自動含浸装置が含浸槽と第１搬送機構と蓋体と蓋体移動機構と吸引機構と第２搬送機構とを備えていることにより、ワークに樹脂液を含浸あるいは被覆する工程を自動化することができ、生産性が向上するという優れた効果が奏される。
【０１４９】
又、本発明の自動含浸装置によれば、１回の含浸工程で使用される樹脂液の量を少なくでき、これによって樹脂液から放出されるガスの量を少なくできるので、作業環境を向上することができる。
【０１５０】
自動含浸装置に含浸篭を備えた場合には、第１搬送機構及び第２搬送機構によるワークの受け渡しを樹脂液から引き上げた位置で行えるので、搬送がし易いという効果がある。
【０１５１】
吸引機構を蓋体に連結した場合には、含浸槽が移動するシステムに自動含浸装置を構築する時に有利である。
【０１５２】
自動含浸装置に樹脂液注入機構を備えた場合には、含浸槽内の樹脂液が減った時に自動的に樹脂液を補給することができ、これにより含浸槽内の樹脂液量を常に一定量に保持することができ、手間がかからず生産性が向上するという効果がある。
【０１５３】
請求項６に記載するように少なくとも３つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合、あるいは、請求項７に記載するように少なくとも４つの含浸槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動含浸装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができ、生産性を更に向上させることができるという優れた効果が奏される。
【０１５４】
又、本発明によれば、自動含浸装置の後段に自動濯ぎ装置を設けたことにより、樹脂液を硬化する前に、ワークに付着した余剰の樹脂液を除去することができ、これによって、余剰樹脂液付着に起因してワーク表面に形成されるバリの発生を未然に防止することができる。
【０１５５】
自動濯ぎ装置が濯ぎ槽と撹拌機構と第３搬送機構とを備えた場合には、簡単な構造ながら濯ぎ効果の大きい装置を得ることができるという効果がある。
濯ぎ槽を回転可能とし、この濯ぎ槽の内面に撹拌羽根を設けて撹拌機構とした場合には、撹拌機構を簡単な構造にできるという効果がある。
【０１５６】
濯ぎ槽内で上下する濯ぎ篭を備えた自動濯ぎ装置の場合には、第２搬送機構及び第３搬送機構によるワークの受け渡しを濯ぎ液から引き上げた位置で行えるので、搬送がし易いという効果がある。
【０１５７】
濯ぎ槽の回転中に濯ぎ篭が上下動する自動濯ぎ装置の場合には、濯ぎ効果を更に向上させることができる。
少なくとも３つの濯ぎ槽が設置された回転テーブルを間欠回転せしめるようにした自動濯ぎ装置の場合には、無駄時間の少ない効率的な自動化システムを構築することができ、生産性を更に向上させることができるという優れた効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における全体平面図である。
【図２】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における全体正面図である。
【図３】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における要部平面配置図である。
【図４】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の概略外観斜視図である。
【図５】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の開蓋状態を示す概略断面構成図である。
【図６】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動含浸装置の閉蓋状態を示す概略断面構成図である。
【図７】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略外観斜視図である。
【図８】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略断面構成図であり、昇降テーブルが最上位に位置した状態を示す図である。
【図９】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における自動濯ぎ装置の概略断面構成図であり、昇降テーブルが最下位に位置した状態を示す図である。
【図１０】本発明の自動含浸濯ぎ装置の実施の一形態における硬化炉の概略構成図である。
【図１１】硬化炉に使用される敷きマットの外観斜視図である。
【図１２】硬化炉に使用されるカバーシートの外観斜視図である。
【図１３】本発明の自動含浸濯ぎ装置による処理対象となるワークとしての磁気コアの外観斜視図である。
【図１４】表面にバリが生じた従来の磁気コアの外観斜視図である。
【符号の説明】
１００ 自動含浸装置
１１０ 回転テーブル
１２０ 含浸槽
１３０ 含浸篭
１４０ 第１搬送機構
１４３ 磁着部
１５０ 蓋体
１５１ エアシリンダ（蓋体移動機構）
１５６ 真空ポンプ（吸引機構）
１６０ 第２搬送機構
１６４ 磁着部
１７０ 樹脂液補充機構
１７１ 超音波液位センサ（液位センサ）
１７２ 樹脂液注入ノズル（樹脂液注入機構）
２００ 自動濯ぎ装置
２１０ 回転テーブル
２２０ 濯ぎ槽
２２１ 撹拌羽根（撹拌機構）
２４０ 昇降テーブル
２５０ 濯ぎ篭
２６０ 第３搬送機構
２６５ 磁着部
Ｑ 樹脂液
Ｓ 濯ぎ液
Ｗ 磁気コア（ワーク）
Claims (12)
- 上部を開口させ内部に樹脂液を収容する含浸槽と、前記含浸槽内にワークを搬入する第１搬送機構と、前記含浸槽の上部開口を気密に閉塞可能な蓋体と、この蓋体を開動作あるいは閉動作せしめる蓋体移動機構と、前記蓋体で密閉された含浸槽の内部を負圧化する吸引機構と、前記含浸槽内からワークを含浸槽外に搬出する第２搬送機構、とを備え、前記含浸槽の内部には、ワークを載置可能とする含浸篭が、ワークを含浸槽の樹脂液に浸漬せしめたりあるいは樹脂液から引き上げたりすることができるように上下動可能に設置されており、
前記蓋体移動機構の閉動作に伴って、含浸篭に載置されたワークが樹脂液に浸漬し、開動作に伴って、含浸篭に載置されたワークが樹脂液より引き揚げられる機構を備え、この含浸篭に前記第１搬送機構及び第２搬送機構が連繋していることを特徴とするワークの自動含浸装置。 - 前記含浸槽内の樹脂液の液位を検出する液位センサと、含浸槽内の樹脂液の液位を一定レベルに保つべく前記液位センサの検出結果に基いて樹脂液を補充する樹脂液注入機構、とを備えたことを特徴とする請求項１に記載のワークの自動含浸装置。
- 少なくとも３つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋されることを特徴とする請求項１又は２に記載のワークの自動含浸装置。
- 少なくとも４つの前記含浸槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各含浸槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの含浸槽が前記第１搬送機構に連繋され、別の一つの含浸槽が前記蓋体に連繋されて閉蓋可能にされ、更に別の一つの含浸槽が前記第２搬送機構に連繋され、更にまた別の一つの含浸槽が前記液位センサ及び樹脂液注入機構に連繋されることを特徴とする請求項２に記載のワークの自動含浸装置。
- 前記請求項１から４のいずれかに記載のワークの自動含浸装置と、この自動含浸装置で樹脂液を含浸せしめた磁気コイルに付着した余剰の樹脂液を、圧縮空気を吹き付けて払い落とす液切り装置と、濯ぎ液で濯ぎ落とす自動濯ぎ装置とを備え、前記自動含浸装置の第２搬送機構によってワークが液切り装置及び自動濯ぎ装置に供給されることを特徴とするワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 前記自動濯ぎ装置は、上部を開口させ内部に濯ぎ液を収容した濯ぎ槽と、前記濯ぎ槽内の濯ぎ液を撹拌する撹拌機構と、前記濯ぎ篭内からワークを濯ぎ篭外に搬出する第３搬送機構、とを備えたことを特徴とする請求項５に記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 前記濯ぎ槽は内面に撹拌羽根を有し回転可能にされており、この濯ぎ槽の回転と撹拌羽根によって撹拌機構が構成されていることを特徴とする請求項６に記載のワークの連続含浸濯ぎ装置。
- 前記濯ぎ槽の内部には、ワークを載置可能とする濯ぎ篭が、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるように上下動可能に設置されており、この濯ぎ篭に前記第２搬送機構及び第３搬送機構が連繋していることを特徴とする請求項６または７に記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 前記第３搬送機構はワークを把持する手段として電磁石を備えていることを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 前記濯ぎ槽の回転中に前記濯ぎ篭が上下動せしめられるようにされた請求項８または９に記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、この回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽が前記第３搬送機構に連繋されていることを特徴とする請求項６から１０のいずれかに記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
- 少なくとも３つの前記濯ぎ槽を周方向等間隔に配した回転テーブルを備え、各濯ぎ槽の内部には、ワークを載置可能とする濯ぎ篭が、ワークを濯ぎ槽の濯ぎ液に浸漬せしめたりあるいは濯ぎ液から引き上げたりすることができるように上下動可能に設置されており、これら濯ぎ篭は前記回転テーブルに対して上下動可能な昇降テーブルに取り付けられていて、全ての濯ぎ篭が同期して上下動せしめられるようにされており、前記回転テーブルは各濯ぎ槽を順次同一停止位置に停止させるべく間欠回転するようにされており、回転テーブル停止時における一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第２搬送機構に連繋され、別の一つの濯ぎ槽内の濯ぎ篭が前記第３搬送機構に連繋されていることを特徴とする請求項６から１０のいずれかに記載のワークの自動含浸濯ぎ装置。
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