CN116013707B - 一种自动正负压含浸设备及含浸工艺 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电容的生产设备领域，具体提供了一种自动正负压含浸设备及含浸工艺，自动正负压含浸设备包括含浸槽、物料架、第一升降机构、第二升降机构、气压控制机构、浮球检测机构、含浸液注入机构、真空盖和旋转锁紧机构，含浸工艺采用阶梯式下降，可避免压力变化太快对产品内部结构产生破坏，能够提高产品的使用寿命，交替地采用真空含浸和正压含浸，能够完全排出产品内部的空气，通过本设备加工的电容产品，其内部含浸液充盈，品质好，并且含浸时长低，极大地提高了工作效率。

Description

一种自动正负压含浸设备及含浸工艺

技术领域

本发明涉及电容的生产设备领域，尤其涉及一种自动正负压含浸设备及含浸工艺。

背景技术

电容是电子设备中大量使用的电子元件之一，广泛应用于隔直、耦合、旁路、滤波、调谐回路、能量转换和控制电路等方面。随着电子行业的高速发展，电容的品质要求越来越高。电容的种类较多，其中铝电解电容的应用较为广泛，铝电解电容由芯体和金属外壳组成，芯体通常由阳极铝箔、第一电解纸、阴极铝箔、第二电解纸铝箔层叠卷成，铝电解电容在生产芯体时通常需要进行含浸工艺，通过含浸工艺，使含浸液通过阴极铝箔、阳极铝箔上的微孔渗透到芯体内部。现有含浸设备具有如下缺点：

1.由于含浸液的张力较大，含浸液不容易通过阴极铝箔、阳极铝箔上的微孔渗透到芯体内部，铝电解电容的含浸效果不好；

2.含浸液中含有气泡影响铝电解电容的含浸品质；

3.含浸完成后，附着在铝电解电容底部的含浸液较多，导致含浸液损耗较大；

4.现有的含浸设备容易受外界的温度影响，导致含浸设备内部的含浸液粘性产生变化，影响铝电解电容的含浸品质；

5.现有的含浸设备采用光电检测装置检测液面高度，由于含浸液具有较强的挥发性并且为有色液体，挥发后的溶液会附着在光电传感器表面，影响液面的检测精度且易误检测。

发明内容

本发明的目的在于解决背景技术中的至少一个技术问题，提供一种自动正负压含浸设备及含浸工艺。

为实现上述发明目的，本发明提供一种自动正负压含浸工艺，包括：

S1.放料，将物料架的两端分别放置在第一升降机构和第二升降机构上端，通过所述含浸液注入机构将含浸液注入到所述含浸槽内，并通过所述浮球检测机构检测液面的高度；

S2.一次下降，所述物料架下降至液面的上方，使产品底面接触液面，并关闭真空盖；

S3.二次下降，物料架下降，产品底部浸入含浸液4/5H,其中，H为产品纸宽；

S4.梯度抽真空，通过气压控制机构将含浸槽抽至真空，真空度为-N1，每次增加-S的真空度后保持T1,直到真空度达到-N2，其中，5kpa≤S≤10kpa，10s≤T1≤30s，40kpa≤N1≤50kpa，80kpa≤N2≤90kpa；

S5.真空含浸，所述含浸槽在真空度为-N2的真空状态下保持T2,其中，50s≤T2≤450s；

S6.正压含浸，所述含浸槽释放真空，并通过所述气压控制机构对所述含浸槽内充入压缩空气，达到N3后保持T3，其中，50s≤T3≤450s，80kpa≤N3≤20kpa；

S7.重复步骤S5和步骤S6，设定循环次数为2-20次；

S8.物料架提升，所述第一升降机构或所述第二升降机构首先将所述物料架的一侧抬起L，提升速度为V1，然后所述第一升降机构和所述第二升降机构同时以V2的提升速度上升，将倾斜状态下所述物料架向上提升至产品完全脱离液面，其中3mm≤L≤9mm，0.1mm/s≤V1≤1mm/s，0.1mm/s≤V2≤1mm/s。

S9.取料，通过所述旋转锁紧机构将所述真空盖从所述含浸槽上端解锁，并释放所述含浸槽内部的真空，打开所述真空盖，取出物料架。

根据本发明的一个方面，在步骤S1开始前，还设置有预处理工艺，包括，沿产品条的长度方向，将铝电解电容的引脚焊接到所述产品条上，将所述产品条的两端放置在所述物料架上。

根据本发明的一个方面，步骤S2进一步包括：

S21：锁定抽真空，通过所述气压控制机构将所述含浸槽抽至真空，真空度为-N4,保持T4后快速释放真空，同时通过旋转锁紧机构将真空盖锁定至含浸槽上端，其中，80kPa≤N4≤90kPa，3s≤T4≤5s。

根据本发明的一个方面，步骤S9进一步包括：

S91：通过所述气压控制机构将所述含浸槽抽至真空，含浸槽真空度为-N5，60kPa≤N4≤95kPa。

为了实现上述目的，本发明还提供一种采用正负压含浸工艺的设备，包括：

含浸槽，所述含浸槽底部设置有恒温腔、进水管和出水管，所述进水管和所述出水管分别连通所述恒温腔，所述含浸槽的上端边沿处设置有密封条；

物料架，所述物料架设置在所述含浸槽内；

第一升降机构，所述第一升降机构设置于所述含浸槽下方，所述第一升降机构的上端穿过所述含浸槽活动连接所述物料架的一侧；

第二升降机构，所述第二升降机构设置于所述含浸槽下方，所述第二升降机构的上端穿过所述含浸槽活动连接所述物料架的另一侧，所述第一升降机构和所述第二升降机构能够控制所述物料架在水平状态或倾斜状态下升降；所述第一升降机构和所述第二升降机构工作相互独立，互不干涉；

气压控制机构，用于控制所述含浸槽内部的气压；

浮球检测机构，用于检测所述含浸槽内部的液面高度；

含浸液注入机构，用于将含浸液注入至所述含浸槽中；

真空盖，所述真空盖上设置有观察窗；

旋转锁紧机构，所述旋转锁紧机构用于将所述真空盖锁定在所述含浸槽上方。

根据本发明的一个方面，所述第一升降机构或所述第二升降机构包括升降机架、驱动电机、丝杆、升降杆、升降板和刀口板，所述驱动电机安装在所述升降机架下端，所述丝杆转动安装在所述升降机架上、所述驱动电机的输出端传动连接所述丝杆，所述升降板螺纹连接所述丝杆，所述升降杆的下端连接所述升降板、所述升降杆的上端穿过所述含浸槽连接所述刀口板，所述刀口板上设置有U型槽，所述物料架的一侧放置在所述U型槽中。

根据本发明的一个方面，所述第一升降机构还包括开关安装条、m个感应开关和感应片，所述开关安装条沿所述丝杆的轴线方向安装在所述升降机架上，m个所述感应开关沿所述开关安装条的长度方向能够调节地安装在所述开关安装条上，所述感应片安装在所述升降板上，其中，m为所述物料架下降至所述含浸槽底部的总停留次数。

根据本发明的一个方面，所述气压控制机构包括能够提供正压或真空的气源、第一气压管、第二气压管、第三气压管、三通阀和压力显示表，所述第一气压管的上端穿过所述含浸槽、下端连接所述三通阀，所述第一气压管的上端的周壁设置有p个排气孔，所述第二气压管的一端连接所述三通阀、另一端连接有消音器，所述第三气压管的一端连接所述三通阀、另一端连接所述气源，其中，4≤p≤16。

根据本发明的一个方面，所述含浸液注入机构包括补液桶、压缩空气过滤减压阀、气动三通球阀、超声波发生、超声波震头、搅拌叶片和注入管，所述注入管连通所述补液桶和所述含浸槽，所述超声波震头安装在所述补液桶底部，所述搅拌叶片转动设置在所述补液桶内部，所述压缩空气过滤减压阀安装在所述补液桶上用于过滤压缩空气，所述气动三通球阀安装在所述注入管上用于控制所述补液桶的压力，所述气动三通球阀可切换压缩空气通入补液桶或将补液桶内的气压释放。

根据本发明的一个方面，所述旋转锁紧机构包括气缸、联动轴、t个转动轴，所述转动轴竖直并转动地安装在所述含浸槽的外周侧壁上，每一个所述转动轴的上端设置有扣件、下端设置有齿轮，所述联动轴沿水平滑动地设置在所述含浸槽的外周侧壁上，所述联动轴对应每一个齿轮设置有齿条，所述气缸的输出端连接所述联动轴的一端，所述联动轴在水平滑动时能够带动全部的所述扣件转动，所述扣件在转动时能够将所述真空盖和所述含浸槽锁定或解除锁定，其中，t为大于4的偶数。

根据本发明的方案，在步骤S4中，含浸槽内的气压采用阶梯式下降，可避免压力变化太快对产品内部结构产生破坏，能够提高产品的使用寿命和产品的性能。

根据本发明的方案，在步骤S21中，通过气压控制机构将含浸槽抽至真空后快速释放真空，此时产品还未接触含浸液，快速释放真空含浸槽内压力的快速变化能够破坏含浸液中的气泡，提高了含浸的品质。

根据本发明的方案，在步骤S6中，产品在真空状态下进行真空含浸，在通过气压控制机构将含浸槽抽至真空的过程中，产品内部的空气同时被抽走，含浸液通过产品的周壁上的微小孔洞进入到产品内部；在步骤S7中，产品在正压状态下进行正压含浸，在通过气压控制机构对含浸槽充入压缩空气的过程中，含浸液能够快速地通过产品的周壁上的微小孔洞参透到产品内部；在步骤S8中，交替地采用真空含浸和正压含浸，能够完全排出产品内部的空气，并使产品的内部充盈含浸液，提高了产品的品质，并且能够减少含浸时长，提高了工作效率。

根据本发明的方案，第一升降机构和第二升降机构采用相互独立的控制，在提升物料架的过程中，第一升降机构或第二升降机构首先将所述物料架的一侧抬起，使物料架处于倾斜状态，并通过第一升降机构或第二升降机构将倾斜状态下的物料架提升至产品完全脱离液面；由于物料架采用倾斜状态的提升方式，放置在物料架上的产品也处于倾斜状态，即铝电解电容的底面与含浸液的液面倾斜，真空状态下含浸液自身的张力能够将吸附在产品表面和底部的含浸液拉下来，不仅能够保持铝电解电容表面残留少，而且极大的避免了含浸液的损耗。

根据本发明的方案，含浸槽底部设置有恒温腔、进水管和出水管，恒定温度的水通过进水管进入到恒温腔中，通过出水管排出，并且，恒温腔的上部采用金属材质制成，便于恒温腔中的恒温水和含浸槽中的含浸液进行热交换。在本方案中采用循环供给的方式，能够保证恒温腔中的水保持温度，进一步地控制含浸液的温度，从而控制含浸液的温度和粘度等理化性能，提升产品在进行正压含浸或真空含浸时的品质。

根据本发明的方案，本发明通过浮球检测机构检测液面高度，相较于传统的光电检测机构，更加精确。浮球检测机构利用杠杆原理，放置在连通器中的浮球向上移动1厘米，开关感应片移动2厘米，浮球检测机构杠杆放大结构对液面的检测更加准确，相较于现有的光电检测装置，避免了含浸液挥发后的，附着在光电传感器，影响检测精度的问题。

根据本发明的方案，旋转锁紧机构包括气缸、联动轴、多个转动轴，多个转动轴竖直并转动地安装在含浸槽的外周侧壁上，每一个转动轴的上端设置有扣件、下端设置有齿轮，联动轴沿水平滑动地设置在含浸槽的外周侧壁上，联动轴对应每一个齿轮设置有齿条，气缸的输出端连接联动轴的一端，联动轴在水平滑动时能够带动全部的扣件转动，扣件在转动时能够将真空盖和含浸槽锁定或解除锁定，在本方案中，通过联动轴能够通过带动多个扣件工作同步工作，同步效果好、工作效率高。

附图说明

图1为本发明的一种结构示意图；

图2为本发明的一种剖视结构示意图；

图3为本发明的第一升降机构的一种结构示意图；

图4为本发明的气压控制机构的一种局部结构示意图；

图5为本发明的旋转锁紧机构的一种局部结构示意图；

图6为本发明的物料架的一种结构示意图；

图中：

100-含浸槽，110-恒温腔，111-进水管，112-出水管，120-密封条，200-物料架，201-放置槽，210-产品条，300-第一升降机构，310-升降机架，320-驱动电机，330-丝杆，340-升降杆，350-升降板，360-刀口板，361-U型槽，370-开关安装条，380-感应开关，390-感应片，400-第二升降机构，500-气压控制机构，520-第一气压管，530-第二气压管，540-第三气压管，550-三通阀，560-真空压力表，600-浮球检测机构，700-含浸液注入机构，800-真空盖，810-观察窗，900-旋转锁紧机构，910-气缸，920-联动轴，921-齿条，930-转动轴，940-扣件，950-齿轮。

具体实施方式

现在将参照示例性实施例来论述本发明的内容。应当理解，论述的实施例仅是为了使得本领域普通技术人员能够更好地理解且因此实现本发明的内容，而不是暗示对本发明的范围的任何限制。

如本文中所使用的，术语“包括”及其变体要被解读为意味着“包括但不限于”的开放式术语。术语“基于”要被解读为“至少部分地基于”。术语“一个实施例”和“一种实施例”要被解读为“至少一个实施例”。

图1示意性表示本发明的一种结构图。如图1所示，本实施例公开了本发明提供的一种自动正负压含浸设备，包括含浸槽100、物料架200、第一升降机构300、第二升降机构400、气压控制机构500、浮球检测机构600、含浸液注入机构700、真空盖800和旋转锁紧机构900。参照图1和图2，其中，含浸槽100底部设置有恒温腔110、进水管111和出水管112，进水管111和出水管112分别连通恒温腔110，物料架200沿竖直方向升降地安装在含浸槽100内，第一升降机构300和第二升降机构400安装在含浸槽100下方，并且第一升降机构300和第二升降机构400上端穿过含浸槽100分别活动连接物料架200的两侧，需要说明的是第一升降机构300和第二升降机构400为相互独立的两套升降系统；气压控制机构500设置在含浸槽100外部，并连通含浸槽100的上部空开，气压控制机构500用于控制含浸槽100内部的气压；浮球检测机构600设置在含浸槽100外部，并连通含浸槽100的底部，浮球检测机构600用于检测含浸槽100内部的液面高度；含浸液注入机构700设置在含浸槽100外部，并连通含浸槽100的底部，含浸液注入机构700用于将含浸液注入至含浸槽100中；真空盖800设置在含浸槽100上方；旋转锁紧机构900设置在含浸槽100的外周侧壁上，旋转锁紧机构900用于锁定或解除锁定真空盖800和含浸槽100。

需要说明的是，本发明中提到的产品为电解电容的芯体，铝电解电容的芯体包括阳极铝箔、第一电解纸、阴极铝箔、第二电解纸，其中阳极铝箔和阴极铝箔的表面有若干微小孔洞，在工作时，含浸液能够通过微小孔洞进入到铝电解电容的芯体内部。

在本发明的一些实施例中，参照图1和图3所示，第一升降机构300和第二升降机构400结构相同并且相互独立。具体的，第一升降机构300包括升降机架310、驱动电机320、丝杆330、升降杆340、升降板350和刀口板360，驱动电机320安装在升降机架310下端，丝杆330转动安装在升降机架310上、驱动电机320的输出端传动连接丝杆330，升降板350螺纹连接丝杆330，升降杆340的下端连接升降板350、上端穿过含浸槽100连接刀口板360，刀口板360上设置有U型槽361，物料架200的一侧放置在U型槽361中。在工作时，驱动电机320启动，带动丝杆330转动，与丝杆330螺纹连接的升降板350能够上下运动，安装在升降板350上的升降杆340随着升降板350上下运动，进而带动刀口板360运动，进而带动物料架200运动。

在本发明的一些实施例中，参照图3所示，第一升降机构300还包括开关安装条370、m个感应开关380和感应片390，开关安装条370沿丝杆330的轴线方向安装在升降机架310上，m个感应开关380沿开关安装条370的长度方向能够调节地安装在开关安装条370上，感应片390安装在升降板350上，其中，m为物料架20下降至含浸槽100底部的总停留次数。

在本发明的一些实施例中，第一升降机构300还包括开关安装条370、2个感应开关380和感应片390，开关安装条370沿丝杆330的轴线方向，安装在升降机架310上，感应开关380沿开关安装条370的长度方向能够调节地安装在开关安装条370上，感应片390安装在升降板350上。具体的，在升降板350运动时，感应片390经过感应开关380时能够提供反馈信号，从而确定物料架200的位置，采用本结构的设计，能够精确地控制物料架200的高度。2个感应开关分别为上极限和原点共用一个开关、下极限用一个开关，回完原点后伺服按脉冲数执行行走距离。

在本发明的一些实施例中，参照图6所示，物料架200沿自身长度方向的两侧设置有q个放置槽201，放置槽201的上端具有逐渐扩大的开口。通过设置逐渐扩大的开口，便于将产品条210的两端放入到放置槽201中，其中，1≤q≤50。

在本发明的一些实施例中，气压控制机构500包括能够提供正压或真空的气源、第一气压管520、第二气压管530、第三气压管540、三通阀550和压力显示表560，第一气压管520的上端穿过含浸槽100、下端连接三通阀550，第一气压管520的上端的周壁设置有p个排气孔，其中，4≤p≤16，第二气压管530的一端连接三通阀550、另一端连接消音器，第三气压管540的一端连接三通阀550、另一端连接气源。在抽真空时，三通阀550连通第三气压管540和第一气压管520，气源切换，提供负压；在压入空气时，三通阀550连通第三气压管540和第一气压管520，气源切换，提供正压；在释放含浸槽100内的压力时，三通阀550连通第二气压管530和第一气压管520，含浸槽100通过第二气压管530和第一气压管520与外界连通，恢复常压。

在本发明的一些实施例中，含浸液注入机构700包括补液桶、压缩空气过滤减压阀、气动三通球阀、超声波发生、超声波震头、搅拌叶片和注入管，注入管连通补液桶和含浸槽100，超声波震头安装在补液桶底部，搅拌叶片转动设置在补液桶内部，压缩空气过滤减压阀安装在补液桶上用于过滤压缩空气，气动三通球阀安装在注入管上用于控制补液桶的压力，气动三通球阀可切换压缩空气通入补液桶或将补液桶内的气压释放。具体的，在将补液桶中的含浸液注入到含浸槽100之前，需通过搅拌叶片对补液桶中的含浸液进行搅拌，并通过超声波发生器产生的超声波将含浸液中的颗粒打散，使得含浸液中有效成分的颗粒变小，更利于含浸液渗透到芯体内部。

在本发明的一些实施例中，参照图5所示，旋转锁紧机构900包括气缸910、联动轴920、t个转动轴930，其中，t为大于4的偶数，转动轴930竖直并转动地安装在含浸槽100的外周侧壁上，每一个转动轴930的上端设置有扣件940、下端设置有齿轮950，联动轴920沿水平滑动地设置在含浸槽100的外周侧壁上，联动轴920对应每一个齿轮950设置有齿条921，气缸910的输出端连接联动轴920的一端，联动轴920在水平滑动时能够带动全部的扣件940转动，扣件940在转动时能够将真空盖800和含浸槽100锁定或解除锁定。在工作时，气缸910带动联动轴920沿水平方向移动，联动轴920同时带动轴向方向上的全部的齿轮950转动，齿轮950带动转动轴930转动，进而带动扣件940转动，扣件940在转动的过程中能够实现真空盖800和含浸槽100锁定或解除锁定，在本实施例中，为了提高真空盖800的稳定性和密封效果，通常在含浸槽100的两侧分别设置有旋转锁紧机构900，进一步地，在含浸槽100的两端还分别设置有转动轴930、扣件940、同步轮，含浸槽100的两端的同步轮分别通过同步带与旋转锁紧机构900传动连接，进而在气缸910运动的时候能够带动含浸槽100的两端扣件940转动。

在本发明的一些实施例中，参照图1所示，真空盖800对应扣件940的轮廓设置有让位孔，真空盖800放置在含浸槽100上时，扣件940能够通过让位孔进入到真空盖800上方，并在转动时对真空盖800形成竖直方向的限位。

在本发明的一些实施例中，参照图1所示，真空盖800上设置有观测口810。便于观测含浸槽100内部的工作状况。具体的，在产品进行含浸工艺时，产品表面会产生颜色变化，通过与标准的色卡或者阶段的标准产品进行比对，判断产品的含浸品质。

在本发明的一些实施例中，本发明通过浮球检测机构600检测液面高度，相较于传统的光电检测机构，更加精确。浮球检测机构600利用杠杆原理，放置在连通器中的浮球向上移动1厘米，开关感应片390移动2厘米，浮球检测机构600杠杆放大结构对液面的检测更加准确，相较于现有的光电检测装置，避免了含浸液挥发后的，附着在光电传感器，影响检测精度的问题。

在本发明的一些实施例中，含浸槽100底部设置有过滤网板。通过过滤网板能够收集含浸液中的杂质，避免杂质循环进入到含浸液注入机构700中。

本发明还提供一种正负压含浸工艺，包括以下步骤：

预先处理工艺：沿产品条210的长度方向，将多个产品的引脚焊接到产品条210上，将产品条210的两端放置在物料架200两侧的放置槽201中。

S1.放料，将物料架200的两端分别放置在第一升降机构300和第二升降机构上400的上端，具体的，将含浸槽100的两端放置在第一升降机构300和第二升降机构上400上端的U型槽361上；然后，通过含浸液注入机构700将含浸液注入到含浸槽100内，并通过浮球检测机构600检测液面的高度；具体的，补液桶中的含浸液通过搅拌叶片进行搅拌，并通过超声波发生器进行超声波打散，再通过过滤后的压缩空气注入到补液桶中，将含浸液从补液桶中压入含浸槽100内，并通过检测机构检测液面的高度；在本步骤中，将补液桶中的含浸液注入到含浸槽100之前，需通过搅拌叶片对补液桶中的含浸液进行搅拌，并通过超声波发生器产生的超声波将含浸液中的颗粒打散，使得含浸液中有效成分的颗粒变小，更利于含浸液渗透到芯体内部。

S2.一次下降，物料架200下降至液面的上方，使产品底面接触液面，并关闭真空盖800。

S21：锁定抽真空，通过气压控制机构500将含浸槽100抽至真空，真空度为-N4,保持T4后快速释放真空，同时通过旋转锁紧机构将真空盖锁定至含浸槽上端，其中，80kPa≤N4≤90kPa，3s≤T4≤5s。通过气压控制机构500将含浸槽100抽至真空后快速释放真空，此时产品还未完全浸入到含浸液中，快速释放真空含浸槽100内压力的快速变化能够破坏含浸液中的气泡，提高了含浸的品质。同时，将将含浸槽100抽至真空后。真空盖800受到负压的作用向含浸槽100靠近，便于将真空盖800锁定在含浸槽100上。

S3.二次下降，物料架下降，产品底部浸入含浸液4/5H,其中，H为产品纸宽；

S4.梯度抽真空，通过气压控制机构500将含浸槽100抽至真空，真空度为-N1，每次增加-S的真空度后保持T1,直到真空度达到-N2，其中，5kpa≤S≤10kpa，10s≤T1≤30s，40kpa≤N1≤50kpa，80kpa≤N2≤90kpa；含浸槽100内的气压采用阶梯式下降，可避免压力变化太快对产品内部结构产生破坏，能够提高产品的使用寿命。

S5.真空含浸，含浸槽100在真空度为-N2的真空状态下保持T2,其中，50s≤T2≤450s；在通过气压控制机构500将含浸槽100抽至真空的过程中，产品内部的空气同时被抽走，含浸液通过产品的周壁上的微小孔洞进入到产品内部。

S6.正压含浸，含浸槽100释放真空，并通过气压控制机构500对含浸槽100内充入压缩空气，达到N3后保持T3，其中，50s≤T3≤450s，80kpa≤N3≤20kpa；产品在正压状态下进行正压含浸，在通过气压控制机构500对含浸槽100充入压缩空气的过程中，含浸液能够快速地通过产品的周壁上的微小孔洞参透到产品内部。

S7.重复步骤S5和步骤S6，设定循环次数为2-20次；交替地采用真空含浸和正压含浸，能够完全排出产品内部的空气，并使产品的内部充盈含浸液，提高了产品的品质，并且能够减少含浸时长，提高了工作效率。

S8.物料架提升，第一升降机构300或第二升降机构400首先将物料架200的一侧抬起L，提升速度为V1，然后第一升降机构300和第二升降机构400同时以V2的提升速度上升，将倾斜状态下物料架200向上提升至产品完全脱离液面，其中3mm≤L≤9mm，0.1mm/s≤V1≤1mm/s，0.1mm/s≤V2≤1mm/s。通过本工序的设计，第一升降机构300或第二升降机构400首先将物料架200的一侧抬起，使物料架200处于倾斜状态，并通过第一升降机构300和第二升降机构400将倾斜状态下的物料架200提升至产品完全脱离液面；由于物料架200采用倾斜状态的提升方式，放置在物料架200上的产品也处于倾斜状态，即铝电解电容的底面与含浸液的液面倾斜，真空状态下含浸液自身的张力能够将吸附在产品表面和底部的含浸液拉下来，不仅能够保持铝电解电容表面残留少，而且极大的避免了含浸液的损耗。

S9.取料，通过旋转锁紧机构900将真空盖800从含浸槽100上端解锁，并释放含浸槽100内部的真空，打开真空盖800，取出物料架200。

S91：通过气压控制机构将含浸槽抽至真空，含浸槽真空度为-N5，60kPa≤N4≤95kPa。在通过旋转锁紧机构900将真空盖800从含浸槽100上端解锁时，需要进行步骤S91,通过气压控制机构500将含浸槽100抽至真空，含浸槽100真空度为-95kpa至-60kPa；通过步骤S13时，真空盖800朝向含浸槽100方向靠近，真空盖800压缩密封条120，使得旋转锁紧机构900中的扣件940下端面与真空盖800之间产生间隙，此时，通过气缸910能够控制扣件940转动，并将真空盖800从含浸槽100上方解锁。

最后说明的是，以上优选实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管通过上述优选实施例已经对本发明进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其作出各种各样的改变，而不偏离本发明权利要求书所限定的范围。

Claims (10)

1.一种正负压含浸工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1.放料，将物料架的两端分别放置在第一升降机构和第二升降机构上端，通过含浸液注入机构将含浸液注入到含浸槽内，并通过浮球检测机构检测液面的高度；

S2.一次下降，所述物料架下降至液面的上方，使产品底面接触液面，并关闭真空盖；

S3.二次下降，物料架下降，产品底部浸入含浸液4/5H,其中，H为产品纸宽；

S4.梯度抽真空，通过气压控制机构将含浸槽抽至真空，真空度为-N1，每次增加-S的真空度后保持T1,直到真空度达到-N2，其中，5kpa≤S≤10kpa，2s≤T1≤30s，40kpa≤N1≤50kpa，80kpa≤N2≤90kpa；

S5.真空含浸，所述含浸槽在真空度为-N2的真空状态下保持T2,其中，20s≤T2≤450s；

S6.正压含浸，所述含浸槽释放真空，并通过所述气压控制机构对所述含浸槽内充入压缩空气，达到N3后保持T3，其中，20s≤T3≤450s，80kpa≤N3≤20kpa；

S7.重复步骤S5和步骤S6，设定循环次数为2-20次；

S8.物料架提升，所述第一升降机构或所述第二升降机构首先将所述物料架的一侧抬起L，提升速度为V1，然后所述第一升降机构和所述第二升降机构同时以V2的提升速度上升，将倾斜状态下所述物料架向上提升至产品完全脱离液面，其中3mm≤L≤9mm，0.1mm/s≤V1≤1mm/s，0.1mm/s≤V2≤1mm/s；

S9.取料，通过旋转锁紧机构将所述真空盖从所述含浸槽上端解锁，并释放所述含浸槽内部的真空，打开所述真空盖，取出物料架。

2.根据权利要求1所述的正负压含浸工艺，其特征在于，在步骤S1开始前，还设置有预处理工艺，包括，沿产品条的长度方向，将铝电解电容的引脚焊接到所述产品条上，将所述产品条的两端放置在所述物料架上。

3.根据权利要求1所述的正负压含浸工艺，其特征在于，步骤S2进一步包括：

S21：锁定抽真空，通过所述气压控制机构将所述含浸槽抽至真空，真空度为-N4,保持T4后快速释放真空，同时通过旋转锁紧机构将真空盖锁定至含浸槽上端，其中，80kPa≤N4≤90kPa，3s≤T4≤5s。

4.根据权利要求1所述的正负压含浸工艺，其特征在于，步骤S9进一步包括：

S91：通过所述气压控制机构将所述含浸槽抽至真空，含浸槽真空度为-N5，60kPa≤N4≤95kPa。

5.采用权利要求1至4任一项所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，包括：

含浸槽，所述含浸槽底部设置有恒温腔、进水管和出水管，所述进水管和所述出水管分别连通所述恒温腔，所述含浸槽的上端边沿处设置有密封条；

物料架，所述物料架设置在所述含浸槽内；

第一升降机构，所述第一升降机构设置于所述含浸槽下方，所述第一升降机构的上端穿过所述含浸槽活动连接所述物料架的一侧；

第二升降机构，所述第二升降机构设置于所述含浸槽下方，所述第二升降机构的上端穿过所述含浸槽活动连接所述物料架的另一侧，所述第一升降机构和所述第二升降机构能够控制所述物料架在水平状态或倾斜状态下升降；所述第一升降机构和所述第二升降机构工作相互独立，互不干涉；

气压控制机构，用于控制所述含浸槽内部的气压；

浮球检测机构，用于检测所述含浸槽内部的液面高度；

含浸液注入机构，用于将含浸液注入至所述含浸槽中；

真空盖，所述真空盖上设置有观察窗；

旋转锁紧机构，所述旋转锁紧机构用于将所述真空盖锁定在所述含浸槽上方。

6.根据权利要求5所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，所述第一升降机构或所述第二升降机构包括升降机架、驱动电机、丝杆、升降杆、升降板和刀口板，所述驱动电机安装在所述升降机架下端，所述丝杆转动安装在所述升降机架上、所述驱动电机的输出端传动连接所述丝杆，所述升降板螺纹连接所述丝杆，所述升降杆的下端连接所述升降板、所述升降杆的上端穿过所述含浸槽连接所述刀口板，所述刀口板上设置有U型槽，所述物料架的一侧放置在所述U型槽中。

7.根据权利要求6所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，所述第一升降机构还包括开关安装条、m个感应开关和感应片，所述开关安装条沿所述丝杆的轴线方向安装在所述升降机架上，m个所述感应开关沿所述开关安装条的长度方向能够调节地安装在所述开关安装条上，所述感应片安装在所述升降板上，其中，m为所述物料架下降至所述含浸槽底部的总停留次数。

8.根据权利要求5所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，所述气压控制机构包括能够提供正压或真空的气源、第一气压管、第二气压管、第三气压管、三通阀和压力显示表，所述第一气压管的上端穿过所述含浸槽、下端连接所述三通阀，所述第一气压管的上端的周壁设置有p个排气孔，所述第二气压管的一端连接所述三通阀、另一端连接有消音器，所述第三气压管的一端连接所述三通阀、另一端连接所述气源，其中，4≤p≤16。

9.根据权利要求5所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，所述含浸液注入机构包括补液桶、压缩空气过滤减压阀、气动三通球阀、超声波发生、超声波震头、搅拌叶片和注入管，所述注入管连通所述补液桶和所述含浸槽，所述超声波震头安装在所述补液桶底部，所述搅拌叶片转动设置在所述补液桶内部，所述压缩空气过滤减压阀安装在所述补液桶上用于过滤压缩空气，所述气动三通球阀安装在所述注入管上用于控制所述补液桶的压力，所述气动三通球阀可切换压缩空气通入补液桶或将补液桶内的气压释放。

10.根据权利要求5所述的正负压含浸工艺的设备，其特征在于，所述旋转锁紧机构包括气缸、联动轴、t个转动轴，所述转动轴竖直并转动地安装在所述含浸槽的外周侧壁上，每一个所述转动轴的上端设置有扣件、下端设置有齿轮，所述联动轴沿水平滑动地设置在所述含浸槽的外周侧壁上，所述联动轴对应每一个齿轮设置有齿条，所述气缸的输出端连接所述联动轴的一端，所述联动轴在水平滑动时能够带动全部的所述扣件转动，所述扣件在转动时能够将所述真空盖和所述含浸槽锁定或解除锁定，其中，t为大于4的偶数。