JP3584127B2 - 磁気記録テープ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、支持体フィルムに磁性層およびバックコート層を設けた磁気テープに関し、特に1/2インチビデオテープ、8mmビデオテープ、データカートリッジテープ、デジタル方式のビデオテープなどに有用な磁気テープに関する。
【0002】
【従来の技術】
磁気テープの支持体としては滑剤で表面に微小突起を形成した2軸配向ポリエステルフィルム、例えば特開昭59−171623号公報に示されるポリエステルに球状シリカ粒子を含有せしめた2軸積層ポリエステルフィルムが知られている。
【0003】
しかし、支持体フィルムの加工工程、特に磁性層塗布、カレンダー、巻き取りなどの加工速度の増大に伴い接触するロールやガイドでフィルム表面、特に微小突起が削り取られやすいという問題が生じてきた。
【0004】
また、近年磁気テープの高密度記録化が進み、これに伴って磁性層側の平坦性と走行面の走行性の向上が要求されている。しかし、単一の支持体フィルムでは、支持体フィルムの平坦性が特に求められる高密度用磁気テープの場合、走行性が不良となり再生時にジッターやテープ鳴きなどの欠点を生じる。このため、走行面側にバックコート層を付与することが行われている。しかしながら、磁気テープのより一層の薄膜化およびコストダウンのためバックコート層の薄膜化を進めると、支持体フィルムにバックコートを付与しても充分な走行性が得られないという問題が生じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる問題を同時に解決する磁気テープを開発すべく鋭意検討を重ねた結果、支持体フィルムを少なくとも2層からなる積層構造とし、バックコートを施す側の支持体フィルムの表面およびバックコート層の表面の突起数と突起高さを特定の範囲にすることによってフィルム加工工程での耐削れ性、テープの走行安定性を同時に満足させ得ることを見出し、本発明に到達した。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、かかる目的を達成するために以下の構成よりなる。
支持体フィルムに磁性層およびバックコート層を設けた磁気テープであって、支持体フィルムが少なくとも2層からなる積層フィルムであり、バックコートを施す側の積層フィルムの表面およびバックコート層表面の表面突起数が30個/mm2以上の領域において積層フィルムのバックコートを施す側の表面の突起数が1×103〜1×106個/mm2でありかつ積層フィルムのバックコートを施す側の表面の突起数と突起高さの関係とバックコート層表面の突起数と突起高さの関係が下記式(1)を満足することを特徴とする磁気記録テープ。
【0007】
【数5】
0.05≦ABASE/ABC≦0.3 (1)
【0008】
(ここで、ABASEは積層フィルムのバックコートを施す側の表面での、突起高さ(Hi)と突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log 10 Yi)との累積突起分布において突起高さが0〜50nmの範囲で求めた近似直線の傾きを示し、ABCはバックコート層表面での突起高さ(Hi)と突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log 10 Yi)との累積突起分布において前記と同じ範囲で求めた近似直線の傾きを示す。なお、上記突起数と突起高さとは、WYKO社製非接触式3次元粗さ計(TOPO−3D)を用いて、測定倍率40倍、測定面積242μm×239μmの条件にて測定した値である。)
【0009】
本発明における磁気記録テープの支持体フィルムを構成する材料としては、ポリエステルが好ましい。ここでいうポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを脂肪族グリコールを主たるグリコール成分とするポリエステルである。かかるポリエステルは実質的に線状であり、そしてフィルム形成性特に溶融成形によるフィルム形成性を有する。芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸などを挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例えばエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコールなどの如き炭素数2〜10のポリメチレングリコール、あるいは1,4−シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオールなどを挙げることができる。
【0010】
本発明において、ポリエステルとしてはアルキレンテレフタレートおよび/またはアルキレンナフタレートを主たる構成成分とするものが好ましく、ポリエチレンテレフタレートおよび/またはポリエチレン−2,6−ナフタレートがさらに好ましい。また、例えば全ジカルボン酸成分の80モル%以上がテレフタル酸および/または2,6−ナフタレンジカルボン酸であり、かつ全グリコール成分の80モル%以上がエチレングリコールである共重合体が好ましい。そのとき酸成分の20モル%以下はテレフタル酸および/または2,6−ナフタレンジカルボン酸以外の前記芳香族ジカルボン酸であることができ、また例えばアジピン酸、セバチン酸の如き脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸などであることができる。さらに全グリコール成分の20モル%以下はエチレングリコール以外の前記グリコールであることができ、また例えばハイドロキノン、レゾルシン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンなどの如き芳香族ジオール、1,4−ジヒドロキシジメチルベンゼンの如き芳香環を有する脂肪族ジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどの如きポリアルキレングリコール(ポリオキシアルキレングリコール)などであることもできる。
【0011】
また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロキシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸、ω−ヒドロキシカプロン酸の如き脂肪族オキシ酸などのオキシカルボン酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボン酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは結合するものも包含される。
【0012】
さらに、本発明におけるポリエステルには実質的に線状である範囲の量、例えば全酸成分に対し2モル%以下の量で3官能以上のポリカルボン酸またはポリヒドロキシ化合物、例えばトリメリット酸、ペンタエリスリトールなどを共重合したものも包含される。
【0013】
上記ポリエステルはそれ自体公知であり、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、ο−クロロフェノール中の溶液として35℃で測定した粘度から求めた極限粘度数が0.4〜0.9のものが好ましく、0.5〜0.7のものがさらに好ましく、0.55〜0.65のものが特に好ましい。
【0014】
本発明における支持体フィルムは、少なくとも2層の積層フィルムから構成される。2層以上であれば3層、4層あるいはそれ以上であってもよい。また、各層は同じ材料であっても違っていてもよいが、同じ材料であることが好ましい。
【0015】
本発明の磁気記録テープは、支持体フィルムに磁性層およびバックコート層を設けた磁気テープであって、支持体フィルムが少なくとも2層からなる積層フィルムであり、バックコートを施す側の積層フィルムの表面およびバックコート層表面の表面突起数が30個/mm2以上の領域において積層フィルムのバックコートを施す側の表面の突起数が1×103〜1×106個/mm2でありかつこの表面の突起数と突起高さの関係とバックコート層表面の突起数と突起高さの関係とが下記式(1)を満足することを特徴とする磁気記録テープである。
【0016】
【数6】
0.05≦ABASE/ABC≦0.3 (1)
【0017】
(ここで、ABASEは積層フィルムのバックコートを施す側の表面での、突起高さ(Hi)と突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log 10 Yi)との累積突起分布において突起高さが0〜50nmの範囲で求めた近似直線の傾きを示し、ABCはバックコート層表面での突起高さと突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log 10 Yi)との累積突起分布において前記と同じ範囲で求めた近似直線の傾きを示す。なお、上記突起数と突起高さとは、WYKO社製非接触式3次元粗さ計(TOPO−3D)を用いて、測定倍率40倍、測定面積242μm×239μmの条件にて測定した値である。)
【0018】
また、ABASE/ABCの値は0.1以上1未満が好ましく、0.2以上1未満が特に好ましい。
ABASE/ABCが0.05未満または1を超えると磁気テープのバックコート層と接触するガイドピンなどとの摩擦係数が高くなり、ジッターやテープの走行不良を引き起こすので好ましくない。
【0019】
本発明における支持体フィルムのバックコートを施す面の突起数は1×103〜1×106個/mm2である必要があるが、この突起数が1×103個/mm2未満であるとフィルムの加工工程での走行性(ハンドリング)が不良となるため好ましくなく、一方、1×106個/mm2を超えるとフィルムの加工工程での耐削れ性が悪化し好ましくない。
【0020】
この突起数は、5×103〜5×105個/mm2が好ましく、6×103〜1×105個/mm2がさらに好ましい。
【0021】
本発明における支持体フィルムは磁性層側の表面粗さWRaが0.1〜8nmかつバックコート面側の表面粗さWRaが2〜15nmであることが好ましい。
【0022】
なお、表面粗さWRaはWYKO社製非接触式3次元粗さ計(TOPO−3D)を用いて、測定倍率40倍、測定面積242μm×239μm(0.058mm2)の条件で測定したものである。
【0023】
バックコート面側の表面粗さWRaが2nm未満であるとフィルム走行性が悪化し、一方15nmを超えると耐削れ性が悪化し、フィルム加工工程でバックコートを施してもキュアリング時の裏写り現象により電磁変換特性が悪化するので好ましくない。
【0024】
また、磁性層側の表面粗さWRaが0.1nm未満であるとフィルム間でブロッキングが大きくなり巻き取り性を悪化させたり、フィルム加工工程での金属ロールなどの摩擦係数が高くなるため走行不良などを引き起こし、一方8nmを超えると著しく電磁変換特性を悪化させるので好ましくない。
【0025】
本発明における支持体フィルムはバックコートを施す側フィルム層に含まれる滑剤粒子I、IIの凝集率がそれぞれ0%より大きく20%未満が好ましく、3%以上15%未満が特に好ましく、3%以上10%未満がさらに好ましい。
【0026】
なお、粒子の凝集率とはフィルム面内1mm2当たり2個以上の粒子が凝集している凝集粒子の数をX(個)、粒子の総数をY(個)とすると、下記式(5)によって求められる値である。
【0027】
【数7】
凝集率(%)=X/Y×100 (5)
【0028】
ここで、X,Yは、例えば2個の粒子が凝集している凝集粒子の数(a1)と3個の粒子が凝集している凝集粒子の数(a2)と非凝集の粒子の数(a3)とがある場合、X=a1+a2、Y=a1+a2+a3である。
【0029】
滑剤粒子I、IIの凝集率が20%以上の場合、粒子が脱落しやすく耐削れ性が著しく悪化し、また凝集粒子で生じた粗大突起が磁性層側表面に影響し、うねりなどを生じさせ電磁変換特性の低下を引き起こすので好ましくない。
【0030】
本発明における支持体フィルムは、バックコートを施す側のフィルム層の表面に含まれる滑剤粒子Iの平均粒径は0.3〜1.0μmが好ましく、さらに0.4〜0.8μmが好ましい。平均粒径が1.0μmを超えると表面が粗くなり耐削れ性が悪化し、一方0.3μm未満になると走行性およびフィルム間でのエアースクイズ性が著しく悪化するので好ましくない。また、滑剤粒子Iの含有量は0.005重量%以上0.1重量%未満、好ましくは0.007〜0.08重量%、特に好ましくは0.01〜0.08重量%である。この含有量が0.1重量%以上であると耐削れ性が悪化し、一方0.005重量%未満であると走行性が悪化するので好ましくない。
【0031】
また、バックコートを施す側のフィルム層に含まれる滑剤粒子IIは、下記式(3)を満足することが好ましい。
【0032】
【数8】
1<dI/dII≦10 (3)
【0033】
(ここで、dIは滑剤粒子Iの平均粒径、dIIは滑剤粒子IIの平均粒径を示す。)
【0034】
滑剤粒子Iの平均粒径(dI)と滑剤粒子IIの平均粒径(dII)の比(dI/dII)は2〜8であることがさらに好ましく、3〜7であることが特に好ましい。
【0035】
かかる平均粒径の比(dI/dII)が10を超えると走行性が悪化しフィルム間でのブロッキングが大きくなり巻き取り性を悪化させ、一方1以下になると、フィルム表面を著しく粗化させ、耐削れ性、電磁変換特性を悪化させるので好ましくない。
【0036】
また、滑剤粒子IIの含有量は0.1重量%以上1.0重量%未満、好ましくは0.2重量%以上0.5重量%未満、特に好ましくは0.2重量%以上0.4重量%未満である。
【0037】
この滑剤粒子IIの含有量が0.1重量%未満であると走行性が悪化しフィルム間でのブロッキングが大きくなり巻き取り性を悪化させ、一方1.0重量%以上であるとフィルム表面を著しく悪化させ耐削れ性および電磁変換特性を悪化させるので好ましくない。
【0038】
さらに、バックコートを施す側のフィルム層に含まれる滑剤粒子I、IIは耐熱性高分子粒子および球状シリカ粒子から選ばれる少なくとも1種であると、本発明の効果が顕著となるので好ましい。
【0039】
耐熱性高分子粒子としては、例えば架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋スチレン−アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル樹脂粒子、ポリイミド樹脂粒子、メラミン樹脂粒子などが挙げられる。この中で架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子を含有させると本発明の効果がより一層顕著となるので特に好ましい。
【0040】
本発明における支持体フィルムは、従来から知られているかあるいは当業界に蓄積されている方法で製造することができる。例えば、先ず未配向積層フィルムを製造し、次いで該フィルムを二軸配向させることで得ることができる。この未配向積層フィルムは、従来から蓄積された積層フィルムの製造法で製造することができる。例えば、磁性層表面を形成するポリエステルと、走行面を形成するポリエステルとをポリエステルの溶融状態または冷却固化された状態で積層する方法を用いることができる。さらに具体的には、例えば共押出、エクストルージョンラミネートなどの方法で製造できる。上述の方法で積層されたフィルムは、さらに従来から蓄積された二軸配向フィルムの製造法に準じて行い二軸配向フィルムとすることができる。例えば、融点(Tm)℃ないし(Tm+70)℃の温度でポリエステルを溶融・共押出して未延伸積層フィルムを得、該未延伸積層フィルムを一軸方向(縦方向または横方向)に(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(但し、Tg:ポリエステルのガラス転移温度)で2.5倍以上、好ましくは3倍以上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直角方法にTg〜(Tg+70)℃の温度で2.5倍以上、好ましくは3倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。さらに必要に応じて縦方向および/または横方向に再度延伸してもよい。このようにして全延伸倍率は、面積延伸倍率として9倍以上が好ましく、12〜35倍がさらに好ましく15〜25倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向積層フィルムは(Tg+70)℃〜(Tm−10)℃の温度で熱固定することができ、例えば180〜250℃で熱固定するのが好ましい。熱固定時間は1〜60秒が好ましい。
【0041】
得られる二軸配向積層フィルムの長手方向(MD)および幅方向(TD)のヤング率はそれぞれ400kg/mm2以上2000kg/mm2以下が好ましい。このヤング率が400kg/mm2未満だと磁気テープと磁気ヘッドとの当たりが不足し、電磁変換特性の低下を招き好ましくない。また、このヤング率が2000kg/mm2を超えるとフィルムの製膜性が低下し好ましくない。長手方向(MD)のヤング率が400〜900kg/mm2であり幅方向(TD)のヤング率が550〜1500kg/mm2であることが特に好ましい。
【0042】
かかる支持体フィルムに磁性層およびバックコート層を設けることにより磁気記録テープが形成される。
【0043】
本発明の磁気記録テープとしては以下のものが例示される。
支持体フィルムの磁性層側表面に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法により、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン(DLC)などの保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに走行面側のフィルム層の表面に、カーボンブラックなどの無機質粉末を塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体またはポリウレタンに分散させ塗布・乾燥する公知の方法(特開昭58−200426号公報)で前述した特性を有するバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、S/N、C/Nなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。
【0044】
この蒸着型電磁記録媒体はアナログ信号記録用Hi8、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー(DVC)、データ8ミリ、DDSIV用テープ媒体として極めて有用である。
【0045】
また、支持体フィルムの磁性層側表面に鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉を塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体などの有機バインダーに均一分散し、磁性層厚みが1μm以下、好ましくは0.1〜1μmとなるように塗布し、さらに走行面側のフィルム層の表面に、前述した方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、S/N、C/Nなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布磁気記録媒体とすることができる。また必要に応じて該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用8ミリビデオ、Hi8、βカムSP、W−VHS、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー(DVC)、データ8ミリ、DDSIV、ディジタルβカム、D2、D3、SX用テープ媒体として極めて有用である。
【0046】
さらに、支持体フィルムの磁性層側表面に酸化鉄または酸化クロムなどの針状微細磁性粉、またはバリウムフェライトなどの板状微細磁性粉を塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体などのバインダーに均一分散し、磁性層厚みが1μm以下、好ましくは0.1〜1μmとなるように塗布し、さらに走行面側のフィルム層の表面に、前述した方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、S/N、C/Nなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度酸化物塗布型記録用磁気記録媒体とすることができる。また必要に応じて該磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。この酸化物塗布型磁気記録媒体はディジタル信号記録用データストリーマー用QICなどの高密度酸化物塗布型磁気記録用媒体として有用である。
【0047】
本発明の磁気記録テープは、ディジタル記録用磁気テープとして使用すると前述の効果が一層顕著に現れるので好ましい。
【0048】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。尚、例中の「部」は重量部を意味する。また、本発明における特性の測定法は次の通りである。
【0049】
(1)粒子の平均粒径(DP)
島津製作所製CPー50型セントリフューガル パーティクル サイズ アナライザー(Centrifugal Particle Size Analizer)を用いて測定した。得られた遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、50マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とした(「Book粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、1975年、頁242〜247参照)。
【0050】
(2)非接触3次元中心面平均粗さ(WRa)
WYKO社製非接触三次元粗さ計(TOPOー3D)を用いて、測定倍率40倍、測定面積242μm×239μm(0.058mm2)の条件にて測定を行い、同粗さ計内蔵ソフトによる表面解析より、WRaは下記式(6)により計算されアウトプットされた値を用いた。
【0051】
【数9】
【0052】
また、Zjkは測定方向(242μm)、それと直行する方向(239μm)をそれぞれM分割、N分割した時の各方向のj番目、k番目の位置に於ける3次元粗さチャート上の高さで定義される。
【0053】
(3)層厚み
2次イオン質量分析装置(SIMS)を用いて、表層から深さ3000nmまでの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比(M+/C+)を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmまで厚さ方向の分析を行なった。表層では表面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。そして一旦極大値となった粒子濃度がまた減少しはじめる。この濃度分布曲線をもとに、表層粒子濃度が極大値の1/2になる深さ(この深さは極大値となる深さより深い)を求め、これを表層厚みとした。測定条件は以下の通りである。
・測定装置
2次イオン質量分析装置(SIMS)
・測定条件
1次イオン種 :O2 +
1次イオン加速電圧 :12KV
1次イオン電流 :200nA
ラスター領域 :400μm×400μm
分析領域 :ゲート30%
測定真空度 :6.0×10−3Torr
E−GUN :0.5KV−3.0A
【0054】
なお、表層から3000nmまでの範囲に最も多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらXPS(X線高電子分光法)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデプスプロファイルを測定し表層厚みを求めてもよい。
【0055】
(4)粒子凝集率
二軸配向ポリエステルフィルムをヤマト科学(株)社製プラズマリアクターPR3を用い次の条件にてエッチングを行い、エッチングした表面をエリオニクス(株)社製EMM3000を用い、倍率10000倍にてSEM観察を行い、滑剤粒子の凝集率を測定した。
・エッチング条件
高周波電力 :50W
酸素流量 :30ml/min
エッチング時間 :0.5hr
【0056】
(5)突起数および突起高さ
WYKO社製非接触式3次元粗さ計(TOPO−3D)を用いて測定倍率40倍、測定面積242μm×239μm(0.058mm2)の条件にて、少なくとも10回以上測定を行い、同粗さ計に内蔵された表面突起解析ソフトにより、各突起高さHi(nm)における、同高さ以上の1mm2当たりの平均突起個数Yi(個/mm2)を求め、累積突起分布曲線を求めた。
【0057】
突起数と突起高さとの関係を表す分布から求めた近似直線の傾き(A)は、突起高さH=0nmから1nm毎にH=50nmまで平均突起個数Yi(個/mm2)を前述の累積突起分布曲線から読み取り、突起高さHi(nm)に対する平均突起個数の対数値Log10Yiの関係の線形近似を行い、得られた直線の傾きAを求めた。
【0058】
(6)磁気テープの走行摩擦係数
図1に示した装置を用いて測定する。なお、図1中、1は巻出しリール、2はテンションコントローラ、3、5、6、8及び11はフリーローラ、4はテンション検出機(入口)、7はステンレス鋼SUS304製の固定棒(外形5mmφ、表面粗さRa=20nm)、10はテンション検出機(出口)、12はガイドローラ、13は巻取りリールをそれぞれ示す。
【0059】
図1に示したように磁気テープを装置に設置し温度20℃、湿度60%の環境で、磁気テープのバックコート面を7の固定棒に角度θ=(152/180)πラジアン(152°)で接触させて毎分200cmの速さで移動(摩擦)させる。入口テンションT1が35gとなるように2のテンションコントローラ調整した時の出口テンションT2(単位:g)をテープが50往復した後に出口テンション検出機で検出し、次式で走行摩擦係数μkを算出した。
【0060】
【数10】
μk=(2.303/θ)log(T2/T1)=0.868log(T2/35)
【0061】
(7)支持体フィルムの削れ性
ポリエステル系樹脂の弾性ロールを持つ3段式ミニスーパーカレンダー装置(由利ロール株式会社製)にて加熱ロール温度80℃、線圧300kg/cm、速度80m/分で150mm巾にスリットしたフィルムを10000m走行させ、これを計5回繰り返した後、弾性ロール上の汚れ状況で削れ性を評価した。
<判定>
◎:弾性ロール表面に汚れが認められない。
○:弾性ロール表面の光沢度が若干低下するも、削れ粉の付着は認められない。
×:弾性ロール表面に削れ粉の付着が認められる。
【0062】
(8)電磁変換特性
下記機器を用いて、周波数7.4MHzの信号を記録しその再生信号の6.4MHzと7.4MHzの値の比をそのテープのC/Nとし、比較例1のC/Nを0dBとして相対値で表した。
<判定>
◎:+3dB以上
○:+1dB以上+3dB未満
×:+1dB未満
<使用した機器>
8mmビデオレコーダー: ソニー(株)製 EDV−6000
C/N測定 : シバソク(株)製 ノイズメータ
【0063】
[実施例1〜4、比較例1〜3]
平均粒径の異なる架橋シリコーン粒子、球状シリカ粒子またはアルミナ粒子を含有するエチレングリコールスラリーからポリエチレンテレフタレート(以下PETと略す)、ポリエチレン−2,6−ナフタレート(以下PENと略す)を製造し熱可塑性樹脂Aとした。
【0064】
また、常法により球状シリカ粒子を含有あるいは含有しないPET、PENを製造し熱可塑性樹脂Bとした。
【0065】
これらのポリマーをそれぞれ170℃、6時間乾燥した後、熱可塑性樹脂Aを押出機1に供給して310℃で溶融し、熱可塑性樹脂Bを押出機2に供給し310℃で溶融し、両者を合流ブロックにて合流積層し静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻き付けて冷却固化させて積層未延伸フィルムを製造した。製造中、両押出機の吐出量を調整し、総厚さと各層の厚さが所定の値になるように調節した。
【0066】
この未延伸フィルムを加熱(PETの場合80℃、PENの場合150℃)した後、長手方向に4.0倍延伸した。この1軸延伸フィルムをステンターを用いて所定の温度(PETの場合100℃、PENの場合150℃)で幅方向に4.0倍延伸し、さらに長手方向に1.5倍再延伸した後、200℃、7秒間熱処理し、総厚み6μmの2軸配向積層フィルムを得た。
【0067】
下記磁性層用組成物をボールミルで48時間混合分散した後、硬化剤6部を添加して得られた混練物をフィルターでろ過して磁性塗布液を準備し、前記積層フィルムの磁性層側表面に塗布、磁場配向させ、110℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置(スチールロール/ナイロンロール、5段)で、温度、線圧を変更して48時間キュアリングした。
【0068】
<磁性層用組成>
・Fe(鉄)[針状比:10/1、抗磁力:20000e] 100部
・ポリウレタン樹脂 15部
・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 5部
・ニトロセルロース樹脂 5部
・酸化アルミ粉末[平均粒径:0.3μm] 3部
・カーボンブラック 1部
・レシチン 2部
・メチルエチルケトン 100部
・メチルイソブチルケトン 100部
・トルエン 100部
・ステアリン酸 2部
【0069】
次に下記バックコート層用組成物をボールミルにて48時間混合し、これにコロネートLを2.5重量部添加してバックコート層塗料を作成し、これを前記積層フィルムの走行面側表面に乾燥厚さが0.8μmとなるようにバックコートして、その後8mm幅にスリットして塗布型磁気記録媒体を得た。
【0070】
<バックコート層用組成>
・LiAlO2 [粒径0.2μm] 10部
・カーボンブラック 90部
[粒径24nm,キャボット製”ブラックパールL”]
・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体[結合剤 30部
・ポリウレタン[結合剤、日本ポリウレタン製N5033] 20部
・ブチルステアレート[潤滑剤] 1部
・メチルエチルケトン[溶剤] 200部
・メチルイソブチルケトン[溶剤] 50部
・トルエン[溶剤] 50部
【0071】
【表1】
【0072】
【表2】
【0073】
表1および表2から明らかなように、支持体フィルムのバックコートを施す前後の表面状態の関係を特定の範囲にすることで優れた電磁変換特性を示しつつテープの走行性および耐削れ性に優れる磁気記録テープが得られる。
【0074】
【発明の効果】
本発明は、基材フィルムの構成および該フィルムのバックコートを施す面の表面状態を特定の条件とすることで、バックコート層との特異な相互作用によりテープ加工工程での支持体フィルムの耐削れ性に優れ、かつ走行安定性に優れた磁気テープを提供できる。
【0075】
本発明の磁気記録媒体はビデオテープ、データカートリッジ用テープ、フロッピーディスク、ビデオフロッピー、オーディオテープ、メモリーテープなど全ての用途に有用であるが、高密度記録8mmビデオ用、8mmハイバンドビデオ用、SVHSビデオ用、デジタルビデオ用、HDTV用(ハイビジョンなどの高品位テレビ)などの高密度磁気記録媒体あるいは繰り返し使用が多いソフト用ビデオテープなどに特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】磁気テープの走行摩擦係数を測定する装置の概略図である。
Claims (6)
- 支持体フィルムに磁性層およびバックコート層を設けた磁気テープであって、支持体フィルムが少なくとも2層からなる積層フィルムであり、積層フィルムのバックコートを施す側の表面の突起数が1×103〜1×106個/mm2でありかつ積層フィルムのバックコートを施す側の表面の突起数と突起高さの関係とバックコート層表面の突起数と突起高さの関係とが下記式(1)を満足することを特徴とする磁気記録テープ。
【数1】
0.05≦ABASE/ABC≦0.3 (1)
(ここで、ABASEは積層フィルムのバックコートを施す側の表面での、突起高さ(Hi)と突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log10Yi)との累積突起分布において突起高さが0〜50nmの範囲で求めた近似直線の傾きを示し、ABCはバックコート層表面での突起高さと突起高さ(Hi)以上の突起数の対数値(log10Yi)との累積突起分布において前記と同じ範囲で求めた近似直線の傾きを示す。なお、上記上記突起数と突起高さとは、WYKO社製非接触式3次元粗さ計(TOPO−3D)を用いて、測定倍率40倍、測定面積242μm×239μmの条件にて測定した値である。) - 積層フィルムが積層ポリエステルフィルムである請求項1記載の磁気記録テープ。
- 積層フィルムのバックコートを施す表面を形成するフィルム層には滑剤粒子I、IIを含有し、滑剤粒子Iの平均粒径が0.3〜1.0μmでかつ含有量が0.005重量%以上0.1重量%未満であり、さらに滑剤粒子IIの平均粒径が下記式(3)を満足しかつ含有量が0.1重量%以上1.0重量%未満である請求項1記載の磁気記録テープ。
【数3】
1<dI/dII≦10 (3)
(ここで、dIは滑剤粒子Iの平均粒径、dIIは滑剤粒子IIの平均粒径を示す。) - 滑剤粒子Iの平均粒径が0.4〜0.8μmでかつ含有量が0.008重量%以上0.08重量%未満である請求項4記載の磁気記録テープ。
- 滑剤粒子IIの平均粒径が下記式(4)を満足しかつ含有量が0.2〜0.5重量%である請求項4記載の磁気記録テープ。
【数4】
2≦dI/dII≦8 (4)
(ここで、dIは滑剤粒子Iの平均粒径、dIIは滑剤粒子IIの平均粒径を示す。) - 滑剤粒子I、IIがそれぞれ耐熱性高分子粒子及び球状シリカ粒子から選ばれる少なくとも1種である請求項4〜6のいずれかに記載の磁気記録テープ。
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