JP3582177B2 - 表面うねり検査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被検査試料の表面に存在する凸部や凹部といったうねりの存在を検査する表面うねり検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の表面うねり検査装置としては、特開平5−288533号公報に示されるものが知られている。このものは、この公報の図9に示すように、パターン化光源と、被検査試料を間にしてパターン化光源に対向配置され、光梃子効果を用いて被検査試料を介してパターン化光源を撮像するカメラと、アナログ的に規則正しい強度変化を示す表示パターン波形(うねり欠陥がない場合のカメラの出力波形と同一)を発生し、パターン化光源に出力するパターンジェネレータと、カメラから取り込まれた画像データ(カメラの出力波形)とパターンジェネレータの出力波形との差分を演算して異常を検出するアナログ差分回路とを備えるものである。
【0003】
このものでは、パターンジェネレータによりアナログ的に規則正しい強度変化を示す表示パターン波形を発生してそれをパターン化光源に表示し、それによる光源パターンの主光線像を撮像したカメラの出力波形がパターンジェネレータの出力波形と同じであれば、アナログ差分回路によりうねり欠陥無と判定し、カメラの出力波形に微妙なひずみが発生しカメラの出力波形がパターンジェネレータの出力波形と異なると、アナログ差分回路によりうねり欠陥有と判定している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このものでは、被検査試料を撮像したカメラの出力波形とうねり欠陥無(正常)の被検査試料を撮像したカメラの出力波形に相当するパターンジェネレータの出力波形との差分を演算してその結果によりうねり有無を検出するものであるので、雰囲気温度の変化等によりパターン化光源の明るさが変動したり、被検査試料の位置がずれたり、被検査試料毎にその表面の反射率がばらついたりした場合において、被検査試料が正常(うねり無)なのにもかかわらず異常(うねり有)と判断し、誤検出が多くなる恐れがある。
【0005】
故に、本発明は、パターン化光源の明るさの変動や被検査試料の位置ずれや被検査試料毎の反射率のばらつきによる誤検出を無くすことを、その技術的課題とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記技術的課題を解決するために本発明において講じた第1の手段は、所定の光源パターンを発生するパターン化光源と、被検査試料を間にして前記パターン化光源に対向配置され、前記被検査試料を介して前記パターン化光源を撮像する撮像装置と、前記撮像装置により撮像された画像の明るさ情報に基づき、画像内の各パターンのエッジ位置を画素の分解能よりも高分解能で算出するエッジ位置算出手段と、前記エッジ位置に基づき、前記エッジ位置を含む画素及びそれと隣合う画素にエッジ位置の重み付けを行う重み付け手段と、各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定する判定手段とを備えたことである。
【0007】
上記第1の手段によれば、撮像装置により撮像された画像の明るさ情報に基づき、画像内の各パターンのエッジ位置を画素の分解能よりも高分解能で算出し、そのエッジ位置に基づき、エッジ位置を含む画素及びそれと隣合う画素にエッジ位置の重み付けを行い、各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定するので、パターン化光源の明るさの変動や被検査試料の位置ずれや被検査試料毎の反射率のばらつきによる誤検出が無くなる。
【0008】
上記技術的課題を解決するために本発明において講じた第2の手段は、所定の光源パターンを発生するパターン化光源と、被検査試料を間にして前記パターン化光源に対向配置され、前記被検査試料を介して前記パターン化光源を撮像する撮像装置と、前記撮像装置により撮像された画像の明るさ情報を画素で微分し、その微分値を加重平均して画像内の各パターンのエッジ位置を画素の分解能よりも高分解能で算出するエッジ位置算出手段と、前記エッジ位置に基づき、前記エッジ位置を含む画素及び次の画素にエッジ位置の重み付けを行う重み付け手段と、前記パターン化光源のパターンをそれの配列方向へ所定ドットだけ平行移動させるパターン変化装置と、前記パターン化光源のパターンを平行移動させる毎に、前回までの各画素の重み付け値に今回の各画素の重み付け値を加算し、平行移動のドット総和が前記パターン化光源の各パターン幅に相当するドットに到達するまでこの加算処理を実行する重み付け値加算手段と、加算された各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定する判定手段とを備えたことである。
【0009】
上記第2の手段によれば、第1の手段と同様に、撮像装置により撮像された画像の明るさ情報に基づき、画像内の各パターンのエッジ位置を算出し、そのエッジ位置に基づき、エッジ位置を含む画素及びそれと隣合う画素にエッジ位置の重み付けを行い、各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定するので、パターン化光源の明るさの変動や被検査試料の位置ずれや被検査試料毎の反射率のばらつきによる誤検出が無くなる。
【0010】
また、パターン化光源のパターンをそれの配列方向へ所定ドットだけ平行移動させ、その度に、前回までの各画素の重み付け値に今回の各画素の重み付け値を加算し、平行移動のドット総和がパターン化光源のパターン幅に相当するドットになるまでこの加算処理を実行し、その結果に基づいてうねりの有無を判定するので、被検査試料の全表面のうねりの有無を確実に検出できる。
【0011】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
図1〜図11を参照して、本発明の第1の実施形態について説明する。
【0012】
図1に示すように、表面うねり検査装置10は、ワーク(被検査試料)W(ここではウインドフレームを図示)の表面上の凹部や凸部といったうねりの有無及びその位置を検査するもので、液晶パターン化光源1と、カメラ(撮像装置)2と、画像処理装置3と、パターンジェネレータ4と、液晶ドライバ5とを備えている。
【0013】
液晶パターン化光源1は、等間隔の縞状の光源パターンを表示するもので、液晶11と、蛍光灯12と、反射板13と、拡散板14とを備えている。液晶11は、図1に示すような等間隔の明暗(白黒)縞状の液晶パターンを表示するもので、最下面に位置する。図9に示すように、液晶11は、パターンの配列方向(X方向)において0〜599ドットに区分されており、パターンの延在方向(Y方向)において0〜399ドットに区分されている。ここでは、液晶パターンの各黒パターン幅及び各白パターン幅は、4ドットである。尚、液晶パターンの延在方向をX方向にしても良い。蛍光灯12は、液晶11及びワークWに向けて光を照射するもので、液晶11よりも上方に配置されている。反射板13は、蛍光灯12から上方に向けて照射された光を液晶11側に当てるためのもので、蛍光灯12よりも上方に配置されている。拡散板14は、蛍光灯12の光を液晶11に均一に当てるためのもので、液晶11と蛍光灯12の間に配置されている。
【0014】
カメラ2は、ワークWを間にして液晶パターン化光源1に対向配置され、ワークWを介して液晶パターンを撮像し、図1に示すような明暗(白黒)縞状の画像を得るものである。また、カメラ2はその画像を画像処理装置3に送るものである。このカメラ2は、レンズ部21と、本体22とを備え、レンズ部21内には分解能を上げるために絞り(図示せず)が内蔵されている。このカメラ2の焦点は、ワークWを経由して液晶パターン化光源1に合わせられ、この時カメラの撮像に寄与する光は、絞りによって主光線のみに選択される。
【0015】
パターンジェネレータ4は、液晶11に表示するための液晶パターンを生成してそれをドライバ5に転送するものである。ドライバ5は、パターンジェネレータ4にて生成された液晶パターンと同一のパターンを液晶11に表示させるものである。また、パターンジェネレータ4及びドライバ5は、画像処理装置3からの命令を受けて、図9に示す如く液晶11に表示する液晶パターンをパターン幅一定のまま1ドットずつX方向に平行移動させる。尚、パターンジェネレータ4を画像処理装置3に内蔵しても良い。
【0016】
図2〜10を参照して、画像処理装置3の構成及び作動について説明する。図2において、Nはフラグである。
【0017】
ステップ50において、カメラ2にて撮像した画像を画像メモリ31に取り込み、その明るさ分布を検出する。ここで、図3に示すように、画像メモリ31は、横軸(i軸)において0〜512画素に区分され、縦軸(j軸)において0〜479画素に区分されている。画像メモリ31内に取り込まれる画像は、白黒パターンが交互に配列された縞状のパターンであり、その延在方向はj方向であり、配列方向はi方向となる。ここで、理解を容易にするため、図3中のラインA(j=200画素)上の明るさ分布に注目すると、図4のようになる。そして、図4のB部を拡大すると、図5のようになる。図5において、明るさ状態が急変する部分が各パターンのエッジ位置に相当する。
【0018】
次に、ステップ52において、明るさ分布を画素(i)で一次微分し、各画素における明るさの変化率を算出する。その結果を図6に示す。次いで、ステップ54において、数1式を用いて各画素における明るさの変化率を加重平均して各パターンのエッジ位置を画素の分解能の10倍の分解能で算出する。
【0019】
【数1】
【0020】
数1において、nは加重平均値,iは画素,ki はi画素における一次微分値を示す。
【0021】
具体的に言うと、図7に示すように、i=52〜57やi=60〜65の範囲内の一次微分値のデータを結んだ曲線とi軸とで囲まれる領域の重心を求め、そのi成分(小数点以下1桁まで計算)をエッジ位置と決定する。従って、エッジ位置は、55.1及び62.8となる。
【0022】
次に、ステップ56において、エッジ位置を含む画素in とその画素の次の画素in+1 に対してエッジ位置の重み付けを行う。つまり、算出したエッジ位置の小数点以下1桁目の数が5よりも小さければ、画素in に5よりも大きく10以下の正の整数aを,画素in+1 に5よりも小さい正の整数b(b=10−a)を夫々振り分ける。また、エッジ位置の小数点以下1桁目の数が5であれば、画素in 及び画素in+1 に5を振り分ける。更に、エッジ位置の小数点以下1桁目の数が5よりも大きければ、画素in に5よりも小さい正の整数cを,画素in+1 に5よりも大きい正の整数d(d=10−c)を夫々振り分ける。ここでは、エッジ位置が55.1,62.8であるので、図8に示すように、55番目の画素に9を,56番目の画素に1を夫々振り分け、62番面の画素に2を,63番面の画素に8を夫々振り分けることになる。
【0023】
次に、ステップ58において、重み付け画像の加算を行うが、今回はフラグNが0であるので、今回の重み付け画像がそのまま加算画像となる。
【0024】
次に、ステップ60において、フラグNが基準値(整数)と比較され、フラグNが基準値よりも小さければ、ステップ62に進み、基準値以上になれば、ステップ66に進む。ここで、基準値は、液晶11に表示される液晶パターンの各パターン幅に見合ったステップ50〜58を行う適正回数を意味し、ここでは4に設定されている。今回は、フラグNが0であるので、ステップ62に進む。
【0025】
次に、ステップ62において、図9に示す如く、液晶11に表示する液晶パターンをそのパターン幅を一定にしたままX方向へ1ドット平行移動させる。具体的には、画像処理装置3がパターンジェネレータ4に液晶パターンを変えるように命令し、それに基づきパターンジェネレータ4が液晶パターンを生成し、ドライバ5がそのパターンを液晶11に表示させる。
【0026】
次に、ステップ64において、フラグNに1を加算し、フラグNを1とする。
【0027】
その後、変化した液晶パターンに相当する画像をカメラ2から取り込み、再びステップ50〜58を行う。ステップ50〜56については、フラグN=0のときと同一であるので、その説明は省略する。
【0028】
ステップ58において、前回(即ちフラグN=0のとき)の重み付け画像に今回(即ちフラグN=1のとき)の重み付け画像を加算する。具体的に言うと、図10に示すように、今回の重み付け画像の各画素に振り分けられた重み付け値を前回の重み付け画像における対応する画素に振り分けられた重み付け値に加算する。
【0029】
次に、ステップ60において、前回と同様に、フラグNが基準値と比較されるが、今回もフラグNが1であり4よりも小さいので、再びステップ62にて液晶パターンをX方向へ1ドット平行移動させ、ステップ64にてフラグNを2とする。
【0030】
その後、変化した液晶パターンに相当する画像を再びカメラ2から取り込み、再びステップ50〜58を行う。ステップ50〜56については、フラグN=0のときと同一である。ステップ58において、前回(即ちフラグN=1のとき)の重み付け画像に今回(即ちフラグN=2のとき)の重み付け画像を加算する。
【0031】
次に、ステップ60において、前回と同様に、フラグNが基準値と比較されるが、今回もフラグNが2であり4よりも小さいので、再びステップ62にて液晶パターンをX方向へ1ドット平行移動させ、ステップ64にてフラグNを3とする。
【0032】
その後、変化した液晶パターンに相当する画像を再びカメラ2から取り込み、再びステップ50〜58を行う。ステップ50〜56については、フラグN=0のときと同一である。ステップ58において、前回(即ちフラグN=2のとき)の重み付け画像に今回(即ちフラグN=3のとき)の重み付け画像を加算する。
【0033】
次に、ステップ60において、前回と同様に、フラグNが基準値と比較されるが、今回もフラグNが3であり4よりも小さいので、再びステップ62にて液晶パターンをX方向へ1ドット平行移動させ、ステップ64にてフラグNを4とする。
【0034】
その後、変化した液晶パターンに相当する画像を再びカメラ2から取り込み、再びステップ50〜58を行う。ステップ50〜56については、フラグN=0のときと同一である。ステップ58において、前回(即ちフラグN=3のとき)の重み付け画像に今回(即ちフラグN=4のとき)の重み付け画像を加算する。
【0035】
次に、ステップ60において、前回と同様に、フラグNが基準値と比較され、今回のフラグNは4であるので、ステップ66に進む。このように、フラグが変わる毎に液晶パターンを1ドットずつ平行移動させ、フラグNが4になるまでステップ50〜58を繰り返す。
【0036】
次に、ステップ66において、今回(フラグN=4)までの加算された重み付け画像についてスムージング処理を行う(処理回数3回以上)。具体的に言うと、図11に示す如く、各画素の重み付け加算値a0 をその画素の周囲の8つの画素の重み付け加算値an (n=1〜8)の平均値とする。これにより、ノイズが除去される。尚、各画素の重み付け加算値はエッジ密度に相当する。
【0037】
次に、ステップ68において、重み付け加算値a0 が上限値(ここでは8)以上の画素を抽出すると同時に、ステップ70において、重み付け加算値a0 が下限値(ここでは4)以下の画素を抽出する。そして、ステップ72でそれらを合成し、ステップ74でその結果に基づいてうねりの有無を判定すると共にうねりの位置を検出する。つまり、ステップ70における合成した画像において、重み付け加算値a0 が上限値以上の画素並びに重み付け加算値a0 が下限値以下の画素に1を入れ、それ以外の画素に0を入れる。そして、1である画素が存在すれば、うねり有と判定し、その画素をうねりの位置として検出する。また、1である全ての画素情報からうねりの面積等を算出する。
【0038】
尚、重み付け加算値a0 が上限値以上の画素及び重み付け加算値a0 が下限値以下の画素を合成せずに、そのままうねり有無の判定をしても良い。
【0039】
パターンジェネレータ4が液晶11に表示する液晶パターンを生成し、ドライバ5が液晶11にその液晶パターンを表示させる。次いで、カメラ2によりワークWを介して液晶11に表示された液晶パターンを撮像し、その画像データを画像メモリ31に取り込む。ここで、液晶パターンのエッジに相当するワークWの表面に凸部欠陥が存在するのであれば、画像メモリ31内の画像データ(縞状パターン)の隣合うエッジ同志は互いに接近して見え、液晶パターンのエッジに相当するワークWの表面に凹部欠陥が存在するのであれば、画像メモリ31内の画像データの隣合うエッジ同志は互いに離れて見える。この現象を人間の目で見て、うねりの有無を検査すれば良いが、この場合、目視では小さなうねりを検出するの困難であり、結果、検査精度が悪くなる。また、人によって判定がばらつく恐れがある。従って、本実施形態では、目視で検査するのではなく、画像処理により自動的に前述の如くうねりの検査をしている。
【0040】
以上示したように、本第1の実施形態では、カメラ2により撮像した画像の明るさ情報に基づき画像メモリ31内におけるエッジ位置を画素の分解能の10倍の分解能まで(小数点以下1桁まで)計算し、この小数点以下1桁の数字に基づき隣り合うエッジ位置を含む画素並びに次の画素に重み付けを行い、その重み付け値に基づきうねりの有無を判定しているので、パターン化光源の明るさの変動や被検査試料の位置ずれや被検査試料毎の反射率のばらつきによる誤検出は無い。
【0041】
また、液晶パターンを1ドットずつ各パターン幅に相当する分(4ドット)まで平行移動させ、その度毎にカメラ2から画像を取り込み、エッジ位置を算出し、エッジ位置近傍の隣合う画素に重み付けを行い、その重み付け値を逐次加算しているので、ワークWの全表面のうねり検出が可能となる。
【0042】
尚、本第1実施形態は、一次曲面状のワークWのうねり検査に適している。
【0043】
(第2実施形態)
第2実施形態の表面うねり検査装置は、第1実施形態のものと類似しているが、図12〜13を用いて相違する点のみを説明する。即ち、画像処理装置3のステップ76〜ステップ84が第1実施形態のものと異なる。
【0044】
ステップ66で、今回(フラグN=4)までに加算された重み付け画像についてスムージング処理を行った後、ステップ68で、スムージング画像Aについて近傍最大値処理を行う。具体的に言うと、図13に示す如く、スムージング後の各画素の重み付け加算値a0’をその画素の周囲の8つの画素の重み付け加算値an ’ (n=1〜8)の最大値とする。これにより、画像の明部を拡大化する。
【0045】
次に、ステップ78で、近傍最大値処理画像Bからスムージング画像Aを差し引いた値が所定値(ここでは2)以上の画素を抽出すると同時に、ステップ80で、スムージング画像Aから近傍最大値処理画像Bを差し引いた値が所定値(ここでは2)以上の画素を抽出する。ステップ78の結果に基づき、ステップ82において、画像Bから画像Aを差し引いた値が所定値以上の画素が存在すれば、凸部有りと判定し、その画素を凸部欠陥の位置として検出する。また、ステップ80の結果に基づき、ステップ84において、画像Aから画像Bを差し引いた値が所定値以上の画素が存在すれば、凹部有りと判定し、その画素を凹部欠陥の位置として検出する。
【0046】
尚、本第2実施形態では、2次曲面状のワークWのうねり検査に適している。
【0047】
【発明の効果】
本発明は、以下の如く効果を有する。
【0048】
パターン化光源の明るさの変動や被検査試料の位置ずれや被検査試料毎の反射率のばらつきによる誤検出を無くすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る表面うねり検査装置の全体構成図である。
【図2】第1実施形態の画像処理装置の構成及び処理工程を示すフローチャートである。
【図3】画像メモリ内の画像データの説明図である。
【図4】図3におけるラインA上の明るさ分布を示すグラフである。
【図5】図4におけるB部を拡大したグラフである。
【図6】図5の各画素における明るさ分布の一次微分値のグラフである。
【図7】加重平均値を示すグラフである。
【図8】図2のエッジ位置重み付け処理を説明した図である。
【図9】図2の重み付け画像加算処理を説明した図である。
【図10】図2の液晶パターン1ドット平行移動処理を説明した図である。
【図11】図2のスムージング処理を説明した図である。
【図12】第2実施形態の画像処理装置の構成及び処理工程を示すフローチャートである。
【図13】図11の近傍最大値処理を説明した図である。
【符号の説明】
W ワーク(被検査試料)
1 パターン化光源
2 カメラ(撮像装置)
3 画像処理装置
4 パターンジェネレータ(パターン変化装置)
5 ドライバ(パターン変化装置)
S52 一次微分処理工程(エッジ位置算出手段)
S54 加重平均処理工程(エッジ位置算出手段)
S56 エッジ位置重み付け処理工程(重み付け手段)
S58 重み付け画像加算処理工程(重み付け値加算手段)
S62 液晶パターン平行移動処理工程(パターン変化装置)
S82 凸部判定処理工程(判定手段)
S84 凹部判定処理工程(判定手段)
Claims (2)
- 所定の光源パターンを発生するパターン化光源と、
被検査試料を間にして前記パターン化光源に対向配置され、前記被検査試料を介して前記パターン化光源を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置により撮像された画像の明るさ情報に基づき、画像内の各パターンのエッジ位置を画素の分解能よりも高分解能で算出するエッジ位置算出手段と、
前記エッジ位置に基づき、前記エッジ位置を含む画素及びそれと隣合う画素にエッジ位置の重み付けを行う重み付け手段と、
各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定する判定手段とを備える表面うねり検査装置。 - 所定の光源パターンを発生するパターン化光源と、
被検査試料を間にして前記パターン化光源に対向配置され、前記被検査試料を介して前記パターン化光源を撮像する撮像装置と、
前記撮像装置により撮像された画像の明るさ情報を画素で微分し、その微分値を加重平均して画像内の各パターンのエッジ位置を画素の分解能よりも高分解能で算出するエッジ位置算出手段と、
前記エッジ位置に基づき、前記エッジ位置を含む画素及び次の画素にエッジ位置の重み付けを行う重み付け手段と、
前記パターン化光源のパターンをそれの配列方向へ所定ドットだけ平行移動させるパターン変化装置と、
前記パターン化光源のパターンを平行移動させる毎に、前回までの各画素の重み付け値に今回の各画素の重み付け値を加算し、平行移動のドット総和が前記パターン化光源の各パターン幅に相当するドットに到達するまでこの加算処理を実行する重み付け値加算手段と、
加算された各画素の重み付け値に基づき、被検査試料の表面上のうねりの有無を判定する判定手段とを備える表面うねり検査装置。
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