JP3580783B2 - 熱電素子の製造方法及び熱電素子 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱電素子の製造方法及びそれを用いて作製した熱電素子に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来より、ペルチェ効果を利用した熱電素子は、熱電モジュールとしてレーザーダイオードの温度制御、恒温槽あるいは冷蔵庫における冷却に多用されている。この室温付近で使用される冷却用熱電モジュールには、冷却特性が優れるという観点からＢｉ２Ｔｅ３（テルル化ビスマス）からなる熱電素子が一般的に用いられている。
【０００３】
さらに、熱電素子はｐ型およびｎ型を対にして用いる必要があり、ｐ型にはＢｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３（テルル化アンチモン）との固溶体が、ｎ型にはＢｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３（セレン化ビスマス）との固溶体が特に優れた性能を示すことから、このＡ２Ｂ３型結晶（ＡはＢｉ及び／又はＳｂ、ＢはＴｅ及び／又はＳｅ）が冷却用熱電モジュール用熱電素子として広く用いられている。
【０００４】
このＡ２Ｂ３型結晶は古くよりゾーンメルト法等の溶製法、一方向凝固などによって結晶粒子径の大きいインゴットあるいは単結晶として作製され、これをスライスしたものが用いられてきたが、熱電モジュールに使用される熱電素子は数ｍｍ角の大きさに切断する際に碧開面を持つこれら結晶の多くは加工歩留まりが極めて低く、近年では加工に対する強度を保たせるためにホットプレス等により作製された多結晶体が用いられている。
【０００５】
Ｂｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３とのｎ型固溶体原料において粒子径を１０〜２００μｍの範囲の粉末を用いることで、ドーピング制御が容易となり、熱電特性の向上が可能であることが、特開昭６４−３７４５６号公報で提案されている。
【０００６】
また、同様に、Ｂｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３とのｐ型固溶体原料において粒子径を１０〜２００μｍにそろえて熱電特性を改善することが特開平３−１６２８１号公報に記載されている。
【０００７】
さらに、Ｂｉを含む粉末とＴｅを含む粉末を遊星ボールミルで０．０５〜５μｍまで粉砕し、その後焼結させる方法によって熱電特性を２．４×１０−３／Ｋ程度の溶製材並みの性能まで高めることが、特開平３−４１７８１号公報提案されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開昭６４−３７４５６号公報、特開平３−１６２８１号公報に記載の方法では、焼結前の粉末の粒子径をそろえるためには、固溶体を溶融させて作製したインゴットを一度粉砕し、さらに篩によって分級させる工程が必要となり、そのため、工程が多くなると同時に原料歩留まりが低下するという問題があった。
【０００９】
また、特開平３−４１７８１号公報の方法では、金属粉末を特定の組成に化合させる化合反応と焼結とを同時に行うため、焼成工程が複雑で時間がかかるという問題があった。また、得られる焼結体の性能指数も最大値で２．９×１０−３／Ｋと低いという問題があった。
【００１０】
従って、本発明は、低コストで量産性に優れ、熱電特性に優れた熱電素子の製造方法と熱電特性に優れた熱電素子を得ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、原料粉末の粒子径を厳密に制御することにより、粒子径が１０μｍ以下であっても、比抵抗を維持したまま熱伝導率を大幅に低減できるという知見に基づき、その結果、優れた熱電特性を得ることができるというものである。
【００１２】
即ち、本発明の熱電素子の製造方法は、累積重量比５０％における粒子径（Ｄ５０）が０．５〜１０μｍ、且つ累積重量比９０％における粒子径（Ｄ９０）が０．７〜２０μｍ、粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０が１．２〜４．０である原料粉末又はその成形体を焼成することを特徴とするものである。このような均一性の高い粒度分布を持つ粉末を焼結させることで焼結体中に微細な結晶を均一に分布させることが容易となり、製造工程を簡略化でき、且つ熱電特性を向上することができる。
【００１３】
特に、前記原料粉末が、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことが好ましい。これにより、熱電特性に優れた熱電素子を得ることができる。
【００１４】
また、前記原料粉末が、Ｂｉ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｓｅ３の少なくとも１種であることが好ましい。これにより、適度に結晶及び組織が複合化され、熱伝導率や比抵抗が低減できるため、より優れた性能を得ることができる。
【００１５】
さらに、前記原料粉末が、ハロゲン元素を０．０１〜０．５重量％の割合で含むことが好ましく、これにより、合金粉末と比べて結晶の安定性が高く、粉砕時の結晶歪みを小さくし、熱電特性を向上させることができるためである。
【００１６】
さらにまた、前記原料粉末を、窒化ケイ素製ボールを用いて粉砕及び／又は混合することが好ましい。これにより、原料粉末に混入する不純物を抑制し、高い性能指数を実現し、特性のばらつきを抑えることができる。
【００１７】
また、前記原料粉末を、パルス通電焼結法、ホットプレス法、ガス圧焼結法、熱間等方加圧焼結（ＨＩＰ）法のうち少なくとも１種を用いて焼成することが好ましい。これにより、短時間で焼成することができ、焼結体中の粒成長を抑え、粒子の均一化が図れるためである。
【００１８】
さらに、本発明の熱電素子は、ｎ型又はｐ型の熱電素子であって、該熱電素子中の結晶粒子のうち、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子が９０％以上含まれ、且つ性能指数が３．０×１０−３／Ｋ以上であることを特徴とする。特に、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことが好ましい。このような微細で均一な組織によって熱電特性が高められ、また、３．０×１０−３／Ｋ以上の性能指数を有することで冷却／発電用熱電モジュールとして好適に使用することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の熱電素子の製造方法は、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含む原料を用いることが重要であり、例えば、上記の金属を用いても良いが、Ａ２Ｂ３型金属間化合物を用いることが好ましい。ここで、ＡがＢｉ及び／又はＳｂ、ＢがＴｅ及び／又はＳｅからなる半導体結晶であって、特に組成比Ｂ／Ａが１．４〜１．６であることが、室温における熱電特性を高めるために好ましい。
【００２０】
Ａ２Ｂ３型金属間化合物としては、公知であるＢｉ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｓｅ３の少なくとも１種であることが好ましく、固溶体としてＢｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３の固溶体であるＢｉ２Ｔｅ３−ｘＳｅｘ（ｘ＝０．０５〜０．２５）、又はＢｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３の固溶体であるＢｉｘＳｂ２−ｘＴｅ３（ｘ＝０．１〜０．６）等を例示できる。
【００２１】
また、金属間化合物を効率よく半導体化するために、不純物をドーパントとして添加することができる。例えば、原料粉末にＩ、Ｃｌ及びＢｒ等のハロゲン元素を含む化合物を含有せしめることにより、ｎ型半導体を製造することができる。例えば、ＡｇＩ、ＣｕＢｒ、ＳｂＩ３、ＳｂＣｌ３、ＳｂＢｒ３、ＨｇＢｒ２等を加えることにより、金属間化合物半導体中のキャリア濃度を調整することができ、その結果、熱電特性を高めることが可能となる。上記のハロゲン元素は、効率的な半導体化の点で、０．０１〜５重量％、特に０．１〜４重量％の割合で含むことが好ましい。
【００２２】
さらに、ｐ型半導体を製造する場合には、キャリア濃度調整のためにＴｅを添加することができ、ｎ型半導体と同様に、熱電特性を高めることができる。
【００２３】
また、本発明の熱電素子の製造方法に用いられる原料粉末は、累積重量比５０％における粒子径（Ｄ５０）が０．５〜１０μｍ、且つ累積重量比９０％における粒子径（Ｄ９０）が０．７〜２０μｍであることが重要である。
【００２４】
Ｄ５０が０．５μｍより小さいと粒子径が小さいために比抵抗が急激に増大し、１０μｍより大きいと熱伝導率が増大し、その結果それぞれ性能指数が低下する。性能指数を高める観点で、Ｄ５０は、特に１〜７μｍ、更には２〜４μｍが好ましい。
【００２５】
また、Ｄ９０が０．７μｍより小さいと粒子径が小さいために比抵抗が急激に増大し、２０μｍより大きいと均一な組織が得にくくなる。そして、Ｄ９０は、特に２〜１５μｍ、更には３〜１０μｍが好ましい。
【００２６】
また、本発明によれば、Ｄ９０とＤ５０の粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０が１．２〜４．０、特に１．５〜３．５、更には２〜３であることが好ましい。粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０を上記の範囲に設定することで均一な焼結体が容易に得られる。
【００２７】
なお、この累積重量比は粉末の粒度分布をレーザー回折法等によって測定するときに求められる値であり、結晶粒子のうちその粒子径が小さいものから積算して重量比５０％のときの平均粒子径をＤ５０、９０％のときの平均粒子径をＤ９０としている。
【００２８】
本発明によれば、上記のような原料粉末を得るためには、溶製法等によりインゴットを作製したり、粒子径の大きい市販粉末を分級しても良いが、例えば比較的安価で粒子径の不揃いな市販粉末を所望の組成に調合し、有機溶媒を加えて粉砕することで、本発明で使用する粉末を容易に得られる。この粉砕に、遊星ボールミルやアトライターミル等の粉砕効率の高い粉砕機で行うと、微粉化はされるものの、粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０を１．２〜４．０の範囲にするのが難しくなり、さらにミル内張り、あるいはボールからの不純物が多くなるため、振動ミル、バレルミル又は回転ボールミルを用いることが好ましい。
【００２９】
粉砕に用いる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサン等で良いが、これらの中でも、粉砕効率及びコストの面で、イソプロパノールが好適である。
【００３０】
次いで、所望により上記の原料粉末を成形し、成形体を作製する。成形は、金型プレス法、冷間静水圧プレス（ＣＩＰ法）、ドクターブレード法、カレンダーロール法、圧延法、押し出し成形法、鋳込み成形法、射出成形法等の周知の成形方法を用いることができる。これらの中で、特に金型プレス法、ＣＩＰ法が簡便さと量産の観点で好ましい。なお、成形時に高磁場を印加して結晶配向させることも有効である。
【００３１】
上記の原料粉末又はその成形体を焼成する前に予め水素気流中で熱処理することが好ましい。この熱処理は、水素気流中で加熱するものであり、原料粉末表面の不純物酸素が水素ガスによって還元除去され、比抵抗の高い酸化物が少なくなるため、焼成によって得られた焼結体の比抵抗を低下することができる。
【００３２】
次いで、上記の原料粉末又はその成形体を焼成するが、本発明によればこの焼成は、パルス通電焼結法（ＰＥＣＳ）、ホットプレス法（ＨＰ）、ガス圧焼結法（ＧＰＳ）、熱間等方加圧焼結法（ＨＩＰ）の少なくとも１種の方法であることが必要である。これらの焼成が短時間で終了するため、焼結中の粒成長を抑え、粒子の均一化が図れるためであり、特にＰＥＣＳ、ＨＰがより簡便に、より緻密な焼結体を得る点で好ましく、更にはＰＥＣＳで行うと焼結時間が昇温を含め３０分以内で完了するため組織制御が容易で、より優れた特性が得られる点でＰＥＣＳが好ましい。
【００３３】
焼成温度は、融点（Ｔ）よりも１５０℃程度低い温度範囲、特に（Ｔ−１２０℃）〜（Ｔ−２０℃）の温度範囲が好ましい。例えばＢｉ２Ｔｅ３であれば４００〜５００℃程度、Ｂｉ０．５Ｓｂ１．５Ｔｅ３であれば４００〜４８０℃程度が望ましい。
【００３４】
このように作製した熱電素子は、平均長軸径１０μｍ以下の微細な結晶を有する焼結体からなり、優れた熱電特性を示すことができる。
【００３５】
次に、本発明の熱電素子について説明する。
【００３６】
本発明の熱電素子は、熱電素子中の結晶粒子のうち、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子が９０％以上含まれていることが重要である。Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅからなるカルコゲナイド化合物（Ａ２Ｂ３型金属間化合物）は鱗状の結晶になり易いためアスペクトの大きい形状になり易く、この割合が９０％より小さいと熱伝導率が増大し、性能指数で３×１０−３／Ｋ以上の特性が得られない。より低い熱伝導率を得るため、特に９５％以上、更には９７％以上が望ましい。
【００３７】
なお、この平均長軸径の測定には、鏡面状態に研磨した焼結体表面をエッチングした後、走査型電子顕微鏡などで組織写真を撮影し、粒子が鱗状と仮定し、最も長い径を長軸として算出する。１試料について３０個以上の粒子を測定して平均値を算出することが好ましい。
【００３８】
また、本発明の熱電素子は、性能指数が３．０×１０−３／Ｋ以上であることが重要であり、特に３．５×１０−３／Ｋ以上、さらには４×１０−３／Ｋ以上、より好適には４．５×１０−３／Ｋ以上、最も好適には５×１０−３／Ｋ以上が好ましい。これにより、熱電素子を冷却に用いた場合、効率よく熱を除去し、冷却物をより低温にすることが可能となる。
【００３９】
ここで性能指数Ｚとは、ゼーベック係数をＳ、抵抗率をρ、熱伝導率をｋとしたとき、Ｚ＝Ｓ２／ρｋで定義されるもので、熱電素子を冷却素子あるいは発電素子として用いる場合の効率を示すものである。
【００４０】
【実施例】
原料粉末として、純度９９．９９％以上のＢｉ２Ｔｅ３粉末（ＢＴ）、Ｓｂ２Ｔｅ３粉末（ＳｂＴ）、Ｂｉ２Ｓｅ３粉末（ＢＳ）、さらに合金としてＢｉ２Ｔｅ２．８５Ｓｅ０．１５粉末９９．４重量％にＳｂＩ３粉末を０．０６重量％添加した混合粉末（ＢＴＳ）、Ｂｉ０．５Ｓｂ１．５Ｔｅ３粉末（ＢＳｂＴ）を準備した。また、ドーパントとしてＨｇＢｒ２粉末及びＳｂＩ３粉末を準備した。
【００４１】
上記の原料粉末とドーパントとを表１に示す組成でそれぞれ１００ｇずつ調合した原料を、振動ミルで粉砕し、得られたスラリーを取り出して、乾燥後、４０メッシュにて篩通した。なお、原料粉末同士はモル比で調合し、ドーパントは原料粉末全体と重量比で添加した。得られた粉末の粒度分布はレーザー回折法で求め、Ｄ５０、Ｄ９０およびＤ９０／Ｄ５０を求めた。
【００４２】
上記の粉末を水素気流中で熱処理した後、カーボン型に充填し、ホットプレス法は温度４５０℃、加圧圧力５０ＭＰａで、パルス通電焼結法は温度４２０℃、加圧圧力５０ＭＰａで焼成した。また、上記粉末をプレス圧１５０ＭＰａで直径２０ｍｍ、厚み１５ｍｍに成形し、成形体を水素気流中で熱処理した後、試料Ｎｏ．２６は、温度５００℃、圧力０．９ＭＰａのＡｒ雰囲気でガス圧焼結法（ＧＰＳ）により、試料Ｎｏ．２７は、温度５００℃、圧力１００ＭＰａで熱間等方加圧焼結法（ＨＩＰ）により焼成した。
【００４３】
得られた焼結体は成形時のプレス方向に対して垂直な方向に対して熱伝導率、ゼーベック係数及び抵抗率を測定するために、それぞれ測定試料を作製した。熱伝導率測定には、直径１０ｍｍ、厚み１ｍｍの円板試料を、ゼーベック係数、抵抗率測定には縦４ｍｍ、横４ｍｍ、長さ１５ｍｍの角柱試料を作製した。
【００４４】
熱伝導率はレーザーフラッシュ法により、ゼーベック係数、比抵抗は真空理工社製熱電能評価装置により、それぞれ２０℃の条件下で測定した。
【００４５】
また、熱電性能指数Ｚは、式Ｚ＝Ｓ２／ρｋ（Ｓはゼーベック係数、ρは抵抗率、ｋは熱伝導率である）により算出した。
【００４６】
また、熱伝導率を測定した試料表面を鏡面加工後、化学エッチングして、粒子径が確認できる倍率で数枚ＳＥＭ写真を撮影し、その写真から粒子２００〜３００個の長軸を測定し、測定粒子に占める長軸が１０μｍ以下の粒子の割合を求め、粒子割合とした。結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
【００４８】
Ｄ５０が１．１〜１０、Ｄ９０が１．５〜２０の原料粉末を用いた本発明の試料Ｎｏ．３〜６、１０〜１４及び１６〜２７は、いずれも、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９０％以上、性能指数が３．０１×１０−３／Ｋ以上であった。
【００４９】
一方、Ｄ５０が０．４と小さい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．１は、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９９％、性能指数が２．７４×１０−３／Ｋであった。
【００５０】
また、Ｄ９０が０．６と小さい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．２は、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９９％、性能指数が２．４８×１０−３／Ｋであった。
【００５１】
さらに、Ｄ５０及びＤ９０のうち少なくとも一方が大きい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．７〜９、１５は、いずれも、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が８５％以下、性能指数が２．８７×１０−３／Ｋ以下であった。
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、原料粉末のＤ５０を０．５〜１０μｍ、Ｄ９０を０．７〜２０μｍ、Ｄ９０／Ｄ５０を１．２〜４．０に厳密に制御することにより、焼結体の粒子径を１０μｍ以下にすることができ、比抵抗を維持したまま熱伝導率を大幅に低減し、優れた熱電特性を得ることができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱電素子の製造方法及びそれを用いて作製した熱電素子に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来より、ペルチェ効果を利用した熱電素子は、熱電モジュールとしてレーザーダイオードの温度制御、恒温槽あるいは冷蔵庫における冷却に多用されている。この室温付近で使用される冷却用熱電モジュールには、冷却特性が優れるという観点からＢｉ２Ｔｅ３（テルル化ビスマス）からなる熱電素子が一般的に用いられている。
【０００３】
さらに、熱電素子はｐ型およびｎ型を対にして用いる必要があり、ｐ型にはＢｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３（テルル化アンチモン）との固溶体が、ｎ型にはＢｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３（セレン化ビスマス）との固溶体が特に優れた性能を示すことから、このＡ２Ｂ３型結晶（ＡはＢｉ及び／又はＳｂ、ＢはＴｅ及び／又はＳｅ）が冷却用熱電モジュール用熱電素子として広く用いられている。
【０００４】
このＡ２Ｂ３型結晶は古くよりゾーンメルト法等の溶製法、一方向凝固などによって結晶粒子径の大きいインゴットあるいは単結晶として作製され、これをスライスしたものが用いられてきたが、熱電モジュールに使用される熱電素子は数ｍｍ角の大きさに切断する際に碧開面を持つこれら結晶の多くは加工歩留まりが極めて低く、近年では加工に対する強度を保たせるためにホットプレス等により作製された多結晶体が用いられている。
【０００５】
Ｂｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３とのｎ型固溶体原料において粒子径を１０〜２００μｍの範囲の粉末を用いることで、ドーピング制御が容易となり、熱電特性の向上が可能であることが、特開昭６４−３７４５６号公報で提案されている。
【０００６】
また、同様に、Ｂｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３とのｐ型固溶体原料において粒子径を１０〜２００μｍにそろえて熱電特性を改善することが特開平３−１６２８１号公報に記載されている。
【０００７】
さらに、Ｂｉを含む粉末とＴｅを含む粉末を遊星ボールミルで０．０５〜５μｍまで粉砕し、その後焼結させる方法によって熱電特性を２．４×１０−３／Ｋ程度の溶製材並みの性能まで高めることが、特開平３−４１７８１号公報提案されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開昭６４−３７４５６号公報、特開平３−１６２８１号公報に記載の方法では、焼結前の粉末の粒子径をそろえるためには、固溶体を溶融させて作製したインゴットを一度粉砕し、さらに篩によって分級させる工程が必要となり、そのため、工程が多くなると同時に原料歩留まりが低下するという問題があった。
【０００９】
また、特開平３−４１７８１号公報の方法では、金属粉末を特定の組成に化合させる化合反応と焼結とを同時に行うため、焼成工程が複雑で時間がかかるという問題があった。また、得られる焼結体の性能指数も最大値で２．９×１０−３／Ｋと低いという問題があった。
【００１０】
従って、本発明は、低コストで量産性に優れ、熱電特性に優れた熱電素子の製造方法と熱電特性に優れた熱電素子を得ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、原料粉末の粒子径を厳密に制御することにより、粒子径が１０μｍ以下であっても、比抵抗を維持したまま熱伝導率を大幅に低減できるという知見に基づき、その結果、優れた熱電特性を得ることができるというものである。
【００１２】
即ち、本発明の熱電素子の製造方法は、累積重量比５０％における粒子径（Ｄ５０）が０．５〜１０μｍ、且つ累積重量比９０％における粒子径（Ｄ９０）が０．７〜２０μｍ、粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０が１．２〜４．０である原料粉末又はその成形体を焼成することを特徴とするものである。このような均一性の高い粒度分布を持つ粉末を焼結させることで焼結体中に微細な結晶を均一に分布させることが容易となり、製造工程を簡略化でき、且つ熱電特性を向上することができる。
【００１３】
特に、前記原料粉末が、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことが好ましい。これにより、熱電特性に優れた熱電素子を得ることができる。
【００１４】
また、前記原料粉末が、Ｂｉ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｓｅ３の少なくとも１種であることが好ましい。これにより、適度に結晶及び組織が複合化され、熱伝導率や比抵抗が低減できるため、より優れた性能を得ることができる。
【００１５】
さらに、前記原料粉末が、ハロゲン元素を０．０１〜０．５重量％の割合で含むことが好ましく、これにより、合金粉末と比べて結晶の安定性が高く、粉砕時の結晶歪みを小さくし、熱電特性を向上させることができるためである。
【００１６】
さらにまた、前記原料粉末を、窒化ケイ素製ボールを用いて粉砕及び／又は混合することが好ましい。これにより、原料粉末に混入する不純物を抑制し、高い性能指数を実現し、特性のばらつきを抑えることができる。
【００１７】
また、前記原料粉末を、パルス通電焼結法、ホットプレス法、ガス圧焼結法、熱間等方加圧焼結（ＨＩＰ）法のうち少なくとも１種を用いて焼成することが好ましい。これにより、短時間で焼成することができ、焼結体中の粒成長を抑え、粒子の均一化が図れるためである。
【００１８】
さらに、本発明の熱電素子は、ｎ型又はｐ型の熱電素子であって、該熱電素子中の結晶粒子のうち、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子が９０％以上含まれ、且つ性能指数が３．０×１０−３／Ｋ以上であることを特徴とする。特に、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことが好ましい。このような微細で均一な組織によって熱電特性が高められ、また、３．０×１０−３／Ｋ以上の性能指数を有することで冷却／発電用熱電モジュールとして好適に使用することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明の熱電素子の製造方法は、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含む原料を用いることが重要であり、例えば、上記の金属を用いても良いが、Ａ２Ｂ３型金属間化合物を用いることが好ましい。ここで、ＡがＢｉ及び／又はＳｂ、ＢがＴｅ及び／又はＳｅからなる半導体結晶であって、特に組成比Ｂ／Ａが１．４〜１．６であることが、室温における熱電特性を高めるために好ましい。
【００２０】
Ａ２Ｂ３型金属間化合物としては、公知であるＢｉ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｓｅ３の少なくとも１種であることが好ましく、固溶体としてＢｉ２Ｔｅ３とＢｉ２Ｓｅ３の固溶体であるＢｉ２Ｔｅ３−ｘＳｅｘ（ｘ＝０．０５〜０．２５）、又はＢｉ２Ｔｅ３とＳｂ２Ｔｅ３の固溶体であるＢｉｘＳｂ２−ｘＴｅ３（ｘ＝０．１〜０．６）等を例示できる。
【００２１】
また、金属間化合物を効率よく半導体化するために、不純物をドーパントとして添加することができる。例えば、原料粉末にＩ、Ｃｌ及びＢｒ等のハロゲン元素を含む化合物を含有せしめることにより、ｎ型半導体を製造することができる。例えば、ＡｇＩ、ＣｕＢｒ、ＳｂＩ３、ＳｂＣｌ３、ＳｂＢｒ３、ＨｇＢｒ２等を加えることにより、金属間化合物半導体中のキャリア濃度を調整することができ、その結果、熱電特性を高めることが可能となる。上記のハロゲン元素は、効率的な半導体化の点で、０．０１〜５重量％、特に０．１〜４重量％の割合で含むことが好ましい。
【００２２】
さらに、ｐ型半導体を製造する場合には、キャリア濃度調整のためにＴｅを添加することができ、ｎ型半導体と同様に、熱電特性を高めることができる。
【００２３】
また、本発明の熱電素子の製造方法に用いられる原料粉末は、累積重量比５０％における粒子径（Ｄ５０）が０．５〜１０μｍ、且つ累積重量比９０％における粒子径（Ｄ９０）が０．７〜２０μｍであることが重要である。
【００２４】
Ｄ５０が０．５μｍより小さいと粒子径が小さいために比抵抗が急激に増大し、１０μｍより大きいと熱伝導率が増大し、その結果それぞれ性能指数が低下する。性能指数を高める観点で、Ｄ５０は、特に１〜７μｍ、更には２〜４μｍが好ましい。
【００２５】
また、Ｄ９０が０．７μｍより小さいと粒子径が小さいために比抵抗が急激に増大し、２０μｍより大きいと均一な組織が得にくくなる。そして、Ｄ９０は、特に２〜１５μｍ、更には３〜１０μｍが好ましい。
【００２６】
また、本発明によれば、Ｄ９０とＤ５０の粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０が１．２〜４．０、特に１．５〜３．５、更には２〜３であることが好ましい。粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０を上記の範囲に設定することで均一な焼結体が容易に得られる。
【００２７】
なお、この累積重量比は粉末の粒度分布をレーザー回折法等によって測定するときに求められる値であり、結晶粒子のうちその粒子径が小さいものから積算して重量比５０％のときの平均粒子径をＤ５０、９０％のときの平均粒子径をＤ９０としている。
【００２８】
本発明によれば、上記のような原料粉末を得るためには、溶製法等によりインゴットを作製したり、粒子径の大きい市販粉末を分級しても良いが、例えば比較的安価で粒子径の不揃いな市販粉末を所望の組成に調合し、有機溶媒を加えて粉砕することで、本発明で使用する粉末を容易に得られる。この粉砕に、遊星ボールミルやアトライターミル等の粉砕効率の高い粉砕機で行うと、微粉化はされるものの、粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０を１．２〜４．０の範囲にするのが難しくなり、さらにミル内張り、あるいはボールからの不純物が多くなるため、振動ミル、バレルミル又は回転ボールミルを用いることが好ましい。
【００２９】
粉砕に用いる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサン等で良いが、これらの中でも、粉砕効率及びコストの面で、イソプロパノールが好適である。
【００３０】
次いで、所望により上記の原料粉末を成形し、成形体を作製する。成形は、金型プレス法、冷間静水圧プレス（ＣＩＰ法）、ドクターブレード法、カレンダーロール法、圧延法、押し出し成形法、鋳込み成形法、射出成形法等の周知の成形方法を用いることができる。これらの中で、特に金型プレス法、ＣＩＰ法が簡便さと量産の観点で好ましい。なお、成形時に高磁場を印加して結晶配向させることも有効である。
【００３１】
上記の原料粉末又はその成形体を焼成する前に予め水素気流中で熱処理することが好ましい。この熱処理は、水素気流中で加熱するものであり、原料粉末表面の不純物酸素が水素ガスによって還元除去され、比抵抗の高い酸化物が少なくなるため、焼成によって得られた焼結体の比抵抗を低下することができる。
【００３２】
次いで、上記の原料粉末又はその成形体を焼成するが、本発明によればこの焼成は、パルス通電焼結法（ＰＥＣＳ）、ホットプレス法（ＨＰ）、ガス圧焼結法（ＧＰＳ）、熱間等方加圧焼結法（ＨＩＰ）の少なくとも１種の方法であることが必要である。これらの焼成が短時間で終了するため、焼結中の粒成長を抑え、粒子の均一化が図れるためであり、特にＰＥＣＳ、ＨＰがより簡便に、より緻密な焼結体を得る点で好ましく、更にはＰＥＣＳで行うと焼結時間が昇温を含め３０分以内で完了するため組織制御が容易で、より優れた特性が得られる点でＰＥＣＳが好ましい。
【００３３】
焼成温度は、融点（Ｔ）よりも１５０℃程度低い温度範囲、特に（Ｔ−１２０℃）〜（Ｔ−２０℃）の温度範囲が好ましい。例えばＢｉ２Ｔｅ３であれば４００〜５００℃程度、Ｂｉ０．５Ｓｂ１．５Ｔｅ３であれば４００〜４８０℃程度が望ましい。
【００３４】
このように作製した熱電素子は、平均長軸径１０μｍ以下の微細な結晶を有する焼結体からなり、優れた熱電特性を示すことができる。
【００３５】
次に、本発明の熱電素子について説明する。
【００３６】
本発明の熱電素子は、熱電素子中の結晶粒子のうち、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子が９０％以上含まれていることが重要である。Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅからなるカルコゲナイド化合物（Ａ２Ｂ３型金属間化合物）は鱗状の結晶になり易いためアスペクトの大きい形状になり易く、この割合が９０％より小さいと熱伝導率が増大し、性能指数で３×１０−３／Ｋ以上の特性が得られない。より低い熱伝導率を得るため、特に９５％以上、更には９７％以上が望ましい。
【００３７】
なお、この平均長軸径の測定には、鏡面状態に研磨した焼結体表面をエッチングした後、走査型電子顕微鏡などで組織写真を撮影し、粒子が鱗状と仮定し、最も長い径を長軸として算出する。１試料について３０個以上の粒子を測定して平均値を算出することが好ましい。
【００３８】
また、本発明の熱電素子は、性能指数が３．０×１０−３／Ｋ以上であることが重要であり、特に３．５×１０−３／Ｋ以上、さらには４×１０−３／Ｋ以上、より好適には４．５×１０−３／Ｋ以上、最も好適には５×１０−３／Ｋ以上が好ましい。これにより、熱電素子を冷却に用いた場合、効率よく熱を除去し、冷却物をより低温にすることが可能となる。
【００３９】
ここで性能指数Ｚとは、ゼーベック係数をＳ、抵抗率をρ、熱伝導率をｋとしたとき、Ｚ＝Ｓ２／ρｋで定義されるもので、熱電素子を冷却素子あるいは発電素子として用いる場合の効率を示すものである。
【００４０】
【実施例】
原料粉末として、純度９９．９９％以上のＢｉ２Ｔｅ３粉末（ＢＴ）、Ｓｂ２Ｔｅ３粉末（ＳｂＴ）、Ｂｉ２Ｓｅ３粉末（ＢＳ）、さらに合金としてＢｉ２Ｔｅ２．８５Ｓｅ０．１５粉末９９．４重量％にＳｂＩ３粉末を０．０６重量％添加した混合粉末（ＢＴＳ）、Ｂｉ０．５Ｓｂ１．５Ｔｅ３粉末（ＢＳｂＴ）を準備した。また、ドーパントとしてＨｇＢｒ２粉末及びＳｂＩ３粉末を準備した。
【００４１】
上記の原料粉末とドーパントとを表１に示す組成でそれぞれ１００ｇずつ調合した原料を、振動ミルで粉砕し、得られたスラリーを取り出して、乾燥後、４０メッシュにて篩通した。なお、原料粉末同士はモル比で調合し、ドーパントは原料粉末全体と重量比で添加した。得られた粉末の粒度分布はレーザー回折法で求め、Ｄ５０、Ｄ９０およびＤ９０／Ｄ５０を求めた。
【００４２】
上記の粉末を水素気流中で熱処理した後、カーボン型に充填し、ホットプレス法は温度４５０℃、加圧圧力５０ＭＰａで、パルス通電焼結法は温度４２０℃、加圧圧力５０ＭＰａで焼成した。また、上記粉末をプレス圧１５０ＭＰａで直径２０ｍｍ、厚み１５ｍｍに成形し、成形体を水素気流中で熱処理した後、試料Ｎｏ．２６は、温度５００℃、圧力０．９ＭＰａのＡｒ雰囲気でガス圧焼結法（ＧＰＳ）により、試料Ｎｏ．２７は、温度５００℃、圧力１００ＭＰａで熱間等方加圧焼結法（ＨＩＰ）により焼成した。
【００４３】
得られた焼結体は成形時のプレス方向に対して垂直な方向に対して熱伝導率、ゼーベック係数及び抵抗率を測定するために、それぞれ測定試料を作製した。熱伝導率測定には、直径１０ｍｍ、厚み１ｍｍの円板試料を、ゼーベック係数、抵抗率測定には縦４ｍｍ、横４ｍｍ、長さ１５ｍｍの角柱試料を作製した。
【００４４】
熱伝導率はレーザーフラッシュ法により、ゼーベック係数、比抵抗は真空理工社製熱電能評価装置により、それぞれ２０℃の条件下で測定した。
【００４５】
また、熱電性能指数Ｚは、式Ｚ＝Ｓ２／ρｋ（Ｓはゼーベック係数、ρは抵抗率、ｋは熱伝導率である）により算出した。
【００４６】
また、熱伝導率を測定した試料表面を鏡面加工後、化学エッチングして、粒子径が確認できる倍率で数枚ＳＥＭ写真を撮影し、その写真から粒子２００〜３００個の長軸を測定し、測定粒子に占める長軸が１０μｍ以下の粒子の割合を求め、粒子割合とした。結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
Ｄ５０が１．１〜１０、Ｄ９０が１．５〜２０の原料粉末を用いた本発明の試料Ｎｏ．３〜６、１０〜１４及び１６〜２７は、いずれも、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９０％以上、性能指数が３．０１×１０−３／Ｋ以上であった。
【００４９】
一方、Ｄ５０が０．４と小さい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．１は、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９９％、性能指数が２．７４×１０−３／Ｋであった。
【００５０】
また、Ｄ９０が０．６と小さい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．２は、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が９９％、性能指数が２．４８×１０−３／Ｋであった。
【００５１】
さらに、Ｄ５０及びＤ９０のうち少なくとも一方が大きい原料粉末を用いた本発明の範囲外の試料Ｎｏ．７〜９、１５は、いずれも、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子の割合が８５％以下、性能指数が２．８７×１０−３／Ｋ以下であった。
【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、原料粉末のＤ５０を０．５〜１０μｍ、Ｄ９０を０．７〜２０μｍ、Ｄ９０／Ｄ５０を１．２〜４．０に厳密に制御することにより、焼結体の粒子径を１０μｍ以下にすることができ、比抵抗を維持したまま熱伝導率を大幅に低減し、優れた熱電特性を得ることができる。
Claims (8)
- 累積重量比５０％における粒子径（Ｄ５０）が０．５〜１０μｍ、且つ累積重量比９０％における粒子径（Ｄ９０）が０．７〜２０μｍ、粒子径比Ｄ９０／Ｄ５０が１．２〜４．０である原料粉末又はその成形体を焼成することを特徴とする熱電素子の製造方法。
- 前記原料粉末が、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことを特徴とする請求項１記載の熱電素子の製造方法。
- 前記原料粉末が、Ｂｉ２Ｔｅ３、Ｓｂ２Ｔｅ３、Ｂｉ２Ｓｅ３の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１又は２記載の熱電素子の製造方法。
- 前記原料粉末が、ハロゲン元素を０．０１〜０．５重量％の割合で含むことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれかに記載の熱電素子の製造方法。
- 前記原料粉末を、窒化ケイ素製ボールを用いて粉砕及び／又は混合することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれかに記載の熱電素子の製造方法。
- 前記原料粉末を、パルス通電焼結法、ホットプレス法、ガス圧焼結法、熱間等方加圧焼結法のうち少なくとも１種を用いて焼成することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれかに熱電材料の製造方法。
- ｎ型又はｐ型の熱電素子であって、該熱電素子中の結晶粒子のうち、平均長軸径が１０μｍ以下の結晶粒子が９０％以上含まれ、且つ性能指数が３．０×１０−３／Ｋ以上であることを特徴とする熱電素子。
- Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｓｅのうち少なくとも２種を含むことを特徴とする請求項７記載の熱電素子。
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