JP3572274B2 - 排ガス前処理装置及び方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば排ガス中の有害成分等を連続して分析する際の排ガス前処理装置及び方法並びに排ガス測定システムに関する。
【０００２】
【背景技術】
近年、例えば都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガス中のダイオキシン類を時間遅れなくリアルタイムで直接分析することが要望されており、この分析結果を基にして炉内の燃焼を制御し、効率的な燃焼制御を図ることが提案されている。
【０００３】
従来、排ガス等の測定を行う場合には、多くの場合、ダストフリーである除塵装置（例えばバグフィルタ等）の後段側において、測定を行うのが主流であった。
【０００４】
しかしながら、炉内制御を考慮し、排ガスの滞留時間が短く、極力燃焼場の状態を反映させて測定するには、炉出口における高温／高ダスト下にて測定を行う必要がある。
【０００５】
ここで、高温／高ダスト下にて測定を行う場合の一例を図１７に示す。
図１７に示すように、燃焼炉の煙道０１内にサンプル管０２を挿入し、該サンプル管０２を介して吸引して採取した排ガス０３中の除塵を行う濾紙製フィルタ０４を設け、必要に応じて設けられた冷却器０５にて排ガスを冷却した後に、各種測定（連続測定）又は吸収瓶等の測定手段０６にて測定をおこなっていた。
【０００６】
しかしながら、従来のサンプリングにおいては、以下のような問題がある。
【０００７】
1)排ガスを長い時間吸引すると、濾紙製フィルタ０４でダスト詰まりが起こるために、長時間に亙っての連続測定ができないという問題がある。
【０００８】
2)濾紙部で温度が低くなると、濾紙に水が凝縮し、濾過ができなくなるという問題がある。
【０００９】
3)低温となる濾紙部では、図１６に示すように、高分子量のダイオキシン類、揮発性化合物（ＶＯＣ）等が濾紙に捕獲された煤塵に吸着され、正確に測定できないという問題がある。
【００１０】
4)濾紙部で低温となると、ダイオキシン類等のような物質が捕獲された煤塵にて再合成され、ダイオキシン類を生成し、正確な分析の妨げとなっている。特に、ダイオキシン類の再合成温度とされている２００〜４５０℃（又は３００〜４００℃）でのサンプリングは問題である。
【００１１】
5)近年微量で高い毒性を有しているダイオキシンの高感度の分析法の開発がなされており、その一例としてレーザ分析法の適用が考えられ、近年超音速ジェット法と共鳴増感多光子イオン化法とを組み合わせることにより、ダイオキシン類の一種である塩素置換体のスペクトルを測定することが可能であるとの提案がなされている（C.Weickhardt,R.Zimmermann,U.Bosel,E.W.Schlag,Papid Commun,Mass Spectron,7,198(1993))が、微量分析の場合には、サンプリングされた状態で、しかも瞬時に測定手段に到達する必要があり、採取ロスの極めて少ない排ガスの前処理システムの提案が臨まれている。
【００１２】
本発明は、このような従来技術における問題点を解決し、正確且つ連続的に排ガスの採取ができる排ガス前処理装置及び方法並びに排ガス測定システムを提供することを課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための、第１の発明は、燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐食性のセラミックス管又はガラス管を用いて三重管とし、前記三重管の空気層部分に伝熱セメントを埋め込み、高温で排ガスを採取するサンプル管と、採取した前記排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、前記フィルタを圧縮気体及び洗浄液を併用して所定時間毎又は所定差圧毎に逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１４】
第２の発明は、第１の発明において、前記高温フィルタが、５００℃以上の高温で排ガスを除塵することを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１５】
第３の発明は、第１の発明において、前記高温フィルタが、セラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタのいずれかであることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１６】
第４の発明は、第１の発明において、前記逆洗装置による圧縮気体のパルス圧力が１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 であることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１７】
第５の発明は、第１の発明において、前記洗浄液が、洗浄水、スチーム、有機溶媒のいずれかであることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１８】
第６の発明は、第１の発明から第５のいずれかの排ガス前処理装置と、前記高温フィルタで濾過された排ガスを分析する測定手段とを具備し、前記高温フィルタと前記測定手段との間に冷却手段及び／又は除湿装置を介装し、前記冷却手段が、冷却水を通水する通水管と、内面に腐蝕処理を施されて前記通水管内に排ガスを通気する通気管とからなり、前記排ガスを急速冷却することにより、ダイオキシン類等の再合成温度領域での滞留時間を短くすることを特徴とする排ガス測定システムにある。
【００１９】
第７の発明は、第６の発明において、前記高温フィルタから前記測定手段に排ガスを供給する配管内を不活性ガスでパージ可能としたことを特徴とする排ガス測定システムにある。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２１】
本実施の形態にかかる排ガス前処理装置は、都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉等からの燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、高温で排ガスを採取するサンプル管と、該採取した排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなるものであり、長期間に亙ってガス計測を行なう場合に、ガスを直接吸引することによるダストのフィルタの目詰まりを効率的に除去するようにしている。
上記フィルタの逆洗操作としては、ダストの除去を効率的に行なう手段であれば特に限定されるものではないが、例えば圧縮空気による逆洗作用又は洗浄水による逆洗作用等が特に好適である。
【００２２】
［第１の実施の形態］
本発明の第１の実施形態について図１を用いて説明する。
図１は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、圧縮空気による逆洗作用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
図１では都市ゴミ等を焼却する焼却炉からの排ガスを連続して分析するようにしたものである。
【００２３】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段（図示せず）により高温を維持される高温フィルタ１５と、上記フィルタ１５に圧縮気体（例えば圧縮空気等）が排ガス供給方向と対向する方向から供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗浄する逆洗装置１６とを具備してなる排ガス前処理装置１７と、該前処理装置１７で処理された排ガスを分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
なお、図中、符号２２は計測ライン、２３は第１バルブ、２４は流量計、２５は第２バルブ、２６は吸引ポンプ、２７は第４バルブ、２８は電磁弁、２９は第５バルブ、３０は逆洗ライン、３１はエアータンク、３２は圧縮空気を各々図示する。
【００２４】
上記構成によれば、煙道１１内の排ガス１２は計測ライン２２に介装された吸引ポンプ２６により吸引され、高温フィルタ１５で排ガス中の煤塵を除去することで前処理を施し、その後、計測ライン２２から分枝された測定装置２１で例えばダイオキシン類濃度やその前駆体濃度等の測定を行うようにしている。
【００２５】
この際、排ガス１２を５００℃以上の高温状態で高温フィルタ１５を通過させているので、フィルタに捕獲された煤塵中の金属による触媒作用でダイオキシン類等の再合成が起こらず、正確且つ連続的なサンプリングが可能となる。
【００２６】
また、従来のように低温での捕集ではないため、濾紙に捕獲された煤塵層でのダイオキシン類の吸着は極めて少ないものとなり、正確且つ連続的なサンプリングが可能となる。
【００２７】
また、高温フィルタを通過する際のガス温度を５００℃以上の高温としているので、水の凝縮が生じない。
【００２８】
上記逆洗装置１６はフィルタ表面に堆積したダストを払い落とすものであり、圧縮空気等のパルス圧力で行うようにしている。
上記パルス圧力としては、特に限定されるものではないが、１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 とするのが好ましい。
これは、１ｋｇｆ／ｃｍ2 未満ではダストの払い落とし効果が少なく、一方１０ｋｇｆ／ｃｍ2 を超えると圧力が高くなり好ましくないからである。
【００２９】
逆洗の制御パラメータとしては、パルス時間、パルス間隔、パルス回数及び逆洗間隔等であり、種々の要素を必要に応じて考慮して行うようにすればよい。
【００３０】
逆洗のフローの一例を図２に示す。
図２に示すように、先ず排ガスを吸引し、一定時間がくると、第２バルブ２５を閉じると共に、第１バルブ２３も閉じる。次に、逆洗装置１６の電磁弁２８を一定時間開とし、圧縮空気３２を高温フィルタ１５へ送給する。この逆洗操作を繰返行い、その後、第１バルブ２３を開くと共に第２バルブ２５も開く。
この一連の操作は、例えば所定時間排ガスを吸引したら又は所定フィルタ差圧に達したら繰り返す。
【００３１】
上記高温フィルタ１５は、例えばセラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタ等の耐熱性の高いフィルタを用いればよい。
【００３２】
次に、上記サンプル管１４について図３乃至図１０を用いて説明する。
【００３３】
図３に示すように、石英サンプル管４１はその先端の採取口４２は排ガス１２の後流側にその開口を向けている。これは排ガス中のダストを必要以上に採取しないためである。
上記石英サンプル管４１はその外周をステンレス製の保護管４３で覆うと共に、該保護管４３の外周に例えば耐熱性のあるセラミックステープ等のシール材４４でサンプル座４５に固定するようにしている。なお、石英サンプル管４１と保護管４３との間にも例えば耐熱性のあるセラミックステープ等のシール材４４が設けられている。また、サンプル座４５のフランジ部と内部にフィルタ４６を配設したフィルタ容器本体４７のフランジ部とにおいて、両者が一体になるように接続されている。
【００３４】
サンプル管として石英サンプル管４１を用いるのは、耐熱性を図ると共に、排ガス中のダスト成分及び計測対象となるＤＸＮ等の付着が少なく、化学反応に対して不活性の為である。そして、上記石英サンプル管４１を保護管４３で覆うことにより、飛来物により石英サンプル管４１が割れたりしないように、長期間に亙って保護するようにしている。
【００３５】
図４に示すサンプル管は保護管４３のサンプル座４５側にフランジ部４３ａを設け、逆洗時に於いて保護管４３が煙道１１内に飛び出さないようにしている。
【００３６】
図５に示すサンプル管は耐熱性サンプル管４８としており、例えばステンレス製管、インコネル等やセラミックス製の管を適用することもできる。また、このサンプル管４８にはフランジ部４８ａを設けており、逆洗においても飛び出しを防止している。なお、耐熱性サンプル管４８は、場合によって内面にセラミックコーティング層やガラスコーティング層を設けることもある。
【００３７】
図６に示すサンプル管は、その周囲を覆う保護管４３をサンプル管４１の端部側も覆うようにしており、逆洗操作時の石英サンプル管４１の飛び出しを防ぐようにしている。これにより、より高温においても、長期間に亙ってサンプリングを可能としている。
【００３８】
図７に示すサンプル管は、石英サンプル管４１の周囲を覆う保護管を冷却ジャケット４９とし、内部に冷却水５０を通過させて、積極的に冷却するようにしている。この場合、冷却ジャケット４９内をさらに二重管として冷却水により効率的に冷却できるようにしている。これにより、より高温の排ガスを吸引した場合でも、高温フィルタで５００℃以上となるように調整することができる。
【００３９】
図９に示すサンプル管は、石英サンプル管４１のサンプル口４１ａを複数設けるようにしている。これにより煙道内の対象物質に濃度分布があったとしても、排ガスの流れに直交する方向に亙って均一にサンプリングすることができる。
【００４０】
図１０に示すサンプル管は、石英サンプル管４１の周囲に設けた保護管内に高圧ガスＧを供給して、サンプル口に付着したダストを吹き飛ばし、目詰まりをしないように防止している。この流体としては、高圧エア又は高圧ガス、スチーム等を例示することができ、最大１０ｋｇｆ−Ｇ／ｃｍ2 としている。
【００４１】
図１１に示すサンプル管は、石英サンプル管４１を複数（本実施の形態では３本）設けたものであり、これにより、定期的にサンプル管を交換することや突発的な閉塞があった場合にも迅速に対応することができる。
【００４２】
本発明の前処理装置は都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉からの排ガスの前処理に用いて好適である。
そして、この前処理装置を用いることで、高温フィルタで濾過された排ガスを分析し、その結果をフィードバック制御することにより、適正な燃焼制御を行うことができる。
【００４３】
上記排ガスを分析する測定手段としては、特に限定されるものではないが、例えば質量分析装置、ガスクロマトグラフィー、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）や真空紫外光／質量分析装置や吸光光度計等の光学検出器、レーザ測定装置等を例示することができる。
【００４４】
また、図１２に示すシステムにおいては、高温フィルタ１５と測定装置２１との間に冷却装置６１や除湿装置６２を介装すると共に、配管ラインを例えばヘリウムガス等の不活性ガス６３でパージするようにしている。
【００４５】
上記冷却装置６１は、図８で示した構成とすればよく、例えばステンレス製管を用いた場合には、内面を例えば反応に不活性なセラミックスやガラスをコーティング処理してコーティング層５１を形成し、排ガス１２中に含有する耐腐蝕処理を施すようにしてもよい。また、冷却水により排ガスが急冷されるので、露点以下となった場合に、酸として内面等に付着する場合においても内壁面の腐蝕を防止することができる。
【００４６】
さらに、ステンレス製管に内面処理を施す代わりに、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐蝕性のセラミックス管やガラス管を用いて三重管とし、さらに伝熱セメントを充填して三重管の空気層部分を埋め込み、熱伝導率を向上させるようにしてもよい。
【００４７】
なお、図１２に示すシステムにおいて冷却装置６１や除湿装置６２を介装しているが、測定装置２１が高温フィルタ１５と近接して設けられており、且つ配管のみで冷却効率がよい場合には、冷却装置６１や除湿装置６２を設ける必要はなく、必要に応じて適宜設けるようにすればよい。
【００４８】
また、例えば図１３に示すようなストーカ炉７０において、第一キャビティ（約９００〜１０００℃）７１、第二キャビティ（７００〜８００℃）７２及び第三キャビティ（６５０〜７００℃）７３の場合に、第二キャビティから第三キャビティ（７００〜８００℃）内で排ガスを採取することにより、より安定した排ガスの性状を分析することができる。
【００４９】
特に測定装置２１として、レーザ測定装置や真空紫外光／質量分析装置を用いることで瞬時にしかも連続してダイオキシン類濃度やその前駆体濃度を測定することができ、その測定結果を瞬時に、炉内燃焼制御に適用することができ、ＤＸＮ等を発生させない、効率的な運転が可能となる。
【００５０】
また、本実施の形態では高温フィルタ１５を一系列としたが、該高温フィルタ１５を二系列以上とし、交互に用いて連続運転を効率よく行うようにしてもよい。
【００５１】
次に、洗浄水を用いてフィルタの目詰まりを効率的に除去する実施の形態を以下に示す。
【００５２】
［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施形態について図１４を用いて説明する。
図１４は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、洗浄水を用いた逆洗作用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
なお、図１に示す第１の実施形態の部材と同一構成のものは同一符号を付してその説明は省略する。
【００５３】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１４に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段８１Ａ，８１Ｂにより高温に維持される高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂと、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに洗浄水８３が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタ８２Ａ，８２Ｂを交互に逆洗浄する逆洗装置８４とを具備してなる排ガス前処理装置と、該高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂでダストが除去された排ガス１２を分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
本実施の形態では、高温フィルタを２台設け、排ガス１２中の煤塵の捕集及び洗浄を交互に行うようにしている。
なお、図中、符号２２は計測ライン、２３は第１バルブ、２４は流量計、２５は第２バルブ、２６は吸引ポンプ、２７は第４バルブ、８５Ａ，８５Ｂは第６バルブ、８６Ａ，８６Ｂは第７バルブ、８７Ａ，８７Ｂは第８バルブ、８８Ａ，８８Ｂは第９バルブ、８９Ａ，８９Ｂは第１０バルブ、９０は洗浄水タンク、９１は圧送ポンプを各々図示する。
【００５４】
上記構成によれば、煙道１１内の排ガスは計測ライン２２に介装された吸引ポンプ２６により吸引され、高温フィルタ８１Ａ，８１Ｂのいずれかで排ガス１２中の煤塵を除去することで前処理を施し、その後、計測ライン２２から分枝された測定装置２１で例えばダイオキシン類濃度等の測定を行うようにしている。
【００５５】
上記逆洗装置８４は高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂのフィルタ表面に堆積したダストを洗浄水８３により洗浄するものであり、ポンプ９１の圧送による水圧で行うようにしている。
煤塵を除去した高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂを水洗再生することにより、フィルタの目詰まりの主要因であるナトリウム、カリウム塩等を除去することができ、フィルタの寿命が向上する。
【００５６】
また、フィルタが鉛直方向に立設している場合には、例えばフィルタ８２Ａを洗浄する場合には、第１バルブ８５Ａを閉じて洗浄水をフィルタ１２内に一時的又は所定時間溜めてから、洗浄排水９２を排出するようにしてもよい。
【００５７】
また、フィルタ差圧を監視して再生を行うことにより、装置内圧力の制御が可能となり、排ガスサンプリングにおけるガスリークの低減を図ることができる。
【００５８】
また、上記洗浄排水９２は炉内へ戻すようにして内部処理してもよく、又は別途排水処理を施すようにしてよい。
なお、排水処理する場合には、排水を吸着剤（活性炭、ゼオライト等）等で有害物質を除去して、炉内へ供給したり、水処理に供給するようにしてもよい。使用後の吸着剤は例えば炉内に投入し、ダイオキシン類やその他の吸着した有害物質を分解処理するようにすればよい。
また、吸着剤で処理した排水を再度洗浄水として再利用することもできる。
【００５９】
逆洗の制御パラメータとしては、洗浄時間、洗浄間隔、洗浄回数及び逆洗間隔等を適宜変更するものであり、種々の要素を必要に応じて考慮して行うようにすればよい。
【００６０】
また、フィルタの洗浄には、２流体ノズル等を用いてシャワー状に全体を均一に噴霧してフィルタ全体を均一に洗浄するようにしてもよい。
【００６１】
また、洗浄水の代わりに、スチーム洗浄としてもよい。また、洗浄水の他に、有機溶媒を用いた有機洗浄としてもよい。なお、この洗浄溶媒を加熱して洗浄することで洗浄効率を向上させるようにしてもよい。
上記有機溶媒としては、例えばヘキサン類、アセトン類、アルコール類等の各種溶媒を用いるようにしてもよい。
【００６２】
本実施の形態では２系統のフィルタを用いて、排ガスの煤塵の除去及び洗浄を交互に行うようにしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば２系統以上のフィルタを設置して順次、洗浄水を供給して洗浄再生するようにしてもよい。
【００６３】
［第３の実施の形態］
本発明の第３の実施形態について図１５を用いて説明する。
図１５は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、第１の実施の形態にかかる圧縮空気を用いた洗浄作用と、第２の実施の形態にかかる洗浄水を用いた逆洗作用との併用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
なお、図１及び図１４に示す実施の形態の部材と同一構成のものは同一符号を付してその説明は省略する。
【００６４】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１５に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段８１Ａ，８１Ｂにより高温に維持される高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂと、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに圧縮気体（例えば圧縮空気等）が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗浄する逆洗装置１６と、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに洗浄水８３が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを交互に逆洗浄する逆洗装置８４とを具備してなる排ガス前処理装置と、該高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂでダストが除去された排ガス１２を分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
本実施の形態ではフィルタを再生するために、圧縮空気が供給されることによるフィルタ表面に付着した固形分の逆洗による除去作用と、洗浄水が供給されることによる塩類等の溶解による作用とを併用することにより、空気洗浄では除去しきれないような塩類の洗浄水による溶解清浄作用の相乗効果が発揮される。
【００６５】
【実施例】
図１のシステム構成により、ダイオキシン類の分析を行った。
サンプル管は石英ガラスとし内径を２４ｍｍとし、長さを５００ｍｍとした。
高温フィルタとしては、１５０ｍｍ×５００ｍｍのハニカムフィルタ（濾過面積：３ｍ2 ）を用い、除塵条件は排ガス温度を５００℃、ガス量を５ｍ3 ／ｈ、濾過速度を０．０８m／min出口ダスト濃度を１０ｍｇ／Ｎｍ3 とした。
逆洗条件は、エアタンク容量が２６リットル、圧力が４ｋｇ／ｃｍ2 、流量がパルス時間が０．１秒、パルス圧力が４ｋｇ／ｍ2 、パルス回数が３回、逆洗回数が６時間毎とした。
計測ライン２２のガス量は５Ｎｍ3 ／ｈ、流速が１１ｍ／秒とした。
測定装置の入口温度は２００℃、装置入口までの配管長さは１０ｍ、ガス滞留時間は５秒、測定装置はレーザ計測装置を用いた。
本システムによる分析を１０日間連続で行った。
【００６６】
一方、比較例として、上記システムにおいて、ハニカムフィルタガス温度を３００℃として、同様のレーザ計測装置にて測定した。
なお、いずれの場合にもサンプル座におけるＤＸＮ濃度については、手分析による公定法にて行っており、１Ｎｍ3 のガス量を吸引し、ガス状及び濾紙煤塵中の全ＤＸＮ濃度である。
その結果を「表１」に示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】
上記「表１」の結果より、本発明によれば、ダイオキシン類の濃度は手分析による公定法の値と変わらず、連続して分析できていることが確認できるが、比較例の場合のように、高温フィルタ部温度が５００℃以下となると、約１．６倍ものダイオキシン類の増加がみられた。これは、フィルタ部における再合成のためと考えられる。
【００６９】
また、サンプル管として石英サンプル管の代わりに、耐熱ステンレス製のサンプル管を用いて測定したが、上述と同じ結果であった。
【００７０】
また、図１１に示すように冷却装置６１を設け、計測ライン２２中を通過するガスを急冷することにより、測定装置２１までの配管長さを１０ｍから２ｍへ短くすることができると共に、ガス滞留時間を５秒から４秒にすることができた。
この計測タイムラグの減少により、炉内燃焼制御の制御効率の向上を図ることができた。
【００７１】
また、サンプル座から測定装置までの滞留時間を更に短く（例えば３〜４秒）することで、より炉内の制御等を効率的行うことができる。
【００７２】
また、その他計測物質として、ＤＸＮの前駆体であるクロロベンゼンやクロロフェノールを分析した結果について下記「表２」に示す。
【表２】
【００７３】
上記「表２」に示すように、結果は良好であった。
よって、本システムを用いても、これらの物質もその分析結果について、手分析結果と同じ値を示し、連続的に正確に計測できることが判る。
なお、手分析は、ＤＸＮの場合と同様に、吸着剤に吸引し、ソックスレー抽出後、ＧＣ／ＭＳを用いて分析した。
また、ガスクロ法は、一旦ガスを濃縮し、加熱脱着後、ＧＣで準連続的に分析した。一回の分析に４０分程度要した。
【００７４】
【発明の効果】
第１の発明によれば、燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐食性のセラミックス管又はガラス管を用いて三重管とし、前記三重管の空気層部分に伝熱セメントを埋め込み、高温で排ガスを採取するサンプル管と、採取した前記排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、前記フィルタを圧縮気体及び洗浄液を併用して所定時間毎又は所定差圧毎に逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなるので、連続して排ガスをサンプリングすることができると共に、洗浄効率を向上させることできる。また、熱伝導率を向上させることができる。
【００７５】
第２の発明によれば、第１の発明において、前記高温フィルタが、５００℃以上の高温で排ガスを除塵するので、ダイオキシン類等の再合成がないサンプリングが可能となる。
【００７６】
第３の発明によれば、第１の発明において、前記高温フィルタが、セラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタのいずれかであるので、ダイオキシン類等の再合成がない良好なサンプリングが可能となる。
【００７７】
第４の発明によれば、第１の発明において、前記逆洗装置による圧縮気体のパルス圧力が１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 であるので、フィルタに付着したダスト成分を効率的に排除できる。
【００７８】
第５の発明によれば、第１の発明において、前記洗浄液が、洗浄水、スチーム、有機溶媒のいずれかであるので、フィルタに塩類等が付着した場合でも容易に除去することができる。
【００７９】
第６の発明によれば、第１から第５の発明のいずれかの排ガス前処理装置と、前記高温フィルタで濾過された排ガスを分析する測定手段とを具備し、前記高温フィルタと前記測定手段との間に冷却手段及び／又は除湿装置を介装し、前記冷却手段が、冷却水を通水する通水管と、内面に腐蝕処理を施されて前記通水管内に排ガスを通気する通気管とからなり、前記排ガスを急速冷却することにより、ダイオキシン類等の再合成温度領域での滞留時間を短くするので、煙道内の排ガスを瞬時にしかもロスがなく測定手段へ送ることができ、正確な分析に寄与することができる。また、排ガスの滞留時間を短くすることができ、リアルタイム分析を可能とする。さらに、ダイオキシン類の再合成を防止し、しかも配管内面の耐久性が向上するので、迅速且つ正確な計測を長期間に亙って行うことができる。
【００８０】
第７の発明によれば、第６の発明において、前記高温フィルタから前記測定手段に排ガスを供給する配管内を不活性ガスでパージ可能としたので、常に良好なサンプリング採取が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図２】本実施の形態にかかる逆洗制御のフロー図である。
【図３】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図４】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図５】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図６】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図７】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図８】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図９】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１０】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１１】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１２】本実施の形態にかかる他の排ガス測定システムの概略図である。
【図１３】ストーカ炉の概略図である。
【図１４】ダイオキシン類のガス状態と温度との関係ス図である。
【図１５】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図１６】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図１７】従来のサンプリングの概略図である。
【符号の説明】
１１ 煙道
１２ 排ガス
１３ サンプル座
１４ サンプル管
１５ 高温フィルタ
１６ 逆洗装置
２１ 測定装置
２２ 計測ライン
２３ 第１バルブ
２４ 流量計
２５ 第２バルブ
２６ 吸引ポンプ
２７ 第４バルブ
２８ 電磁弁
２９ 第５バルブ
３０ 逆洗ライン
３１ エアータンク
３２ 圧縮空気
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば排ガス中の有害成分等を連続して分析する際の排ガス前処理装置及び方法並びに排ガス測定システムに関する。
【０００２】
【背景技術】
近年、例えば都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガス中のダイオキシン類を時間遅れなくリアルタイムで直接分析することが要望されており、この分析結果を基にして炉内の燃焼を制御し、効率的な燃焼制御を図ることが提案されている。
【０００３】
従来、排ガス等の測定を行う場合には、多くの場合、ダストフリーである除塵装置（例えばバグフィルタ等）の後段側において、測定を行うのが主流であった。
【０００４】
しかしながら、炉内制御を考慮し、排ガスの滞留時間が短く、極力燃焼場の状態を反映させて測定するには、炉出口における高温／高ダスト下にて測定を行う必要がある。
【０００５】
ここで、高温／高ダスト下にて測定を行う場合の一例を図１７に示す。
図１７に示すように、燃焼炉の煙道０１内にサンプル管０２を挿入し、該サンプル管０２を介して吸引して採取した排ガス０３中の除塵を行う濾紙製フィルタ０４を設け、必要に応じて設けられた冷却器０５にて排ガスを冷却した後に、各種測定（連続測定）又は吸収瓶等の測定手段０６にて測定をおこなっていた。
【０００６】
しかしながら、従来のサンプリングにおいては、以下のような問題がある。
【０００７】
1)排ガスを長い時間吸引すると、濾紙製フィルタ０４でダスト詰まりが起こるために、長時間に亙っての連続測定ができないという問題がある。
【０００８】
2)濾紙部で温度が低くなると、濾紙に水が凝縮し、濾過ができなくなるという問題がある。
【０００９】
3)低温となる濾紙部では、図１６に示すように、高分子量のダイオキシン類、揮発性化合物（ＶＯＣ）等が濾紙に捕獲された煤塵に吸着され、正確に測定できないという問題がある。
【００１０】
4)濾紙部で低温となると、ダイオキシン類等のような物質が捕獲された煤塵にて再合成され、ダイオキシン類を生成し、正確な分析の妨げとなっている。特に、ダイオキシン類の再合成温度とされている２００〜４５０℃（又は３００〜４００℃）でのサンプリングは問題である。
【００１１】
5)近年微量で高い毒性を有しているダイオキシンの高感度の分析法の開発がなされており、その一例としてレーザ分析法の適用が考えられ、近年超音速ジェット法と共鳴増感多光子イオン化法とを組み合わせることにより、ダイオキシン類の一種である塩素置換体のスペクトルを測定することが可能であるとの提案がなされている（C.Weickhardt,R.Zimmermann,U.Bosel,E.W.Schlag,Papid Commun,Mass Spectron,7,198(1993))が、微量分析の場合には、サンプリングされた状態で、しかも瞬時に測定手段に到達する必要があり、採取ロスの極めて少ない排ガスの前処理システムの提案が臨まれている。
【００１２】
本発明は、このような従来技術における問題点を解決し、正確且つ連続的に排ガスの採取ができる排ガス前処理装置及び方法並びに排ガス測定システムを提供することを課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための、第１の発明は、燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐食性のセラミックス管又はガラス管を用いて三重管とし、前記三重管の空気層部分に伝熱セメントを埋め込み、高温で排ガスを採取するサンプル管と、採取した前記排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、前記フィルタを圧縮気体及び洗浄液を併用して所定時間毎又は所定差圧毎に逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１４】
第２の発明は、第１の発明において、前記高温フィルタが、５００℃以上の高温で排ガスを除塵することを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１５】
第３の発明は、第１の発明において、前記高温フィルタが、セラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタのいずれかであることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１６】
第４の発明は、第１の発明において、前記逆洗装置による圧縮気体のパルス圧力が１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 であることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１７】
第５の発明は、第１の発明において、前記洗浄液が、洗浄水、スチーム、有機溶媒のいずれかであることを特徴とする排ガス前処理装置にある。
【００１８】
第６の発明は、第１の発明から第５のいずれかの排ガス前処理装置と、前記高温フィルタで濾過された排ガスを分析する測定手段とを具備し、前記高温フィルタと前記測定手段との間に冷却手段及び／又は除湿装置を介装し、前記冷却手段が、冷却水を通水する通水管と、内面に腐蝕処理を施されて前記通水管内に排ガスを通気する通気管とからなり、前記排ガスを急速冷却することにより、ダイオキシン類等の再合成温度領域での滞留時間を短くすることを特徴とする排ガス測定システムにある。
【００１９】
第７の発明は、第６の発明において、前記高温フィルタから前記測定手段に排ガスを供給する配管内を不活性ガスでパージ可能としたことを特徴とする排ガス測定システムにある。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２１】
本実施の形態にかかる排ガス前処理装置は、都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉等からの燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、高温で排ガスを採取するサンプル管と、該採取した排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなるものであり、長期間に亙ってガス計測を行なう場合に、ガスを直接吸引することによるダストのフィルタの目詰まりを効率的に除去するようにしている。
上記フィルタの逆洗操作としては、ダストの除去を効率的に行なう手段であれば特に限定されるものではないが、例えば圧縮空気による逆洗作用又は洗浄水による逆洗作用等が特に好適である。
【００２２】
［第１の実施の形態］
本発明の第１の実施形態について図１を用いて説明する。
図１は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、圧縮空気による逆洗作用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
図１では都市ゴミ等を焼却する焼却炉からの排ガスを連続して分析するようにしたものである。
【００２３】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段（図示せず）により高温を維持される高温フィルタ１５と、上記フィルタ１５に圧縮気体（例えば圧縮空気等）が排ガス供給方向と対向する方向から供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗浄する逆洗装置１６とを具備してなる排ガス前処理装置１７と、該前処理装置１７で処理された排ガスを分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
なお、図中、符号２２は計測ライン、２３は第１バルブ、２４は流量計、２５は第２バルブ、２６は吸引ポンプ、２７は第４バルブ、２８は電磁弁、２９は第５バルブ、３０は逆洗ライン、３１はエアータンク、３２は圧縮空気を各々図示する。
【００２４】
上記構成によれば、煙道１１内の排ガス１２は計測ライン２２に介装された吸引ポンプ２６により吸引され、高温フィルタ１５で排ガス中の煤塵を除去することで前処理を施し、その後、計測ライン２２から分枝された測定装置２１で例えばダイオキシン類濃度やその前駆体濃度等の測定を行うようにしている。
【００２５】
この際、排ガス１２を５００℃以上の高温状態で高温フィルタ１５を通過させているので、フィルタに捕獲された煤塵中の金属による触媒作用でダイオキシン類等の再合成が起こらず、正確且つ連続的なサンプリングが可能となる。
【００２６】
また、従来のように低温での捕集ではないため、濾紙に捕獲された煤塵層でのダイオキシン類の吸着は極めて少ないものとなり、正確且つ連続的なサンプリングが可能となる。
【００２７】
また、高温フィルタを通過する際のガス温度を５００℃以上の高温としているので、水の凝縮が生じない。
【００２８】
上記逆洗装置１６はフィルタ表面に堆積したダストを払い落とすものであり、圧縮空気等のパルス圧力で行うようにしている。
上記パルス圧力としては、特に限定されるものではないが、１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 とするのが好ましい。
これは、１ｋｇｆ／ｃｍ2 未満ではダストの払い落とし効果が少なく、一方１０ｋｇｆ／ｃｍ2 を超えると圧力が高くなり好ましくないからである。
【００２９】
逆洗の制御パラメータとしては、パルス時間、パルス間隔、パルス回数及び逆洗間隔等であり、種々の要素を必要に応じて考慮して行うようにすればよい。
【００３０】
逆洗のフローの一例を図２に示す。
図２に示すように、先ず排ガスを吸引し、一定時間がくると、第２バルブ２５を閉じると共に、第１バルブ２３も閉じる。次に、逆洗装置１６の電磁弁２８を一定時間開とし、圧縮空気３２を高温フィルタ１５へ送給する。この逆洗操作を繰返行い、その後、第１バルブ２３を開くと共に第２バルブ２５も開く。
この一連の操作は、例えば所定時間排ガスを吸引したら又は所定フィルタ差圧に達したら繰り返す。
【００３１】
上記高温フィルタ１５は、例えばセラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタ等の耐熱性の高いフィルタを用いればよい。
【００３２】
次に、上記サンプル管１４について図３乃至図１０を用いて説明する。
【００３３】
図３に示すように、石英サンプル管４１はその先端の採取口４２は排ガス１２の後流側にその開口を向けている。これは排ガス中のダストを必要以上に採取しないためである。
上記石英サンプル管４１はその外周をステンレス製の保護管４３で覆うと共に、該保護管４３の外周に例えば耐熱性のあるセラミックステープ等のシール材４４でサンプル座４５に固定するようにしている。なお、石英サンプル管４１と保護管４３との間にも例えば耐熱性のあるセラミックステープ等のシール材４４が設けられている。また、サンプル座４５のフランジ部と内部にフィルタ４６を配設したフィルタ容器本体４７のフランジ部とにおいて、両者が一体になるように接続されている。
【００３４】
サンプル管として石英サンプル管４１を用いるのは、耐熱性を図ると共に、排ガス中のダスト成分及び計測対象となるＤＸＮ等の付着が少なく、化学反応に対して不活性の為である。そして、上記石英サンプル管４１を保護管４３で覆うことにより、飛来物により石英サンプル管４１が割れたりしないように、長期間に亙って保護するようにしている。
【００３５】
図４に示すサンプル管は保護管４３のサンプル座４５側にフランジ部４３ａを設け、逆洗時に於いて保護管４３が煙道１１内に飛び出さないようにしている。
【００３６】
図５に示すサンプル管は耐熱性サンプル管４８としており、例えばステンレス製管、インコネル等やセラミックス製の管を適用することもできる。また、このサンプル管４８にはフランジ部４８ａを設けており、逆洗においても飛び出しを防止している。なお、耐熱性サンプル管４８は、場合によって内面にセラミックコーティング層やガラスコーティング層を設けることもある。
【００３７】
図６に示すサンプル管は、その周囲を覆う保護管４３をサンプル管４１の端部側も覆うようにしており、逆洗操作時の石英サンプル管４１の飛び出しを防ぐようにしている。これにより、より高温においても、長期間に亙ってサンプリングを可能としている。
【００３８】
図７に示すサンプル管は、石英サンプル管４１の周囲を覆う保護管を冷却ジャケット４９とし、内部に冷却水５０を通過させて、積極的に冷却するようにしている。この場合、冷却ジャケット４９内をさらに二重管として冷却水により効率的に冷却できるようにしている。これにより、より高温の排ガスを吸引した場合でも、高温フィルタで５００℃以上となるように調整することができる。
【００３９】
図９に示すサンプル管は、石英サンプル管４１のサンプル口４１ａを複数設けるようにしている。これにより煙道内の対象物質に濃度分布があったとしても、排ガスの流れに直交する方向に亙って均一にサンプリングすることができる。
【００４０】
図１０に示すサンプル管は、石英サンプル管４１の周囲に設けた保護管内に高圧ガスＧを供給して、サンプル口に付着したダストを吹き飛ばし、目詰まりをしないように防止している。この流体としては、高圧エア又は高圧ガス、スチーム等を例示することができ、最大１０ｋｇｆ−Ｇ／ｃｍ2 としている。
【００４１】
図１１に示すサンプル管は、石英サンプル管４１を複数（本実施の形態では３本）設けたものであり、これにより、定期的にサンプル管を交換することや突発的な閉塞があった場合にも迅速に対応することができる。
【００４２】
本発明の前処理装置は都市ゴミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉からの排ガスの前処理に用いて好適である。
そして、この前処理装置を用いることで、高温フィルタで濾過された排ガスを分析し、その結果をフィードバック制御することにより、適正な燃焼制御を行うことができる。
【００４３】
上記排ガスを分析する測定手段としては、特に限定されるものではないが、例えば質量分析装置、ガスクロマトグラフィー、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）や真空紫外光／質量分析装置や吸光光度計等の光学検出器、レーザ測定装置等を例示することができる。
【００４４】
また、図１２に示すシステムにおいては、高温フィルタ１５と測定装置２１との間に冷却装置６１や除湿装置６２を介装すると共に、配管ラインを例えばヘリウムガス等の不活性ガス６３でパージするようにしている。
【００４５】
上記冷却装置６１は、図８で示した構成とすればよく、例えばステンレス製管を用いた場合には、内面を例えば反応に不活性なセラミックスやガラスをコーティング処理してコーティング層５１を形成し、排ガス１２中に含有する耐腐蝕処理を施すようにしてもよい。また、冷却水により排ガスが急冷されるので、露点以下となった場合に、酸として内面等に付着する場合においても内壁面の腐蝕を防止することができる。
【００４６】
さらに、ステンレス製管に内面処理を施す代わりに、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐蝕性のセラミックス管やガラス管を用いて三重管とし、さらに伝熱セメントを充填して三重管の空気層部分を埋め込み、熱伝導率を向上させるようにしてもよい。
【００４７】
なお、図１２に示すシステムにおいて冷却装置６１や除湿装置６２を介装しているが、測定装置２１が高温フィルタ１５と近接して設けられており、且つ配管のみで冷却効率がよい場合には、冷却装置６１や除湿装置６２を設ける必要はなく、必要に応じて適宜設けるようにすればよい。
【００４８】
また、例えば図１３に示すようなストーカ炉７０において、第一キャビティ（約９００〜１０００℃）７１、第二キャビティ（７００〜８００℃）７２及び第三キャビティ（６５０〜７００℃）７３の場合に、第二キャビティから第三キャビティ（７００〜８００℃）内で排ガスを採取することにより、より安定した排ガスの性状を分析することができる。
【００４９】
特に測定装置２１として、レーザ測定装置や真空紫外光／質量分析装置を用いることで瞬時にしかも連続してダイオキシン類濃度やその前駆体濃度を測定することができ、その測定結果を瞬時に、炉内燃焼制御に適用することができ、ＤＸＮ等を発生させない、効率的な運転が可能となる。
【００５０】
また、本実施の形態では高温フィルタ１５を一系列としたが、該高温フィルタ１５を二系列以上とし、交互に用いて連続運転を効率よく行うようにしてもよい。
【００５１】
次に、洗浄水を用いてフィルタの目詰まりを効率的に除去する実施の形態を以下に示す。
【００５２】
［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施形態について図１４を用いて説明する。
図１４は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、洗浄水を用いた逆洗作用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
なお、図１に示す第１の実施形態の部材と同一構成のものは同一符号を付してその説明は省略する。
【００５３】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１４に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段８１Ａ，８１Ｂにより高温に維持される高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂと、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに洗浄水８３が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタ８２Ａ，８２Ｂを交互に逆洗浄する逆洗装置８４とを具備してなる排ガス前処理装置と、該高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂでダストが除去された排ガス１２を分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
本実施の形態では、高温フィルタを２台設け、排ガス１２中の煤塵の捕集及び洗浄を交互に行うようにしている。
なお、図中、符号２２は計測ライン、２３は第１バルブ、２４は流量計、２５は第２バルブ、２６は吸引ポンプ、２７は第４バルブ、８５Ａ，８５Ｂは第６バルブ、８６Ａ，８６Ｂは第７バルブ、８７Ａ，８７Ｂは第８バルブ、８８Ａ，８８Ｂは第９バルブ、８９Ａ，８９Ｂは第１０バルブ、９０は洗浄水タンク、９１は圧送ポンプを各々図示する。
【００５４】
上記構成によれば、煙道１１内の排ガスは計測ライン２２に介装された吸引ポンプ２６により吸引され、高温フィルタ８１Ａ，８１Ｂのいずれかで排ガス１２中の煤塵を除去することで前処理を施し、その後、計測ライン２２から分枝された測定装置２１で例えばダイオキシン類濃度等の測定を行うようにしている。
【００５５】
上記逆洗装置８４は高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂのフィルタ表面に堆積したダストを洗浄水８３により洗浄するものであり、ポンプ９１の圧送による水圧で行うようにしている。
煤塵を除去した高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂを水洗再生することにより、フィルタの目詰まりの主要因であるナトリウム、カリウム塩等を除去することができ、フィルタの寿命が向上する。
【００５６】
また、フィルタが鉛直方向に立設している場合には、例えばフィルタ８２Ａを洗浄する場合には、第１バルブ８５Ａを閉じて洗浄水をフィルタ１２内に一時的又は所定時間溜めてから、洗浄排水９２を排出するようにしてもよい。
【００５７】
また、フィルタ差圧を監視して再生を行うことにより、装置内圧力の制御が可能となり、排ガスサンプリングにおけるガスリークの低減を図ることができる。
【００５８】
また、上記洗浄排水９２は炉内へ戻すようにして内部処理してもよく、又は別途排水処理を施すようにしてよい。
なお、排水処理する場合には、排水を吸着剤（活性炭、ゼオライト等）等で有害物質を除去して、炉内へ供給したり、水処理に供給するようにしてもよい。使用後の吸着剤は例えば炉内に投入し、ダイオキシン類やその他の吸着した有害物質を分解処理するようにすればよい。
また、吸着剤で処理した排水を再度洗浄水として再利用することもできる。
【００５９】
逆洗の制御パラメータとしては、洗浄時間、洗浄間隔、洗浄回数及び逆洗間隔等を適宜変更するものであり、種々の要素を必要に応じて考慮して行うようにすればよい。
【００６０】
また、フィルタの洗浄には、２流体ノズル等を用いてシャワー状に全体を均一に噴霧してフィルタ全体を均一に洗浄するようにしてもよい。
【００６１】
また、洗浄水の代わりに、スチーム洗浄としてもよい。また、洗浄水の他に、有機溶媒を用いた有機洗浄としてもよい。なお、この洗浄溶媒を加熱して洗浄することで洗浄効率を向上させるようにしてもよい。
上記有機溶媒としては、例えばヘキサン類、アセトン類、アルコール類等の各種溶媒を用いるようにしてもよい。
【００６２】
本実施の形態では２系統のフィルタを用いて、排ガスの煤塵の除去及び洗浄を交互に行うようにしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば２系統以上のフィルタを設置して順次、洗浄水を供給して洗浄再生するようにしてもよい。
【００６３】
［第３の実施の形態］
本発明の第３の実施形態について図１５を用いて説明する。
図１５は本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図であり、第１の実施の形態にかかる圧縮空気を用いた洗浄作用と、第２の実施の形態にかかる洗浄水を用いた逆洗作用との併用によりフィルタの目詰まりを除去するようにしている。
なお、図１及び図１４に示す実施の形態の部材と同一構成のものは同一符号を付してその説明は省略する。
【００６４】
本実施の形態にかかる排ガス測定システムは、図１５に示すように、煙道１１内の高温排ガス１２を採取するサンプル座１３に取り付けたサンプル管１４と、該採取した高温排ガス１２中の煤塵を除去するヒータ等の加熱手段８１Ａ，８１Ｂにより高温に維持される高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂと、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに圧縮気体（例えば圧縮空気等）が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを逆洗浄する逆洗装置１６と、上記フィルタ８２Ａ，８２Ｂに洗浄水８３が供給され、所定時間毎又は所定差圧毎にフィルタを交互に逆洗浄する逆洗装置８４とを具備してなる排ガス前処理装置と、該高温フィルタ８２Ａ，８２Ｂでダストが除去された排ガス１２を分析する測定装置２１とを具備してなるものである。
本実施の形態ではフィルタを再生するために、圧縮空気が供給されることによるフィルタ表面に付着した固形分の逆洗による除去作用と、洗浄水が供給されることによる塩類等の溶解による作用とを併用することにより、空気洗浄では除去しきれないような塩類の洗浄水による溶解清浄作用の相乗効果が発揮される。
【００６５】
【実施例】
図１のシステム構成により、ダイオキシン類の分析を行った。
サンプル管は石英ガラスとし内径を２４ｍｍとし、長さを５００ｍｍとした。
高温フィルタとしては、１５０ｍｍ×５００ｍｍのハニカムフィルタ（濾過面積：３ｍ2 ）を用い、除塵条件は排ガス温度を５００℃、ガス量を５ｍ3 ／ｈ、濾過速度を０．０８m／min出口ダスト濃度を１０ｍｇ／Ｎｍ3 とした。
逆洗条件は、エアタンク容量が２６リットル、圧力が４ｋｇ／ｃｍ2 、流量がパルス時間が０．１秒、パルス圧力が４ｋｇ／ｍ2 、パルス回数が３回、逆洗回数が６時間毎とした。
計測ライン２２のガス量は５Ｎｍ3 ／ｈ、流速が１１ｍ／秒とした。
測定装置の入口温度は２００℃、装置入口までの配管長さは１０ｍ、ガス滞留時間は５秒、測定装置はレーザ計測装置を用いた。
本システムによる分析を１０日間連続で行った。
【００６６】
一方、比較例として、上記システムにおいて、ハニカムフィルタガス温度を３００℃として、同様のレーザ計測装置にて測定した。
なお、いずれの場合にもサンプル座におけるＤＸＮ濃度については、手分析による公定法にて行っており、１Ｎｍ3 のガス量を吸引し、ガス状及び濾紙煤塵中の全ＤＸＮ濃度である。
その結果を「表１」に示す。
【００６７】
【表１】
上記「表１」の結果より、本発明によれば、ダイオキシン類の濃度は手分析による公定法の値と変わらず、連続して分析できていることが確認できるが、比較例の場合のように、高温フィルタ部温度が５００℃以下となると、約１．６倍ものダイオキシン類の増加がみられた。これは、フィルタ部における再合成のためと考えられる。
【００６９】
また、サンプル管として石英サンプル管の代わりに、耐熱ステンレス製のサンプル管を用いて測定したが、上述と同じ結果であった。
【００７０】
また、図１１に示すように冷却装置６１を設け、計測ライン２２中を通過するガスを急冷することにより、測定装置２１までの配管長さを１０ｍから２ｍへ短くすることができると共に、ガス滞留時間を５秒から４秒にすることができた。
この計測タイムラグの減少により、炉内燃焼制御の制御効率の向上を図ることができた。
【００７１】
また、サンプル座から測定装置までの滞留時間を更に短く（例えば３〜４秒）することで、より炉内の制御等を効率的行うことができる。
【００７２】
また、その他計測物質として、ＤＸＮの前駆体であるクロロベンゼンやクロロフェノールを分析した結果について下記「表２」に示す。
【表２】
上記「表２」に示すように、結果は良好であった。
よって、本システムを用いても、これらの物質もその分析結果について、手分析結果と同じ値を示し、連続的に正確に計測できることが判る。
なお、手分析は、ＤＸＮの場合と同様に、吸着剤に吸引し、ソックスレー抽出後、ＧＣ／ＭＳを用いて分析した。
また、ガスクロ法は、一旦ガスを濃縮し、加熱脱着後、ＧＣで準連続的に分析した。一回の分析に４０分程度要した。
【００７４】
【発明の効果】
第１の発明によれば、燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐食性のセラミックス管又はガラス管を用いて三重管とし、前記三重管の空気層部分に伝熱セメントを埋め込み、高温で排ガスを採取するサンプル管と、採取した前記排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、前記フィルタを圧縮気体及び洗浄液を併用して所定時間毎又は所定差圧毎に逆洗操作により洗浄する逆洗装置とを具備してなるので、連続して排ガスをサンプリングすることができると共に、洗浄効率を向上させることできる。また、熱伝導率を向上させることができる。
【００７５】
第２の発明によれば、第１の発明において、前記高温フィルタが、５００℃以上の高温で排ガスを除塵するので、ダイオキシン類等の再合成がないサンプリングが可能となる。
【００７６】
第３の発明によれば、第１の発明において、前記高温フィルタが、セラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタのいずれかであるので、ダイオキシン類等の再合成がない良好なサンプリングが可能となる。
【００７７】
第４の発明によれば、第１の発明において、前記逆洗装置による圧縮気体のパルス圧力が１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 であるので、フィルタに付着したダスト成分を効率的に排除できる。
【００７８】
第５の発明によれば、第１の発明において、前記洗浄液が、洗浄水、スチーム、有機溶媒のいずれかであるので、フィルタに塩類等が付着した場合でも容易に除去することができる。
【００７９】
第６の発明によれば、第１から第５の発明のいずれかの排ガス前処理装置と、前記高温フィルタで濾過された排ガスを分析する測定手段とを具備し、前記高温フィルタと前記測定手段との間に冷却手段及び／又は除湿装置を介装し、前記冷却手段が、冷却水を通水する通水管と、内面に腐蝕処理を施されて前記通水管内に排ガスを通気する通気管とからなり、前記排ガスを急速冷却することにより、ダイオキシン類等の再合成温度領域での滞留時間を短くするので、煙道内の排ガスを瞬時にしかもロスがなく測定手段へ送ることができ、正確な分析に寄与することができる。また、排ガスの滞留時間を短くすることができ、リアルタイム分析を可能とする。さらに、ダイオキシン類の再合成を防止し、しかも配管内面の耐久性が向上するので、迅速且つ正確な計測を長期間に亙って行うことができる。
【００８０】
第７の発明によれば、第６の発明において、前記高温フィルタから前記測定手段に排ガスを供給する配管内を不活性ガスでパージ可能としたので、常に良好なサンプリング採取が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図２】本実施の形態にかかる逆洗制御のフロー図である。
【図３】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図４】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図５】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図６】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図７】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図８】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図９】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１０】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１１】本実施の形態にかかるサンプル管の概略図である。
【図１２】本実施の形態にかかる他の排ガス測定システムの概略図である。
【図１３】ストーカ炉の概略図である。
【図１４】ダイオキシン類のガス状態と温度との関係ス図である。
【図１５】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図１６】本実施の形態にかかる排ガス測定システムの概略図である。
【図１７】従来のサンプリングの概略図である。
【符号の説明】
１１ 煙道
１２ 排ガス
１３ サンプル座
１４ サンプル管
１５ 高温フィルタ
１６ 逆洗装置
２１ 測定装置
２２ 計測ライン
２３ 第１バルブ
２４ 流量計
２５ 第２バルブ
２６ 吸引ポンプ
２７ 第４バルブ
２８ 電磁弁
２９ 第５バルブ
３０ 逆洗ライン
３１ エアータンク
３２ 圧縮空気
Claims (7)
- 燃焼排ガス等の測定を行うに際して排ガスをサンプリングする排ガス前処理装置であって、
ステンレス製の二重冷却管の内側に耐腐食性のセラミックス管又はガラス管を用いて三重管とし、前記三重管の空気層部分に伝熱セメントを埋め込み、高温で排ガスを採取するサンプル管と、
採取した前記排ガス中の煤塵を除去する高温フィルタと、
前記フィルタを圧縮気体及び洗浄液を併用して所定時間毎又は所定差圧毎に逆洗操作により洗浄する逆洗装置と
を具備してなることを特徴とする排ガス前処理装置。 - 請求項１において、
前記高温フィルタが、５００℃以上の高温で排ガスを除塵する
ことを特徴とする排ガス前処理装置。 - 請求項１において、
前記高温フィルタが、セラミックフィルタ、粒子充填フィルタ（ＧＢＦ）、金属フィルタ、繊維フィルタのいずれかである
ことを特徴とする排ガス前処理装置。 - 請求項１において、
前記逆洗装置による圧縮気体のパルス圧力が１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ2 である
ことを特徴とする排ガス前処理装置。 - 請求項１において、
前記洗浄液が、洗浄水、スチーム、有機溶媒のいずれかである
ことを特徴とする排ガス前処理装置。 - 請求項１から請求項５のいずれかの排ガス前処理装置と、
前記高温フィルタで濾過された排ガスを分析する測定手段とを具備し、
前記高温フィルタと前記測定手段との間に冷却手段及び／又は除湿装置を介装し、
前記冷却手段が、冷却水を通水する通水管と、内面に腐蝕処理を施されて前記通水管内に排ガスを通気する通気管とからなり、
前記排ガスを急速冷却することにより、ダイオキシン類等の再合成温度領域での滞留時間を短くする
ことを特徴とする排ガス測定システム。 - 請求項６において、
前記高温フィルタから前記測定手段に排ガスを供給する配管内を不活性ガスでパージ可能とした
ことを特徴とする排ガス測定システム。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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|---|---|---|---|---|
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| JP4993490B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2012-08-08 | パンパシフィック・カッパー株式会社 | 分析用試料の自動微粉砕装置 |
| GB0816310D0 (en) * | 2008-09-05 | 2008-10-15 | Mtt Technologies Ltd | Filter assembly |
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| CN207694811U (zh) * | 2017-07-28 | 2018-08-07 | 巴斯夫欧洲公司 | 城市污染环境模拟装置 |
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| KR102198919B1 (ko) * | 2018-11-14 | 2021-01-05 | 숭실대학교산학협력단 | 가스 측정 장치 및 그의 세척 방법 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102941003A (zh) * | 2012-11-20 | 2013-02-27 | 意昂神州（北京）科技有限公司 | 一种用于检测电厂排放烟气的设备和方法 |
| CN102941003B (zh) * | 2012-11-20 | 2016-01-20 | 意昂神州（北京）科技有限公司 | 一种用于检测电厂排放烟气的设备和方法 |
| WO2019098470A1 (ko) * | 2017-11-17 | 2019-05-23 | 한국전력공사 | 분진 측정장치 |
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