JP3565177B2 - 真空搬送装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造装置に用いられる真空搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の真空搬送装置は、真空搬送室と、この真空搬送室内に設けられたロボットアームとを備える。上記ロボットアームは、上記真空搬送室の略中央に位置する第１回転軸に取り付けられた第１アームと、この第１アームの先端の第２回転軸に取り付けられた第２アームと、この第２アームの先端の第３回転軸に取り付けられた第３アームとを有する。上記第３アームの先端に、この真空搬送装置で搬送されるウェハを把持するハンド部が設けられている。上記第１乃至第３回転軸は金属からなり、モータに直接、あるいは、ベルトを介して接続されて、上記第１乃至第３アームを回転駆動するようになっている。ウェハを大気圧の外部との間で出し入れする真空予備室と、上記真空搬送室と、ウェハに分子拡散などの処理を施す真空処理室とを順に、略一直線に接続して、半導体製造装置を構成している。
【０００３】
上記真空搬送装置のロボットアームは、上記第１乃至第３アームを伸張して、上記真空予備室内に載置されたウェハを上記ハンド部で把持し、その後、上記第１乃至第３アームを収縮して上記ウェハを真空搬送室内に移送する。この真空搬送室内で、上記第１乃至第３アームが収縮した状態で、上記第１アームは上記第１回転軸回りに一方から他方へ１８０°回転する。その後、上記収縮した第１乃至第３アームが伸張して、上記ウェハを真空処理室内に載置する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の真空搬送装置は、金属からなる可動部分である回転軸は、金属汚染やパーティクルなどのコンタミ源であり、そのような回転軸が第１から第３までの３個あるので、コンタミが生じ易いという問題がある。
【０００５】
また、上記真空搬送装置は、ウェハの搬送時におけるロボットアームの第１アームの回転角度が１８０°であるので、上記真空処理室内にウェハを載置するときに上記第３回転軸が真空処理室内に入らないように真空搬送装置を構成すると、上記ウェハおよびロボットアームの動作範囲が大きくなって、真空搬送室が大型になるという問題がある。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、コンタミが生じ難くてウェハの不良が生じ難く、また、真空搬送室が小型にできる真空搬送装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明の真空搬送装置は、真空処理室にゲートバルブを介して連なる真空搬送室と、
上記真空搬送室内に設けた第１回転軸に取り付けられた回転可能な第１アームと、この第１アームの先端に第２回転軸を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部を有する回転可能な第２アームとを含むロボットアームとを備え、
上記第２回転軸が、上記ゲートバルブと上記真空搬送室の内部のみに位置するよう構成されていることを特徴としている。
【０００８】
請求項１の真空搬送装置によれば、コンタミ源となる回転軸の個数が、第１および第２回転軸との２個であるので、従来の３個の回転軸を有する真空搬送装置よりもコンタミが生じ難い。また、上記第２回転軸が上記ゲートバルブと真空搬送室の内部のみに位置するよう構成されているので、コンタミ源となる上記第２回転軸は上記真空処理室内に入らないから、この真空処理室におけるコンタミによるウェハの処理不良が防止される。
【０００９】
請求項２の発明の真空搬送装置は、真空処理室および真空準備室にゲートバルブを介して略一直線上に配置された真空搬送室と、
上記真空搬送室内に設けた第１回転軸に取り付けられた回転可能な第１アームと、この第１アームの先端に第２回転軸を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部を有する回転可能な第２アームとを含むロボットアームとを備え、
上記第２回転軸が、上記ゲートバルブと上記真空搬送室の内部のみに位置するよう構成され、
上記第１アームの回転角度が、上記真空処理室にハンド部を位置させる場合と、上記真 空準備室にハンド部を位置させる場合との間で１８０°未満になるように制御して、上記第２回転軸が上記ゲートバルブと上記真空搬送室の内部のみに位置するように制御する制御装置を備えることを特徴としている。
【００１０】
請求項２の真空搬送装置によれば、上記制御装置は、上記ロボットアームが、上記第１アームの回転角度が１８０°未満になるようにして上記ゲートバルブおよび真空搬送室の内部のみに位置するように制御するから、コンタミ源である第２回転軸が上記真空処理室に入ることが防止されて、コンタミによるウェハの処理不良が回避される。また、上記第１アームの回転角度が１８０°未満になるので、ウェハの搬送方向において、第１アームの動作範囲が小さくなり、ロボットアームおよびウェハの動作範囲が小さくなって、真空搬送室のウェハの搬送方向の寸法を小さくできる。
【００１１】
請求項３の発明の真空搬送装置は、請求項１または２に記載の真空搬送装置において、
上記制御装置は、上記ロボットアームが、
上記第１アームと第２アームとを互いに逆向きに回転駆動して上記ウェハを直線方向に搬送する直線搬送区間と、
上記第１アームを静止させて第２アームのみを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第１曲線搬送区間と、
上記第２アームを第１アームに対して相対的に静止させて第１アームを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第２曲線搬送区間とを有して上記ウェハを搬送するように、上記第１アームと第２アームを制御することを特徴としている。
【００１２】
請求項３の真空搬送装置によれば、上記ロボットアームが、上記第１直線搬送区間と第１曲線搬送区間と第２曲線搬送区間とを有してウェハを搬送するように、上記制御装置によって上記第１および第２アームが制御されるので、これによって、上記第１アームの回転角度が確実に１８０°未満になり、かつ、上記第２回転軸が上記ゲートバルブと真空搬送室の内部のみに位置するようになる。その結果、上記真空搬送室が効果的に小型にでき、かつ、コンタミによるウェハの処理不良が効果的に防止できる。
【００１３】
請求項４の発明の真空搬送装置は、請求項１乃至３のいずれか１つに記載の真空搬送装置において、
上記第１回転軸が、上記真空搬送室の中心からオフセットしていることを特徴としている。
【００１４】
請求項４の真空搬送装置によれば、上記第１回転軸が真空搬送室の中心からオフセットしているので、上記第１回転軸と、この第１回転軸のオフセット方向と反対側に位置する真空搬送室の壁の内面との間の距離が、上記第１回転軸と第１回転軸のオフセット方向側の真空搬送室の壁の内面との間の距離よりも大きくなる。したがって、上記第１回転軸と上記オフセット方向と反対側の真空搬送室の壁の内面との間に、ウェハや第１アームや第２アームを通過させることによって、真空搬送室を大型にすることなくウェハを搬送できる。
【００１５】
請求項５の発明の真空搬送装置は、請求項１乃至４のいずれか１つに記載の真空搬送装置において、
上記ウェハの中心回りの姿勢を変更するアライナを備えたことを特徴としている。
【００１６】
請求項５の真空搬送装置によれば、上記アライナによってウェハの中心周りの姿勢が変更されるので、上記ウェハが所定の位置に搬送された際に、所定の姿勢になるようにできる。これによって、従来のアームを３つ有する３リンク型のロボットアームと同様に、ウェハを真空処理室などに搬送した際に、ウェハが所望の姿勢になるようにできる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００１８】
図１は、本発明による真空搬送装置を示す平面図である。この真空搬送装置１は、真空搬送室２と、この真空搬送室２に設けられたロボットアーム３と、このロボットアーム３を制御する制御装置４とを備える。上記真空搬送室内のロボットアーム３の第１回転軸Ｓ１の図１において上側に、上記ロボットアーム２が搬送するウェハの中心回りの姿勢を変更するアライナ５が設けられている。
【００１９】
上記真空搬送室２は、大気圧の外部と真空の真空搬送室２との間で出し入れするウェハを経由させる真空予備室６と、上記ウェハに所定の薄膜を形成するＣＶＤ（気相成長）装置が設けられた真空処理室７とに接続している。上記真空予備室６と、真空搬送室２と、真空処理室７とは、この順に略一直線上に配置されている。上記真空予備室６と真空搬送室２との間には第１ゲートバルブＧ１が設けられており、上記真空搬送室２と真空処理室７との間には第２ゲートバルブＧ２が設けられている。
【００２０】
上記ロボットアーム３は、上記真空搬送室２に設けた第１回転軸Ｓ１に取り付けられた第１アームＡ１と、この第１アームＡ１の先端に第２回転軸Ｓ２を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部Ｈを有する第２アームＡ２とを含んでいる。上記第１回転軸Ｓ１は、上記真空搬送室２に、この真空搬送室２の図１における縦方向の辺の中心を通る中心線Ｃ１から下側に、所定距離ｄだけオフセットして取り付けられている。上記第１および第２回転軸Ｓ１，Ｓ２は、金属からなる。上記第１回転軸Ｓ１は、図示しないステッピングモータである第１モータで直接駆動されるようになっており、上記第２回転軸Ｓ２は、上記第１アームＡ１内部に設けられたベルトを介して、図示しない駆動用モータである第２モータで駆動されるようになっている。上記第１モータおよび第２モータは、上記制御装置４に電気的に接続している。上記ロボットアームは、上記第１回転軸Ｓ１に、この回転軸Ｓ１の回転角度を検出する図示しない第１角度センサを備え、上記第２回転軸Ｓ２に、この回転軸Ｓ２の回転角度を検出する図示しない第２角度センサを備える。上記第１角度センサと第２角度センサは、上記制御装置４に電気的に接続している。
【００２１】
上記制御装置４は、上記第１角度センサと第２角度センサから、第１回転軸Ｓ１および第２回転軸Ｓ２の回転角度を示す信号を受け取り、この信号に基いて、上記第１および第２モータを制御するようになっている。より詳しくは、上記制御装置４は、上記第１および第２角度センサからの信号に基いて、ハンド部Ｈが把持するウェハの中心の位置を算出する。この算出したウェハの中心位置を、予め定められた所定位置のデータと比較して、上記ウェハの中心位置が上記所定位置になるように、上記制御装置４が上記第１および第２モータに供給するパルスを制御する。これによって、上記第１および第２回転軸Ｓ１，Ｓ２が第１および第２モータによって各々駆動されて、第１および第２回転軸Ｓ１，Ｓ２の回転角度が所定の回転角度になる。そうすると、上記第１および第２アームＡ１、Ａ２の回転角度が所定の角度になって、上記第２アームＡ２の先端のハンド部Ｈが把持するウェハの中心位置が所定位置になる。
【００２２】
さらに、上記制御装置４は、上記ロボットアーム３が、直線搬送区間と、第１曲線搬送区間と、第２曲線搬送区間とを有してウェハを搬送するように、上記第１アームＡ１および第２アームＡ２を制御している。上記直線搬送区間は、ロボットアームの第１アームＡ１と第２アームＡ２とを、互いに逆向きに回転駆動して、ウェハを直線方向に搬送する区間である。上記第１曲線搬送区間は、上記ロボットアームの第１アームＡ１を静止させる一方、上記第２アームＡ２を回転駆動して、ウェハを曲線方向に搬送する区間である。上記第２曲線搬送区間は、上記ロボットアームの第２アームＡ２を第１アームＡ１に対して相対的に静止させ、上記第１アームＡ１を回転駆動して、ウェハを曲線方向に搬送する区間である。
【００２３】
上記構成の真空搬送装置１の動作を、ロボットアーム３が、真空処理室７でＣＶＤ処理された処理済のウェハを真空予備室６に向って搬送する様子を示した図２（ａ），（ｂ），（ｃ）を用いて説明する。
【００２４】
図２（ａ），（ｂ），（ｃ）は、ロボットアーム３によって搬送されるウェハの中心が通る軌跡１０を示した図であり、簡単のために、上記ロボットアームのハンド部Ｈが把持するウェハは図示していない。上記ウェハの中心の軌跡１０は、上記直線搬送区間に対応する２つの直線軌跡部分１１，１２と、上記第１曲線搬送区間に対応する２つの第１曲線軌跡部分１４，１５と、上記第２曲線搬送区間に対応する１つの第２曲線軌跡部分１７とからなる。
【００２５】
図２（ａ）は、真空処理装置７でＣＶＤ処理されたウェハをロボットアーム３のハンド部Ｈが把持する際の様子を示した図である。この場合のウェハの中心位置Ｐ１から、このウェハはロボットアーム３によって直線方向に搬送されて、ウェハ中心が直線軌跡部分１１を描いてウェハ中心位置Ｐ２に至る。図２（ｂ）は、上記ウェハの中心がＰ２に達した際のロボットアーム３の様子を示す図である。ウェハ中心がＰ２に位置すると、上記ロボットアーム３は、第１アームＡ１が停止する一方、第２アームＡ２のみを第２回転軸Ｓ２回りに回転駆動する。これによって、上記第２アームＡ２の先端のハンド部Ｈに把持されているウェハの中心が、第１曲線軌跡部分１４を描いて、ウェハ中心位置Ｐ３に至る。図２（ｃ）は、上記ウェハの中心がＰ３に達した際のロボットアーム３の様子を示す図である。このウェハ中心位置Ｐ３において、上記ロボットアーム３は、第１アームＡ１と第２アームＡ２とが略一直線上に重なり合う。ウェハ中心がＰ３に達すると、上記第２アームＡ２が第１アームＡ１に対して相対的に停止する一方、第１アーム１を第１回転軸Ｓ１回りに回転駆動する。これによって、上記第２アームＡ２のハンド部Ｈに把持されているウェハの中心が、第２曲線軌跡部分１７を描く。この第２曲線軌跡部分１７の略中央位置Ｐ４であって、上記第１アームＡ１と第２アームＡ２とが真空搬送室２の図２（ｃ）における横方向幅の中心線Ｃ２に略一致する位置で、上記第１アームＡ１の回転動作が一旦停止する。ここで、上記真空処理室７と真空搬送室２との間のゲートバルブＧ２が閉じる。さらに、上記ウェハが、このウェハ中心位置Ｐ４と略同一位置に設けられたアライナ５に載置される。このアライナ５によってウェハを中心回りに回動して、このウェハの中心回りの姿勢を、ウェハが真空予備室６に配置された際に所定の姿勢になる姿勢に変更する。上記アライナ５によるウェハの姿勢変更は、上記真空予備室６から真空処理室７へウェハを搬送するときにも行われる。その後、このウェハをロボットアーム３のハンド部Ｈが把持し、第２アームＡ２が第１アームＡ１に相対的に停止した状態で、上記第１アームＡ１が第１回転軸Ｓ１回りに回って、ウェハの中心が引き続き第２曲線軌跡部分１７を描く。そして、上記ウェハは、中心位置がＰ５に達し、第１アームＡ１の回転が停止する。ウェハの中心位置Ｐ５から中心位置Ｐ６までは、第１アームＡ１の回転が停止した状態で第２アームＡ２が第２回転軸Ｓ２回りに回転して、ウェハ中心の軌跡が第１曲線部分１５を描く。その後、ロボットアーム３はウェハを直線方向に搬送して、ウェハの中心位置が、上記Ｐ６から直線軌跡部分１２を描いてＰ７まで達する。ウェハの中心位置Ｐ７において、ハンド部Ｈがウェハを真空予備室に配置し、ロボットアーム３が真空予備室から退去する。その後、ゲートバルブＧ１を閉じて、略真空の真空予備室を大気圧に昇圧し、大気側に配置された移載装置によって真空予備室内のウェハを大気側に取り出す。
【００２６】
上記真空搬送装置１は、金属からなる可動部であってコンタミ源となる回転軸の個数が、第１回転軸Ｓ１と第２回転軸Ｓ２との２個であるので、従来の３個の回転軸を有する真空搬送装置よりも、金属汚染やパーティクルなどのコンタミが生じ難い。さらに、上記制御装置４は、ロボットアームのハンド部Ｈを真空予備室と真空処理室との間で動作させる際、上記第１アームＡ１の回転角度を１８０°未満にしている。これによって、図２（ａ）に示すように、ロボットアーム３が真空処理室７側に延び切った場合においても、第２回転軸Ｓ２はゲートバルブＧ２内部に留まって真空処理室７内には位置しない。すなわち、コンタミ源となる第２回転軸Ｓ２が真空処理室７内に位置しないので、この真空処理室７内の金属汚染やパーティクルなどのコンタミを効果的に防止して、ＣＶＤ処理の際のウェハの成膜不良を回避できる。
【００２７】
また、上記第１アームＡ１の回転角が１８０°未満にしているので、ロボットアーム３とこのロボットアーム３によって搬送されるウェハの動作範囲が小さくできる。したがって、真空搬送装置の真空搬送室２が小型にできる。
【００２８】
また、上記制御装置４は、上記ロボットアームの把持部Ｈが把持するウェハの中心が、２つの直線軌跡部分１１，１２と、２つの第１曲線軌跡部分１４，１５と、１つの第２曲線軌跡部分１７を描くようにロボットアーム３を制御するので、ロボットアームの第１アームＡ１の回転角度が効果的に１８０°未満にできる。したがって、ロボットアーム３およびウェハの動作範囲を効果的に小さくでき、また、ロボットアーム３の第２回転軸Ｓ２を、効果的にゲートバルブＧ１および真空搬送室２内部のみに位置するようにできる。したがって、真空搬送室２を効果的に小型にでき、また、真空処理室７のコンタミを効果的に防止できる。
【００２９】
また、上記ロボットアーム３は、真空搬送室２に、第１アームＡ１の第１回転軸Ｓ１を真空搬送室２の中央からオフセット量ｄだけオフセットして配置し、このオフセット側の反対側の真空搬送室２の壁の内面と、上記第１回転軸Ｓ１との間に、第１および第２アームＡ１，Ａ２を通過させている。これによって、動作範囲が比較的大きい第１および第２アームＡ１，Ａ２を、第１回転軸Ｓ１のオフセットの反対側で動作させることができるので、真空搬送室２を大型にすることなくウェハを搬送できる。
【００３０】
また、上記真空搬送装置１は、上記真空搬送室２にアライナ５を備え、ロボットアーム３で搬送するウェハをウェハ中心回りに所定の姿勢に変更できる。したがって、上記第１および第２アームＡ１，Ａ２を有する２リンクのロボットアーム３は、従来の３リンクのロボットアームと同様に、ウェハを真空予備室６および真空処理室７に搬送した際にウェハを所望の姿勢にできる。すなわち、本発明の真空搬送装置１は、従来の３リンクの真空搬送装置と同一の機能を有するにも拘らず、従来よりも簡易な構造で、しかも小型にできる。
【００３１】
さらに、上記真空搬送装置１は、ロボットアーム３が２リンクであり、厚みが従来の３リンクのロボットアームの厚みよりも小さいので、図３に示すように真空搬送室２内部の厚みＤが小さくできる。したがって、真空搬送室２の容積が小さくできる。上記真空搬送室２は、平面においても従来の真空搬送室よりも小型であるので、容積が効果的に小さくなる。これによって、上記真空搬送室２は、内部へのガスの供給や真空引きが容易かつ迅速に実行できる。すなわち、真空搬送室２は、真空と大気圧とを比較的容易に切替えることができるから、真空予備室として兼用することもできる。この真空予備室に兼用できる真空搬送装置を用いて半導体製造装置を構成すると、別個に真空予備室を設ける必要がないから、半導体製造装置をさらに小型にできる。
【００３２】
上記実施形態において、真空予備室６と、真空搬送装置１と、真空処理室７とを一直線に接続したが、図４に示すように、真空搬送装置の１つの真空搬送室２１に、２つの真空予備室２２，２２と、２つの真空処理室２３，２３とを接続してもよい。図４に示すように、ロボットアーム２５によって真空処理室２３内のウェハを把持した際に、第２回転軸２６を真空搬送室２３およびゲートバルブＧ４内部に位置させて真空処理室２３内に入らないようにすることによって、真空処理室２３内のコンタミを効果的に防止できる。
【００３３】
また、図４の真空処理室２３にさらに真空搬送装置を介して他の真空処理室を接続して、複数の真空搬送装置を用いて半導体製造装置を構成してもよい。これによって、ウェハに複数の処理を連続して施すことができる半導体製造装置を、従来よりも小型に構成できる。この場合、本発明の真空搬送装置と従来の真空搬送装置とが混在していてもよい。
【００３４】
上記実施形態において、ロボットアーム３の第１および第２回転軸Ｓ１，Ｓ２は、金属からなるが、金属以外の例えば樹脂からなる回転軸であってもよい。この場合においても、パーティクルやガスが生じる虞がある樹脂製の回転軸は、従来よりも個数が少ないので、真空搬送装置内部の汚染の虞を少なくでき、また、ウェハ搬送の際に第２回転軸が真空処理室内に入らないので、真空処理室の汚染を防止できる。
【００３５】
【発明の効果】
以上より明らかなように、請求項１の発明の真空搬送装置によれば、真空処理室にゲートバルブを介して連なる真空搬送室と、上記真空搬送室内に設けた第１回転軸に取り付けられた回転可能な第１アームと、この第１アームの先端に第２回転軸を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部を有する回転可能な第２アームとを含むロボットアームとを備え、上記第２回転軸が、上記ゲートバルブと上記真空搬送室の内部のみに位置するよう構成されているので、コンタミ源となる回転軸の個数が、従来の３個よりも少ない２個であるから、従来の真空搬送装置よりもコンタミが生じ難く、また、コンタミ源となる第２回転軸が真空処理室内に入らないから、この真空処理室のコンタミを防止できて、コンタミによるウェハの処理不良が防止できる。
【００３６】
請求項２の発明の真空搬送装置によれば、上記第１アームの回転角度が、上記真空処理室にハンド部を位置させる場合と、上記真空準備室にハンド部を位置させる場合との間で１８０°未満になるように制御して、上記第２回転軸が上記ゲートバルブと上記真空搬送室の内部のみに位置するように制御する制御装置を備えるので、上記第１アームの動作範囲を小さくしてロボットアームおよびウェハの動作範囲を小さくできるから、真空搬送室のウェハの搬送方向の寸法を小さくできる。しかも、上記第１アームの回転角度を１８０°未満にして、コンタミ源であるロボットアームの第２回転軸が真空処理室に入ることを防止できるから、コンタミによるウェハの処理不良を回避できる。
【００３７】
請求項３の発明の真空搬送装置によれば、上記制御装置は、上記ロボットアームが、上記第１アームと第２アームとを互いに逆向きに回転駆動して上記ウェハを直線方向に搬送する直線搬送区間と、上記第１アームを静止させて第２アームのみを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第１曲線搬送区間と、上記第２アームを第１アームに相対的に静止させて第１アームを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第２曲線搬送区間とを有して上記ウェハを搬送するように、上記第１アームと第２アームを制御するので、上記第１アームの回転角度が確実に１８０°未満にでき、かつ、上記第２回転軸が上記ゲートバルブと真空搬送室の内部のみに位置するようにできるから、上記真空搬送室を効果的に小型にでき、かつ、コンタミによるウェハの処理不良が効果的に防止できる。
【００３８】
請求項４の発明の真空搬送装置によれば、上記第１回転軸が、上記真空搬送室の中心からオフセットしているので、上記第１回転軸と、この第１回転軸のオフセット方向と反対側に位置する真空搬送室の壁の内面との間に、ウェハや第１アームや第２アームを通過させることによって、真空搬送室を大きくすることなくウェハを搬送できる。
【００３９】
請求項５の発明の真空搬送装置によれば、上記ウェハの中心回りの姿勢を変更するアライナを備えたので、上記ウェハを所定の位置に搬送する際に、ウェハが所望の姿勢になるようにできるから、従来のアームを３つ有する３リンク型のロボットアームと同様に、ウェハを真空処理室などに所定の姿勢で搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態の真空搬送装置を示す図である。
【図２】図２（ａ）は、真空搬送装置のロボットアームの把持部が真空処理室内に位置する様子を示した図であり、図２（ｂ）、（ｃ）は、ウェハを真空処理室から真空予備室に向けて搬送する過程において、異なるロボットアームの位置を示した図である。
【図３】真空搬送装置の断面図を示す図である。
【図４】他の実施形態の真空搬送装置を示す図である。
【符号の説明】
１ 真空搬送装置
２ 真空搬送室
３ ロボットアーム
４ 制御装置
５ アライナ
６ 真空予備室
７ 真空処理室
１０ ウェハ中心の軌跡
１１ 直線軌跡部分
１２ 直線軌跡部分
１４ 第１曲線軌跡部分
１５ 第１曲線軌跡部分
１７ 第２曲線軌跡部分
Ａ１ 第１アーム
Ａ２ 第２アーム
Ｓ１ 第１回転軸
Ｓ２ 第２回転軸
Ｈ ウェハの把持部
Ｃ１ 真空搬送室の縦方向の辺の中心を通る中心線
Ｃ２ 真空搬送室の横方向の辺の中心を通る中心線
Ｇ１ ゲートバルブ
Ｇ２ ゲートバルブ

Claims (5)

1. 真空処理室（７）にゲートバルブ（Ｇ２）を介して連なる真空搬送室（２）と、
   上記真空搬送室（２）内に設けた第１回転軸（Ｓ１）に取り付けられた回転可能な第１アーム（Ａ１）と、この第１アーム（Ａ１）の先端に第２回転軸（Ｓ２）を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部（Ｈ）を有する回転可能な第２アーム（Ａ２）とを含むロボットアーム（３）とを備え、
   上記第２回転軸（Ｓ２）が、上記ゲートバルブ（Ｇ２）と上記真空搬送室（２）の内部のみに位置するよう構成されていることを特徴とする真空搬送装置。
2. 真空処理室（７）および真空準備室（６）にゲートバルブ（G２，Ｇ１）を介して略一直線上に配置された真空搬送室（２）と、
   上記真空搬送室（２）内に設けた第１回転軸（Ｓ１）に取り付けられた回転可能な第１アーム（Ａ１）と、この第１アーム（Ａ１）の先端に第２回転軸（Ｓ２）を介して取り付けられると共に、先端にウェハを把持するハンド部（Ｈ）を有する回転可能な第２アーム（Ａ２）とを含むロボットアーム（３）とを備え、
   上記第２回転軸（Ｓ２）が、上記ゲートバルブ（Ｇ２）と上記真空搬送室（２）の内部のみに位置するよう構成され、
   上記第１アーム（Ａ１）の回転角度が、上記真空処理室（７）にハンド部（Ｈ）を位置させる場合と、上記真空準備室（６）にハンド部（Ｈ）を位置させる場合との間で１８０°未満になるように制御して、上記第２回転軸（Ｓ２）が上記ゲートバルブ（Ｇ２）と上記真空搬送室（２）の内部のみに位置するように制御する制御装置（４）を備えることを特徴とする真空搬送装置。
3. 請求項１または２に記載の真空搬送装置において、
   上記制御装置（４）は、上記ロボットアーム（３）が、
   上記第１アーム（Ａ１）と第２アーム（Ａ２）とを互いに逆向きに回転駆動して上記ウェハを直線方向に搬送する直線搬送区間と、
   上記第１アームを静止させて第２アームのみを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第１曲線搬送区間と、
   上記第２アームを第１アームに対して相対的に静止させて第１アームを回転駆動して、上記ウェハを曲線方向に搬送する第２曲線搬送区間とを有して上記ウェハを搬送するように、上記第１アーム（Ａ１）と第２アーム（Ａ２）を制御することを特徴とする真空搬送装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか１つに記載の真空搬送装置において、
   上記第１回転軸（Ｓ１）が、上記真空搬送室（２）の中心からオフセットしていることを特徴とする真空搬送装置。
5. 請求項１乃至４のいずれか１つに記載の真空搬送装置において、
   上記ウェハの中心回りの姿勢を変更するアライナ（５）を備えたことを特徴とする真空搬送装置。

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