JP3551469B2 - 新規ポリペプチド化合物及びその塩 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は新規ポリペプチド化合物及びその塩に関する。さらに詳しくはこの発明は抗菌活性（特に抗真菌活性）、β−１，３−グルカン合成に対する阻止活性を有し、さらに人体や動物のニューモシスティスカリニ（Ｐｎｅｕｍｏｃｙｓｔｉｓ ｃａｒｉｎｉｉ）感染症（例えばカリニ肺炎）の治療や予防に有用であると期待されている新規ポリペプチド化合物及びその塩、それを製造する方法に関するものである。
従って、この発明のひとつの目的は種々の病原菌に対して高い活性を有し、さらに人体や動物のニューモシスティスカリニ感染症（例えばカリニ肺炎）の治療または予防にとって有用であると期待される新規ポリペプチド化合物及びその塩を提供する事である。
【０００２】
この発明の他の目的のひとつは前記のポリペプチド化合物及びその塩の製造法を提供する事である。
この発明のさらなる他の目的のひとつは活性成分としてポリペプチド化合物及びその塩を含有する抗菌剤を提供することである。
【０００３】
【発明の構成】
この発明の目的とするポリペプチド化合物は新規であり，次の一般式［Ｉ］によって表される。

［式中、Ｒ^１は水素、
Ｒ^２はアシル基、
Ｒ^３はヒドロキシ基またはアシルオキシ基、
Ｒ^４はヒドロキシ基またはヒドロキシスルホニルオキシ基、
Ｒ^５は水素または適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基、および
Ｒ^６は水素、ヒドロキシ基またはアシル（低級）アルキルチオ基をそれぞれ意味する。］
【０００４】
この発明のポリペプチド化合物［Ｉ］は下記反応式に従って製造することができる。
製造法１

【０００５】
製造法 ２

【０００６】
製造法 ３

【０００７】
製造法 ４

【０００８】
製造法 ５

【０００９】
［式中、Ｒ^１， Ｒ^２， Ｒ^３， Ｒ^４， Ｒ^５ および Ｒ^６ はそれぞれ前と同じ意味、
Ｒ^３ _ａ はアシルオキシ基、
Ｒ^４ _ａ はヒドロキシスルホニルオキシ基、
Ｒ^５ _ａ は適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基、
Ｒ^６ _ａ はヒドロキシ基、またはアシル（低級）アルキルチオ基、
Ｒ^６ _ｂ はアシル（低級）アルキルチオ基、
Ｒ^６ _ｃ はヒドロキシ基をそれぞれ意味する。］
【００１０】
化合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒性のモノまたはジ塩であって、金属塩、例えばアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等）、アンモニウム塩、有機塩基との塩（例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩等）等、有機酸付加塩（例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等）
無機酸付加塩（例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等）、アミノ酸（例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等）との塩等が挙げられる。
【００１１】
この明細書の以上および以下の記載において、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明を以下詳細に説明する。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子１ないし６個好ましくは炭素原子１ないし４個を意味するものとする。
「高級」とは、特に指示がなければ、炭素原子７ないし２０個、好ましくは炭素原子７ないし１５個、さらに好ましくは炭素原子７ないし１０個を意味するものとする。
【００１２】
好適な「アシル基」および「アシルオキシ基」の「アシル」部分としては、カルボン酸、炭酸、カルバミン酸、スルホン酸等から誘導される脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素環式アシル、および芳香族基または複素環式基で置換された脂肪族アシル基等が挙げられる。
【００１３】
前記「アシル」部分の好適な例を以下に示す：
ハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）；ヒドロキシ、後述の高級アルコキシ、後述のアリール等のような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有していてもよいアリ−ル（例えばフェニル、ナフチル、アントリル等）；後述の低級アルコキシ；アミノ；保護されたアミノ、好ましくは低級アルコキシカルボニルアミノ（例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルアミノ、第三級ブトキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ等）等のようなアシルアミノ；ジ（低級）アルキルアミノ（例えば、ジメチルアミノ、Ｎ−メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−プロピルブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等）；低級アルコキシイミノ（例えば、メトキシイミノ、エトキシイミノ、プロポキシイミノ、ブトキシイミノ、第三級ブトキシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシルオキシイミノ等）；後述の高級アルコキシ等のような適当な置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよいフェニル（低級）アルコキシイミノ（例えば、ベンジルオキシイミノ、フェネチルオキシイミノ、ベンズヒドリルオキシイミノ等）のようなアル（低級）アルコキシイミノ；高級アルキル（例えば、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、３，７−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、３−メチル−１０−エチルドデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル等）等のような適当な置換基を１個以上（より好ましくは１〜３個）有していてもよい複素環チオ、好ましくはピリジルチオ；アミノ、前述の保護されたアミノ、前述の高級アルキル等のような適当な置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよい複素環基（例えば、チエニル、イミダゾリル、ピラゾリル、フリル、テトラゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等）等；等のような適当な置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよい低級アルカノイル［例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサノイル、ピバロイル等］；
【００１４】
高級アルカノイル［例えばヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ウンデカノイル、ラウロイル、トリデカノイル、ミリストイル、ペンタデカノイル、パルミトイル、１０，１２−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、ステアノイル、ノナデカノイル、イコサノイル等］；
【００１５】
後述の高級アルコキシ等のような置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよい前述のアリ−ルのような適当な置換基を１個以上（さらに好ましくは１〜３個）有していてもよい低級アルケノイル［例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル、３−ペンテノイル、５−ヘキセノイル等］；高級アルケノイル［例えば、４−ヘプテノイル、３−オクテノイル、３，６−デカジエノイル、３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエノイル、４，１０−ヘプタデカジエノイル等］；
低級アルコキシカルボニル［例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等］；
高級アルコキシカルボニル［例えば、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル、３，７−ジメチルオクチルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニル、３−メチル−１０−エチルドデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、ヘプタデシルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、ノナデシルオキシカルボニル、イコシルオキシカルボニル等］；
アリ−ルオキシカルボニル［例えば，フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等］；
【００１６】
アリ−ルグリオキシロイル［例えば，フェニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル等］；
ニトロまたは低級アルコキシを有していてもよいフェニル（低級）アルコキシカルボニルのような置換基を１個以上有していてもよいアル（低級）アルコキシカルボニル［例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル等］；
低級アルキルスルホニル［例えば、メシル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ペンチルスルホニル、ブチルスルホニル等］；
【００１７】
後述の低級アルキルまたは高級アルコキシ等のような置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有していてもよいアリールスルホニル［、例えばフェニルスルホニル、トシル、ナフチルスルホニル等］；
フェニル（低級）アルキルスルホニル等のようなアル（低級）アルキルスルホニル［例えばベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル、ベンズヒドリルスルホニル等］；
【００１８】
前述のハロゲン；低級アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等）；前述の高級アルキル；前述の低級アルコキシ、前述のハロゲン、前述のアリール等のような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜１０個）有していてもよい低級アルコキシ（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等）；前述のハロゲンのような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜１７個）有していてもよい高級アルコキシ（例えば、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、３，７−ジメチルオクチルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、３−メチル−１０−エチルドデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシ等）；高級アルケニルオキシ（例えば、３−ヘプテニルオキシ、７−オクテニルオキシ、２，６−オクタジエニルオキシ、５−ノネニルオキシ、１−デセニルオキシ、３，７−ジメチル−６−オクテニルオキシ、３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニルオキシ、８−ウンデセニルオキシ、３，６，８−ドデカトリエニルオキシ、５−トリデセニルオキシ、７−テトラデセニルオキシ、１，８−ペンタデカジエニルオキシ、１５−ヘキサデセニルオキシ、１１−ヘプタデセニルオキシ、７−オクタデセニルオキシ、１０−ノナデセニルオキシ、１８−イコセニルオキシ等）；カルボキシ；前述の高級アルコキシのような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜３）有していてもよい前述のアリ−ル；前述の高級アルコキシのような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有していてもよいアリ−ルオキシ（例えば、フェノキシ、ナフチルオキシ、アントリルオキシ等）、等のような適当な置換基を１個以上（好ましくは１〜５個）有していてもよい；等；等のような置換基を１個以上（好ましくは１〜５個）有していてもよいアロイル［例えば、ベンゾイル、ナフトイル、アントリルカルボニル等］等が挙げられる。
【００１９】
このように定義される「アシル基」の好ましい例としては１個以上（好ましくは１〜５）のｉ）低級アルコキシ、ｉｉ）高級アルコキシまたはｉｉｉ）１個以上（好ましくは１〜３）の低級アルコキシまたは高級アルコキシを有していてもよいアリール基のようなアロイル基が挙げられ；その中でさらに好ましい例としては、それぞれが低級アルコキシ、高級アルコキシおよび１〜３個の高級アルコキシを有していてもよいフェニルからなる基から選ばれた１〜３個の適当な置換基を有していてもよいベンゾイル基またはナフトイル基が挙げられ、更になお好ましい例としては１〜３個の（Ｃ_７〜Ｃ_１６）のアルコキシを有していてもよいベンゾイル基、１〜３個の（Ｃ_５〜Ｃ_１６）のアルコキシを有していてもよいフェニル基；または１〜３個の（Ｃ_７〜Ｃ_１６）のアルコキシを有していてもよいナフトイル基であり、そして最も好ましい例は４−オクチルオキシベンゾイル、４−（４−ヘプチルオキシフェニル）ベンゾイル、６−ヘプチルオキシ−２−ナフトイルおよび６−オクチルオキシ−２−ナフトイル、４−（４−ペンチルオキシフェニル）ベンゾイル、４−（４−ノニルオキシフェニル）ベンゾイル、４−（４−メチルペンチルオキシフェニル）ベンゾイル、６−（４−メチルペンチルオキシ）−２−ナフトイル、６−ヘキシルオキシ−２−ナフトイル、４−（４−ヘキシルオキシフェニル）ベンゾイル；そして他の好ましい例としては前記高級アルカノイル基が挙げられ、その中でさらに好ましい例としては、（Ｃ_５〜Ｃ_１７）のアルカノイル基が挙げられ、最も好ましい例としてはパルミトイル基が挙げられる。
【００２０】
好適な「アシルオキシ基」としては低級アルカノイルオキシ基が挙げられる。「アシル（低級）アルキルチオ基」の好適な「アシル」部分としては、カルボキシ基；またはエステル化されたカルボキシ基［例えば低級アルコキシカルボニル（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等）等］のような保護されたカルボキシ基；その中でさらに好ましい例としては、カルボキシ基が挙げられる。
【００２１】
「アシル（低級）アルキルチオ基」の好適な「（低級）アルキル」部分としては、後述の「適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基」の「低級アルキル」部分として例示したような基が挙げられる。
【００２２】
「適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基」の好適な「低級アルキル」部分としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１ないし６のアルカンの残基を意味し、その好ましい例としてはＣ_１ −Ｃ_４ アルキル基が、さらに好ましい例としてはメチル基が挙げられる。
【００２３】
上記「低級アルキル基」は、ヒドロキシ、アシル（例えばカルボキシ、保護されたカルボキシ｛例えば低級アルコキシカルボニル（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等｝等）、ジ（低級）アルキルアミノ（例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−メチルエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブチルブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ等）、環の部分にほかの異種原子を有していてよい環状のアミノ（例えば１−ピロリジニル、ピペリジノ、１−ピペラジニル、モルホリノ、１−ピリジル、ジヒドロピリジン−１−イル 等）等のような置換基を１個以上（好ましくは１〜３個）有していてもよい。
【００２４】
「適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基」の好適な例としては、ヒドロキシとカルボキシを有する低級アルキル、ジ（低級）アルキルアミノを有する低級アルキル；およびそして環状アミノを有する低級アルキルが挙げられ、それらの中でさらに好ましい例としては、ヒドロキシ及びカルボキシを有する（Ｃ_１〜Ｃ_４）アルキル；ジ（Ｃ_１〜Ｃ_４）アルキルアミノを有する（Ｃ_１〜Ｃ_４）アルキル；ピペリジノを有する（Ｃ_１〜Ｃ_４）アルキルが挙げられ、そして最も好ましい例は１−ヒドロキシ−１−カルボキシメチル、ジメチルアミノメチルおよびピペリジノメチルである。
【００２５】
化合物（Ｉ）の実施態様について以下説明する。
（１）化合物（Ｉ）の好ましい例としては、
Ｒ^１が水素、
Ｒ^２がｉ）低級アルコキシ、ｉｉ）高級アルコキシおよびｉｉｉ）１個以上の低級アルコキシまたは高級アルコキシを有していてもよいアリール基から選ばれた１個以上の適当な置換基を有していてもよいアロイル基；または高級アルカノイル基；
Ｒ^３がヒドロキシ基またはアシルオキシ基、
Ｒ^４がヒドロキシ基またはヒドロキシスルホニルオキシ基、
Ｒ^５が水素またはヒドロキシ、アシル、ジ（低級）アルキルアミノおよび環状のアミノからなる基から選ばれた適当な置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基、
Ｒ^６が水素、ヒドロキシ基またはアシル（低級）アルキルチオ基である化合物が挙げられる。
【００２６】
（２）化合物（Ｉ）の更に好ましい例としては、
Ｒ^２ がそれぞれが低級アルコキシ；高級アルコキシ；および１〜３個の高級アルコキシを有していてもよいフェニルからなる基から選ばれた１〜３個の適当な置換基を有していてもよいベンゾイルもしくはナフトイル基、
Ｒ^３ がヒドロキシ基、
Ｒ^５が水素、
Ｒ^６が水素またはヒドロキシ基、
Ｒ^１およびＲ^４がそれぞれ前と同じ意味の基である化合物が挙げられる。
【００２７】
（３）化合物（Ｉ）の更になお好ましい例としては、
Ｒ^２がアルコキシを有するベンゾイル基、アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、低級アルコキシを有するナフトイル基、または高級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^６が水素、
Ｒ^１，Ｒ^３，Ｒ^４およびＲ^５がそれぞれ前と同じ意味の基である化合物が挙げられる。
【００２８】
（４） 化合物（Ｉ）のなお更に好ましい例としては、
ｉ）Ｒ^２が高級アルコキシを有するベンゾイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６ がそれぞれ（３）と同じ意味の基である化合物、または
ｉｉ）Ｒ^２が高級アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６がそれぞれ（３）と同じ意味の基である化合物、または
ｉｉｉ）Ｒ^２ が低級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６ がそれぞれ（３）と同じ意味の基である化合物、または
ｉｖ）Ｒ^２ が高級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６がそれぞれ（３）と同じ意味の基である化合物が挙げられる。
【００２９】
（５）化合物（Ｉ）の他の更になお好ましい例としては、
Ｒ^１が水素、
Ｒ^２が高級アルコキシを有するベンゾイル基、
高級アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、
低級アルコキシを有するナフトイル基、
高級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^３がヒドロキシ基、
Ｒ^４がヒドロキシ基またはヒドロキシスルホニルオキシ基、
Ｒ^５が水素、
Ｒ^６がヒドロキシ基である化合物が挙げられる。
【００３０】
（６）化合物（Ｉ）の他のなお更に好ましい例としては、
ｉ）Ｒ^２が高級アルコキシを有するベンゾイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６がそれぞれ（５）と同じ意味の基であ る化合物、または
ｉｉ）Ｒ^２が高級アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６がそれぞれ（５）と同じ意味の基である化合物、または
ｉｉｉ）Ｒ^２が低級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６ がそれぞれ（５）と同じ意味の基である化合物、または
ｉｖ）Ｒ^２ が高級アルコキシを有するナフトイル基、
Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４ 、Ｒ^５およびＲ^６がそれぞれ（５）と同じ意味の基である化合物が挙げられる。
【００３１】
この発明の目的化合物［Ｉ］またはその塩の製造方法を以下詳細に説明する。
製造法 １
目的化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）またはその塩を還元反応に付すことによって製造することができる。
化合物（ＩＩ）の好適な塩としては 化合物（Ｉ）の塩について例示したのと同じものが挙げられる。
【００３２】
この反応は、常法すなわち化学還元および接触還元により行われる
化学還元に用いる好適な還元剤としては、金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）または金属化合物（例えば塩化クロム、酢酸クロム等）と有機酸あるいは無機酸［例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸，アルミニウムハイドライド化合物（例えばリチウムアルミニウムハイドライド、リチウムハイドライドトリ−ｔ−ブトキシアルミネート、等）、ボロハイドライド化合物（例えばハイドライナトリウムボロハイドライド、ナトリウムシアノボロハイドライド、等）のようなハイドライド移動試薬等］の組み合わせを挙げることができる。
【００３３】
接触還元に使用される好適な触媒としては、白金触媒（例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等）、ニッケル触媒（例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニッケル等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネ−コバルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄、ラネ−鉄等）、銅触媒（例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅等）等を挙げることができる。
【００３４】
還元は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば水、アルコール（例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等）、酢酸、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、またはそれらの混合物等の溶媒中で行われる
還元の反応温度は特に限定されないが、通常、冷却ないし加温下に反応が行われる。
Ｒ^６ _ａの「ヒドロキシ基」が反応中、「水素」に還元されることがあるがこの場合も又この発明の範囲内に含まれる。
【００３５】
製造法 ２
目的化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）またはその塩を還元反応に付すことにより製造することができる。
この反応は、製造法１で述べたものと実質的に同じ方法で行うことができるので、反応方法および反応条件（例えば溶媒、反応温度等）は製造法１の説明を援用できる。
【００３６】
製造法 ３
目的化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）またはその塩をアルキル化反応に付すことによって、製造することができる。
この反応で用いられる好適なアルキル化剤としては、
１）１個以上（好ましくは１〜３）の「１個以上の適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基」の置換基として例示したような適当な置換基を有していてもよい低級アルカナル（例えば ホルムアルデヒド、エタナル、プロパナル、ブタナル、ｔ−ブタナル、ペンタナル、ヘキサナル等）、
【００３７】
２）式

［式中Ｒ^６とＲ^７はそれぞれ前記例示の低級アルキル］で示される化合物、
【００３８】
３）式

（式中、
式：

で示される基は環の部分にほかのヘテロ原子を有していてもよい環状アミニウム基（例えばピイルロリジニウム、ピペリジニウム、ピペラジニウム、モルホリニウ等）等が挙げられる。
【００３９】
反応は通常、水、アルコ−ル（例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノール等）、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加温下で行われる。
【００４０】
製造法４
目的化合物［Ｉｆ］またはその塩は化合物［Ｉｅ］またはその塩をアシル（低級）アルキルチオールとの置換反応に付すことにより製造する事ができる。
反応は、通常、水、アルコール（例えばメタノール、エタノール等）、ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、トルエン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、ジオキサン、ジエチルエーテルのような溶媒中、またはそれらの混合物中で行なわれるが、反応に、悪影響を及ぼさない溶媒いであれば、そのほかのあらゆる溶媒意中で行う事ができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下で行われる。
反応は、通常、酸（ルイス酸も含む）の存在下で行う事が好ましい。
【００４１】
好適な酸としては、有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酸、トリフルオロ酢酸（等）および無機酸［例えば、塩酸、臭化水素酸、、硫酸、塩化水素、臭化水素、ハロゲン化亜鉛（例えば、塩化亜鉛、臭化亜鉛等）、等］等が挙げられる。
液状の酸および／または出発化合物も溶媒として用いる事ができる。
【００４２】
製造法 ５
目的化合物（Ｉｈ）またはその塩は、化合物（Ｉｇ）またはその塩をアシル化反応に付すことによって、製造することができる。
このアシル化反応で使用される好適なアシル化剤としては、式：Ｒ^３ _ｂ−ＯＨ［ＩＩＩ］［式中Ｒ^３ _ｂ は低級アルカノイル］で示される慣用のアシル化剤またはその反応性誘導体もしくはその塩が挙げられる。
【００４３】
化合物［ＩＩＩ］の好適な「低級アルカノイル」としては、前述の「低級アルカノイルオキシ」の「低級アルカノイル」部分と同様のものが挙げられる。
【００４４】
化合物［ＩＩＩ］のカルボキシ基における好適な反応性誘導体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エステル等が挙げられる。その好適な例としては、酸塩化物；酸アジド；置換されたリン酸（例えばジアルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニルりん酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等）、ジアルキル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スルホン酸（例えばメタンスルホン酸等）、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等）または芳香族カルボン酸（例えば安息香酸等）のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物（例えば無水酢酸等）；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾールまたは１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾールとの活性化アミド；活性化エステル（例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ_３）_２Ｎ^＋＝ＣＨ−］エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノリルチオエステル等）、もしくはＮ−ヒドロキシ化合物（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール等）とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は、使用すべき化合物［ＩＩＩ］の種類によって、これらの中から適宜選択することができる。
【００４５】
化合物［ＩＩＩ］およびその反応誘導体の好適な塩としては、化合物（Ｉ）の塩について例示したものと同じものを挙げることができる。
【００４６】
反応は、通常、水、アルコール（例えばメタノール、エタノール等）、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用いてもよい。
【００４７】
化合物［ＩＩＩ］を遊離酸またはその塩の形でこの反応に使用する場合、反応を、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン；亜りん酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリリン酸イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリル）；三塩化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；例えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤の存在下に行うことが望ましい。
【００４８】
反応はまた、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級）アルキルアミン（例えばトリエチルアミン等）、ピリジン、ジ（低級）アルキルアミノピリジン（例えば４−ジメチルアミノピリジン等）、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等のような無機または有機塩基の存在下に行うことが望ましい。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われる。
【００４９】
出発化合物［ＩＩ］はヨーロッパ特許ＥＰ０４６２５３１Ａ２号公報で開示された発酵及び合成法、およびこの明細書に記載した製造法により製造することができる。
上記の発酵方法で使用される菌株コレオフォマ（Ｃｏｌｅｏｐｈｏｍａ） ｓｐ．Ｆ−１１８９９は第ＦＥＲＭ ＢＰ−２６３５号として１９８９年１０月２６日付で工業技術院生命工学工業技術研究所（日本国茨城県つくば市東１丁目１番３号 郵便番号３０５）に寄託されている。
【００５０】
この発明のポリペプチド化合物（Ｉ）の有用性を示す為に代表的化合物の生物学的デ−タを以下に示す。
試験Ａ（抗菌活性）
後述する実施例１９の主化合物（Ｍａｊｏｒ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ）の試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定した。
試験方法
各試験菌株を２％グルコ−スを含むサブロ−・ブロス（Ｓａｂｏｕｒａｕｄ ｂｒｏｔｈ）中一夜培養してその１白金耳（生菌数１０^５個／ｍｌ）を、各濃度段階の化合物（Ｉ）を含むイ−ストニトロゲンベ−スデクストロ−ズ寒天（ＹＮＢＤ寒天）に接種し、３０℃で２４時間インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）をμｇ／ｍｌで表した。
試験結果

上記試験結果から明らかなようにこの発明のポリペプチド化合物（Ｉ）は抗菌活性（特に抗真菌活性）を有する。
【００５１】
この発明の抗菌剤は直腸投与、肺吸入（鼻腔または口からの吸入）、鼻への投与、目への投与、外用投与（局所投与）、経口投与、非経口投与（皮下、静脈、筋肉注射）に適した有機、無機担体または賦形剤と混合して、ポリペプチド化合物（Ｉ）とその塩を有効物質として含有する常用の医薬製剤例えば固体状、半固体状、液状の形で使用することができる。
有効成分は常用無毒で医薬として許容される担体と混合して適当な剤形、例えば錠剤、ペレット、トロ−チ、カプセル剤、坐剤、軟膏、エアゾル剤、吸入用粉末、または溶液、エマルジョン、懸濁液などのような形として使用すればよい。必要に応じて上記製剤中に補助剤、安定化剤、濃糊化剤および着色剤並びに香料を使用してもよい。
【００５２】
この抗菌剤中に含有されるポリペプチド化合物（Ｉ）とその塩の量は疾患の過程と状態に対して所望の抗菌効果を発揮するのに十分な量である
この抗菌剤を人に適用する場合、静脈内注射、筋肉注射、肺への吸入、経口投与の方法でなされることが好ましい。このポリペプチド化合物（Ｉ）の投与量は、処置すべき患者の年齢、疾患の程度等の条件によって変化する。一般的には、静脈注射の場合ポリペプチド化合物１日投与量約０．０１〜２０ｍｇ／ｋｇ、筋肉注射の場合ポリペプチド化合物１日投与量約０．１〜２０ｍｇ／ｋｇ、経口投与の場合ポリペプチド化合物１日投与量約０．５〜５０ｍｇ／ｋｇ、を感染症治療、または予防に使用すればよい。
【００５３】
特にニューモシスティスカリニ感染症の治療や予防の場合には、次の事に注意する。
吸入による投与の為には、この発明の化合物は圧縮された容器からのエアゾルスプレイ、またはネブライザ−の形で用いられるのが便利である。
この化合物は粉末として形成され用いられてよい。その粉末抗菌剤は吸入用粉末の吸入器の助けを借りて吸入しても良い。望ましい吸入方法は、目盛り付きの吸入エアゾ−ル等によってするもので、化合物のフルオロカ−ボンやハイドロカ−ボンのような好適な推進剤中懸濁液、または溶液として形成されていても良い。
【００５４】
肺や気管支を直接的に治療することの方が望ましいという理由があるためエアゾル投与の方がむしろ好ましい投与法である。
特に耳やそのほかの体腔にまで感染が広がってしまったような場合には吸入もまた望ましい方法である。
他には非経口投与として点滴による静脈投与が用いられる。
【００５５】
以下、製造例と実施例に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。
製造例 １
メチルトリクロロシラン（０．８２ｍｌ）のアセトニトリル溶液中に氷冷下に１−エトキシメチルピペリジン（１ｇ）を加え、同温で５分間攪拌する。ジエチルエ−テルを加え、生成する沈殿物を濾取し、乾燥して、１−メチレンピペリジニウムクロリド（０．８８ｇ）を得る。
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３１００， ２７００， １４２０， １１１０， ９２０ ｃｍ^−１
ＥＩ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １３３ （Ｍ＋）
【００５６】
製造例 ２
６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（１．０４ｇ）の１０％の水酸化ナトリウム水溶液（４．４４ｍｌ）とジメチルスルホキシド（１８ｍｌ）の混合物中溶液を８０℃で半時間攪拌する。ヘプチルブロミド（０．８７２ｍｌ）を加え、６０℃で５時間攪拌する。反応混合物を、水（５０ｍｌ）に入れ、混合物を濃塩酸で、ｐＨ３に調整する。生成する沈殿物を濾取し、乾燥して６−ヘプチルオキシ−２−ナフトエ酸（１．３９ｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６６０， １６２０， １２１０ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ） ： ０．８８（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．２−１．６（８Ｈ， ｍ）， １．７−１．９（２Ｈ， ｍ）， ４．１０（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ７．１８（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ 及び ２．４Ｈｚ）， ７．３５（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝２．４Ｈｚ）， ７．７９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．６Ｈｚ）， ７．９−８．１（２Ｈ， ｍ）， ８．４５（１Ｈ， ｓ）
【００５７】
製造例 ３
製造例２と同様にして下記化合物を得る。
４−（４−ペンチルオキシフェニル）安息香酸
ＩＲ（ＫＢｒ） ： １６７８， １６０５， １２００， ８３３ ｃｍ^−１
【００５８】
製造例 ４
製造例２と同様にして下記化合物を得る。
４−（４−ノニルオキシフェニル）安息香酸
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６８６， １６０４， １２０３， ８３７ ｃｍ^−１
【００５９】
製造例 ５
製造例２と同様にして下記化合物を得る。
６−（４−メチルペンチルオキシ）−２−ナフトエ酸
ＩＲ（ＫＢｒ） ： １６７４， １６２４， １２９２， １２１３ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， δ） ： ０．６４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．３−１．５（２Ｈ，ｍ）， １．６５（１Ｈ，ｍ）， １．７８−２．０（２Ｈ，ｍ）， ４．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）， ７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３ 及び ８．９Ｈｚ）， ７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３ 及び ８．７Ｈｚ）， ８．６３（１Ｈ，ｓ）
【００６０】
製造例 ６
Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド（０．５６ｇ）と６−ヘプチルオキシ−２−ナフトエ酸（１．３９ｇ）の塩化メチレン（４２ｍｌ）中けん濁液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩（１．２１ｇ）を加え、室温で３時間攪拌する。反応混合物を、水（１００ｍｌ）に入れる。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、硫酸マグネシウムを濾去し、濾液の溶媒を減圧下で留去して、６−ヘプチルオキシ−２−ナフトエ酸スクシンイミド（１．４８ｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １７６０， １７４０， １６２０ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３， δ） ： ０．９１（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．２−１．６（８Ｈ， ｍ）， １．７−２．０（２Ｈ， ｍ）， ２．９３（４Ｈ， ｓ）， ４．１０（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ７．１−７．３（２Ｈ， ｍ）， ７．７７（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．６Ｈｚ）， ７．８４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．６Ｈｚ）， ８．０３（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ 及び ２．４Ｈｚ）， ８．６５（１Ｈ， ｓ）
【００６１】
製造例 ７
製造例６と同様にして下記化合物を得る。
１−［４−（４−ペンチルオキシフェニル）ベンゾイル］１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド
ＩＲ（ＫＢｒ） ： １７７６， １６０５， １１９４， ９８５ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， δ） ： ０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．３−１．６（４Ｈ，ｍ）， １．８４（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ４．０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．３５−７．６８（３Ｈ，ｍ）， ７．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）
【００６２】
製造例 ８
製造例６と同様にして下記化合物を得る。
１−［４−（４−ノニルオキシフェニル）ベンゾイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド
ＩＲ（ＫＢｒ） ： １７７４， １６００ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３， δ） ： ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１−１．６（１２Ｈ，ｍ）， １．８３（２Ｈ，ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ４．０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．３５−７．６８（３Ｈ，ｍ）， ７．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）， ８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）
【００６３】
製造例 ９
製造例６と同様にして下記化合物を得る。
１−［６−（４−メチルペンチルオキシ）−２−ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド
ＩＲ（ＫＢｒ） ： １７８４， １６２８， １１９６ ｃｍ^−１
【００６４】
以下の製造例と実施例で用いられる出発化合物と得られる目的化合物は、下記の表に表され、出発化合物の構造式が上段に示されており、目的化合物の構造式が下段に示される。
【００６５】

【００６６】

【００６７】

【００６８】

【００６９】

【００７０】

【００７１】

【００７２】

【００７３】

【００７４】

【００７５】

【００７６】

【００７７】

【００７８】

【００７９】

【００８０】

【００８１】

【００８２】

【００８３】

【００８４】

【００８５】

【００８６】

【００８７】

【００８８】

【００８９】

【００９０】

【００９１】

【００９２】

【００９３】
製造例 １０
出発化合物（２．８ｇ）と、６−ヘプチルオキシ−２−ナフトエ酸スクシンイミド（１．４６ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２８ｍｌ）溶液に、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（０．３９３ｇ）を加え、室温で１２時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル（１４０ｍｌ）で粉砕する。沈殿物を濾取し、溶媒を減圧下で乾燥する。得られた粉末を水（５０ｍｌ）に入れ、ダウエックス（ＤＯＷＥＸ） ５０ＷＸ４（商標：ダウケミカル社製）（３０ｍｌ）のイオン交換カラムクロマトグラフィ−に付し、水で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭ Ｓ−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグラフィ−に付し、５０％のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（１．９４ｇ）を得る。
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６２０ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＣＤ_３ＯＤ，δ） ： ０．９２（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．０６（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６． ８Ｈｚ）， １．２４（３Ｈ， ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）， １．３−１．７（８Ｈ， ｍ）， １．７−２．３（５Ｈ， ｍ）， ２．３−２．７（３Ｈ， ｍ）， ２．８−２．９（１Ｈ， ｍ）， ３．３９（１Ｈ， ｍ）， ３．７−４．７（１６Ｈ， ｍ）， ４．９９（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝２Ｈｚ）， ５．１０（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．７Ｈｚ）， ５．３６（１ｄ， Ｊ＝２． ９Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．３Ｈｚ）， ７．０５（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．３Ｈｚ 及び ２Ｈｚ）， ７．１７（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ 及び １．９Ｈｚ）， ７．２３ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝２Ｈｚ）， ７．３２ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝１．９Ｈｚ）， ７．７−７．９（３Ｈ， ｍ）， ８．３１（１Ｈ， ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １２４９ （Ｍ^＋＋Ｎａ）
【００９４】
製造例 １１
製造例１０と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）， １．２５−１．５（４Ｈ，ｍ）， １．６−２．６（９Ｈ，ｍ）， ３．１８（１Ｈ，ｍ）， ３．６−４．６（１５Ｈ，ｍ）， ４．７−５．４（１１Ｈ，ｍ）， ５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）， ６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８６（１Ｈ，ｓ）， ７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ，ｓ）， ７．２−７．５（３Ｈ，ｍ）， ７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）， ８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２４７（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析： Ｃ_５３Ｈ_６９Ｎ_８ＮａＯ_２２Ｓ・６Ｈ_２Ｏとして
計算値： Ｃ ； ４７．７４ Ｈ ； ６．１２ Ｎ ； ８．４０
実測値： Ｃ ； ４７．９８ Ｈ ； ５．９２ Ｎ ； ８．４１
【００９５】
製造例 １２
製造例１０と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）， １．２−１．５５（１２Ｈ，ｍ）， １．６５−２．１（５Ｈ，ｍ）， ２．１−２．８（４Ｈ，ｍ）， ３．１８（１Ｈ，ｍ）， ３．６５−４．６０（１５Ｈ，ｍ）， ４．７−５．２（１０Ｈ，ｍ）， ５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）， ５．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）， ６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ）， ７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ，ｓ）， ７．２３−７．５５（３Ｈ，ｍ）， ７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）， ８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．８５（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１３０４（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析： Ｃ_５７Ｈ_７７Ｎ_８ＮａＯ_２２Ｓ・５Ｈ_２Ｏとして
計算値： Ｃ ； ４９．９２ Ｈ ； ６．３９ Ｎ ； ８．１７
実測値： Ｃ ； ４９．９６ Ｈ ； ６．４４ Ｎ ； ８．２３
【００９６】
製造例 １３
製造例１０と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ） ： ３３００， １６６８， １６２８， １２７１， １２１６ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９１（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）， １．２５−１．４５（２Ｈ，ｍ）， １．５−２．７（１０Ｈ，ｍ）， ３．１８（１Ｈ，ｍ）， ３．７２（２Ｈ，ｍ）， ３．８５−４．６（１３Ｈ，ｍ）， ４．７３−５．２３（１０Ｈ，ｍ）， ５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）， ５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， ６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．９１（１Ｈ，ｓ）， ７．０５（１Ｈ，ｓ）， ７．１９−７．５２（５Ｈ，ｍ）， ７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．９−８．０（２Ｈ，ｍ）， ８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）， ８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．４４（１Ｈ，ｓ）， ８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．８５（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２３５（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析： Ｃ_５２Ｈ_６９Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・４Ｈ_２Ｏとして
計算値： Ｃ ； ４８．５９ Ｈ ； ６．０４ Ｎ ； ８．７２
実測値： Ｃ ； ４８．５３ Ｈ ； ６．１５ Ｎ ； ８．５４
【００９７】
製造例 １４
出発化合物（０．２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍｌ）とアセトン（２ｍｌ）の混合物中溶液に、モレキュラ−シ−ブ４Åの存在下で室温でグリオキシル酸（０．１５５ｇ）を加える。混合物を同温で５時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル（２０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、減圧下で乾燥して、目的化合物（０．１４ｇ）を得る。
ＮＭＲ （ＣＤ_３ＯＤ， δ） ： ０．９０ （３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．０５ （３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．２４（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．０Ｈｚ）， １．２−１．６ （１０Ｈ， ｍ）， １．７−１．９ （ ２Ｈ， ｍ）， １．９−２．２ （３Ｈ， ｍ）， ２．３−２．６ （３Ｈ， ｍ）， ２．７−２．９ （１Ｈ， ｍ）， ３．４０（１Ｈ， ｍ）， ３．７−４．７ （１６Ｈ， ｍ）， ４．９８ （１Ｈ， ｓ）， ５．０９ （１Ｈ， ｂｒｓ）， ５．３１（１Ｈ， ｂｒｓ）， ５．４０ （１Ｈ， ｓ）， ６．８−７．２ （４Ｈ， ｍ）， ７．３３ （１Ｈ， ｓ）， ７．８５ （２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ）．
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １２８７ （Ｍ^＋＋ Ｎａ）
【００９８】
製造例 １５
製造例１４と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０， １６１０ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＣＤ_３ＯＤ， δ） ： ０．９０ （３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６， ６Ｈｚ）， １．０５ （３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．２４ （３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．１Ｈｚ）， １．２−１．６ （１０Ｈ， ｍ）， １．７−１．９ （２Ｈ， ｍ）， １．９−２．２ （３Ｈ，ｍ）， ２．３−２．６ （３Ｈ， ｍ）， ２．７−２．９ （１Ｈ， ｍ）， ３．４２ （１Ｈ， ｍ）， ３．７−４．７ （１６Ｈ， ｍ）， ４．９８ （１Ｈ， ｓ）， ５．０９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝３．８Ｈｚ）， ５．３１ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝２．８Ｈｚ）， ５．４４ （１Ｈ， ｓ）， ６．６０（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．１ 及び １．９Ｈｚ）， ６．７２ （１Ｈ， ｄ Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．８２ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝１．９Ｈｚ）， ６．９５ （２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ） ７．８４ （２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）．
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １１８５ （Ｍ^＋＋ Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５２Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_２２・７Ｈ_２０ として、
計算値 ： Ｃ； ４７．６３ Ｈ； ６．７６ Ｎ； ８．５４
実測値 ： Ｃ； ４７，５６ Ｈ； ６．６６ Ｎ； ８．３５
【００９９】
製造例 １６
製造例１４と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ） ： ０．８８（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．１２（３Ｈ， ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−２．０（１３Ｈ， ｍ）， ２．１−２．７（４Ｈ， ｍ ）， ３．１５（ １Ｈ， ｍ）， ３．５−４．５（１８Ｈ， ｍ ）， ４．７−５．７（１Ｈ， ｍ ）， ６．７４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．０３（１Ｈ， ｓ ）， ７．２２（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ７．３６（１Ｈ， ｓ ）， ７．５（１Ｈ， ｍ ）， ７．８３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．９−８．０（２Ｈ， ｍ）， ８．０−８．３（ ３Ｈ， ｍ）， ８．４９（１Ｈ， ｓ ）， ８．６５（１Ｈ， ｍ ）， ８．８５（１Ｈ， ｂｒｓ ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１３２４（Ｍ^＋）
元素分析 ： Ｃ_５５Ｈ_７２Ｎ_８Ｎａ_２Ｏ_２５Ｓ・７Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ；４５．５７ Ｈ；５．９８ Ｎ；７．７３
実測値 ： Ｃ；４５．７２ Ｈ；５．８７ Ｎ；７．６９
【０１００】
製造例 １７
出発化合物（３．１５ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３２ｍｌ）溶液にトリフルオロ酢酸（０．３７ｍｌ）とｐ−トルエンスルホン酸の水和物（０．５ｇ）の混合物を室温で加え、同温で１２時間攪拌する。
【０１０１】
反応混合物を、酢酸エチル（３００ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、減圧下で乾燥して、粗生成物（３．３ｇ）を得る。粗生成物（０．６ｇ）を水（１００ｍｌ）に加え、Ｃ_１８μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹脂（ウオ−タ−アソシエ−ツ社製）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、ＬＣ−８Ａポンプ（島津製作所製）を使って１分間８０ｍｌの流速で、アセトニトリル−ｐＨ３リン酸塩緩衝液（３８：６２）からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎｍで、ＵＶ探知機で監視する。 保持時間が２０．６分間の目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ６．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭ Ｓ−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、８０％のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（１４７ｍｇ）を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ） ； ０．８８（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９４（２Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−２．０（１３Ｈ， ｍ）， ２．１−２．７（４Ｈ， ｍ）， ３．２０（ １Ｈ， ｍ）， ３．６−４．５（１８Ｈ， ｍ）， ４．７−５．２（１０Ｈ， ｍ）， ５．４−５．６（２Ｈ， ｍ），６．４４（ １Ｈ， ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．６（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．７０（１Ｈ， ｓ）， ７．１−７．５（３Ｈ， ｍ），
７．７−８．２（６Ｈ， ｍ）， ８．３−８．９（５Ｈ， ｍ）
【０１０２】
実施例１
出発化合物（１ｇ）のトリフルオロ酢酸（５ｍｌ）溶液にモレキュラーシーブ４Åの存在下、ナトリウムシアノボロハイドライド（０．２８５ｇ）を室温で加える。混合物を同温で１時間攪拌する。反応混合物を水（１０ｍｌ）に氷冷下で入れ、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整する。水溶液をダウエックス（ＤＯＷＥＸ）−５０ＷＸ４（Ｎａ^＋型）（商標：ダウケミカル社製）を使用するイオン交換カラムクロマトグラフィー（３０ｍｌ）に付し、水で溶出する。
【０１０３】
目的化合物を含む画分を合わせ、Ｃ１８μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹脂（ウオータ・アソシエーツ社製）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、ＬＣ−８Ａポンプ（島津製作所製）を使って、１分間８０ｍｌの流速でアセトニトリル−ｐＨ３リン酸緩衝液（３９：６１）からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎｍでＵＶ探知機で監視する。保持時間が１７．１分の最初に溶出される化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。減圧下ではジメチルアミノフェニルの混合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣をＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）のカラムクロマトグラフィ−に付し、水で洗浄し、８０％のメタノ−ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノ−ルを留去する。残渣を凍結乾燥して、目的化合物１（３１８ｍｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６１０， １２３０ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ） ： ０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−２．０（１５Ｈ， ｍ）， ２．１−２．６（４Ｈ， ｍ）， ３．００（１Ｈ， ｍ）， ３．１９（１Ｈ， ｍ）， ３．７４（２Ｈ， ｍ）， ３．８−４．５（１４Ｈ， ｍ）， ４．６−５．４（１０Ｈ， ｍ）， ６．７３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８０（１Ｈ， ｓ）， ６．８４（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．２ 及び １．９Ｈｚ）， ６．９７（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝１．９Ｈｚ）， ７．２５（１Ｈ， ｓ）， ７．４４ （２Ｈ， ｍ）， ７．６９（１Ｈ， ｍ）， ７．８３（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ８．０９ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ）， ８．４４ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ）， ８．８５ （１Ｈ， ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １１９７ （Ｍ^＋ ＋ Ｎａ）
元素分析 ：Ｃ_５０Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値： Ｃ；４６．７９ Ｈ；６．５１ Ｎ；８．７３
実測値 ： Ｃ；４６．８４ Ｈ；６．２７ Ｎ；８．７３
【０１０４】
２０．２分の保持時間で溶出した化合物を目的化合物１と同様の方法で処理し、目的化合物２（２６３ｍｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０， １６００， １４９０， １２４０ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ）；０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−２．０（１５Ｈ， ｍ）， ２．１−２．６（６Ｈ， ｍ ）， ２．９６（１Ｈ， ｍ ）， ３．２１（１Ｈ， ｍ ）， ３．６−４．５（１６Ｈ， ｍ， ）， ４．６−５．４（８Ｈ， ｍ ）， ６．７３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．７７（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．２ 及び １．９Ｈｚ）， ６．８１ （１Ｈ， ｓ ）， ６．９７（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ６．９８（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝１．９Ｈｚ）， ７．２５ （１Ｈ， ｓ ）， ７．３９ （２Ｈ， ｍ ）， ７．３９（１Ｈ， ｍ ）， ７．７４ （１Ｈ， ｍ ）， ７．８４（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ８．１４ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ），８．４６（１Ｈ， ｍ ）， ８．７２ （１Ｈ， ｓ ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １１８１ （Ｍ^＋＋ Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５０Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ；４７．３８ Ｈ；６．６０ Ｎ；８．８４
実測値 ： Ｃ；４７．４６ Ｈ；６．６２ Ｎ；８．８３
【０１０５】
実施例２
出発化合物（１０．４ｇ）とのナトリウムシアノボロハイドライド（１．６７ｇ）の塩化メチレン（５２ｍｌ）中懸濁液に、５℃でテトラヒドロフラン（１０４ｍｌ）を徐々に加え、混合物を４０℃で１時間攪拌する。反応混合物の溶媒を、減圧下で留去する。残渣に水を加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。粗生成物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して、粗粉末（１０．１ｇ）を得る。粗粉末をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（塩化メチレン：酢酸：メタノ−ル：水＝４：１：１：１）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で溶媒を留去する。残渣に水を加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（２．２５ｍｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０， １６００， １４９０， １２４０ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６，δ） ： ０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−２．０（１５Ｈ， ｍ）， ２．１−２．６（６Ｈ， ｍ ）， ２．９６（１Ｈ， ｍ ）， ３．２１（１Ｈ， ｍ ）， ３．６−４．５（１６Ｈ， ｍ，）， ４．６−５．４（８Ｈ， ｍ ）， ６．７３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７７（１Ｈ， ｄｄ， Ｊ＝８．２ 及び １．９Ｈｚ）， ６．８１ （１Ｈ， ｓ ）， ６．９７（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ８．１４ （１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ）， ８．４６ （１Ｈ， ｍ ）， ８．７２ （１Ｈ， ｓ ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝ １１８１ （Ｍ^＋＋ Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５０Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ；４７．３８ Ｈ；６．６０ Ｎ；８．８４
実測値 ： Ｃ；４７．４６ Ｈ；６．６２ Ｎ；８．８３
【０１０６】
実施例３
出発化合物（１ｇ）とナトリウムシアノボロハイドライド（０．２５６ｇ）の塩化メチレン（１０ｍｌ）中懸濁液に５℃でテトラヒドロフラン（５ｍｌ）を徐々に加える。混合物を５℃で１．５時間攪拌する。反応混合物を、ジイソプロピルエ−テル（２００ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、減圧下で乾燥する。粉末をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（塩化メチレン：酢酸：メタノ−ル：水＝３：１：１：１）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で留去する。
【０１０７】
残渣に水を加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、アセトニトリルを減圧下で留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．２１ｇ）を得る。
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００，１６２０，１２７０ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−１．５５（８Ｈ， ｍ），１．６５−２．６（９Ｈ， ｍ），２．９７（１Ｈ， ｍ），３．２０（１Ｈ， ｍ），３．２６−３．５２（１Ｈ， ｍ），３．７３（２Ｈ， ｍ），３．８６−４．６３（１４Ｈ， ｍ），４．６３−５．３６（９Ｈ， ｍ），６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５ 及び ８Ｈｚ），６．９２（１Ｈ， ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．２−７．３５（２Ｈ， ｍ），７．３５−７．６（３Ｈ， ｍ），７．６８（１Ｈ， ｍ），７．８−８．０（３Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．４２（１Ｈ， ｓ），８．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７１（１Ｈ， ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝１２３３（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析： Ｃ_５３Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ；４８．２５ Ｈ；６．３４ Ｎ；８．４９
実測値 ： Ｃ；４８．０６ Ｈ；６．２９ Ｎ；８．３１
【０１０８】
実施例 ４
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９−１．１（６Ｈ，ｍ）， １．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）， １．３−１．５（４Ｈ，ｍ）， １．７−２．１（５Ｈ，ｍ）， ２．２−２．４（４Ｈ，ｍ）， ２．９−３．１（２Ｈ，ｍ）， ３．４（１Ｈ，ｍ）， ３．７−４．５（１６Ｈ，ｍ）， ４．７−５．３（９Ｈ，ｍ）， ６．７−７．１（６Ｈ，ｍ）， ７．２２（１Ｈ，ｓ）， ７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．６−７．８（５Ｈ，ｍ）， ７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）， ８．８５（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２３１（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５３Ｈ_６９Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・３．５Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ５０．０４ Ｈ ； ６．０２ Ｎ ； ８．８７
実測値 ： Ｃ ； ５０．０５ Ｈ ； ６．２５ Ｎ ； ８．８１
【０１０９】
実施例 ５
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６３５， １２４７， １０４７ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）， １．２−１．６（１２Ｈ，ｍ）， １．６−２．６（９Ｈ，ｍ）， ３．０（１Ｈ，ｍ）， ３．２（１Ｈ，ｍ）， ３．４（１Ｈ，ｍ）， ３．７４（２Ｈ，ｍ）， ３．８３−４．６（１４Ｈ，ｍ）， ４．６５−５．４（９Ｈ，ｍ）， ６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７ 及び ８．２Ｈｚ）， ６．８９（１Ｈ，ｓ）， ７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）， ７．２３（１Ｈ，ｓ）， ７．４１（２Ｈ，ｍ）， ７．６−７．８（１Ｈ，ｍ）， ７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）， ８．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２８７（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５７Ｈ_７７Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・８Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４８．５７ Ｈ ； ６．６５ Ｎ ； ７．９５
実測値 ： Ｃ ； ４８．４１ Ｈ ； ６．２６ Ｎ ； ７．８９
【０１１０】
実施例 ６
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６３３， １２４７， １０４７ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， １．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）， １．３１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）， １．４５−２．６（１２Ｈ，ｍ）， ２．９７（１Ｈ，ｍ）， ３．１８（１Ｈ，ｍ）， ３．４０（１Ｈ，ｍ）， ３．７４（２Ｈ，ｍ）， ３．８３−５．４（２３Ｈ，ｍ），６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８９（１Ｈ，ｓ）， ７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｓ）， ７．２−７．６（３Ｈ，ｍ）， ７．６−７．８（１Ｈ，ｍ）， ７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．０５（１Ｈ，ｍ）， ８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２４５（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５４Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・７Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４８．６４ Ｈ ； ６．４３ Ｎ ； ８．４０
実測値 ： Ｃ ； ４８．７２ Ｈ ； ６．２５ Ｎ ； ８．２６
【０１１１】
実施例 ７
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６２５ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９１（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）， １．２８−１．４７（２Ｈ，ｍ）， １．５−２．６（１０Ｈ，ｍ）， ２．９７（１Ｈ，ｍ）， ３．１８（１Ｈ，ｍ）， ３．４０（１Ｈ，ｍ）， ３．７４（２Ｈ，ｍ）， ３．８７−５．４５（２３Ｈ，ｍ）， ６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）， ６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）， ６．９１（１Ｈ，ｓ）， ７．０５（１Ｈ，ｓ）， ７．１８−７．５８（５Ｈ，ｍ）， ７．６９（１Ｈ，ｍ）， ７．８−８．０（３Ｈ，ｍ）， ８．４２（１Ｈ，ｓ）， ８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２１９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５２Ｈ_６９Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・７Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４７．２０ Ｈ ； ６．３２ Ｎ ； ８．４７
実測値 ： Ｃ ； ４７．４３ Ｈ ； ６．３７ Ｎ ； ８．３４
【０１１２】
実施例 ８
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６２０， １２７２ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）， １．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）， １．２５−１．６（６Ｈ，ｍ）， １．６５−２．６（９Ｈ，ｍ）， ２．９７（１Ｈ，ｍ）， ３．２０（１Ｈ，ｍ）， ３．４０（１Ｈ，ｍ）， ３．７４（２Ｈ，ｍ）， ３．８７−５．５３（２３Ｈ，ｍ）， ６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７ 及び８．２Ｈｚ）， ６．９１（１Ｈ，ｓ）， ７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）， ７．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２及び ８．９Ｈｚ）， ７．２９（１Ｈ，ｓ）， ７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）， ７．４７（２Ｈ，ｍ）， ７．７０（１Ｈ，ｍ）， ７．８−８．０（３Ｈ，ｍ）， ８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）， ８．４２（１Ｈ，ｓ）， ８．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）， ８．８５（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２１９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５２Ｈ_６９Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値： Ｃ ； ４７．８５ Ｈ ； ６．２５ Ｎ ； ８．５８
実測値 Ｃ ； ４８．０３ Ｈ ； ６．０１ Ｎ ； ８．３９
【０１１３】
実施例 ９
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００， １６２０， １２４７， １０４５ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， １．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−１．５５（６Ｈ，ｍ）， １．６−２．１（５Ｈ，ｍ）， ２．１−２．６（４Ｈ，ｍ）， ２．９９（１Ｈ，ｍ）， ３．１９（１Ｈ，ｍ）， ３．４０（１Ｈ，ｍ）， ３．７４（２Ｈ，ｍ）， ３．８５−４．６（１４Ｈ，ｍ）， ４．６５−５．４０（９Ｈ，ｍ）， ６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７ 及び ８．２Ｈｚ）， ６．８９（１Ｈ，ｓ）， ７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）， ７．２３（１Ｈ，ｓ）， ７．４３（２Ｈ，ｍ）， ７．６−７．８（１Ｈ，ｍ）， ７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）， ８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ８．８４（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２４５（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５４Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・５Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．３９ Ｈ ； ６．２２ Ｎ ； ８．５３
実測値 ： Ｃ ； ４９．５１ Ｈ ； ６．２２ Ｎ ； ８．５３
【０１１４】
実施例 １０
実施例３と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ） ： ３３００， １６３２， １２４９， １０４７ ｃｍ^−１ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ０．９４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）， １．１−２．６（３５Ｈ，ｍ）， ２．９４（１Ｈ，ｍ）， ３．１７（１Ｈ，ｍ）， ３．４（１Ｈ，ｍ）， ３．７２（２Ｈ，ｍ）， ３．９−４．５（１２Ｈ，ｍ）， ４．６−５．３５（９Ｈ，ｍ）， ６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．７９（１Ｈ，ｓ）， ６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ７．０４（１Ｈ，ｓ）， ７．１９（１Ｈ，ｓ）， ７．３４（２Ｈ，ｍ）， ７．６７（１Ｈ，ｍ）， ８．０５（２Ｈ，ｍ）， ８．８３（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２０３（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５１Ｈ_８１Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・４Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４８．８７ Ｈ ； ７．１６ Ｎ ； ８．９４
実測値 ： Ｃ ； ４９．１７ Ｈ ； ７．０８ Ｎ ； ８．８１
【０１１５】
実施例１１
出発化合物（３ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に５℃でナトリウムシアノボロハイドライド（０．４６１ｇ）を徐々に加える。混合物を４０℃で１時間攪拌する。反応混合物を、ジイソプロピルエ−テル（１５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥する。粉末をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（塩化メチレン：酢酸：メタノ−ル：水＝３：１：１：１）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で溶媒を留去する。残渣に水を加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．２８ｇ）を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．２−１．５５（８Ｈ，ｍ），１．７−２．６（１０Ｈ，ｍ），２．９８（１Ｈ，ｍ），３．２２（１Ｈ，ｍ），３．４６（１Ｈ，ｍ），３．６４−４．６２（１５Ｈ，ｍ），４．７−５．５（９Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７ 及び ８．２Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．２−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．５２（２Ｈ，ｍ），７．６（１Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ， ｍ），７．８２−８．０５（３Ｈ， ｍ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）８．４３（１Ｈ，ｓ），８．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝１２１７ （Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５３Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＳＯ_２０・５Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．５３ Ｈ ； ６．３５ Ｎ ； ８．７２
実測値 ： Ｃ ； ４９．６６ Ｈ ； ６．５１ Ｎ ； ９．１０
【０１１６】
実施例 １２
実施例１１と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．９−１．２（９Ｈ，ｍ）， １．３−１．５（４Ｈ，ｍ）， １．７−２．４（１０Ｈ，ｍ）， ２．９−３．４（４Ｈ，ｍ）， ３．５−３．６（１Ｈ，ｍ）， ３．７−４．１（７Ｈ，ｍ）， ４．１−４．５（８Ｈ，ｍ）， ４．７−４．８（１Ｈ，ｍ）， ４．８−４．９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）， ５．０−５．１（１Ｈ，ｍ）， ５．１−５．３（３Ｈ，ｍ）， ５．３−５．４（１Ｈ，ｍ）， ６．７−７．１（６Ｈ，ｍ）， ７．２３（１Ｈ，ｓ）， ７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）， ７．５−７．８（５Ｈ，ｍ）， ７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）， ８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）， ８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）， ８．７１（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２１５（Ｍ^＋＋Ｎａ）
【０１１７】
実施例１３
出発化合物（５．３１ｇ）のトリフルオロ酢酸（１００ｍｌ）溶液に室温でナトリウムシアノボロハイドライド（０．９２ｇ）を徐々に加える。混合物を同温で１時間攪拌する。反応混合物を、ジイソプロピルエ−テル（７５０ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、減圧下で乾燥する。粉末をシリカゲル（１ｌ）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（塩化メチレン：酢酸：メタノ−ル：水＝３：１：１：１）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で溶媒を留去し，目的化合物（２．３６ｇ）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ） ： ３３００， １６２８， １２０１ ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０８（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−１．５（１０Ｈ， ｍ）， １．５８−２．６（１０Ｈ， ｍ）， ２．９６（１Ｈ， ｍ），３．０−３．６（２Ｈ， ｍ）， ３．６５−４．５３（１５Ｈ， ｍ）， ４．６−５．４６ （９Ｈ， ｍ）， ６．４０（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．５９（１Ｈ， ｓ）， ６．６１（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝ ８．１Ｈｚ）， ６．８７（１Ｈ， ｓ）， ６．９６（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ７．１５−７．７５（３Ｈ， ｍ） ７．８４（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．９Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ， ｍ）， ８．４３（１Ｈ， ｍ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１０７９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
【０１１８】
実施例１４
出発化合物（１．４６９ｇ）のトリフルオロ酢酸（１４．７ｍｌ）溶液に室温でナトリウムシアノボロハイドライド（０．４５２ｇ）を徐々に加える。混合物を同温で１時間攪拌する。反応混合物を、ジエチルエ−テル（４００ｍｌ）で粉砕する。沈殿を濾取し、減圧下で乾燥する。粉末に水（５０ｍｌ）を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のメタノール水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でメタノールを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．８５ｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０， １６００， １０６０ ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８６（ ３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， １．１６（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．７Ｈｚ）， １．２３−１．６３（８Ｈ， ｍ）， １．６３−２．１（５Ｈ， ｍ）， ２．１−２．６７（５Ｈ， ｍ）， ２．９５−３．６７（３Ｈ， ｍ）， ３．６７−４．７８（１６Ｈ， ｍ）， ４．７８−６．１１（１０Ｈ， ｍ），６．３８（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．９Ｈｚ）， ６．５−６．７（２Ｈ， ｍ）， ７．１−７．７（４Ｈ， ｍ）， ７．７−８．３２（５Ｈ， ｍ）， ８．３２−９．１（５Ｈ， ｍ）
ＦＡＢ−ＭＳ：ｅ／ｚ＝１１１５．６（Ｍ^＋−ＨＣＯＣＯＯＨ＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５５Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_２０・５Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ５１．６３ Ｈ ； ６．５３ Ｎ ； ８．７５
実測値 ： Ｃ ； ５１．８６ Ｈ ； ６．７１ Ｎ ； ８．８６
【０１１９】
実施例 １５
実施例１４と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０， １６００， １０６０ ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）， １．２−１．５３（１０Ｈ， ｍ）， １．５９−２．１（５Ｈ， ｍ）， ２．１３−２．６８（４Ｈ，ｍ）， ２．９６（１Ｈ， ｍ）， ３．０−３．６５（２Ｈ， ｍ）， ３．７−４．５５ （１６Ｈ，ｍ）， ４．６−５．６８（１０Ｈ， ｍ）， ６．４０（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．５９（１Ｈ， ｓ）， ６．６１（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．１Ｈｚ）， ６．９５（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ）， ７．５１（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８Ｈｚ）， ７．７８（ｂｒｓ， １Ｈ）， ７．９０（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝ ８．８Ｈｚ）， ８．１３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７Ｈｚ）， ８．３５−８．６（２Ｈ， ｍ）， ８．６８（１Ｈ， ｓ）， ８．７３（１Ｈ， ｓ）

【０１２０】
実施例１６
出発化合物（１．０ｇ）とトリエチルシラン（０．９４ｇ）の塩化メチレン（５．０ｍｌ）中懸濁液にトリフルオロ酢酸（１０ｍｌ）を徐々に加え、窒素雰囲気下で３０分間攪拌する。反応混合物の溶媒をを減圧下で留去する。残渣にりん酸塩緩衝液を加え、ｐＨ６．８６に調整し、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、３０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（０．６１ｇ）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ） ： ３３００， １６６４， １６３１， １４４４， １２７０， １２４７， １０４７ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．３−１．５（６Ｈ，ｍ）， １．６−２．４（１０Ｈ，ｍ），２．９−３．３（２Ｈ，ｍ）， ３．４−３．５（１Ｈ，ｍ）， ３．７−４．１（７Ｈ，ｍ）， ４．１−５．６（８Ｈ，ｍ）， ４．７−５．３（７Ｈ，ｍ）， ５．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ６．７−７．２（７Ｈ，ｍ）， ７．２３（１Ｈ，ｓ）， ７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）， ７．５−７．８（６Ｈ，ｍ）， ７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ８．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）， ８．７２（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２２９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５４Ｈ_７１Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．３１ Ｈ ； ６．４０ Ｎ ； ８．６１
実測値 ： Ｃ ； ４９．３８ Ｈ ； ６．３６ Ｎ ； ８．５２
【０１２１】
実施例 １７
実施例１１と同様にして目的化合物を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８６（３Ｈ， ｔ， Ｊ＝６．８Ｈｚ）， ０．９６（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．７Ｈｚ）， １．０９（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．０Ｈｚ）， １．２−１．５（１２Ｈ， ｍ）， １．６−２．５（８Ｈ， ｍ）， ２．９−３．５（４Ｈ， ｍ）， ３．７−４．１（５Ｈ，ｍ）， ４．１−４．５（８Ｈ， ｍ）， ４．７−４．５（７Ｈ， ｍ）， ６．７−７．１（６Ｈ， ｍ）， ７．２４（１Ｈ， ｓ）， ７．４０（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．５−７．８（６Ｈ， ｍ）， ７．９４（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．１２（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．６１（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝７．７Ｈｚ）， ８．７２（１Ｈ， ｓ），
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２７１．１（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５７Ｈ_７７Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・７Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．７８ Ｈ ； ６．６７ Ｎ ； ８．１５
実測値 ： Ｃ ； ４９．９４ Ｈ ； ６．８０ Ｎ ； ８．１６
【０１２２】
実施例 １８
実施例１１と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ−Ｐｅｌｅｔ） ： １６３１， １５３７， １５１５， １４９４， １４４０， １２４５， １０４５， ８０４ ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８−１．０７（１５Ｈ， ｍ），１．１０−１．１８（４Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．３Ｈｚ）， １．２−１．４（２Ｈ， ｍ）， １．５−１．９（２Ｈ， ｍ）， ２．２−２．４（２Ｈ， ｍ）， ２．９−３．１（１Ｈ， ｍ）， ３．１−３．３（２Ｈ，ｍ）， ３．７−３．９（１Ｈ， ｍ）， ３．９−４．１（６Ｈ， ｍ），４．２−４．６（７Ｈ， ｍ）， ５．７−５．８（１Ｈ， ｍ）， ４．９０（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．４Ｈｚ）， ５．０−５．１（１Ｈ， ｍ）， ５．１−５．２（４Ｈ， ｍ）， ５．３−５．４（１Ｈ， ｍ）， ６．７−６．８（ ２Ｈ，ｍ）， ６．８６（１Ｈ，ｓ）， ６．９９（２Ｈ， ｓ）， ７．０３（２Ｈ， ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．２２（１Ｈ， ｓ）， ７．４−７．５（１Ｈ， ｍ）， ７．６−７．８（６Ｈ， ｍ）， ７．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ８．２（１Ｈ， ｍ）， ８．６（ １Ｈ， ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ８．７６（１Ｈ， ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２２９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５４Ｈ_７１Ｎ_５ＮａＯ_２０Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．３１ Ｈ ； ６．３６ Ｏ ； ８．５２
実測値 ： Ｃ ； ４９．１２ Ｈ ； ６．２２ Ｏ ； ８．４８
【０１２３】
実施例１９
出発化合物（１０ｇ）とナトリウムシアノボロハイドライド（１．２５ｇ）の塩化メチレン（１００ｍｌ）中懸濁液に５℃でテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）を徐々に加える。混合物を５℃で１時間攪拌する。反応混合物の溶媒をを減圧下で留去する。残渣に水を加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐＨ８．５に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。粗生成物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して粗粉末（９．７ｇ）を得る。粗粉末（１．５ｇ）をＣ_１８μボンダパック（Ｂｏｎｄａｐａｋ）樹脂（ウオ−タ−アソシエ−ツ社製）を使用する分取ＨＰＬＣに付し、ＬＣ−８Ａポンプ（島津製作所製）を使って、１分間１００ｍｌの流速でアセトニトリル／ｐＨ７りん酸塩緩衝液（４０：６０）からなる溶媒系で溶出する。そのカラムを２４０ｎｍでＵＶ探知機で監視する。保持時間２４．１分の主たる化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣をｐＨ８．５に１Ｎ水酸化ナトリウムで調整し、（商標：山村化学研究所製）ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭ Ｓ−５０）のカラムクロマトグラフィ−に付し、６０％のアセトニトリル溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して主生成物（０．７７ｍｇ）を得る。主たる目的化合物の場合と同様にして、保持時間２９．８６分の副生成物（９８ｍｇ）を得る。
【０１２４】
主生成物
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ ６．７Ｈｚ），０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），１．２−１．６（８Ｈ，ｍ），１．６２−２．１３（５Ｈ，ｍ），２．１３−２．６２（４Ｈ，ｍ），２．９７（１Ｈ，ｍ），３．１８（１Ｈ，ｍ），３．４０（１Ｈ，ｍ），３．７４（２Ｈ，ｍ），３．８３−４．６３（１４Ｈ，ｍ），４．６３−５．４０（９Ｈ，ｍ），６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７， 及び ８．２Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｓ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｓ），７．４１（２Ｈ，ｍ），７．６−７．８（１Ｈ，ｍ），７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．８４（１Ｈ，ｓ）
【０１２５】
副生成物
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００，１６２５，１２４０，１０４５ ｃｍ^−１
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝１２５９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５５Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_２１Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．１０ Ｈ ； ６．３７ Ｎ ； ８．３３
実測値 ： Ｃ ； ４９．０２ Ｈ ； ６．３２ Ｎ ； ８．３４
【０１２６】
２９．８６分の保持時間の副生成物（９８ｍｇ）は主生成物と同様の方法に従って得る。
ＩＲ （Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００，１６２０，１２４５ ｃｍ^−１
ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）１．０９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），１．１８−１．５２（８Ｈ，ｍ），１．６−２．５９（１０Ｈ，ｍ），２．９７（１Ｈ，ｍ），３．１８（１Ｈ，ｍ），３．４０（１Ｈ，ｍ），３．６５−４．５９（１５Ｈ，ｍ），４．６５−５．４５（９Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７ 及び ８．１Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｓ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｍ），７．６３−７．８（１Ｈ，ｍ），７．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ ＝１２４３（Ｍ^＋＋Ｎａ）
元素分析 ： Ｃ_５５Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_２０Ｓ・７Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ４９．０３ Ｈ ； ６．５１ Ｎ ； ８．３２
実測値 ： Ｃ ； ４９．２４ Ｈ ； ６．２５ Ｎ ； ８．４４
【０１２７】
実施例２０
出発化合物（１ｇ）とメルカプト酢酸（２９０μｌ）の混合物にトリフルオロ酢酸（１０ｍｌ）を加え、混合物を窒素雰囲気下室温で１６時間攪拌する。混合物の溶媒を、減圧下で留去する。残渣を水中（１０ｍｌ）に注ぎ、濾過する。沈殿をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（塩化メチレン：酢酸：メタノ−ル：水＝３：１：１：１）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で溶媒を留去する。残渣を１Ｎ水酸化ナトリウムでｐＨ８．０に調整し、ＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、混合溶媒（アセトニトリル：水＝６０：４０）で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。残渣を凍結乾燥して目的化合物（５１５ｍｇ）を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００，１６６２，１６２７，１２０３ ｃｍ^−１
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２０５（Ｍ^＋）
元素分析 ： Ｃ_５５Ｈ_７３Ｎ_８ＮａＯ_１９Ｓ・５Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ５１．００ Ｈ ； ６．４６ Ｎ ； ８．６５
実測値 ： Ｃ ； ５１．１５ Ｈ ； ６．３５ Ｎ ； ８．５６
【０１２８】
実施例 ２１
実施例２０と同様にして目的化合物を得る。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００，１６７２，１６５８，１６２９， １５３０，１４３８，１２７０，１２１４ｃｍ^−１
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２２０（Ｍ^＋＋１）
元素分析 ： Ｃ_５６Ｈ_８７Ｎ_８ＮａＯ_２５Ｓ・６Ｈ_２Ｏ として、
計算値 ： Ｃ ； ５０．６７ Ｈ ； ６．６１ Ｎ ； ８．４４
実測値 ： Ｃ ； ５０．６７ Ｈ ； ６．４７ Ｎ ； ８．３８
【０１２９】
実施例２２
出発化合物の（２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）溶液にモレキュラシ−ブ４Åの存在下にグリオキシル酸（０．７４４ｇ）を室温で加える。混合物を同温で７時間攪拌する。反応混合物を、酢酸エチルに加えて生じた粉末を濾取し、減圧下で乾燥する。粉末を水に加え、ｐＨ７．５に調整する。水溶液をＯＤＳ（ＹＭＣ−ｇｅｌ ＯＤＳ−ＡＭＳ−５０）（商標：山村化学研究所製）を用いたカラムクロマトグラフィ−に付し、２０％のアセトニトリル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下でアセトニトリルを留去する。 残渣を凍結乾燥して、目的化合物（１．２６ｇ）を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ， Ｐｅｌｌｅｔ） ： ３３５０， １６５８， １６３１， １２４８ ｃｍ^−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６， δ） ： ０．８８（３Ｈ，ｔ Ｊ＝６．６Ｈｚ）， ０．９５（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝６．６Ｈｚ） １．１８（３Ｈ， ｄ， Ｊ＝５．５Ｈｚ）， １．２３−１．５５（８Ｈ， ｍ，）， １．５５−２．６（９Ｈ， ｍ）， ３．０９（１Ｈ， ｍ）， ３．１−３．５（２Ｈ， ｍ）， ３．６−５．８（２７Ｈ， ｍ）， ６．７４（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ６．８３（１Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．２Ｈｚ）， ７．０３（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ）， ７．０５（１Ｈ， ｓ）， ７．２３−７．５５（３Ｈ， ｍ）， ７．６８（２Ｈ， ｄ， Ｊ＝８．７Ｈｚ）， ７．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）， ８．０−８．２（２Ｈ， ｍ）， ８．４５（１Ｈ， ｍ）， ８．８４（１Ｈ，ｓ）
ＦＡＢ−ＭＳ ： ｅ／ｚ＝１２５９（Ｍ^＋＋Ｎａ）
【０１３０】
次式の公知の化合物［Ａ］またはその塩は、製造法１、５と同様の方法により、次式の化合物［Ｂ］またはその塩に変えることができることに留意すべきである。

（式中、Ｒ^ａはアシル基、
Ｒ^ｂ ，Ｒ^ｃ ，Ｒ^ｆ ，Ｒ^ｇ はそれぞれ独立して水素またはヒドロキシ基、
Ｒ^ｄ はヒドロキシ基 、アシルオキシ基、ホスホリルオキシ基 またはスルホニルオキシ基、
Ｒ^ｅ は水素またはメチル基、
Ｒ^ｆ _１ は水素または低級アルコキシ基、
Ｒ^ｈ は１個以上の好適な置換基をもっていてもよい低級アルキルをそれぞれ意味する）
【０１３１】
化合物［Ａ］は特開平１−１６３１７９，３−１６３０９６，４−２１７６９４，４−２１７６９５，４−２１７６９６，４−２１７６９７，４−２１７６９８，４−２１７６９９の公報で公開されている。

Claims (7)

1. 式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１は水素、
   Ｒ^２はアシル基、
   Ｒ^３はヒドロキシ基、
   Ｒ^４はヒドロキシ基またはヒドロキシスルホニルオキシ基、
   Ｒ^５は水素またはヒドロキシ、アシル、ジ（低級）アルキルアミノおよび環状のアミノからなる基から選ばれた置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基、および
   Ｒ^６は水素、またはヒドロキシ基をそれぞれ意味する。］
   で示される化合物およびその塩。
2. Ｒ^２がｉ）低級アルコキシ、ｉｉ）高級アルコキシまたはｉｉｉ）１個以上の低級アルコキシまたは高級アルコキシを有していてもよいアリール基から選ばれた１個以上の置換基を有していてもよいアロイル基；または高級アルカノイル基である請求項１記載の化合物。
3. Ｒ^２が、それぞれが低級アルコキシ；高級アルコキシ；および１〜３個の高級アルコキシを有していてもよいフェニルからなる基から選ばれた１〜３個の置換基を有していてもよいベンゾイル基またはナフトイル基、
   Ｒ^５が水素である請求項２記載の化合物。
4. Ｒ^２が高級アルコキシを有するベンゾイル基、高級アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、低級アルコキシを有するナフトイル基、または高級アルコキシを有するナフトイル基、
   Ｒ^６が水素である請求項３記載の化合物。
5. Ｒ^２が高級アルコキシを有するベンゾイル基、高級アルコキシを有するフェニルを有するベンゾイル基、低級アルコキシを有するナフトイル基、または高級アルコキシを有するナフトイル基、
   Ｒ^６がヒドロキシ基である請求項３記載の化合物。
6. （１） 式：
   

   

   ［式中、Ｒ^２はアシル基、
   Ｒ^３はヒドロキシ基、
   Ｒ^４はヒドロキシ基またはヒドロキシスルホニルオキシ基、
   Ｒ^５は水素またはヒドロキシ、アシル、ジ（低級）アルキルアミノおよび環状のアミノからなる基から選ばれた置換基を１個以上有していてもよい低級アルキル基、および
   Ｒ_ａ ^６はヒドロキシ基またはアシル（低級）アルキルチオ基をそれぞれ意味する。］
   で示される化合物またはその塩を還元反応に付して、式：
   

   

   ［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｒ^１は水素、および
   Ｒ^６は水素、またはヒドロキシ基を意味する。］
   で示される化合物またはその塩を得るか、または
   （２） 式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ前と同じ意味］で示される化合物
   

   

   またはその塩を還元反応に付して、式：
   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５はそれぞれ前と同じ意味］
   で示される化合物またはその塩を得るか、または
   （３） 式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ前と同じ意味］
   で示される化合物またはその塩をアルキル化反応に付して、式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ前と同じ意味、Ｒ_ａ ^５はヒドロキシ、アシル、ジ（低級）アルキルアミノおよび環状のアミノからなる基から選ばれた置換基を１個以上有してもよい低級アルキル基を意味する。］
   で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする前記ポリペプチド化合物［Ｉ］の製造法。
7. 有効成分として、請求項１に記載の化合物またはその塩を含有することを特徴とする抗真菌剤。