JP3549176B2 - 液晶表示装置、およびカラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、投射型カラー液晶表示装置の小型軽量化、低消費電力化および低価格化を図り、ビデオカメラやデジタルスチールカメラに用いられるカラー液晶ビューファインダ、ヘッドマウントディスプレイ等に好適に用いられる低消費電力のカラー液晶表示装置に関する。
【０００２】
また本発明は、超低消費電力かつ高画質が要求される携帯用カラー液晶表示装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、高画像化、高精細化が進められており、パーソナルコンピュータ用ディスプレイなどの中小型ディスプレイとしては、ブラウン管に換わり主流になりつつある。
【０００４】
カラー液晶表示装置を用いた大型ディスプレイとしては、投射型液晶表示装置（液晶プロジェクタ）が製品化されており、このプロジェクション方式は、大型化が困難なＴＦＴ液晶表示装置を小さく製造し得るという利点を有している。現在主流となっている液晶プロジェクタにおいては、光源の白色光を光の３原色に分解し、それぞれに対応する３つの画素で三原色の画像を形成して、１つのスクリーンに焦点を合わせる光学系を用いることによりカラー画像を得ている。このような従来の三板式プロジェクタにおいては、光学系がスペースをとるので重く、高価であるという問題を伴なう。このような問題を解決する目的で、１つの液晶セルにそれぞれが光の三原色のみを透過し、その補色を吸収するカラーフィルタパターンを形成した単板式プロジェクタについても検討されている。
【０００５】
しかしながら、このような単板式プロジェクタでは、従来の三板式プロジェクタに比べて３倍以上明るい光源が必要となるため、消費電力が高くなってしまう。また、カラーフィルタにおいて吸収された光によって、カラーフィルタの色劣化が引き起こされて信頼性が低下するため商品化には至っていない。
【０００６】
カラー液晶表示装置を用いた小型ディスプレイとしては、ビデオカメラやデジタルスチールカメラに用いられるビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイ等がある。ビデオカメラやデジタルスチールカメラは、プロ仕様を除いては、携帯使用を前提とするものであるため、電池容量の要求から低消費電力化を図ることが望まれている。また、ヘッドマウントディスプレイについても、装着しやすさを考慮するとコードレスであることが好ましく、それゆえ低消費電力化が望まれている。
【０００７】
液晶プロジェクタ、液晶ビューファインダ、ヘッドマウントディスプレイに共通する問題として次のような点が挙げられる。すなわち、高精細であるがゆえに、カラーフィルタを液晶セルに内蔵した場合には特に画素ピッチが小さくなり、これに起因して開口率が低く、光利用効率が悪いことである。光利用効率が悪いことは、光源の消費電力の増加につながる。
【０００８】
上述したような状況から、高精細のフルカラー液晶表示装置の低消費電力化を実現する技術の確立が求められていた。
【０００９】
一方、移動通信技術の進歩により、液晶表示装置の携帯端末としての展開が期待されている。液晶表示装置を携帯端末として用いるためには、電池容量の点から消費電力が小さいことが要求される。このため、従来、携帯端末としては、モノクロまたはマルチカラーの反射型液晶表示装置を用いることが一般的であった。しかしながら、インターネット等の普及により、携帯端末においても高画質のフルカラー画像情報の表示機能を備えることが必須となっている。上述したような状況により、従来の反射型液晶表示装置の画質ではユーザーの満足を得られず、電池容量を犠牲にしても、バックライトを必要とする透過型のカラー液晶表示装置を用いざるを得ない状況になっている。
【００１０】
現在主流となっているＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ）液晶を用いた透過型液晶表示装置においては、その消費電力の約６０％を光源であるバックライトが占めている。その原因として、バックライト光のほとんどが、偏光板およびカラーフィルタで吸収されるため、十分な明るさを確保するには偏光板およびカラーフィルタにおける光のロスを見込んだバックライト光量が必要とされるということがある。入射光側に偏光板を必要とする透過型液晶表示装置においては、偏光板の吸収のためにバックライト光の利用効率は、原理的に５０％に制限される。さらにカラー表示とするためには、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルターを通る必要があるため、光の利用効率はさらに１／３となり、すなわち、偏光板でのロスと併せて、光の利用効率は原理的に１６．７％に制限されてしまう。
【００１１】
最近、偏光変換光学系を内蔵するバックライトにより、偏光板での吸収による光ロスを低減することが試みられている（例えば、特開平７−３６０３２号公報、特開平７−３６０２５号公報）。しかしながら、これらにおいても、カラーフィルターでの吸収における光ロスの問題は依然として残っていた。
【００１２】
以上の状況から、従来の透過型液晶表示装置の画質を保ちつつ、低消費電力のフルカラー液晶表示装置の実現が求められていた。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、高画質かつ低消費電力のカラー液晶表示装置が望まれているものの、未だ得られていないのが現状である。
【００１４】
そこで本発明は、バックライトを必要とする高精細のカラー液晶表示装置において、カラーフィルタおよびブラックマトリックスによる光ロスを低減することにより、大幅な低消費電力化を図り、低消費電力の高精細のカラー液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、表面に形成された透明電極および非開口部を有する第１の基板と、前記第１の基板に離間・対向して配置され、カラーフィルター作用を有する部材および透明電極が形成された第２の基板と、前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系とを有し、前記カラーフィルター作用を有する部材は、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされ、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２層以上積層してなる積層体により構成されたカラー反射層積層体であり、前記第１の基板における前記非開口部に対応して、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層が３層以上積層された領域を有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。また本発明は、表面に透明電極が形成された第１の基板と、前記第１の基板に離間・対向して配置され、カラーフィルター作用を有する部材および透明電極が形成された第２の基板と、前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系と、前記カラーフィルター作用を有する部材の前記第１の基板側に設けられ、このカラーフィルターを透過する色の波長領域において、位相差が＋π／４または−π／４に設定された位相差層とを有し、前記カラーフィルター作用を有する部材は、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされ、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２層以上積層してなる積層体により構成されたカラー反射層積層体であることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１６】
また本発明は、表面に形成された透明電極および非開口部を有する第１の基板と、前記第１の基板に離間・対向して配置され、透明電極およびカラー反射層積層体が形成された第２の基板と、前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、前記第２の基板における前記カラー反射層積層体の前記第１の基板側、および前記第１の基板のいずれかに設けられ、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされたカラーフィルター層と、前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系とを具備し、前記カラー反射層積層体は、前記２つの電極で制御される表示単位に対応してパターニングされており、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２種以上積層してなる積層体により構成され、前記第１の基板における前記非開口部に対応して、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層が３層以上積層された領域を有し、前記カラー反射層積層体を透過する色と、前記カラーフィルター層を透過する色とが対応し、かつ、前記カラー反射層積層体で反射される色と前記カラーフィルター層で吸収する色とが対応していることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
またさらに本発明は、表面に透明電極が形成された第１の基板と、前記第１の基板に離間・対向して配置され、透明電極およびカラー反射層積層体が形成された第２の基板と、前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、前記第２の基板における前記カラー反射層積層体の前記第１の基板側、および前記第１の基板のいずれかに設けられ、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされたカラーフィルター層と、前記カラー反射層積層体の前記第１の基板側に設けられ、前記カラーフィルターを透過する色の波長領域において、位相差が＋π／４または−π／４に設定された位相差層と、前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系とを具備し、前記カラー反射層積層体は、前記２つの電極で制御される表示単位に対応してパターニングされており、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２種以上積層してなる積層体により構 成され、前記カラー反射層積層体を透過する色と、前記カラーフィルター層を透過する色とが対応し、かつ、前記カラー反射層積層体で反射される色と前記カラーフィルター層で吸収する色とが対応していることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１７】
【発明の実施の形態】
（実施例Ｉ）
まず、図１に第１の発明の液晶表示装置におけるカラーフィルタ作用を有する部材の積層構造を模式的に示す。図示するカラーフィルター作用を有する部材においては、基板１１上に、Ｂ反射層１３、Ｇ反射層１４およびＲ反射層１５がそれぞれパターニングされて積層されている。これらのＢ反射層１３、Ｇ反射層１４およびＲ反射層１５の積層によってカラーフィルタ作用を有する部材（カラー反射層積層体）１６が構成されている。なお、ブラックマトリックス（ＢＭ）１２は、カラーフィルターの合わせズレによる光もれを抑える目的で設けられたものである。
【００１８】
なお、従来のカラーフィルターは、Ｒｅｄ（Ｒ）、Ｇｒｅｅｎ（Ｇ）、Ｂｌｕｅ（Ｂ）を透過し、それぞれの補色を吸収する吸収型の単層カラーパターンで形成されたものであった。
【００１９】
本発明においては、光の三原色であるＲ、Ｇ、Ｂをそれぞれ反射するカラー反射層を積層することにより、光の三原色を一色ずつ引き算して、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンを形成し、反射した色をバックライト光学系の反射板で再び別の画素に入射させることにより再利用し、原理的にカラーフィルターによる光ロスをなくした構造としている。カラー反射層積層体としては、コレステリック液晶層による選択反射波長板を用い、そのカイラルピッチを異ならせることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長領域を選択することが可能である。
【００２０】
ここで、本実施例の液晶表示装置におけるカラーフィルタの光利用効率向上の原理を模式的にを図２に示す。図２に示すように、Ｇ反射層１４とＢ反射層１３との２層が積層された領域では、カラー反射板によりＧおよびＢの選択反射されてＲのみが透過するので、Ｒ画素領域に対応する。また、Ｂ反射層１３とＲ反射層１５との２層が積層された領域では、カラー反射板によりＢおよびＲが選択反射されてＧのみが透過するのでＧ画素領域に対応する。さらに、Ｒ反射層１５とＧ反射層１４との２層が積層された領域では、カラー反射板によりＲとＧとが選択反射されてＢのみが透過するのでＢ画素領域に対応する。
【００２１】
なお、Ｂ反射層１３、Ｇ反射層１４およびＲ反射層１５の３層が積層された領域では、Ｂ、ＧおよびＲの全ての光が反射されるのでブラックマトリックスに相当する。
【００２２】
こうしてカラー反射板で反射された光は、いずれもバックライト光源側に戻される。光源の後方に反射部材を配置することにより、再度、光をカラー反射層に向けることができる。
【００２３】
本発明の液晶表示装置は、投射型液晶プロジェクタに好ましく適用することができる。すなわち、前記バックライト光学系は、光源と、この光源の後方に配置された反射部材とを含み、この反射部材は、前記光源を取りまくように形成された反射鏡であり、前記光源と前記第２の基板との間にレンズが配置され、さらに投射用スクリーンを具備する液晶表示装置である。
【００２４】
プロジェクタに適用することにより、従来の単板式で問題となっていたカラーフィルター色素が色を吸収することにより劣化を、非吸収型のカラーフィルターにより回避することが可能である。
【００２５】
またさらに、本発明の液晶表示装置は、液晶ビューファインダーやヘッドマウントディスプレイに適用することができる。すなわち、前記バックライト光学系は導光板を有し、前記光源はこの導光板の端面側に設けられ、前記光源と前記第２の基板との間に透光性拡散板が設けられ、前記第１の基板側にレンズを有し、前記第１および第２の基板とこれらに挟持された液晶層とを含む液晶セルからレンズに至る周囲が、遮光筒により囲まれている液晶表示装置である。
【００２６】
このように遮光筒を設けることにより、外光の反射板での映り込みの問題を回避することができる。
【００２７】
また本発明の液晶表示装置における非開口部は、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を、３層以上積層してなるカラー反射層積層体により構成することができる。
【００２８】
高精細のカラー液晶表示装置においては、開口率低下に起因したバックライト光の利用効率の低下が特に問題となっていたが、上述のような構成とすることによって、この問題を回避することができた。具体的には、対向するスイッチング素子基板の配線部等に対応する部分を、Ｒ、Ｇ、Ｂを反射する層を３層以上重ねることにより構成した液晶表示装置である。Ｒ、Ｇ、Ｂを反射する層を積層したことによって、この領域では可視光領域全ての光が反射される。こうして反射した色をバックライト光学系の反射板で反射して、再度別の画素に入力させることにより再利用して、原理的に遮光部による光ロスをなくした構造とすることが可能となった。
【００２９】
本発明の液晶表示装置におけるカラー反射層積層体を構成するそれぞれのコレステリック液晶層は、カイラルピッチが同一でカイラル方向が異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対とすることができる。
【００３０】
本発明者らは、コレステリック液晶層による選択反射層が、そのカイラル方向に対応した円偏光成分を反射することに注目して、上述のような構成のカラー反射層積層体を得た。すなわち、カイラルピッチが同一でカイラル方向が右回りのコレステリック液晶層と左回りのコレステリック液晶層とを１対とし、このような液晶層の対を２つ以上積層させることによって、カラー反射層積層体を構成した。これによって、右円偏光と左円偏光との両成分を反射する、換言すれば、光の偏光状態によらず、カイラルピッチに対応した波長の全てをカラー反射層積層体で選択反射することが可能となった。この方式は、液晶表示モードによらず、全ての方式に適用することができる。
【００３１】
本発明の液晶表示装置において、前記第１および第２の基板と、これらに挟持された液晶層とにより構成される液晶セルの表示方式が、円偏光選択性を有する方式である場合には、次のような構成とすることができる。すなわち、前記カラー反射層積層体におけるプレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向が同一方向であり、カラー反射層積層体と光源との間には、前記カラー反射層積層体とカイラル方向が異なるコレステリック液晶層からなる白色反射層を設けた構成である。
【００３２】
かかる構成は、ＯＮ／ＯＦＦ制御用の液晶としてコレステリック液晶を用い、電圧印加により円偏光選択波長および透過を制御する液晶表示方式において、前述のＯＮ／ＯＦＦ制御用のコレステリック液晶とはカイラル方向が反対のコレステリック液晶からなる白色反射層を、カラー反射層積層体と光源との間に配置したものである。この白色反射層によって、液晶セルへの入射光を特定の方向の白色円偏光に制限し、さらに、前記白色反射層とはカイラル方向が反対の（すなわち、ＯＮ／ＯＦＦ制御用のコレステリック液晶とはカイラル方向が同一の）コレステリック選択反射層積層体によって、カラーフィルターパターンを構成している。これらの構成としたことにより、ＯＮ／ＯＦＦ制御用のコレステリック液晶層への入射光を、特定の方向の円偏光のＲ、Ｇ、Ｂとすることによりカラー表示を可能としたものである。
【００３３】
白色反射層で反射された円偏光は、バックライト光学系の反射板で反射され位相がπずれて、円偏光の方向が逆転し、セルに入射することにより再利用される。コレステリック選択反射層積層体で反射された光は、この選択反射層積層体と反射板との間を２往復して円偏光の方向が元に戻り、セルに入射することにより再利用される。
【００３４】
あるいは、本発明の液晶表示装置の液晶セルにおける液晶表示方式は、入射光が一定方向に偏光していることを必要とする方式としてもよく、この場合には、次の構成とすることができる。すなわち、前記カラー反射層積層体におけるプレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向が同一方向であり、前記カラー反射層積層体と前記液晶層との間に液晶性高分子からなる位相差層が設けられ、前記カラー反射層積層体と前記光源との間には、カラー反射層積層体を構成するコレステリック液晶層とはカイラル方向が異なるコレステリック液晶層からなる白色反射層が設けられた構造である。前述の位相差層は、前記カラーフィルタの透過する色の波長領域において、位相差が＋π／４または−π／４に設定されている。
【００３５】
かかる構成においては、入力光が一定方向に偏光していることを必要とする液晶表示方式を用いる場合に、コレステリック液晶選択反射板での右円偏光または左円偏光の選択性を、液晶層との間のλ／４板を介在させることにより、所望の方向の直線偏光の選択性へ変換したものである。
【００３６】
本発明の液晶表示装置に用いられるカラーフィルター作用を有する部材を含む基板（以下、カラーフィルター基板と称する。）は、次のような構成とすることができる。すなわち、基板と、前記基板上に形成され、表示単位に対応してパターニングされたカラーフィルター作用を有する部材と、液晶駆動用の電極とを具備し、前記カラーフィルター作用を有する部材が、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２層以上積層してなる積層体であるカラー反射層積層体で構成されたカラーフィルター基板である。
【００３７】
なお、上述した構成のカラーフィルター基板は、液晶表示装置のみならず、無機ＰＬＺＴ薄膜を用いた光シャッターによるディスプレイにも適用であり、この場合には、基板として薄膜トランジスタを用いたＰＬＺＴシャッターアレイを用いることが有効である。
【００３８】
また、前述の構成のカラーフィルター基板の非開口部は、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層の３層以上の積層体からなるカラー反射層積層体から構成することができる。このような構造とすることによって、開口率低下によるバックライト光の利用効率低下の問題を回避することが可能となった。
【００３９】
前述のカラー反射層積層体を構成するそれぞれのコレステリック液晶層は、カイラルピッチが同一でカイラル方向が異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対とすることができる。この場合には、偏光状態によらず、Ｒ、Ｇ、Ｂを透過するカラーパターンを得ることが可能である。
【００４０】
このような構成のカラーフィルター基板は、以下のような方法で製造することができる。すなわち、基板上に第１のコレステリックピッチを有する第１のコレステリック液晶レジストを塗布して第１のレジスト膜を形成する工程と、
前記第１のレジスト膜の上に、前記第１のコレステリックピッチを有し、かつ第１のコレステリックレジストとはカイラル方向が反対の第２のコレステリック液晶レジストを塗布して第２のレジスト膜を形成する工程と、
前記第１および第２のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、これらのレジスト膜を現像することにより第１のコレステリックピッチを有する第１のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第１のレジストパターンが形成された基板上に、第２のコレステリックピッチを有する第３のコレステリック液晶レジストを塗布して第３のレジスト膜を形成する工程と、
前記第３のレジスト膜の上に、前記第２のコレステリックピッチを有し、かつ第３のコレステリックレジストとはカイラル方向が反対の第４のコレステリック液晶レジストを塗布して第４のレジスト膜を形成する工程と、
前記第３および第４のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、これらのレジスト膜を現像することにより第２のコレステリックピッチを有する第２のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第２のレジストパターンが形成された基板上に、第３のコレステリックピッチを有する第５のコレステリック液晶レジストを塗布して第５のレジスト膜を形成する工程と、
前記第５のレジスト膜の上に、前記第３のコレステリックピッチを有し、かつ第５のコレステリックレジストとはカイラル方向が反対の第６のコレステリック液晶レジストを塗布して第６のレジスト膜を形成する工程と、
前記第５および第６のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、これらのレジスト膜を現像することにより第３のコレステリックピッチを有する第３のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
を具備する方法である。
【００４１】
また、本発明のカラーフィルター基板のカラー反射層積層体においては、プレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向を同一方向とし、前記カラー反射層積層体とカイラル方向が異なるコレステリック液晶層からなる白色反射層が設けられていてもよい。
【００４２】
かかるカラーフィルター基板は、次のような方法により製造することができる。すなわち、基板上に第１のコレステリックピッチを有する第１のコレステリック液晶レジストを塗布して第１のレジスト膜を形成する工程と、
前記第１のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第１のコレステリックピッチを有する第１のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第１のレジストパターンが形成された基板上に、第２のコレステリックピッチを有し、かつ前記第１のコレステリック液晶レジストとカイラル方向が同一の第２のコレステリック液晶レジストを塗布して第２のレジスト膜を形成する工程と、
前記第２のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第２のコレステリックピッチを有する第２のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第２のレジストパターンが形成された基板上に、第３のコレステリックピッチを有し、かつ前記第２のコレステリック液晶レジストとカイラル方向が同一の第３のコレステリック液晶レジストを塗布して、第３のレジスト膜を形成する工程と、
前記第３のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第３のコレステリックピッチを有する第３のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
を具備する方法である。
【００４３】
さらにまた、本発明のカラーフィルター基板のカラー反射層積層体においては、プレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向を同一方向とし、前記カラー反射層積層体の上に位相差層を設け、前記カラー反射層積層体の位相差層とは反対側には、前記カラー反射層積層体とカイラル方向が異なるコレステリック液晶層からなる白色反射層を設けた構成としてもよく、この場合には、前記位相差層が前記カラーフィルターの透過する色の波長領域において、位相差を＋π／４または−π／４に設定する。位相差層としては、高分子延伸フィルム、液晶性高分子膜等を用いることができる。特に、液晶性高分子膜を用いることが位相差層を薄くできる点でプロセス上望ましい。
【００４４】
かかるカラーフィルタ基板は、次のような方法により製造することができる。すなわち、基板上に第１のコレステリックピッチを有する第１のコレステリック液晶レジストを塗布して第１のレジスト膜を形成する工程と、
前記第１のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第１のコレステリックピッチを有する第１のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第１のレジストパターンが形成された基板上に、第２のコレステリックピッチを有し、かつ前記第１のコレステリック液晶レジストとカイラル方向が同一の第２のコレステリック液晶レジストを塗布して第２のレジスト膜を形成する工程と、
前記第２のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第２のコレステリックピッチを有する第２のれじストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第２のレジストパターンが形成された基板上に、第３のコレステリックピッチを有し、かつ前記第２のコレステリック液晶レジストとカイラル方向が同一の第３のコレステリック液晶レジストを塗布して第３のレジスト膜を形成する工程と、
前記第３のレジスト膜の所定の領域に紫外線を照射し、このレジスト膜を現像することにより第３のコレステリックピッチを有する第３のレジストパターンを形成して、このパターンをベークする工程と、
前記第３のレジストパターンが形成された基板上に、配向膜を塗布し、ベークした後、ラビング処理して配向膜を形成する工程と、
前記配向膜の上に液層ポリマーを塗布し、昇温した後、徐冷して位相差層を形成する工程と
を具備する方法である。
【００４５】
以下、第１の発明に係わる透過型液晶表示装置および透過型液晶表示装置用カラーフィルタを構成する部材について説明する。
【００４６】
まず、本発明の液晶表示装置の主要な構成要素である、カラー反射層積層体を構成するコレステリック液晶層について説明する。
【００４７】
コレステリック液晶分子の長軸の屈折率をｎ_Ｏ 、短軸の屈折率をｎ_Ｅ 、コレステリック液晶層のカイラルピッチをｐとするとき、このコレステリック液晶層による選択波長の中心波長λ_０ 、選択反射波長幅Δλは、コレステリック液晶層に対して垂直方向に光が入射し、垂直方向より観測した場合には、以下の式で表わされる。
【００４８】
λ_０ ＝ｐ×ｎ_ａｖ
Δλ＝λ_０ ×Δｎ／ｎ_Ｅ
ただし、ｎ_ａｖ＝（ｎ_Ｏ ＋ｎ_Ｅ ）／２ ；平均屈折率
Δｎ＝ｎ_Ｏ −ｎ_Ｅ ；屈折率異方性
中心波長λ_０ は、コレステリック液晶のピッチを調節することにより行なう。また、選択波長幅Δλは、Ｇの選択反射層でΔλが８０ｎｍ程度、ＲおよびＢでは８０ｎｍ以上あることが望ましく、ほとんどの液晶材料が１．４＜ｎ_Ｏ 、ｎ_Ｅ ＜１．７であることを考慮すると、Δｎ＞０．２の高屈折率異方性材料を用いることが望ましい。
【００４９】
上述したような設計仕様を満たす材料系としては、カイラルピッチの調整のしやすさ、および屈折率異方性の大きさより、シアノ系のネマチック液晶にカイラル剤を添加してコレステリック液晶としたもの（カイラルネマチック液晶）を用いることが望ましい。このコレステリック液晶と耐熱性レジストとを混合、またはコレステリック液晶にレジストとしての官能基を導入し、さらに光重合開始剤を添加することにより、露光によるパターン形成を可能とした材料を用いることができる。
【００５０】
次に、本発明の液晶表示装置の構成要素である液晶性高分子による位相差層について説明する。
【００５１】
一定方向に配向した液晶性高分子層の屈折率異方性をΔｎ、厚さをｄとするとき、この液晶高分子層に垂直に入射した光のリタデーションＲ_ｅ は以下の式で表わされる。
【００５２】
Ｒ_ｅ ＝Δｎ×ｄ
液晶性高分子層の形成に当たっては、ラビング処理した液晶配向膜を下地として用い、この液晶配向膜上に高分子液晶材料を塗布して、ガラス転移温度以上にまで加熱する。その後、急冷することにより配向を凍結させる。あるいは、高分子液晶材料にレジストを添加し、急冷した状態で露光して配向を凍結し、その後、ベークして固める方法も、液晶性高分子層の耐熱性を向上させる観点から有効である。液晶性高分子層の厚さ（ｄ）は、カラーフィルターを透過する波長範囲（λ＝４００〜７００ｎｍ）において、Ｒ_ｅ ＝λ／４となるように設定される。また、リタデーションの加成性を利用し波長分散を補正するために、２種以上の液晶性高分子層を積層して用いることも有効である。この場合、特に各層の配向方向を直交させることが波長分散の補正精度の点で有効である。
【００５３】
液晶性高分子層の厚さは、ｄ＞５μｍでは配向制御が困難となり、ｄ＜０．５μｍでは、位相差層における干渉が生じて色合いが変化する、膜厚の制御が困難といった問題が生じる。よって、０．５μｍ＜ｄ＜５μｍで所望のＲ_ｅ が実現できるよう、液晶性高分子材料の屈折率異方性および配向秩序形成条件が設定される。上述したような仕様を満たす材料系としては、液晶性高分子としてポリグルタメートなどの液晶性ポリエステルを用い、液晶配向膜としてポリイミドを用いることが望ましい。
【００５４】
次に、本発明の液晶表示装置における液晶セルの表示方式について説明する。
【００５５】
本発明に用いる液晶セルの表示方式としては、バックライトを必要とする透過型表示方式であれば、入射光に偏光を必要としない方式、偏光を必要とする方式、および円偏光選択性をもつ方式のいずれを用いることもできる。偏光を必要としない方式としては、高分子の中に液晶ドロップレットを分散して、電場により高分子／液晶ドロップレット界面での光散乱を制御することにより表示を行なう方式（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、コレステリック−ネマチック層転移を起こす液晶材料に２色性色素を添加したＰＣＧＨモード（Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ−ｎｅｍａｔｉｃ ｐｈａｓｅ ｃｈａｎｇｅ ｔｙｐｅ ｇｕｅｓｔ−ｈｏｓｔ ｍｏｄｅ ）、ホモジニアス配向のＧＨセルを互いに配向方向が垂直になるように２層積層したダブルＧＨモード（Ｄｏｕｂｌｅ ｇｕｅｓｔ−ｈｏｓｔ ｍｏｄｅ）等を用いることが有効である。なお、本発明の液晶表示装置をプロジェクタに用いる場合には、色素の耐光性の点でＰＤＬＣを用いることが特に有効である。
【００５６】
偏光板を利用する方式のなかでは、現在主流となっているＴＮモード（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ）、ＳＴＮモード（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ）の他、最近商品化されつつあるＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｈａｓｅ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇｍｏｄｅ）、ＶＡモード（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ ｍｏｄｅ）、ＡＦＬＣモード（Ａｎｔｉｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ）等を用いることが有効である。
【００５７】
また、円偏光選択性をもつ方式としては、コレステリック液晶がそのカイラル方向に対応する円偏光を選択的に反射することを利用した、コレステリック選択反射方式を用いることが有効である。コレステリック選択反射方式においては、コレステリック液晶のピッチと屈折率とに応じた波長領域を反射するため、可視光領域全体にわたって反射／透過を制御することは困難である。これを解決するために、ポリマーマトリックス内にコレステリック液晶を分散し、ポリマーマトリックスの重合条件を制御することによりセル厚方向にカイラルピッチを変化させ、それによって白色反射としたコレステリック液晶層を用いることが有効である。
【００５８】
次に、本発明の液晶表示装置における液晶セルへの電圧印加方法について説明する。
【００５９】
液晶セルへの電圧印加方法としては、ストライプ状の透明電極をもつ基板を対向させ、その電位差により駆動する単純マトリクス方式、マトリクス状に配置されたスイッチング素子を介して印加電圧を制御する方式のいずれを用いることもできる。特に、スイッチング素子を用いる方式が、高画質化が可能といった点で望ましい。スイッチング素子としては、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）およびＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ ）等を用いることが有効である。
【００６０】
液晶セルに電圧印加するための電極としては、（ＩＰＳモードを用いる場合を除き）透明電極を用いる。透明電極としては、光透過性が高い、加工がし易いといった点から、Ｉｎ_２ Ｏ_３ に５〜１０ｗｔ％のＳｎＯ_２ ドープしたＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）電極を用いることが望ましい。
【００６１】
本発明の液晶表示装置においては、カラーフィルタの上（液晶層側）に電極が形成されても、下に電極が形成されても構わない。ただし、高画質化を狙った用途、特にＴＦＴを用いる場合は、カラーフィルターへの電圧の分圧による高駆動電圧化やカラーフィルターのチャージアップを防ぐ意味で、カラーフィルターの上（液晶層側）に電極が形成されることが望ましい。
【００６２】
また、本発明の液晶表示装置において用い得る基板としては、可視光領域での透過率の高いガラス基板、およびプラスチック基板が挙げられる。ＴＦＴを用いる場合には、ＴＦＴを安定に動作させる点で無アルカリまたは低アルカリガラス基板を用いることが望ましく、その他の基板を用いる場合には、アルカリを遮断するパッシベーション層を介してＴＦＴが形成される。
【００６３】
以下、図面を参照して、本実施例の液晶表示装置およびそれに用いられるカラーフィルタ基板の製造方法について詳細に説明する。
【００６４】
（実施例Ｉ−１）
図３に、本実施例に係わる液晶セルの概略的な断面図を示す。
【００６５】
図示する液晶セル２０は、透明基板２１上にスイッチング素子２２をマトリクス状に配置してなるＴＦＴ基板２４と、透明基板２６上にカラーフィルター機能を有する部材を設けてなるカラーフィルタ基板３０と、これらの基板２４、３０の間に挟まれた液晶層３５とにより構成されており、カラーフィルター基板３０を光源側として配置される。ＴＦＴ基板２４には画素電極２３が、透明電極であるＩＴＯにより形成されており、一方カラーフィルター基板３０には、コモン電極２８が透明電極であるＩＴＯにより形成され、これらの透明電極の間に液晶層３５が挟まれている。ここで液晶層としては、偏光板を必要としないＰＤＬＣ方式が用いられている。
【００６６】
以下に、図３に示す液晶セルに用いられているカラーフィルタ基板３０について説明する。カラーフィルター基板３０には、コレステリック液晶層による選択反射層積層体２７が設けられており、この選択反射層積層体２７は、カイラルピッチが同一で、カイラル方向が右のものと左のものと（例えば、３１ａと３１ｂ）を１対とし、このようなコレステリック液晶層の対を２対以上積層することにより構成されている。Ｒのカラーフィルターの下にはＧの選択反射層３２とＢの選択反射層３１とが形成されており、Ｇのカラーフィルタの下にＲの選択反射層３３とＢの選択反射層３１とが形成されている。また、Ｂのカラーフィルタの下にはＲの選択反射層３３とＧの選択反射層３２とが形成されている。さらに、ＴＦＴ基板２４の配線部２２に対応する部分には、Ｒ、Ｇ、Ｂの選択反射層（３３、３２、３１）が積層されている。以上の構成により、Ｒ画素部ではＧおよびＢの光を、Ｇ画素部ではＢおよびＲの光を、Ｂ画素部ではＲおよびＧの光を、そして非画素部では、Ｒ、Ｇ、Ｂすべての光を光源側に戻すことにより有効利用できる構造となっている。
【００６７】
図３に示した液晶セルは、液晶プロジェクション、ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイのいずれにも適用可能である。図４に液晶プロジェクションの構成図を示し、図５に液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイの構成例を示す。
【００６８】
図４に示す液晶プロジェクション４０は、メタルハライド光源４１と、メタルハライド光源の液晶セル２０とは反対側を取り巻くように構成された反射鏡４２と、液晶セルに焦点を結ぶためのコンデンサレンズ４３と、液晶セルの画像を映し出すためのスクリーン４４により構成される。また、コンデンサレンズと光源との間には、ＵＶ、近赤外カットフィルター４５が設けられている。
【００６９】
このような構成の液晶プロジェクタ４０において、図３に示した液晶セル２０は、カラーフィルタ基板３０を光源４１側として配置される。液晶セル２０中のカラー反射層２７で反射された光は、コンデンサレンズ４３を通過して反射鏡４２より反射され、再度、コンデンサレンズ４３を通過してカラー反射層２７に戻される。こうして、カラー反射層２７と反射鏡４２との間を透過できる色画素に到達するまで往復することにより、光は有効に利用される。光学系としては、図４（ａ）および（ｂ）に示したもののいずれとしてもよいが、反射された光の再利用効率が高いという点で、図４（ｂ）に示す方が望ましい。
【００７０】
次に、図５の液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイの構成例について説明する。
【００７１】
図５の液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイ４６は、遮光筒４７と、液晶セル２０とバックライト光学系４８とにより構成される。遮光筒４７は、コレステリック反射層積層体２７における外光の反射による映り込みを防止する機能を有しており、レンズ４９が配置されている。バックライト光学系４８は、導光板５０、この導光板の側面側に配置された光源としての蛍光管５１、導光板と液晶セル２０との間に設けられた透光性拡散板５２、および導光板の他方の面に設けられた光拡散性の反射板５３により構成される。
【００７２】
このような構成液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイにおいては、図３に示した液晶セル２０は、カラーフィルター基板３０をバックライト光学系４８側として配置される。液晶セル２０のカラー反射層３７で反射された光は、透光性拡散板５２および導光板５０を通過して反射板５３により反射され、再度、導光板５０、透光性拡散板５２を経てカラー反射層２７に戻される。こうして、カラー反射層積層体２７と拡散性反射板５３との間を、透過できる色画素に到達するまで往復することにより、光は有効に利用される。
【００７３】
ここで、図３に示した液晶表示装置に用いられるカラーフィルター基板３０の製造方法を、図面を参照して説明する。
【００７４】
まず、図６（ａ）に示すように、基板２６上にＢ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜３１ａを形成し、その上にＢ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、図６（ｂ）に示すようなレジスト膜３１ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【００７５】
次に、図６（ｃ）に示すように所定のパターンを有するマスク５５ａを介して、レジスト膜３１ａおよび３１ｂにおける、Ｒ画素とＧ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ５６光を照射して、パターン露光する。露光後のレジスト膜３１ａおよび３１ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図７（ａ）に示すようなＢ反射層３１ａ、３１ｂが得られる。
【００７６】
次に、Ｂ反射層が形成された基板上に、図７（ｂ）に示すようにＧ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜３２ａを形成し、その上に、Ｇ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、図７（ｃ）に示すようなレジスト膜３２ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【００７７】
その後、図８（ａ）に示すような所定のパターンを有するマスク５５ｂを介して、レジスト膜３２ａおよび３２ｂにおける、Ｂ画素とＲ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ５６光を照射して、パターン露光する。露光後のレジスト膜３２ａおよび３２ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図８（ｂ）に示すようなＧ反射層３２ａ、３２ｂが得られる。
【００７８】
続いて、Ｂ反射層およびＧ反射層が形成された基板上に、図９（ａ）に示すように、Ｒ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜３３ａを形成し、その上に、Ｒ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、図９（ｂ）に示すようにレジスト膜３３ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【００７９】
次に、図１０（ａ）に示すような所定のパターンを有するマスク５５ｃを介して、レジスト膜３３ａおよび３３ｂにおける、Ｒ画素とＧ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ光５６を照射して、パターン露光する。露光後のレジスト膜３３ａおよび３３ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図１０（ｂ）に示すようなＲ反射層３３ａ、３３ｂが得られる。
【００８０】
最後に、この上にスパッタリング法により透明電極であるＩＴＯを１５０ｎｍ形成することにより、カラーフィルター基板が得られる。
【００８１】
上述にようにして製造されたカラーフィルター基板は、カイラルピッチが同一でカイラル方向の異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対を１セットとし、このようなコレステリック液晶層の対を積層することによりカラー反射層積層体を構成しているので、偏光方向によらず全ての光を反射することができる。
【００８２】
（実施例Ｉ−２）
図１１に、本実施例にかかわる液晶セルの概略的な断面図を示す。
【００８３】
図示する液晶セル６０は、透明基板６１上にスイッチング素子６２をマトリクス状に配置してなるＴＦＴ基板６４と、透明基板６６上にカラーフィルター機能を有する部材を設けてなるカラーフィルタ基板７０と、これらの基板６４、７０の間に挟まれた液晶層７５とで構成されており、カラーフィルター基板７０を光源側として配置される。ＴＦＴ基板６４には画素電極６３が、透明電極であるＩＴＯにより形成されており、一方、カラーフィルタ基板７０にはコモン電極６８が、透明電極であるＩＴＯにより形成され、これらの透明電極の間に液晶層７５が挟まれている。ここで液晶層としては、円偏光選択性を有するコレステリック選択反射方式が用いられ、セル厚方向にピッチを異ならせることにより白色光の反射／透過を制御できる構造になっている。
【００８４】
図１１に示した液晶セルは、図４に示したような液晶プロジェクション、図５に示したようなビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイのいずれにも適用可能である。なお、図４および図５の説明については、実施例（Ｉ−１）と同様であるのでここでは省略する。
【００８５】
以下に、図１１に示した液晶セルに用いられているカラーフィルタ基板７０について説明する。カラーフィルター基板７０には、コレステリック液晶層による選択反射層積層体６７が設けられており、この選択反射層積層体６７は、カイラル方向が同一で、カイラルピッチが異なる層が積層されている。Ｒのカラーフィルタの下にはＧの選択反射層７２とＢの選択反射層７１、Ｇのカラーフィルタの下にはＲの選択反射層７３とＢの選択反射層７１、Ｂのカラーフィルタの下にはＲの選択反射層７３とＧの選択反射層７２がそれぞれ形成されている。また、ＴＦＴ基板６４の配線部６２に対応する部分には、Ｒ、Ｇ、Ｂの選択反射層（７３、７２、７１）が３層積層されている。
【００８６】
一方、カラーフィルタ基板７０の光源側には、コレステリック液晶層による白色反射層７６が設けられており、この白色反射層７６のカイラル方向と、カラーフィルタ基板における選択反射層積層体６７および液晶層７５のカイラル方向とは逆になっている。
【００８７】
かかる構成としたことにより、液晶層７５において表示に用いられない円偏光成分は、白色反射層７６において反射され、バックライト光学系の反射板（反射鏡）で反射することにより、位相がπ代わり円偏光の回転方向が逆になって白色反射層７６を透過する。
【００８８】
さらに白色反射層７６を透過した光については、Ｒ画素部ではＧおよびＢの光が、Ｇ画素部ではＢおよびＲの光が、Ｂ画素部ではＲおよびＧの光が、非画素部では、Ｒ、Ｇ、Ｂ全ての光が光源側に戻される。こうして、選択反射層積層体６７と、バックライト光学系の反射板（反射鏡）との間を往復することにより、光は有効利用される構成となっている。
【００８９】
ここで、図１１に示した液晶表示装置に用いられているカラーフィルター基板７０の製造方法を、図面を参照して説明する。
【００９０】
まず、図１２（ａ）に示すように、基板６６上にＢ⁻ （左回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜７１を形成する。次いで、図１２（ｂ）に示すような所定のパターンを有するマスク７８ａを介して、レジスト膜７１における、Ｒ画素とＧ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ光７９を照射して、パターン露光する。露光後のレジスト膜７１を現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を選択的に残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図１２（ｃ）に示すようなＢ反射層７１が得られる。
【００９１】
次に、Ｂ反射層が形成された基板上に、図１３（ａ）に示すようにＧ⁻ （左回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜７２を形成する。次いで、図１３（ｂ）に示すような所定のパターンを有するマスク７８ｂを介して、レジスト膜７２における、Ｂ画素とＲ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ光７９を照射して、パターン露光する。露光後のレジスト膜７２を現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図１３（ｃ）に示すようなＧ反射層７２が得られる。
【００９２】
続いて、Ｂ反射層およびＧ反射層が形成された基板上に、図１４（ａ）に示すように、Ｒ⁻ （左回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜７３を形成する。次いで、図１４（ｂ）に示すような所定のパターンを有するマスク７８ｃを介して、レジスト膜７３における、Ｇ画素とＢ画素と非画素部とに対応する部分にＵＶ光７９を照射してパターン露光する。露光後のレジスト膜７３を現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図１４（ｃ）に示すようなＲ反射層７３が得られる。
【００９３】
こうして形成されたＢ反射層７１、Ｇ反射層７２およびＲ反射層７３上に液晶配向膜を塗布し、ベーク、ラビングすることにより図１５に示すような構造が得られる。
【００９４】
最後に、この上にスパッタリング法により透明電極であるＩＴＯを１５０ｎｍ形成することにより、本実施例において用いられるカラーフィルタ基板が得られる。
【００９５】
上述のようにして得られたカラーフィルター基板においては、円偏光選択性をもつ液晶モードと組み合わせているので、偏光板および位相差板を省略することができるという利点を有している。
【００９６】
（実施例Ｉ−３）
図１６に、本実施例にかかわる液晶セルの概略的な断面図を示す。
【００９７】
図示する液晶セル８０は、透明基板８１上にスイッチング素子８２をマトリクス状に配置してなるＴＦＴ基板８５と、透明基板８６上にカラーフィルター機能を有する部材８７を設けてなるカラーフィルタ基板９１と、これらの基板８５、９１の間に挟まれた液晶層９６とで構成される。ＴＦＴ基板８５には画素電極８３が、透明電極であるＩＴＯにより形成されており、一方、カラーフィルタ基板９１にはコモン電極８９が、透明電極であるＩＴＯにより形成され、これらの電極の間に液晶層９６が挟まれている。ここで液晶層としては、ＴＮ方式が用いられている。
【００９８】
図１６に示した液晶セルは、図４に示したような液晶プロジェクション、図５に示したようなビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイのいずれにも適用可能である。なお、図４および図５の説明については、実施例（Ｉ−１）と同様であるのでここでは省略する。
【００９９】
以下に、図１６に示した液晶セルに用いられているカラーフィルタ基板９１について説明する。カラーフィルター基板９１は、コレステリック液晶層による選択反射積層体８７とコモン電極８９との間に、λ／４位相差層８８が設けられている以外は、前述の実施例（Ｉ−２）で説明したものと同様である。
【０１００】
実施例（Ｉ−２）で説明したように、λ／４位相差層８８の下の部分（光源側）に、特定の円偏光選択性をもつＲ、Ｇ、Ｂカラーパターン（カラー反射層積層体８７）が形成されている。この上（すなわち、液晶層側）にλ／４位相差層８８を積層することにより円偏光が直線偏光に変換され、偏光板としての機能を兼ね備えたカラーフィルタとなる。λ／４位相差層８８の下の配向膜は、液晶性高分子層を特定の方向に並ばせる機能を有している。
【０１０１】
ここで、図１６に示した液晶表示装置に用いられているカラーフィルター基板９１の製造方法を、図面を参照して説明する。
【０１０２】
かかるカラーフィルター基板９１は、コレステリック選択反射層積層体８７の形成までは、前述の実施例（Ｉ−２）と同様の手順で行なうことができるので、ここでは省略し、続く液晶性高分子よりなる位相差層８８の形成方法について述べる。
【０１０３】
まず、位相差層を形成する基板の上に、液晶配向膜であるポリイミド膜を０．１μｍ塗布、ベーク後ラビングする。その上に、液晶性高分子をスピンコーティングにより所望の厚さ形成する。その後、液晶性高分子のガラス転移点以上まで昇温してモノドメイン化し、急冷して配向を凍結させる。これによって、図１７に示すように選択反射層積層体８７の上に、液晶配向膜９８およびλ／４位相差層８８が形成された構造が得られる。
【０１０４】
さらに、その上にスパッタリング法により透明電極であるＩＴＯを１５０ｎｍ形成することにより、カラーフィルタ基板が形成される。
【０１０５】
こうして得られたカラーフィルター基板においては、λ／４位相差層と組み合わせているので、偏光板としての機能を付与することができた。
【０１０６】
（性能比較）
下記表１に、従来の三板式液晶プロジェクタと、顔料分散法の吸収型カラーフィルタを用いた単板式液晶プロジェクタと、実施例（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）の液晶セルを用いた単板式液晶プロジェクタとの性能比較を示す。三板式および吸収ＣＦ単板式においては、液晶表示方式としてＰＤＬＣ方式の場合を記した。なお、消費電力および製造コストは、三板式プロジェクタの値を基準（１００）として表わした。
【０１０７】
【表１】

【０１０８】
表１の結果に示されるように、吸収ＣＦ単板式は、見かけ上は製造コストは安いものの、ＣＦが信頼性が著しく低いため使用に耐えられものは得られない。しかも吸収ＣＦ単板式では、消費電力は４２０と極めて大きい。
【０１０９】
これに対して本発明の液晶プロジェクタにおいては、２０前後にまで大幅なコスト減が実現されており、消費電力は最大でも９０にとどまっている。ＣＦの信頼性は何等損なわれることはなく、小型化を図ることもできた。本発明の液晶プロジェクタが従来の三板式プロジェクタに比べてさらに消費電力が低くなっているのは、遮光部の光利用効率が向上したためである。
【０１１０】
さらに、従来の顔料分散法の吸収型カラーフィルターを用いた液晶ビューファインダーと、実施例（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）の液晶セルを用いた液晶ビューファインダーとの消費電力および製造コストを調べて、下記表２にまとめる。なお、従来の液晶ビューファインダーにおいては、液晶表示方式としてＴＮ方式を用い、偏光変換の白色反射板のない場合の値を基準（１００）としている。
【０１１１】
【表２】

【０１１２】
表２に示されるように、本発明によって製造コストを増加させることなく、大幅な低消費電力が実現されている。なお、実施例（Ｉ−３）の液晶セルを用いた場合には、製造コストが１１０となっているが、消費電力低減によるコスト削減（−２０〜−３０）に比べて、上昇分（１０）は小さいため、この程度の製造コストの増加は問題とはならない。
【０１１３】
上述したように本実施例によれば、空間色分割によりカラー表示を行なう場合に、表示に用いない色および非開口部に当たる光をバックライトに戻して有効利用しているので、カラーフィルターによる光のロスを大幅に低減することができた。これは、液晶プロジェクタやビューファインダー携帯用情報機器のように、高精細が要求されるため、必然的に（配線等の面積比が大きく）開口率の低くなる製品で特に有効である。これによって、液晶表示装置の大幅な低消費電力化が可能となった。特に液晶プロジェクタに適用した場合には、これまでカラーフィルターでの光吸収に由来する劣化のために実現できなかった単板式プロジェクタを実現可能であり、大幅な低コスト化を図ることができる。
【０１１４】
（実施例ＩＩ）
第２の発明の液晶表示装置においては、カラーフィルターを通過することのできない波長領域の光を、カラー反射層積層体によりバックライト側に戻して再利用することによって、原理的にカラーフィルターによる光ロスをなくした構造となっている。
【０１１５】
まず、第２の発明の液晶表示装置の一例におけるカラーフィルターおよびカラー反射板におけるバックライト光波長選択性を模式的に図１８に示す。
【０１１６】
図１８に示すように、カラー反射層積層体としてコレステリック液晶層による選択波長反射板を用い、そのカイラルピッチを異ならせることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長領域を選択的に反射することが可能となっている。Ｒのカラーフィルターに対応する領域ではカラー反射板でＧおよびＢの光を選択反射し、Ｇのカラーフィルターに対応する領域ではカラー反射板でＢおよびＲをの光を選択反射し、Ｂのカラーフィルターに対応する領域ではカラー反射板でＲおよびＢの光を選択反射してバックライト側に戻す。
【０１１７】
また、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルターは外光のカラー反射層積層体での映り込み防止の機能を有している。ここで、図１９に、本発明のカラーフィルタおよびカラー反射板における外光の映り込み防止機能を模式的に表わす。図示するように、Ｒのカラーフィルターの下にはＲの光しか到達できず、そこにはＧ、Ｂの選択反射板しかなく、Ｇのカラーフィルターの下にはＧの光しか到達できず、そこにはＢ、Ｒの選択反射板しかなく、Ｂのカラーフィルターの下にはＢの光しか到達できず、そこにはＲ、Ｇの選択反射板しかないため、カラー反射積層体による外光の映り込みは生じない。
【０１１８】
以上の説明は、カラーフィルターをカラー反射層積層体と同一の基板に設けてなるカラーフィルター基板に関するものであるが、第２の発明の液晶表示装置は、これに限定されるものではない。カラーフィルターは、カラー反射層積層体とは別の基板、すなわちＴＦＴ基板側に設けることよっても、前述と同様の効果を得ることが可能である。
【０１１９】
なお、上述したようなカラー反射層積層体、いわゆる引き算カラーフィルターと吸収型カラーフィルターを組み合わせた液晶表示装置が提案されている（例えば、特開平８−３２０４８０号公報）。本発明者らは、鋭意検討した結果、引き算カラーフィルターを観測側に配置した場合には、反射型カラーフィルタ／液晶層界面での多重反射および液晶層で位相差が発生し、これによってコントラストの低下が引き起こされることを見出し、引き算カラーフィルターをバックライト側に配置することによって、液晶表示装置が表示特性に優れた本発明の液晶表示装置を成すに至ったものである。
【０１２０】
なお、前述の文献においては、非開口部にブラックマトリックスを配置しているため、高精細の場合にはＴＦＴアレイの開口率が低くなってしまう。したがって、十分な透過率を確保することができないという問題を伴なっていた。本発明者らは、非開口部にＲ、Ｇ、Ｂをそれぞれ反射するカラー反射層を３層積層して、工程数を追加することなく、非開口部の光をバックライト光学系に戻すことにより、さらなる光利用効率の向上を可能とした。
【０１２１】
さらに、前述の文献においては、補色を反射するカラーフィルター層は、所望の色を反射すること以外は、光学部品としての機能を有していなかった。本発明者らは、コレステリック選択反射板の円偏光選択性という光学機能に注目して、次のような機能を付与することができた。まず、カイラル方向の異なる２層のコレステリック液晶層を１セットとすることにより、偏光状態によらず全ての光を反射する機能である。また、円偏光選択性をもつ液晶表示モードと組み合わせることにより、偏光板および位相差板を省略することができる。さらに、λ／４層と組み合わせることによって、偏光板としての機能をもたせることができた。
【０１２２】
また、バックライト光学系における円偏光選択反射板と組み合わせることにより、円偏光や偏光を利用する液晶表示装置において、さらなる光利用効率の向上を実現したものである。
【０１２３】
本発明の液晶表示装置におけるカラー反射層積層体は、以下に示すような構成とすることができる。
【０１２４】
例えば、本発明の液晶表示装置におけるカラー反射層積層体を構成するそれぞれのコレステリック液晶層は、カイラルピッチが同一でカイラル方向が異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対とすることができる。
【０１２５】
本発明者らは、コレステリック液晶層による選択反射層が、そのカイラル方向に対応した円偏光成分を反射することに注目して上述のような構成のカラー反射層積層体を得た。すなわち、カイラルピッチが同一でカイラル方向が右回りのコレステリック液晶層と左回りのコレステリック液晶層とを１対とし、このような液晶層の対を２つ以上積層させることによって、カラー反射層積層体を構成した。これによって、右円偏光と左円偏光との両成分を反射する、換言すれば、偏光状態によらず、カイラルピッチに対応した波長の全てをカラー反射層積層体で選択反射することが可能となった。
【０１２６】
本発明の液晶表示装置の液晶セルにおける液晶表示方式は、入射光が一定方向に偏光していることを必要とする方式としてもよく、この場合には、次の構成とすることができる。すなわち、前記カラー反射層積層体におけるプレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向が同一方向であり、前記カラー反射層積層体と前記液晶層との間に液晶性高分子からなる位相差層が設けられ、この位相差層は、前記カラーフィルターの透過する色の波長領域において、位相差が＋π／４または−π／４に設定された構成である。
【０１２７】
かかる構成においては、液晶層への入力光および出力光の少なくとも一方が、一定方向の直線偏光が必要とされる場合に、コレステリック液晶選択反射板での右円偏光または左円偏光の選択性を、液晶層との間にλ／４板を介在させることにより、所望の方向の直線偏光の選択性へ変換したものである。
【０１２８】
本発明の液晶表示装置に用いられるカラーフィルター基板において、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層の２層以上の積層体からなるカラー反射層積層体と、Ｒ、Ｇ、Ｂをそれぞれ透過しかつＲ、Ｇ、Ｂそれぞれの補色を吸収するカラーフィルター層とを設けた場合には、次のような利点が得られる。すなわち、組み合わせる基板の構造によらず、カラーフィルターを透過することのできない波長領域の光をバックライト側に戻して再利用することが可能となる。
【０１２９】
かかる構成としたカラーフィルター基板のカラー反射積層体を、カイラルピッチが同一でカイラル方向が異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対によって構成し、前記コレステリック液晶層の対が２対以上積層された構成としてもよい。
【０１３０】
このようにカラー反射層積層体とカラーフィルタとを同一基板上に形成し、さらに、前記カラー反射層積層体を、カイラル方向が右回りと左回りのコレステリック液晶層の対を２対以上積層させた構造とすることにより、入力光の偏光状態や液晶層で発生する位相差にかかわらず、液晶表示に利用しない色に光をバックライト側に戻して再利用することが可能となる。
【０１３１】
また、本発明のカラーフィルター基板のカラー反射層積層体において、プレーナー配向したコレステリック液晶層のカイラル方向を同一方向とし、前記カラー反射層積層体とカイラル方向が異なるコレステリック液晶層からなる白色反射層が設けられていてもよい。
【０１３２】
このようにカラー反射層積層体と位相差層とを同一基板上に積層し、コレステリック液晶選択反射板での右円偏光または左円偏光の選択性を±π／４の位相差層により所望の方向の直線偏光の選択性へ変換することにより、偏光板としての機能をカラーフィルター基板に付与することができる。
【０１３３】
以下、第２の発明に係わる透過型液晶表示装置および透過型液晶表示装置用カラーフィルタを構成する部材について説明する。
【０１３４】
まず、本発明の液晶表示装置の主要な構成要素である、カラー反射層積層体を構成するコレステリック液晶層について説明する。
【０１３５】
コレステリック液晶分子の長軸の屈折率をｎ_Ｏ 、短軸の屈折率をｎ_Ｅ 、コレステリック液晶層のカイラルピッチをｐとするとき、このコレステリック液晶層による選択波長の中心波長λ_０ 、選択反射波長幅Δλは、コレステリック液晶層に対し垂直方向に光が入射して、垂直方向より観測した場合には、以下の式で表わされる。
【０１３６】
λ_０ ＝ｐ×ｎ_ａｖ
Δλ＝λ_０ ×Δｎ／ｎ_Ｅ
ただし、ｎ_ａｖ＝（ｎ_Ｏ ＋ｎ_Ｅ ）／２ ；平均屈折率
Δｎ＝ｎ_Ｏ −ｎ_Ｅ ；屈折率異方性
中心波長λ_０ は、コレステリック液晶のピッチを調節することにより行なう。また、選択波長幅Δλは、Ｇの選択反射層でΔλが８０ｎｍ程度、ＲおよびＢでは８０ｎｍ以上あることが望ましく、ほとんどの液晶材料が１．４＜ｎ_Ｏ 、ｎ_Ｅ ＜１．７であることを考慮すると、Δｎ＞０．２の高屈折率異方性材料を用いることが望ましい。
【０１３７】
上述したような設計仕様を満たす材料系としては、カイラルピッチの調整のしやすさ、および屈折率異方性の大きさより、シアノ系のネマチック液晶にカイラル剤を添加してコレステリック液晶としたものを用いることが望ましい。このコレステリック液晶と耐熱性レジストとを混合、またはコレステリック液晶にレジストとしての官能基を導入し、さらに光重合開始剤を添加することにより、露光によるパターン形成を可能とした材料を用いる。
【０１３８】
次に、本実施例の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板またはＴＦＴ基板に形成される、Ｒ、Ｇ、Ｂをそれぞれ透過し、かつＲ、Ｇ、Ｂそれぞれの補色を吸収するカラーフィルター層について説明する。
【０１３９】
カラーフィルター層は、透過型液晶表示装置に用いられている方法をそのまま適用して形成することができる。すなわち、顔料分散法、印刷法、電着法、染色法等、現在用いられているいずれの方法を使用してもよい。このなかでも、特に顔料分散法を用いることが、パターン精度が高い、耐熱性が高い、光ロスが少ないといった点で好ましい。顔料分散法を用いてカラーフィルター層を形成するに当たっては、Ｒ、Ｇ、Ｂの所望の色を実現するための耐熱性の顔料と耐熱性のレジストとの混合液を用いて、露光によりパターン形成を行なう。
【０１４０】
次に、本発明の液晶表示装置の構成要素である液晶性高分子による位相差層について説明する。
【０１４１】
一定方向に配向した液晶性高分子層の屈折率異方性をΔｎ、厚さをｄとするとき、この液晶高分子層に垂直に入射した光のリタデーションＲ_ｅ は以下の式で表わされる。
【０１４２】
Ｒ_ｅ ＝Δｎ×ｄ
液晶性高分子層の形成に当たっては、ラビング処理した液晶配向膜を下地として用い、この液晶配向膜上に高分子液晶材料を塗布して、ガラス転移温度以上にまで加熱する。その後、急冷することにより配向を凍結させる。あるいは、高分子液晶材料にレジストを添加し、急冷した状態で露光して配向を凍結し、その後、ベークして固める方法も、液晶性高分子層の耐熱性を向上させる観点から有効である。液晶性高分子層のｂ厚さ（ｄ）は、カラーフィルタを透過する波長範囲（λ＝４００〜７００ｎｍ）において、Ｒ_ｅ ＝λ／４となるように設定される。また、波長分散を補正するために２種以上の液晶性高分子層を積層して用いることも有効である。
【０１４３】
液晶性高分子層の厚さは、ｄ＞５μｍでは配向制御が困難となり、ｄ＜０．５μｍでは、位相差層における干渉が生じて色合いが変化する、膜厚の制御が困難といった問題が生じる。よって、０．５μｍ＜ｄ＜５μｍで所望のＲ_ｅ が実現できるよう、液晶性高分子材料の屈折率異方性および配向秩序形成条件が設定される。上記のような仕様を満たす材料系としては、液晶性高分子としてポリグルタメートなどの液晶性ポリエステルを用い、液晶配向膜としてポリイミドを用いることが望ましい。
【０１４４】
次に、本発明の液晶表示装置における液晶セルの表示方式について説明する。
【０１４５】
本発明に用いる液晶セルの表示方式としては、バックライトを必要とする透過型表示方式であれば、偏光板の必要な方式、偏光板の必要でない方式のいずれを用いてもよい。偏光板を必要とする方式のなかでは、現在主流となっているＴＮモード（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ）、ＳＴＮモード（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ）の他、最近商品化されつつあるＩＰＳ（Ｉｎ−ｐｈａｓｅ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｍｏｄｅ）、ＶＡモード（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ ｍｏｄｅ）、およびＡＦＬＣモード（Ａｎｔｉｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｍｏｄｅ ）等を用いることが有効である。
【０１４６】
また、偏光板を必要としない方式の中では、コレステリック−ネマチック層転移を起こす液晶材料に２色性色素を添加したＰＣＧＨモード（Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ−ｎｅｍａｔｉｃ ｐｈａｓｅ ｃｈａｎｇｅ ｔｙｐｅ ｇｕｅｓｔ−ｈｏｓｔ ｍｏｄｅ ）、ホモジニアス配向のＧＨセルを互いに配向方向が直角になるように２層積層したダブルＧＨモード（Ｄｏｕｂｌｅ ｇｕｅｓｔ−ｈｏｓｔ ｍｏｄｅ）等を用いることが有効である。
【０１４７】
次に、本実施例の液晶表示装置における液晶セルへの電圧印加方式について説明する。
【０１４８】
液晶セルへの電圧印加方式としては、ストライプ状の透明電極をもつ基板を対向させ、その電位差により駆動する単純マトリクス方式、マトリクス状に配置されたスイッチング素子を介して印加電圧を制御する方式のいずれを用いることもできる。特に、スイッチング素子を用いる方式が、高画質化が可能といった点で望ましい。スイッチング素子としては、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）およびＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ ）等を用いることが有効である。いずれの方式を採用する場合においても、バックライトの利用効率を向上させる点で、開口率はできるだけ高いことが望ましい。ＢＭ対応部をカラー反射層（Ｒ，Ｇ，Ｂ）３色重ねとすることが、光利用効率向上の点で望ましい。
【０１４９】
液晶セルに電圧印加するための電極としては、（ＩＰＳモードを用いる場合を除き）透明電極を用いる。透明電極としては、光透過性が高い、加工がし易いといった点から、Ｉｎ_２ Ｏ_３ に５〜１０ｗｔ％のＳｎＯ_２ ドープしたＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）電極を用いることが望ましい。
【０１５０】
本実施例においては、カラーフィルタ層またはカラー反射層積層体の上（液晶層側）に電極が形成されても、下に電極が形成されても構わない。ただし、高画質化を狙った用途、特にＴＦＴを用いる場合は、カラーフィルターへの電圧の分圧による高駆動電圧化やカラーフィルターのチャージアップを防ぐ意味で、カラーフィルター層等の上（液晶層側）に電極が形成されることが望ましい。
【０１５１】
また、本実施例の液晶表示装置において用いられ得る基板としては、可視光領域での透過率の高いガラス基板、およびプラスチック基板が挙げられる。ＴＦＴを用いる場合には、ＴＦＴを安定に動作させる点で無アルカリまたは低アルカリガラス基板を用いることが望ましく、その他の基板を用いる場合には、アルカリを遮断するパッシベーション層を介してＴＦＴが形成される。
【０１５２】
以下、図面を参照して、本実施例の液晶表示装置およびそれに用いられるカラーフィルター基板の製造方法について詳細に説明する。
【０１５３】
（実施例ＩＩ−１）
図２０に、本実施例の透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０１５４】
図示する透過型液晶表示装置１１０は、液晶セル１１１とバックライト光学系と１３４により構成される。
【０１５５】
液晶セル１１１は、透明基板１１２上にスイッチング素子１１３をマトリクス状に配置してなるＴＦＴ基板１１６と、このＴＦＴ基板に離間・対向して配置された本発明の透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板１２６と、これらの基板１１６、１２６の間に挟まれた液晶層１２８とにより構成される。ＴＦＴ基板１１６と液晶層１２８との間には、液晶配向膜１１５が形成されており、カラーフィルター基板１２６と液晶層１２８との間には、液晶配向膜１２５が形成されている。これらの液晶配向膜１１５および１２５によって、液晶の配向状態が制御されている。また、ＴＦＴ基板１１６における液晶配向膜１１５の直下には、透明電極であるＩＴＯ膜１１４が形成されており、カラーフィルター基板１２６における液晶配向膜１２５の直下には、透明電極であるＩＴＯ膜１２４が形成されている。液晶セルの表示方式としては、偏光板を必要としないＰＣＧＨ方式が用いられている。
【０１５６】
一方、バックライト光学系１３４は、導光板１３０と、この導光板の側面側に配置された光源としての蛍光管１３１と、導光板のカラーフィルター基板側の面に設けられた透光性拡散板１３２と、導光板の他方の面に設けられた光拡散性の反射板１３３とにより構成される。ここで、光拡散性導光板は、ニジミ防止に有効である。
【０１５７】
液晶セル１１１は、スイッチング素子１１３を観測面側にし、非観測面側にバックライト光学系１３４が設けられている。バックライト光学系１３４においては、液晶セル側に透光性拡散板１３２が配置され、その反対側に反射板１３３が配置されている。
【０１５８】
以下に、図２０に示す透過型液晶表示装置の液晶セルに用いられている、透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板１２６について説明する。カラーフィルター基板１２６には、コレステリック液晶層による選択反射層積層体１２２が設けられており、この選択反射積層体１２２は、カイラルピッチが同一で、カイラル方向が右のものと左のものと（例えば、１１９ａと１１９ｂ）とを一対として構成されている。Ｒのカラーフィルターの下にはＧの選択反射層１２０とＢの選択反射層１１９とが形成されており、Ｇのカラーフィルターの下にはＲの選択反射層１２１とＢの選択反射層１１９とが形成されている。また、Ｂのカラーフィルターの下にはＲの選択反射層１２１とＧの選択反射層１２０とが形成されている。
【０１５９】
以上の構成により、Ｒ画素に入射したＧおよびＢの光、Ｇ画素に入射したＢおよびＲの光、Ｂ画素に入射したＲおよびＧの光は、選択反射層積層体１２２によって反射され、透光性拡散板１３２を通過して拡散性反射板１３３で反射する。さらに、透光性拡散板１３２を通る過程において光路がずれ、所望の色の画素に入射するまで選択反射層積層体１２２と拡散性反射板１３２との間での往復を繰り返すことにより、光は有効に利用される。
【０１６０】
ここで、図２０に示した透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルター基板におけるコレステリック液晶層による選択反射層積層体１２２の製造方法について、図面を参照して説明する。
【０１６１】
まず、図２１（ａ）に示すように、基板１１８上にＢ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜１１９ａを形成し、その上に、Ｂ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、図２１（ｂ）に示すようなレジスト膜１１９ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【０１６２】
次に、図２１（ｃ）に示すように所定のパターンを有するマスク１３６ａを介して、レジスト膜１１９ａおよび１１９ｂにおける、Ｒ画素とＧ画素とに対応する部分にＵＶ光１３７を照射して、パターン露光する。これによってレジスト膜１１９ａおよび１１９ｂの露光部には、潜像１１９ｃが形成される。露光後のレジスト膜１１９ａおよび１１９ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図２２（ａ）に示すようなＢ反射層１１９ａ、１１９ｂが得られる。
【０１６３】
続いて、Ｂ反射層が形成された基板上に、図２２（ｂ）に示すようにＧ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜１２０ａを形成し、その上に、Ｇ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、図２２（ｃ）に示すようなレジスト膜１２０ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【０１６４】
次に、図２３（ａ）に示すような所定のパターンを有するマスク１３６ｂを介して、レジスト膜１２０ａおよび１２０ｂにおける、Ｂ画素とＲ画素とに対応する部分にＵＶ１３７光を照射して、パターン露光する。これによって、レジスト膜１２０ａおよび１２０ｂの露光部に潜像１２０ｃが形成される。露光後のレジスト膜１２０ａおよび１２０ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図２３（ｂ）に示すようなＧ反射層１２０ａ、１２０ｂが得られる。
【０１６５】
続いて、Ｂ反射層およびＧ反射層が形成された基板上に、図２４（ａ）に示すように、Ｒ^＋ （右回り）反射層用レジストをスピンコーティングにより塗布して膜厚２μｍのレジスト膜１２１ａを形成し、その上に、図２４（ｂ）に示すようなレジスト膜１２１ｂ（膜厚２μｍ）を形成する。
【０１６６】
次に、図２５（ａ）に示すような所定のパターンを有するマスク１３６ｃを介して、レジスト膜１２１ａおよび１２１ｂにおける、Ｒ画素とＧ画素とに対応する部分にＵＶ光１３７を照射して、パターン露光する。これによって、レジスト膜１２１ａおよび１２１ｂの露光部に潜像１２１ｃが形成される。露光後のレジスト膜１２１ａおよび１２１ｂを現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図２５（ｂ）に示すようなＲ反射層１２１ａ、１２１ｂが得られる。
【０１６７】
以上のようにして形成したカラー反射板の上に、顔料分散レジストを用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素に対応してＲ、Ｇ、Ｂのパターンを形成する。
【０１６８】
最後に、この上にスパッタリング法により透明電極であるＩＴＯを１５０ｎｍ形成することにより、カラーフィルター基板が得られる。
【０１６９】
上述にようにして製造されたカラーフィルター基板は、カイラルピッチが同一でカイラル方向の異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対を１セットとし、このようなコレステリック液晶層の対を積層することによりカラー反射層積層体を構成しているので、偏光方向によらず全ての光を反射することができる。
【０１７０】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＰＣＧＨ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約２０％低減することができた。これは、従来３０％を占めていたバックライト光源の消費電力が、１０％に抑えられたことによる。
【０１７１】
（実施例ＩＩ−２）
図２６に、本実施例にかかわる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０１７２】
図示する透過型液晶表示装置１４０は、液晶セル１１１とバックライト光学系１３４により構成される。
【０１７３】
液晶セル１１１を構成するＴＦＴ基板１１６においては、スイッチング素子１１３の画素電極であるＩＴＯ膜１１４と基板１１２との間に、顔料分散法により形成されたカラーフィルター１２３が配置されている。一方、対向する基板１２６のコモン電極であるＩＴＯ膜１２４の下には、コレステリック液晶層による選択反射積層体１２２が形成されている。その他の構造については、前述の実施例（ＩＩ−１）と同様であるので、説明は省略する。ここでの選択反射積層体およびカラーフィルタは、上述と同様の手法で製造することができる。
【０１７４】
上述にようにして製造されたカラーフィルター基板は、カイラルピッチが同一でカイラル方向の異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対を１セットとし、このようなコレステリック液晶層の対を積層することによりカラー反射層積層体を構成しているので、偏光方向によらず全ての光を反射することができる。
【０１７５】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＰＣＧＨ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約２０％低減することができた。これは、従来３０％を占めていたバックライト光源の消費電力が、１０％に抑えられたことによる。
【０１７６】
（実施例ＩＩ−３）
図２７に、本実施例にかかる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０１７７】
図示する透過型液晶表示装置１４２は、液晶セル１４７とバックライト光学系１３４とにより構成される。
【０１７８】
液晶セル１４７は、表示方式としてＴＮ方式が用いられていること、液晶セルの両側に偏光板１４３、１４４を有することを除いては、前述の実施例（ＩＩ−１）と同様であるため、構成の詳細な説明はここでは省略する。偏光板１４４より入射したバックライト光は、Ｒ画素ではＧおよびＢの光が選択反射され、Ｇ画素ではＢおよびＲの光が選択反射され、Ｂ画素では、ＲおよびＧの光が選択反射されて実施例（ＩＩ−１）の場合と同様にバックライト光学系１３４に戻り、有効利用される。
【０１７９】
バックライト光学系においては、液晶セル１４７と透光性拡散板１３２との間に、位相差λ／４の位相差板１４５と、カイラル方向が左回りの円偏光選択性反射板１４６とが設けられていることを除いては、実施例（ＩＩ−１）の場合と同様である。円偏光選択性反射板１４６を透過した右回りの円偏光は、λ／４位相差板１４５を通ることにより直線偏光に変換される。この直線偏光方向と、λ／４位相差板に隣接する偏光板１４４の偏光方向とは一致するように設置されている。また、円偏光選択性反射板１４６で反射された左回りの円偏光は、拡散性反射板１３３で反射されて光回りの円偏光に変換され、再度、円偏光選択性反射板１４６を透過して直線偏光に変換されることにより有効利用される。
【０１８０】
液晶セル１４７の光学系側に設けられた偏光板１４４は、円偏光選択性反射板１４６およびλ／４位相差板１４５を透過したバックライト光の偏光度を高めるのみならず、外光が円偏光選択反射板１４６で反射することによる映り込みを回避する役割を果たしている。すなわち、外光のうち偏光板１４４を透過したものは、λ／４位相差板１４５で左回りの円偏光に変換され、円偏光選択性反射板１４６および透光性拡散板１３２を順次透過して、拡散性反射板１３３に到達する。ここで、光は反射されて右回りの円偏光に変換される。右回りの円偏光は、透光性拡散板１３２を透過した後、円偏光選択性反射板１４６で反射され、さらに１往復した後、液晶セル１４７に入射する。この２往復の光路により光の進行方向が拡散されることにより映り込みを回避することができる。
【０１８１】
その他の構成については、実施例（ＩＩ−１）の場合と同様であるので、それらに関する説明は、ここでは省略する。選択反射層積層体、カラーフィルターも、前述と同様にして作製することができる。
【０１８２】
上述にようにして製造されたカラーフィルター基板は、カイラルピッチが同一でカイラル方向の異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対を１セットとし、このようなコレステリック液晶層の対を積層することによりカラー反射層積層体を構成しているので、偏光方向によらず全ての光を反射することができる。
【０１８３】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＴＮ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、円偏光選択性反射板を有する偏光バックライト光学系を用いず、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約５０％低減することができた。これは、従来６０％を占めていたバックライト光源の消費電力が１０％に抑えられたことによる。
【０１８４】
（実施例ＩＩ−４）
図２８に、本実施例にかかわる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０１８５】
図示する透過型液晶表示装置１４８は、液晶セル１４７とバックライト光学系１３４とにより構成される。
【０１８６】
液晶セル１４７は、表示方式としてＴＮ方式が用いられていること、液晶セルの両側に偏光板１４３、１４４を有することを除いては、前述の実施例（ＩＩ−２）と同様であるため、構成の詳細な説明はここでは省略する。また、バックライト光学系については、実施例（ＩＩ−３）の場合と同様である。選択反射層積層体やカラーフィルターは、前述の実施例（ＩＩ−１）と同様にして作製することができる。
【０１８７】
上述にようにして製造されたカラーフィルター基板は、カイラルピッチが同一でカイラル方向の異なる２層のプレーナー配向したコレステリック液晶層の対を１セットとし、このようなコレステリック液晶層の対を積層することによりカラー反射層積層体を構成しているので、偏光方向によらず全ての光を反射することができる。
【０１８８】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＴＮ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、円偏光選択性反射板を有する偏光バックライト光学系を用いず、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約５０％低減することができた。これは、従来６０％を占めていたバックライト光源の消費電力が１０％に抑えられたことによる。
【０１８９】
（実施例ＩＩ−５）
図２９に、本実施例に係わる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０１９０】
図示する透過型液晶表示装置１５７は、液晶セル１５８とバックライト光学系１３４とにより構成される。
【０１９１】
液晶セル１５８は、基板１１２上にスイッチング素子１１３をマトリックス状に配置してなるＴＦＴ基板１１６と、このＴＦＴ基板１１６に離間・対向して配置された本発明の透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板１５５と、これらの基板１１６、１５５との間に挟まれた液晶１４１とで構成される。液晶セルの表示方式としては、ＴＮ方式が用いられており、液晶セルの両側に偏光板１４３，１４４が設けられており、偏光板１４４とカラーフィルター基板１５５との間にはλ／４位相差板１６０が配置されている。また、カラーフィルター基板１５５における透明電極であるＩＴＯ膜１２４の直下には、液晶性高分子からなるλ／４位相差層１５４と、液晶配向膜１５３とが形成されている。その他については、実施例（ＩＩ−１）と同様であるので、ここでは省略する。また、バックライト光学系１３４についても実施例（ＩＩ−３）と同様であるので、ここでは省略する。
【０１９２】
以下に、図３０を用いて、図２９に示した液晶表示装置に用いられているカラーフィルター基板の光学変換機能について説明する。
【０１９３】
バックライト光より放射され、円偏向選択性反射板１４６を透過した右回りの円偏光は、λ／４板１４５を通ることにより直線偏光に変換される。ここで変換された直線偏光方向と、λ／４板１４５に隣接する偏向板１４４の偏向方向とは一致するように設置されている。偏向板１４４を透過した光は、λ／４板１６０により左回りの円偏向に変換され、Ｒ画素では、左回りのコレステリック選択反射層によりＧおよびＢの光が選択反射され、Ｇ画素では、左回りのコレステリック選択反射層によりＢおよびＲの光が選択反射され、さらにＢ画素では、左回りのコレステリック選択反射層によりＲおよびＧの光が選択反射されてバックライト系に戻り有効利用される。コレステリック選択反射層１５６を透過した光は、λ／４板１５４により直線偏光に変換され、ＴＮ液晶１４１に入射する。この直線偏光方向とＴＮ液晶の配向方向とは平行または垂直になるように設定されている。
【０１９４】
一方、円偏向選択性反射板１４６で反射された左回りの円偏向は、拡散性反射板１３３で反射されて左回りの円偏向に変換され、円偏向選択性反射板１４６を透過し、直線偏向に変換されることにより有効利用される。
【０１９５】
以下に、図３１を用いて、図２９の液晶表示装置における映り込み防止機能について説明する。
【０１９６】
外光のうち液晶層１４１、カラーフィルター基板１５５、λ／４板１６０を経て偏向板１４４を透過したものは、λ／４板１４５で左回りの円偏光に変換され、円偏光選択性反射板１４６を透過する。ここで、右回りとなるはずの成分は、偏光板１４４にて吸収されているために生じない。偏光板１４４を透過した左回りの円偏光成分は、拡散性反射板１３３で反射されて右回りの円偏光に変換される。右回りの円偏光は円偏光選択性反射板１４６で反射され、さらに１往復した後、液晶セルに入射する。この２往復の光路により光の進行方向が拡散されることにより映り込みを防止することができる。
【０１９７】
以下に、図２９の液晶表示装置に用いられている透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板について説明する。
【０１９８】
図２９に示した液晶表示装置に用いられているカラーフィルター基板１５５には、コレステリック液晶層による選択反射層積層体１５６が設けられており、この選択反射層積層体は、カイラル方向が同一で、カイラルピッチが異なる２層の積層体により構成されている。Ｒのカラーフィルターの下にはＧの選択反射層１５１とＢの選択反射層１５０とが設けられ、Ｇのカラーフィルターの下にはＲの選択反射層１５２とＢの選択反射層１５０とが設けられている。また、Ｂのカラーフィルターの下には、Ｇの選択反射層１５１とＲの選択反射層１５２とが設けられている。さらに、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルター１２３の上には、液晶性高分子からなる１／４波長の位相差層１５４が設けられている。
【０１９９】
以下に、図２９に示した液晶表示装置に用いられているカラーフィルター基板におけるコレステリック液晶層による選択反射板の製造方法を、図面を参照して説明する。
【０２００】
まず、図３２（ａ）に示すように、基板１１８上にＢ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、膜厚２μｍのレジスト膜１５０を形成する。次に、図３２（ｂ）に示すように所定のパターンを有するマスク１６２ａを介して、レジスト膜１５０における、Ｒ画素とＧ画素とに対応する部分にＵＶ光１６１を照射して、パターン露光する。これによってレジスト膜１５０の露光部には、潜像１５０ａが形成される。露光後のレジスト膜１５０を現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図３２（ｃ）に示すようなＢ反射層１５０が得られる。
【０２０１】
次に、Ｂ反射層が形成された基板上に、図３３（ａ）に示すようにＧ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、膜厚２μｍのレジスト膜１５１を形成する。続いて、図３３（ｂ）に示すような所定のパターンを有するマスク１６２ｂを介して、レジスト膜１５１、Ｂ画素とＲ画素とに対応する部分にＵＶ１６１光を照射して、パターン露光する。これによって、レジスト膜１５１の露光部に潜像１５１ａが形成される。露光後の露光後のレジスト膜１５１現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図３３（ｃ）に示すようなＲ反射層１５１が得られる。
【０２０２】
さらに、Ｂ反射層およびＧ反射層が形成された基板上に、図３４（ａ）に示すようにＲ⁻ （左回り）反射用レジストをスピンコーティグにより塗布して、膜厚２μｍのレジスト膜１５２を形成する。
【０２０３】
次に、図３４（ｂ）に示すような所定のパターンを有するマスク１６２ｃを介して、レジスト膜１５２における、Ｒ画素とＧ画素とに対応する部分にＵＶ光１６１を照射して、パターン露光する。これによって、レジスト膜１５２の露光部に潜像１５２ａが形成される。露光後のレジスト膜１５２を現像することにより未露光部を選択的に除去して露光部を残し、パターン化されたレジスト膜を得た後、これをベークすることによりレジストを固めて図３４（ｃ）に示すようなＲ反射層１５２が得られる。
【０２０４】
上述のようにして形成されたカラー反射層の上に、顔料分散レジストを用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素に対応してＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する。
【０２０５】
次に液晶性高分子からなる位相差層の形成方法について説明する。
【０２０６】
まず、図３５（ａ）に示すように、位相差層を形成する基板の上に、液晶配向膜であるポリイミド膜１５３を０．１μｍ塗布、ベーク後、ラビングする。その上に、液晶性高分子をスピンコーティングにより所望の厚さ形成する。その後、液晶性高分子のガラス転移温度以上まで昇温してモノドメイン化し、急冷して配向を凍結させることにより、図３５（ｂ）に示すようにλ／４膜１５４を形成する。
【０２０７】
さらにその上に、スパッタリング法により透明電極であるＩＴＯを１５０ｎｍ形成することにより、カラーフィルター基板が形成される。
【０２０８】
本実施例のカラーフィルタ基板においては、λ／４層と組み合わせているので、偏光板としての機能を付与することができた。
【０２０９】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＴＮ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、円偏光選択性反射板を有する偏光バックライト光学系を用いず、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約５０％低減することができた。これは、従来６０％を占めていたバックライト光源の消費電力が１０％に抑えられたことによる。
【０２１０】
（実施例ＩＩ−６）
図３６に、本実施例にかかわる透過型液晶表示装置に概略的な断面図を示す。
【０２１１】
図示する透過型液晶表示装置１６３は、液晶セル１５８とバックライト光学系１３４とにより構成される。
【０２１２】
液晶セル１５８を構成するＴＦＴ基板１１６においては、スイッチング素子１１３の画素電極であるＩＴＯ膜１１４と基板１１２との間に、顔料分散法により形成されたカラーフィルタ１２３が配置されている。一方、対向基板１５５においては、ＩＴＯ膜１２４の下に液晶性高分子によるλ／４層１５４およびコレステリック液晶層による選択反射層積層体１５６が形成されている。その他の構成については、実施例（ＩＩ−５）と同様であるので、ここでは説明は省略する。また、選択反射層積層体、カラーフィルターの製造方法についても、実施例（ＩＩ−５）と同様である。
【０２１３】
本実施例のカラーフィルタ基板においては、λ／４層と組み合わせているので、偏光板としての機能を付与することができた。
【０２１４】
本実施例のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＴＮ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、円偏光選択性反射板を有する偏光バックライト光学系を用いず、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いた以外は、本実施例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。その結果、本実施例により、消費電力を約５０％低減することができた。これは、従来６０％を占めていたバックライト光源の消費電力が１０％に抑えられたことによる。
【０２１５】
（比較例ＩＩ−１）
図３７に、本比較例にかかわる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０２１６】
図示する透過型液晶表示装置２００は、液晶セル２１９とバックライト光学系２２４とにより構成される。
【０２１７】
かかる液晶表示装置においては、スイッチング素子２１３の形成されたＴＦＴ基板２１６がバックライト光学系２２４側にあること、カラーフィルター基板２１１において、基板側にブラックマトリックス２０３を伴なったカラーフィルター２０４、液晶２１７側にカラー反射層２０８が形成されていることを除いては、実施例（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）と同様であるので、ここでは省略する。また、選択反射層積層体、カラーフィルターの製造方法についても、実施例（ＩＩ−１）と同様であるのでここでは省略する。
【０２１８】
この比較例においては、実施例で １００：１以上であったコントラストが５：１に低下する問題が生じた。検討の結果、この画質低下の原因を調べたところ、反射型カラーフィルター／液晶層界面で多重反射および液晶層で位相差が発生し、これによってコントラストの低下が引き起こされることがわかった。
【０２１９】
（比較例ＩＩ−２）
図３８に、本比較例にかかわる透過型液晶表示装置の概略的な断面図を示す。
【０２２０】
図示する透過型液晶表示装置２３０は、液晶セル２３２とバックライト光学系２２４とにより構成される。
【０２２１】
液晶セルは、表示方式としてＴＮ方式が用いられていること、液晶セルの両側に偏光板２３４，２３５を有することを除いては、前述の比較例（ＩＩ−１）と同様であるのでここでは省略する。また、バックライト光学系についても実施例（ＩＩ−１）と同様であるので、ここでは省略する。選択反射層積層体およびカラーフィルターは、実施例（ＩＩ−１）と同様にして製造することができる。
【０２２２】
上述の構成の比較例（ＩＩ−２）のカラーフィルター基板を用いて液晶表示装置を作製し、その消費電力を従来の透過型ＴＮ液晶表示装置と比較した。なお、従来の液晶表示装置としては、カラー反射板を有しないカラーフィルタを用いる以外は、ここでの比較例の液晶表示装置と同一の構成としたものを用いた。
【０２２３】
この比較例においては、実施例で １００：１以上であったコントラストが５：１に低下する問題が生じた。検討の結果、この画質低下の原因を調べたところ、反射型カラーフィルター／液晶層界面で多重反射および液晶層で位相差が発生し、これによってコントラストの低下が引き起こされることがわかった。
【０２２４】
下記表３に、ＴＦＴ液晶表示装置におけるバックライトの消費電力をまとめる。ＴＦＴ液晶表示装置としては、従来例、偏光バックライト使用時、本発明のカラーフィルタ使用時、および本発明のカラーフィルタ／偏光バックライト併用時の４種類について調べた。
【０２２５】
【表３】

【０２２６】
表３に示されるように、本発明により消費電力を大幅に低減できることがわかる。
【０２２７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、カラーフィルタおよびブラックマトリックスによる光ロスを低減することにより、大幅な低消費電力化を図った高精細のカラー液晶表示装置が提供される。
【０２２８】
かかる液晶表示装置は、液晶プロジェクタ、液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイ用として、さらには携帯端末用として最適であり、その工業的価値は絶大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（実施例Ｉ）の液晶表示装置におけるカラーフィルターの積層構造を示す模式図。
【図２】（実施例Ｉ）の液晶表示装置におけるカラーフィルターの光利用効率向上の原理を示す模式図。
【図３】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置における液晶セルの構成の一例を概略的に示す断面図。
【図４】液晶プロジェクタの構成例を示す概略図。
【図５】液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイの構成例を示す概略図。
【図６】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図７】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図８】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図９】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１０】実施例（Ｉ−１）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１１】実施例（Ｉ−２）の液晶表示装置における液晶セルの構成の一例を概略的に示す断面図。
【図１２】実施例（Ｉ−２）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１３】実施例（Ｉ−２）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１４】実施例（Ｉ−２）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１５】実施例（Ｉ−２）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１６】（実施例Ｉ−３）の液晶表示装置における液晶セルの構成の一例を概略的に示す断面図。
【図１７】（実施例Ｉ−３）の液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図１８】（実施例ＩＩ）の液晶表示装置におけるカラーフィルタおよびカラー反射板でのバックライト光の波長選択性を表わす模式図。
【図１９】（実施例ＩＩ）の液晶表示装置におけるカラーフィルタおよびカラー反射板での外光の映り込み防止機能を表わす模式図。
【図２０】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図２１】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図２２】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図２３】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図２４】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図２５】（実施例ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図２６】（実施例ＩＩ−２）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図２７】（実施例ＩＩ−３）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図２８】（実施例ＩＩ−４）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図２９】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図３０】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置のカラーフィルター基板における光学変換機能を表す模式図。
【図３１】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置における映り込み防止機能を表す模式図。
【図３２】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図３３】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図３４】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図３５】（実施例ＩＩ−５）の透過型液晶表示装置におけるカラーフィルター基板の製造工程の一例を表わす断面図。
【図３６】（実施例ＩＩ−６）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図３７】比較例（ＩＩ−１）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【図３８】比較例（ＩＩ−２）の透過型液晶表示装置の一例の構成を示す概略図。
【符号の説明】
１１…基板
１２…ブラックマトリックス（ＢＭ）
１３…Ｂ反射層
１４…Ｇ反射層
１５…Ｒ反射層
２０，６０，８０…液晶セル
２１，２６，６１，６６，８１，８６…基板
２２，６２，８２…スイッチング素子
２３，６３，８３…画素電極
２４，６４，８５…ＴＦＴ基板
２７，６７，８７…選択反射層積層体
２８，６８，８９…コモン電極
３０，７０，９１…カラーフィルター基板
３１，７１，９２…Ｂ反射層
３２，７２，９３…Ｇ反射層
３３，７３，９４…Ｒ反射層
３５，７５，９６…液晶層
４０…液晶プロジェクション
４１…メタルハライド光源
４２…反射鏡
４３…コンデンサレンズ
４４…スクリーン
４６…液晶ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイ
４７…遮光筒
４８…バックライト光学系
４９…レンズ
５０…導光板
５１…光源
５２…透光性拡散板
５３…反射板
５５，７８…マスク
５６，７９…ＵＶ光
７６，９７…白色反射層
９０，９８…液晶配向膜
１１０，１４０，１４２，１４８，１５７，１６３…透過型液晶表示装置
１１１，１４７，１５８…液晶セル
１１２，１１８…基板
１１３…スイッチング素子
１１４，１２４…ＩＴＯ電極
１１５，１２５…液晶配向膜
１１６，１２６，１５５…ＴＦＴ基板
１１９，１５０…Ｂ反射層
１２０，１５１…Ｇ反射層
１２１，１５２…Ｒ反射層
１２２，１５６…選択反射層積層体
１２３…カラーフィルター
１２６…カラーフィルター基板
１２８…液晶層
１３０…導光板
１３１…光源
１３２…透光性拡散板
１３３…反射板
１３４…バックライト光学系
１３６、１６２…マスク
１３７，１６１…ＵＶ光
１４３，１４４…偏光板
１４５，１６０…λ／４位相差板
１４６…円偏光選択性反射板
１５３…液晶配向膜
１５４…λ／４膜
１５９…ブラックマトリックス
２００，２３０…液晶表示装置
２０２，２１２…基板
２０３…ブラックマトリックス
２０４…カラーフィルター
２０５…Ｂ反射層
２０６…Ｇ反射層
２０７…Ｒ反射層
２０８…選択反射層積層体
２０９…ＩＴＯ電極
２１０，２１５…液晶配向膜
２１１…カラーフィルター基板
２１３…スイッチング素子
２１４…画素電極
２１６…ＩＴＯ基板
２１７…液晶
２１９，２３２…液晶セル
２２０…導光板
２２１…光源
２２２…透光性拡散板
２２３…反射板
２２４…バックライト光学系
２３４，２３５…偏光板

Claims (2)

1. 表面に形成された透明電極および非開口部を有する第１の基板と、
   前記第１の基板に離間・対向して配置され、カラーフィルター作用を有する部材および透明電極が形成された第２の基板と、
   前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、
   前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系とを有し、
   前記カラーフィルター作用を有する部材は、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされ、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２層以上積層してなる積層体により構成されたカラー反射層積層体であり、前記第１の基板における前記非開口部に対応して、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層が３層以上積層された領域を有することを特徴とする液晶表示装置。
2. 表面に形成された透明電極および非開口部を有する第１の基板と、
   前記第１の基板に離間・対向して配置され、透明電極およびカラー反射層積層体が形成された第２の基板と、
   前記第１および第２の基板に挟持された液晶層と、
   前記第２の基板における前記カラー反射層積層体の前記第１の基板側、および前記第１の基板のいずれかに設けられ、前記２つの電極で制御される表示単位に応じてパターニングされたカラーフィルター層と、
   前記第２の基板における前記第１の基板とは反対の側に配置され、光源および反射部材を含むバックライト光学系とを具備し、
   前記カラー反射層積層体は、前記２つの電極で制御される表示単位に対応してパターニングされており、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層を２種以上積層してなる積層体により構成され、前記第１の基板における前記非開口部に対応して、カイラルピッチのそれぞれ異なるプレーナー配向したコレステリック液晶層が３層以上積層された領域を有し、
   前記カラー反射層積層体を透過する色と、前記カラーフィルター層を透過する色とが対応し、かつ、前記カラー反射層積層体で反射される色と前記カラーフィルター層で吸収する色とが対応していることを特徴とする液晶表示装置。

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