JP3529890B2 - 熱現像感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
硬調になる技術に関する。
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、3457075号、及びD.モーガン(Morgan) と
B.シェリー(Shely)による「熱によって処理される銀
システム(Thermally Processed Silver Systems) 」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and Materials )Neblette 第8
版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワース(Walwor
th) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969
年)に開示されている。このような熱現像感光材料は、
還元可能な銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触
媒(例えばハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤
及び還元剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。熱現像感光材料は常温で
安定であるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加
熱した場合に還元可能な銀源(酸化剤として機能する)
と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。
この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によ
って促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。この場合現像を制御
して硬調にする技術がなく開発が求められていた。
熱現像感光材料を提供することにある。更にカブリを抑
え、かつ硬調な熱現像感光材料を提供することにある。
によって達成できた。
物を少なくとも一種含有することを特徴とする熱現像感
光材料。 一般式(I)
のに必要な非金属原子群を表す。)
物を少なくとも一種と、下記一般式(II)で表わされる
化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする熱現
像感光材料。 一般式(II)
を表す。X1 およびX2 はそれぞれハロゲン原子を表
す。Aは、水素原子、ハロゲン原子または電子吸引性基
を表す。Yは−C(=O)−または−SO2 −を表す。
nは、0または1を表す。)
(1)又は(2)の熱現像感光材料。
る。Zで形成されるヘテロ環は、窒素原子を少なくとも
一つを含む3ないし10員の飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の
環と縮合環を形成してもよい。
の芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは窒素原子を1
ないし3原子含む5ないし6員の芳香族ヘテロ環であ
る。
は、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モル
フォリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソ
チアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、
ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、トリアゾー
ル、トリアジン、インドール、イソインドール、インダ
ゾール、プリン、キノリジン、イソキノリジン、チアジ
アゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、
ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリ
ン、プテリジン、カルバゾール、フェナンスリジン、ア
クリジン、ペリミジン、フェナントロリン、フェナジ
ン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、テト
ラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾ
ール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インド
レニンなどが挙げられる。
ゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジ
ン、トリアゾール、トリアジン、インドール、イソイン
ドール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノ
リジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、プテリジン、カルバゾール、フェナ
ンスリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキ
サジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベ
ンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾ
ール、インドレニンである。
サゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、インドリジン、トリアゾール、トリアジン、キノリ
ジン、イソキノリジン、チアジアゾール、オキサジアゾ
ール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサ
リン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、フェナン
スリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジ
ン、フラザン、チアゾール、オキサゾール、ベンズオキ
サゾール、ベンズチアゾール、インドレニンである。
ミジン、ピリダジン、トリアジン、イソキノリジン、チ
アジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノ
リン、プテリジン、フェナンスリジン、アクリジン、フ
ェナントロリン、フェナジン、フラザン、チアゾール、
オキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾー
ル、インドレニンである。
ミジン、ピリダジン、トリアジン、キノリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノ
リン、プテリジン、フェナンスリジン、アクリジン、フ
ェナントロリン、フェナジンである。最も好ましくはピ
リジンである。
もよく、置換基としては、例えばアルキル基(好ましく
は炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特
に好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば
メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチ
ル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シ
クロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが
挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜
20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは
炭素数2〜8のアルケニル基であり、例えばビニル、ア
リル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられ
る。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2
〜8のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3−
ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜30、より好ましくは炭素6〜20、特
に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例え
ばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げ
られる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、よ
り好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0
〜6のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノな
どが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好まし
くは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えばメトキ
シ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリー
ルオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましく
は炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12のア
リールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、2−ナ
フチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好まし
くは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、
特に好ましくは炭素数1〜12のアシル基であり、例え
ばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが
挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは
炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に
好ましくは炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基で
あり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基
(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7
〜16、特に好ましくは炭素数7〜10のアリールオキ
シカルボニル基であり、例えばフェニルオキシカルボニ
ルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは
炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に
好ましくは炭素数2〜10のアシルオキシ基であり、例
えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、
より好ましくは炭素2〜16、特に好ましくは炭素数2
〜10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミ
ノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキ
シカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2
〜12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば
メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜
20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは
炭素数7〜12のアリールオキシカルボニルアミノ基で
あり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙
げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは炭素1〜16、特に好ましく
は炭素数1〜12のスルホニルアミノ基であり、例えば
メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノな
どが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭
素数0〜20、より好ましくは炭素0〜16、特に好ま
しくは炭素数0〜12のスルファモイル基であり、例え
ばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルス
ルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられ
る。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、
より好ましくは炭素1〜16、特に好ましくは炭素数1
〜12のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、
メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニル
カルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のアルキルチオ
基であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げら
れる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜2
0、より好ましくは炭素6〜16、特に好ましくは炭素
数6〜12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチ
オなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭
素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好
ましくは炭素数1〜12のスルホニル基であり、例えば
メシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1
〜16、特に好ましくは炭素数1〜12のスルフィニル
基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフ
ィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に
好ましくは炭素数1〜12のウレイド基であり、例えば
ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙
げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは
炭素数1〜12のリン酸アミド基であり、例えばジエチ
ルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子
(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、
ジスルフィド基、ヘテロ環基(例えばイミダゾリル、ピ
リジル、フリル、ピペリジル、モルホリノなどが挙げら
れる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換
されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同
じでも異なってもよい。
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオ
キシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル
基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メル
カプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテ
ロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、
ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ジスルフ
ィド基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホ
ニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ウレイド基、ヒドロキ
シ基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニト
ロ基、ジスルフィド基、ヘテロ環基である。
キルチオ基、アリールチオ基、メルカプト基、ジスルフ
ィド基から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換され
ているものが好ましい。
ましくは一般式(I−a)で表される化合物である。 一般式(I−a)
同義であり、また好ましい範囲も同様である。Rは、水
素原子、脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロ環基ま
たはSR' を表す。R' は、脂肪族炭化水素基、アリー
ル基またはヘテロ環基を表す。)
は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素
数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ま
しくは炭素数1〜12のアルキル基であり、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブ
チル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−ヘプチ
ル、n−ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2
〜12のアルケニル基であり、例えばビニル、アリルな
どが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数
2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好まし
くは炭素数2〜12のアルキニル基であり、例えばプロ
パルギルなどが挙げられる。)である。
として好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭
素数1〜12のアルキル基である。RおよびR' で表さ
れるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30の
ものであり、より好ましくは炭素数6〜20の単環また
は縮環のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル
等が挙げられ、特に好ましくはフェニルである。
OまたはS原子の少なくとも一つを含む3ないし10員
の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環
であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよ
い。ヘテロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族
ヘテロ環であり、より好ましくは窒素原子を含む5ない
し6員の芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくは窒素原
子を1ないし3原子含む5ないし6員の芳香族ヘテロ環
である。
ジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフ
ェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、
ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリ
アジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナ
フチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、
プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール
などが挙げられる。ヘテロ環として好ましくは、チオフ
ェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、
ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリ
アジン、インドール、インダゾール、チアジアゾール、
オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジ
ン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾー
ル、インドレニンであり、より好ましくはピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダ
ジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダ
ゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、テトラ
ゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾー
ル、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレ
ニンであり、特に好ましくは、ピリジン、トリアゾー
ル、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、
キノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチア
ゾール、インドレニンである。
水素基、アリール基、ヘテロ環基は置換基を有してもよ
く、置換基としては、例えばZで形成されるヘテロ環基
の置換基として挙げたものが適用できる。Rとして好ま
しくは−SR’である。
り好ましくは一般式(I−b)で表される化合物であ
る。 一般式(I−b)
同義であり、また好ましい範囲も同様である。) 一般式(I)で表される化合物のうち、より好ましくは
一般式(I−c)で表される化合物である。 一般式(I−c)
同義であり、また好ましい範囲も同様である。) 以下に一般式(I)で表される化合物の具体例を挙げる
が本発明はこれらに限定されるものではない。
してもよい。本発明の一般式(I)で表される化合物の
合成には、通常のN−オキシド化合物の合成法を適用で
き、例えば「新実験化学講座」第15巻、660〜66
2頁(丸善)等に記載の方法に準じて合成できる。
て詳細に説明する。Qで表されるアリール基としては、
好ましくは炭素数6〜30のものであり、より好ましく
は炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であ
り、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、特に好ま
しくはフェニルである。
0のN、OまたはS原子の少なくとも一つを含む3ない
し10員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、こ
れらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形
成してもよい。
の芳香族ヘテロ環基であり、より好ましくは窒素原子を
含む5ないし6員の芳香族ヘテロ環基であり、更に好ま
しくは窒素原子を1ないし3原子含む5ないし6員の芳
香族ヘテロ環基である。ヘテロ環の具体例としては、例
えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリ
ン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピ
ラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾ
ール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリ
ン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フ
タラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、
シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ズチアゾールなどが挙げられる。ヘテロ環として好まし
くは、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、
ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリア
ゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、チア
ジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノ
リン、プテリジン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベ
ンズチアゾール、インドレニンであり、より好ましくは
ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラ
ジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インド
ール、インダゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾー
ル、インドレニンであり、特に好ましくは、ピリジン、
トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、キノリン、テトラゾール、チアゾール、オキ
サゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、
ベンズチアゾール、インドレニンである。
基である。X1 、X2 で表されるハロゲン原子は、同一
または互いに異なってもよくフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子であり、より好ましくは塩素原子、臭
素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくは
塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子で
ある。
は、σp 値が0.01以上1.0以下の置換基であり、
より好ましくは0.1以上1.0以下の置換基である。
電子吸引性基としては、例えばトリハロメチル基(CB
r3(0.29)、CCl3(0.33)、CF3(0.5
4))、シアノ基(0.66)、ニトロ基(0.78)、
炭素数1〜10のスルホニル基(メタンスルホニル
(0.72))、炭素数2〜10のアシル基(アセチル
(0.50))、炭素数2〜10のアルキニル基(C≡C
H(0.23))、炭素数2〜10のアルコキシカルボニ
ル基(メトキシカルボニル(0.45))、炭素数6〜1
2のアリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニ
ル(0.44))、炭素数1〜10のカルバモイル基(カ
ルバモイル(0.36))、炭素数0〜10のスルファモ
イル基(スルファモイル(0.57))などが挙げられ、
好ましくはスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基である。
より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは臭素原子である。Yは−C(=O)−、−SO
2 −を表し、好ましくは−SO2 −である。nは、0ま
たは1を表し、好ましくはYが−SO2 −の場合は1で
ある。一般式(II)で表される化合物のうち、好ましく
は下記一般式(II−a)で表される化合物である。 一般式(II−a)
一般式(II)におけるそれらと同義であり、また好まし
い範囲も同様である。Q’は芳香族含窒素ヘテロ環基を
表す。) Q’で表される芳香族含窒素ヘテロ環基として好ましく
は、窒素原子を1ないし3原子含む5ないし6員の芳香
族ヘテロ環であり、例えばピロール、イミダゾール、ピ
ラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾ
ール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリ
ン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フ
タラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、
シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ズチアゾール、インドレニンなどが挙げられ、より好ま
しくはピリジン、トリアゾール、トリアジン、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、キノリン、テトラゾール、
チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベン
ズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニンであ
る。一般式(II)で表される化合物のうち、好ましくは
下記一般式(II−b)で表される化合物である。 一般式(II−b)
(II)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲
も同様である。Q’は一般式(II−a)におけるそれと
同義であり、また好ましい範囲も同様である。X3 はハ
ロゲン原子を表す。)
くは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ま
しくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素
原子である。以下に一般式(II)で表される化合物の具
体例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
してもよい。本発明の一般式(II)で表される化合物
は、例えば米国特許第3874946号、欧州特許公開
第605981号等に記載の方法に準じて合成できる。
物は感光層でも非感光層でも添加することができる。好
ましくは、感光層である。一般式(I)、(II)で表わ
される化合物とも所望の目的により異なるが10-4モル
〜1モル/Agモル、好ましくは10-3モル〜0.4モ
ル/Agモル、更に好ましくは10-3モル〜3×10-2
モル/Agモル添加すると良い。いずれの化合物は有機
溶剤に溶かして添加することが好ましい。
しさから、好ましくはモノシート型(画像形成するため
に供与した材料は全て観察される画像シートとして完成
される型)熱現像感光材料である。また、赤外レーザー
露光用熱現像感光材料であることが好ましい。さらに赤
外レーザー露光の波長が750nm以上、さらにさらに
好ましくは800nm以上であるとよい。
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、3457075号、及びD.モーガン
(Morgan) とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Processed SilverSy
stems) 」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・
マテリアルズ(Imaging Processes and Materials )Neb
lette 第8版、スタージ(Sturge) 、V.ウォールワー
ス(Walworth) 、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、
1969年)等に開示されている。
用いて写真画像を形成するものであればよいが、還元可
能な銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例
えばハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤及び還
元剤を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散し
た状態で含有している熱現像感光材料であることが好ま
しい。本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱することで現
像される。加熱することで還元可能な銀源(酸化剤とし
て機能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀
を生成する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の
触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の
反応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非
露光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層に通過す
る光の量または波長分布を制御するために感光層と同じ
側または反対側にフィルター層を形成しても良いし、感
光層に染料または顔料を含ませても良い。感光層は複数
層にしても良く、また階調の調節のため感度を高感層/
低感層または低感層/高感層にしても良い。各種の添加
剤は感光層、非感光層、またはその他の形成層のいずれ
に添加しても良い。
体には、例えば紙、ポリエチレンを被覆した紙、ポリプ
ロピレンを被覆した紙、羊皮紙、布等の材料;例えば、
アルミニウム、銅、マグネシウム、亜鉛のような金属の
シート又は薄膜;ガラス又は、クロム合金、スチール、
銀、金、白金のような金属で被覆したガラス;ポリ(ア
ルキルメタクリレート類)(例えば、ポリ(メチルメタ
クリレート))、ポリ(エステル類)(例えば、ポリ
(エチレンテレフタレート))、ポリ(ビニルアセター
ル類)、ポリ(アミド類)(例えば、ナイロン)、セル
ロースエステル類(例えば、セルロースニトレート、セ
ルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート)等の合成ポリ
マー状材料がある。本発明の熱現像感光材料には例え
ば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外
線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。
にそれぞれのバインダー層(例えば、合成ポリマー)は
自己支持フィルムを形成してもよい。支持体を、公知の
補助材料、例えば、塩化ビニリデン、アクリル酸モノマ
ー(例えば、アクリロニトリルやメチルアクリレート)
及び不飽和ジカルボン酸(例えば、イタコン酸、アクリ
ル酸)、カルボキシメチルセルロース、ポリ(アクリル
アミド)のコポリマー及びターポリマー;及び類似のポ
リマー状材料で補助的に被覆してもよい。
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒また
はエマルションから被覆形成してもよい。
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isot
hiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N’ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzothiazolinylidene)) −1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラゾン;フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わ
せ(例えば、6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフ
ィン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノン+p−ト
リスルホン酸ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組
み合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含む)と
マレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレン
ジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水
物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニト
ロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択
される少なくとも1つの化合物との組み合わせ;キナゾ
リンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導
体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン類(例えば、
1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミ
ジン類及び不斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒ
ドロキシピリミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導
体(例えば、3,6−ジメロカプト−1,4−ジフェニ
ル−1H、4H−2,3a,5,6a−テトラアザペン
タレン。好ましい色調剤としてはフタラゾン:
像剤、例えばフェニドン、ヒドロキノン類、カテコール
等を含有してもよいが、ヒンダードフェノールが好まし
い。米国特許第4460681号に開示されているよう
なカラー感光材料も、本発明の実現では考えられる。
448号、3773512号、3593863号、及び
調査報告(Research Disclosure)第17029及び29
963に記載されており、次のものがある:アミノヒド
ロキシシクロアルケノン化合物(例えば、2−ヒドロキ
シ−ピペリジノ−2−シクロヘキセノン);現像剤の前
駆体としてアミノリダクトン類(reductones) エステル
(例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモノアセテ
ート);N−ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−
メチルフェニル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又
はケトンのヒドラゾン類(例えば、アントラセンアルデ
ヒドフェニルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノー
ル類;ホスファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベ
ンゼン類(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロ
キノン、イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒ
ドロキシ−フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロ
キサム酸類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム
酸);スルホンアミドアニリン類(例えば、4−(N−
メタンスルホンアミド)アニリン);2−テトラゾリル
チオヒドロキノン類(例えば、2−メチル−5−(1−
フェニル−5−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テ
トラヒドロキノキサリン類(例えば、1,2,3,4−
テトラヒドロキノキサリン);アミドオキシン類;アジ
ン類(例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド
類とアスコルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベ
ンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン
及び/又はヒドラジン;ヒドロキサン酸類;アジン類と
スルホンアミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノ
フェニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−
ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾ
ロン類;スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニ
リンダン(phenylindane) −1,3−ジオン等;クロマ
ン;1,4−ジヒドロピリジン類(例えば、2,6−ジ
メトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−1,4−ジヒド
ロピリジン);ビスフェノール類(例えば、ビス(2−
ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メ
タン、ビス(6−ヒドロキシ−m−トリ)メシトール
(mesitol)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチ
ルフェニル)プロパン、4,4−エチリデン−ビス(2
−t−ブチル−6−メチル)フェノール)、紫外線感応
性アスコルビン酸誘導体及び3−ピラゾリドン類。好ま
しい現像剤は一般式(A)のヒンダードフェノールであ
る:
〜10のアルキル基(例えば、−C4 H9 、2,4,4
−トリメチルペンチル)を表し、R5 及びR6 は炭素原
子数1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t
−ブチル)を表す。
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。
含有するいかなる材料でもよい。有機及びヘテロ有機酸
の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは15〜25
の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸が好ましい。配位子
が、4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を
有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。好適な銀
塩の例は、調査報告(Research Disclosure)第1702
9及び29963に記載されており、次のものがある:
有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、
ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等);銀のカ
ルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カル
ボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプロ
ピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒドと
ヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成
物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド)、ヒドロキ
シ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル酸)、
チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−カルボ
キシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾリン
−2−チオエン、及び3−カルボキシメチル−4−チア
ゾリン−2−チオエン)、イミダゾール、ピラゾール、
ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H−テトラ
ゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−
トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒
素酸と銀との錯体また塩;サッカリン、5−クロロサリ
チルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチド類の銀
塩。好ましい銀源はステアリン酸、ベヘン酸銀であり、
ベヘン酸が特に好ましい。還元可能な銀源は好ましくは
銀量として3g/m2以下である。さらに好ましくは2g
/m2以下である。
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740455号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。
拌しながら溶液を5分かけて添加しその後溶液を2
5分かけて添加する。そのまま20分攪拌した後、35
℃に降温する。35℃でより激しく攪拌しながら溶液
を5分かけて添加し、そのまま90分間攪拌し続ける。
その後、溶液を加え、攪拌をとめて放置し、水相を含
まれる塩とともに抜き、油相を得、脱溶媒して痕跡の水
を抜いた後、溶液を添加して50℃で激しく攪拌した
後、溶液を20分かけて添加し、105分攪拌して乳
剤Aを得た。
伸された175μの厚みのポリエチレンテレフタレート
の支持体(下塗り層なし)の上に以下の各層を順次形成
していった。乾燥は各々75℃5分間で行った。
830nmのレーザーダイオードを垂直面より13°傾
いたビームで露光した。その後ヒートドラムを用いて1
25℃×10秒熱現像処理した。現像後の logE−D曲
線からカブリ+D=0.5と1.5の間のガンマ値を階
調の評価値とした。
℃×10秒熱現像した後のカブリを測定し、経時させな
い時のカブリ値との差で評価した。
た、一般式(II)の化合物との併用においてはカブリ防
止と硬調化が達成されている。
拌しながら溶液Aを10分かけて添加し、続いて溶液
を5分かけて添加し、その後、溶液を25分かけて添
加する。そのまま20分攪拌した後、35℃に降温す
る。35℃でより激しく攪拌しながら溶液を5分かけ
て添加し、そのまま90分間攪拌し続ける。その後、溶
液を加え、攪拌をとめて放置し、水相を含まれる塩と
ともに抜き、油相を得、脱溶媒して痕跡の水を抜いた
後、溶液を添加して50℃で激しく攪拌した後、75
分攪拌して乳剤Bを得た。
ン層を感光層面側の感光層の下に設けた。)テストを行
なった。本発明の試料は実施例1と同様の結果が得られ
た。
り、式(II)の化合物との併用においては、カブリ防止
と硬調化を両立できる。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされる化合物を
少なくとも一種含有することを特徴とする熱現像感光材
料。 一般式(I) 【化1】 (式中、Zは含窒素ヘテロ環基を形成するのに必要な非
金属原子群を表す。) - 【請求項2】 一般式(I)で表わされる化合物を少な
くとも一種と一般式(II)で表わされる化合物を少なく
とも一種含有することを特徴とする熱現像感光材料。 一般式(II) 【化2】 (式中、Qはアリール基またはヘテロ環基を表す。X1
およびX2 はそれぞれハロゲン原子を表す。Aは、水素
原子、ハロゲン原子または電子吸引性基を表す。Yは−
C(=O)−または−SO2 −を表す。nは、0または
1を表す。) - 【請求項3】 一般式(I)で表される化合物が5又は
6員の芳香族へテロ環を有することを特徴とする請求項
1又は2に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項4】 モノシート型であることを特徴とする請
求項1〜3のいずれかに記載の熱現像感光材料。 - 【請求項5】 赤外レーザー露光用であることを特徴と
する請求項1〜4のいずれかに記載の熱現像感光材料。
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