JP3523594B2 - 有害ガス浄化装置及び浄化方法 - Google Patents

有害ガス浄化装置及び浄化方法

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JP3523594B2
JP3523594B2 JP2000550585A JP2000550585A JP3523594B2 JP 3523594 B2 JP3523594 B2 JP 3523594B2 JP 2000550585 A JP2000550585 A JP 2000550585A JP 2000550585 A JP2000550585 A JP 2000550585A JP 3523594 B2 JP3523594 B2 JP 3523594B2
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憲三 島川
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Shimakawa Seisakusyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】技術分野 本発明は、各種の有害成分や悪臭成分を含む有害ガスを
浄化する浄化装置に関する。
【0002】背景技術 病院等での滅菌処理に使用される酸化エチレンガス、あ
るいは燃焼装置や有機溶剤の乾燥装置等から排出される
一酸化炭素や炭化水素等のように、有害成分や悪臭成分
を含む有害ガスは、大気中に放出する前にこれらの有害
成分や悪臭成分を取り除き浄化する必要がある。このよ
うな有害ガスの浄化方法として、これを酸化触媒に通す
方法がある。酸化触媒を用いれば、直接燃焼させる場合
に比べて低温(例えば、200〜400℃)で酸化エチ
レンガス、一酸化炭素、炭化水素等の酸化反応を促進し
て無害な二酸化炭素や水蒸気に変えることができる。
【0003】このようなガス浄化装置は、内蔵する触媒
の量等に応じて単位時間当たりに浄化できる有害ガス成
分の量(以下「処理能力」ともいう)に制限がある。こ
の処理能力の上限を超える有害ガス(濃度または風量)
が浄化装置に供給されれば、有害ガスは十分に浄化され
ることなく排出されてしまうことになる。従って、この
種のガス浄化装置の使用にあたっては、有害ガス成分の
供給量が一時的であっても浄化装置の処理能力を超えな
いようにすることが重要である。
【0004】しかしながら、有害ガスは一定の量及び濃
度で発生するとは限らず、むしろ発生量及び濃度にかな
り大きい変動があるのが一般的である。また、発生源に
よっては間欠的に有害ガスを発生する場合も多い。一
方、このように発生量及び濃度が変動する有害ガスのピ
ーク量をカバーする処理能力を有する浄化装置を設置す
ることは、装置のコスト及び占有スペースの面で非経済
的である。
【0005】そこで、このように変動する有害ガスの量
及び濃度をできるだけ平滑化、つまり変動を少なくして
から浄化装置に供給する緩衝(バッファ)装置を設ける
ことが考慮される。このようなバッファの最も簡単な例
として、プラスチック袋のような可変容積の容器を使用
することが考えられる。この場合、発生した有害ガスは
一旦プラスチック袋に溜められ、浄化装置の吸い込みフ
ァン等の働きで、ほぼ一定量ずつ浄化装置に供給され
る。
【0006】しかし、可変容積の容器をバッファとして
使用すれば有害ガスの供給量の変動を少なくすることは
できるが、有害ガスの濃度、つまり有害ガス中に含まれ
る有害成分(浄化される成分)の濃度の変動を抑えるこ
とはできない。また、プラスチック袋は安価であるが、
十分なバッファ作用を奏するためには相当の大きさが必
要である。したがって、設置スペースが大きくなり、設
置方法も難しい。さらに、安全性を確保するためには、
ある程度の機械強度を有する外箱の中にプラスチック袋
を収納する二重構造が必要となると考えられ、これはコ
ストの増加につながる。また、有害ガスによっては、可
燃性や爆発性のものがあり、この点も考慮する必要があ
る。
【0007】そこで、本発明の目的は、有害ガスの発生
量又は濃度が変動する場合に有害ガスの浄化を経済的か
つ安全に行うことができる緩衝手段を備えた浄化装置の
提供である。
【0008】発明の開示 前記目的を達成するために、本発明の有害ガス浄化装置
は、有害ガス成分を含む気体の供給手段と、供給された
気体中の有害ガス成分を一旦溶解し、溶解した有害ガス
成分を後に放出する液体を用いた緩衝手段と、前記緩衝
手段から供給される気体中の有害ガス成分の浄化手段と
を備える。
【0009】このような液体を用いた浄化装置によれ
ば、有害ガス成分を一定値以下にして前記浄化手段に供
給することができ、また特別の装置や設備も必要なく、
装置自身の大きさも、求めれられる処理能力に応じて設
定でき、不必要な大きさになることがない。また、緩衝
手段の液体として、不燃性かつ不活性の液体を選択して
用いれば、可燃性や爆発性の有害ガスであっても安全に
処理できる。
【0010】なお、本出願人は、この出願とは別に、活
性炭等の気体吸着剤を用いた緩衝手段を備える浄化装置
を出願している(特願平9−250245号)。この装
置によっても、有害ガス濃度を一定値以下に制限して浄
化手段に供給することができ、コスト面においても本発
明の装置と同様に優れる。しかし、酸化エチレン等のあ
る種の有害ガスは、活性炭等に吸着すると発熱し(約7
0〜80℃)、これによって有害ガスがうまく浄化でき
ないおそれもある。これに対し本発明の浄化装置では、
緩衝手段に液体を使用するため、このような発熱の問題
を解決できるという利点がある。
【0011】本発明において、有害ガスとは、人体を含
む生体若しくは環境に有害とされるガスの他、可燃性ガ
スや爆発性ガスなどの危険性ガス、悪臭や異臭を有する
不快ガス等、除去されることが好ましいとされる全ての
ガスおよびこれを含むガスを意味し、無機ガス、有機ガ
スを問わない。例えば、有害ガスとして、前記酸化エチ
レン、トルエン、アセトン等の揮発性有機化合物ガス、
アンモニア等の無機化合物ガス等がある。また、有害ガ
スを含む気体としては、例えば、医療器具滅菌装置の排
出ガス(例えば、酸化エチレン含有ガス)、焼却炉の排
出ガス、工場の排出ガス、有機溶剤乾燥器の排気ガス、
焼成炉の排気ガス、ドラフトチャンバーの排気ガス、塗
装ブースの排気ガス等があげられる。
【0012】本発明の浄化装置において、前記緩衝手段
の液体は、供給された気体に含まれる有害ガス成分の濃
度が高いときは前記有害ガス成分を溶解し、前記濃度が
低いときはそれまでに溶解した有害ガス成分を放出する
ことが好ましい。このようにすることにより、前記浄化
手段に、一定の濃度で有害ガス成分を供給することがで
き、浄化を効率良く行えるからである。なお、このよう
な作用は、液体自身が本来備えるものであるが、この作
用が充分でない場合は、後述のように、有害ガス含有気
体または清浄気体を前記液体中に吹き込むことによっ
て、強制的に溶解または放出を行ってもよい。
【0013】本発明の装置において、清浄気体を緩衝手
段の液体中に供給する清浄気体供給手段をさらに備える
ことが好ましい。清浄気体を緩衝手段の液体中に供給す
ることにより、液体中に溶解していた有害ガスの放出を
促進させることができ、その結果、この液体が清浄化さ
れ、再度有害ガスを高濃度で溶解させることができるか
らである。
【0014】清浄気体を供給する場合、有害ガスを含む
気体を液体と清浄空気を交互に供給する第1の態様と、
有害ガス成分を含む気体および清浄気体を同時に緩衝手
段の液体中に供給する第2の態様がある。これらは、装
置の形態等により適宜選択されるが、第2の態様が好ま
しい。有害ガス成分を含む気体および清浄気体を同時に
緩衝手段の液体中に供給すると、有害ガスの溶解と放出
が同時に行われ、前記液体が緩衝作用を発揮し、前記浄
化手段に供給される有害ガス濃度を一定値以下に制御す
ることができるとともに、処理時間が前記第1の態様に
比べ大幅に短縮されるからである。
【0015】本発明の装置において、前記緩衝手段は、
液体から放出される気体と前記液体とを再度接触させる
手段を有することが好ましい。これにより、放出された
気体中の有害ガスが再度液体に溶解するため緩衝作用が
向上するからである。
【0016】前記再度接触させる手段を有する本発明の
浄化装置において、前記再度の接触処理と清浄気体の前
記液体中への供給が同じ容器内で行われる場合は、前記
液体から放出される気体と前記液体とを再度接触させる
時は、前記清浄気体を液体中に供給せず、液体から放出
される気体と前記液体とを再度接触させない時に前記清
浄気体を前記液体中に供給することが好ましい。
【0017】前記再度接触させる手段を有する本発明の
浄化装置において、前記緩衝手段が、有害ガスを液体中
に溶解させる溶解部と、有害ガスを溶解した液体を清浄
気体で清浄化する清浄部とを有し、前記溶解部の液体か
ら放出される気体と前記清浄部で清浄化されたと液体と
を接触させる手段を有することが好ましい。この装置に
よれば、有害ガスを含む気体および清浄気体の供給を同
時におこなうことができ、処理時間および処理効率が大
幅に向上する。この浄化装置の前記緩衝手段において、
前記溶解部および清浄部の間を液体が循環し、前記溶解
部および前記清浄部の少なくとも前記清浄部から有害ガ
スを含む気体が浄化手段に供給されることが好ましい。
このようにすれば、処理時間および処理効率がさらに向
上する。
【0018】本発明の浄化装置において、液体から放出
される気体と液体とを再度接触させる場合、その接触面
積および接触時間の少なくとも一方を増大させる手段を
有することが好ましい。有害ガスの液体への再溶解がさ
らに効率良く行えるからである。
【0019】前記接触面積等を増大させる手段として
は、例えば、液体を霧状若しくはシャワー状に噴出する
手段、液体を部材表面に沿って流す手段が好ましい。前
記部材としては、その表面積が大きいものが好ましく、
例えば、セラミック製、金属製、樹脂製等の馬蹄(U
字)形状の部材を多数配置し、これに液体を注げば、前
記部材表面にそって液体が流れ、この間に有害ガスが接
触し溶解する。このような部材は、気液接触面積を増大
させる部材として市販されている。前記馬蹄形状の他
に、ラシヒリング、パーティションリング、プリムトラ
イアングル等の形状がある。また、このような部材の他
に、多孔質部材、繊維から形成された部材等、その表面
積が大きい部材も使用できる。なお、これらの部材にお
いて、ガスの圧力損失が小さいもの、すなわち通気性が
よいものが好ましい。
【0020】本発明の装置において、前記浄化部は、触
媒を用いて有害ガス成分の浄化を行うことが好ましい。
有害ガスを燃焼により浄化させるより、エネルギーコス
トを低減でき、また安全性にも優れるからである。前記
触媒としては、例えば、酸化触媒があげられ、具体例と
しては、白金、パラジウム等の貴金属触媒、マグネシウ
ム酸化物、銅酸化物が使用できる。また、これらの触媒
は、通常、担体に担持されるが、この担体としては、例
えば、カルシウムアルミネートがある。また、担体は、
通常、ハニカム構造等の通気性を有する構造に成形さ
れ、これに触媒が、含浸、付着等により担持される。本
発明では、ハニカム構造に成形したカルシウムアルミネ
ートに白金触媒を担持させたものが好ましく使用され
る。また、この触媒の使用量等は、特に制限されず、目
的とする処理能力等に応じ適宜決定される。
【0021】前記浄化部は、さらに、触媒温度検出手段
と、前記触媒温度検出手段の検出温度に基づいて有害ガ
スの前記浄化手段への供給量を制御する制御手段とを備
えていることが好ましい。有害ガスの濃度が高くなると
触媒反応が高くなり前記触媒の温度が上昇するおそれが
あり、これを防止するためである。
【0022】本発明において、前記緩衝手段に使用され
る液体は、揮発性が小さく、有害性が少なく、燃焼時の
発熱が小さいことが好ましい。前記液体としては、例え
ば、水、水酸化ナトリウム水溶液等の水性溶媒、メチル
アルコール、エチルアルコール等のアルコール類、エチ
レングリコール等の多価アルコール誘導対等の有機溶媒
があげられる。これらは、単独で使用してもよいし、2
種類以上併用してもよい。2種類以上併用する場合、混
合して使用してもよいし、それぞれ独立して使用しても
よい。これらの液体は、有害ガスの種類等に応じ適宜選
択される。例えば、酸化エチレン、メチルエチルケト
ン、イソプロピルアルコール等に対しては水が、キシレ
ン、トルエン、メチルイソブチルケトン等に対してはア
ルコール類が、アセトンに対しては、エチレングリコー
ルが、それぞれ好ましく使用される。
【0023】本発明において、前述の理由から、浄化対
象の有害ガスが酸化エチレンである場合、前記液体は水
であることが好ましい。また、浄化対象の有害ガスが酸
化エチレンである場合、緩衝手段から浄化手段へ供給さ
れる気体中の酸化エチレンの濃度が20000ppm以
下に制御されることが好ましい。酸化エチレンの爆発臨
界下限濃度は3%であるが、20000ppm以下であ
れば安全性に問題がないからである。この他の有害ガス
の浄化部への供給下限濃度は、その性質等により適宜決
定される。例えば、メチルエチルケトンは1.8%、イ
ソプロピルアルコールは2.0%、キシレンは1.0
%、トルエンは1.2%、メチルイソブチルケトンは
1.4%、アセトンは2.15%である。
【0024】本発明において、前記清浄気体は、不活性
気体が好ましく、利用の簡便性やコスト等の理由から、
清浄空気が好ましい。なお、本発明において、清浄気体
とは、浄化対象の有害ガスを実質的に含まない気体をい
い、特にフィルター等で集塵する必要はない。しかし、
フィルター等で集塵した気体を用いることは、装置の寿
命や触媒活性の面等から好ましい。
【0025】本発明において、液体中に気体を供給する
手段は、液体中に気体を吹き込み多数の気泡を発生させ
る手段が好ましい。前記気体の液体への溶解度が向上す
るからである。前記気泡発生手段としては、例えば、多
数の孔を有する部材を通じて液中に気体を吹き込む方法
がある。
【0026】本発明において、水封式真空ポンプにより
有害ガス含有気体が水と共に供給される場合は、前記水
封式真空ポンプと緩衝手段との間で水が循環することが
好ましい。このシステムにより、水封式真空ポンプの水
を有効に使用できる。
【0027】また、この装置において、異常事態では、
水封式真空ポンプから供給される水および有害ガス含有
気体が、緩衝手段に供給されず、浄化装置外に排出され
ることが好ましい。また、排出される水および有害ガス
含有気体は、貯蔵タンクに一時的に貯蔵され、浄化装置
が通常の状態に復帰したら、前記貯蔵タンク内の水およ
び浄化対象ガスが緩衝手段に供給され、浄化手段により
浄化されることが好ましい。
【0028】つぎに、本発明の有害ガスの浄化方法は、
有害ガス成分を含む気体の浄化方法であって、前記有害
ガス成分を一旦溶解し、溶解した成分を後に放出する液
体を用いた緩衝手段を介して前記気体を浄化手段に供給
することにより、間欠的に供給されまたは間欠的に有害
ガス成分の濃度が高くなる前記気体の有害ガス成分の濃
度ピーク値を低減して前記浄化手段に供給する方法であ
る。この方法は、前記本発明の浄化装置を用い実施でき
る。この場合、前述と同様の理由により、有害ガス成分
を含む気体および清浄気体を同時に緩衝手段の液体中に
供給することが好ましい。
【0029】発明を実施するための最良の形態 つぎに、本発明の浄化装置の実施例を図面に基づき説明
する。
【0030】(実施例1) 図1の模式図に示す装置は、容器41およびこの中に充
填されている液体42とから構成される緩衝部と、触媒
部52を内臓する浄化部51とを有する。また、この装
置は、有害ガス含有気体供給用パイプ11を備え、この
パイプ11の途中には開閉バルブ21が配置され、この
パイプ11の先端部13は、前記容器41の底部(液体
42中)に配置されている。また、このパイプ11の途
中(開閉バルブ21より先端部13側)には、清浄空気
を供給するためのパイプ14が連結しており、このパイ
プ14には、開閉バルブ22とエアーポンプ31が配置
されている。また、容器41の上部にはパイプ15の一
端が連結しており、このパイプ15の他端は浄化部51
に連結している。そして、浄化部51からは、浄化気体
排出用パイプ16の一端が連結されており、この他端は
外部に向かって解放されている。
【0031】前記パイプ11の先端部13は、多数の孔
を有するか、若しくは多孔質材が連結し、前記孔から、
気体が液中に放出されることが好ましい。
【0032】前記液体42の量は、緩衝能を決定する因
子の一つであるが、浄化部の処理能力や処理すべき有害
ガス濃度等により適宜決定される。例えば、浄化対象有
害ガスが酸化エチレンであり、液体が水であり、有害ガ
ス発生源の滅菌装置の処理室容積が40リットルである
場合、前記液体(水)の量は、通常、5〜10リットル
である。容器41の容量は、例えば、前記処理室容積が
100リットルの場合は、約15リットル、前記処理室
容積が200リットルの場合は、約28リットルであ
る。前記容器41の形状は、特に制限されず、例えば、
球形状、円筒形状、直方体形状、立方体形状等である。
容器41の形状が直方体の場合、その内部の大きさは、
例えば、230×250×660mmである。前記液体
42の液面の高さは、ガスを効率良く吸収させるために
は、高いほど好ましい。前記液体42の液面積は、ガス
放散の因子であり、狭すぎると良くない。前記液面高さ
(h)と前記液面積(a)との比(h/a)は、2以上
であることが好ましい。また、前記液体の温度は、有害
ガスの溶解および放出に影響を与えるが、通常、5〜2
0℃の範囲であり、好ましくは、10〜20℃の範囲で
ある。前記液体温度は、通常の温度制御装置により制御
してもよいが、通常は、溶解する気体量に対し前記液体
が大量にあるため、外気温が極端に低かったり高かった
りしなければ、そのような温度制御装置は不要である。
これも、本発明の装置の利点である。また、浄化部へ導
入される気体中の有害ガス濃度は、そのガスの爆発若し
くは燃焼臨界下限濃度や触媒の処理能力等により適宜決
定される。前述のように、酸化エチレンを処理する場
合、上限は20000ppm以下が好ましい。
【0033】この装置を用いての有害ガスの浄化は、例
えば、つぎの2種類の方法によって行われる。
【0034】まず、第1の方法では、清浄空気供給用の
パイプ14の開閉バルブ22を閉めた状態で、開閉バル
ブ21を開き、パイプ11を通して有害ガス含有気体を
パイプ11先端部13から液体42中に吹き込む。この
ときの気体流量は、パイプ11の孔径やバルブ21の開
度等により適宜調整することができる。そして、吹き込
まれた前記気体は、多数の気泡となるが、気泡が液面に
上昇する過程で、前記気体中の有害ガスの全部若しくは
一部が前記液体中に溶解する。したがって、液面から放
出される気体中の有害ガス濃度は、当初に比べ低減され
ている。そして、液面から放出された気体は、容器41
の上部に接続されたパイプ15を通って浄化部51に導
入され、触媒部52で浄化される。この触媒部52の構
成としては、従来の構成、例えば、本出願人が開示した
方法(特開平9−290135号公報)が使用でき、有
害ガスの種類等に応じ適宜選択すればよい。浄化された
気体は、パイプ16を通り外部へ放出される。
【0035】この工程において、有害ガス含有気体中の
有害ガス濃度が低くなった時は、開閉バルブ22を開
き、エアーポンプ31で清浄空気を液体42中に吹き込
む。すると、液体42中に溶解していた有害ガスが、液
体42から放出され、ついで浄化部51に導入され、前
述同様に浄化される。この時、有害ガス含有気体は、供
給してもよいし停止していてもよい。また、液体42中
に溶存する有害ガス濃度が高くなると、液体42への有
害ガスの溶解性が低くなり緩衝能が低下する。この時
は、開閉バルブ21を閉じて有害ガス含有気体の供給を
一時中止し、前述と同様にして清浄空気を液体42中に
吹き込み、溶存有害ガスを液体42から放出させ、これ
を浄化部51に導入し浄化する。
【0036】このような第1の方法により、常時、浄化
部51へ導入される気体中の有害ガス濃度を一定にする
ことができ、有害ガスの浄化を効率良く行うことができ
る。
【0037】なお、前述のようなバルブの開閉やポンプ
の作動等は、ガス濃度センサ−等により液体42および
浄化部51に供給される気体中等の有害ガス濃度を検出
し、これに基づき自動制御することが好ましい。
【0038】つぎに、第2の方法では、開閉バルブ21
および開閉バルブ22の双方を開き、清浄空気とともに
有害ガス含有気体を液体42中に吹き込む。すると、有
害ガス含有気体および清浄空気の双方が、多数の気泡と
なり、その液面へ上昇する。
【0039】この過程において、有害ガスの溶解と放出
が同時に行われる。そして、液体42から放出された気
体は、パイプ15を通って浄化部51に導入され、触媒
部52で浄化される。浄化された気体は、パイプ16を
通して外部に放出される。
【0040】このような第2の方法では、液体42の緩
衝作用により、浄化部51に導入される気体中の有害ガ
ス濃度を常時一定に保持することが可能である。したが
って、この第2の方法によれば、前述の第1の方法のよ
うに多段階の工程を経ることなく、一段階で有害ガス含
有気体を浄化部に導入することができ、浄化処理時間を
大幅に短縮でき効率が向上する。
【0041】前記第2の方法において、有害ガス含有気
体と清浄空気の混合比率は、有害ガス濃度や液体の量等
により適宜決定されるが、通常、有害ガス含有気体の供
給量が、瞬間最大量40リットル/分の場合、清浄空気
の供給量は、80〜120リットル/分である。これら
の流量は、エアーポンプ31の出力、パイプ11、14
の孔径、バルブ21、22の開度等により調整できる。
【0042】なお、本発明において、緩衝手段の液体中
における有害ガス含有気体の気泡および清浄気体の気泡
は、双方とも細かいことが好ましく、例えば、前記気泡
径が200μm以下であることが好ましい。気泡を細か
くするには、例えば、適当な散気材を用いたり、気体の
流量を調整すればよい。
【0043】また、本発明において、有害ガスは、腐食
性を有することが多く、特に酸化エチレンガスは、強い
酸化力と透過性を有するから、装置に使用する容器やパ
イプ等の構成材料には、腐食に強いステンレス鋼等を用
いることが好ましい。
【0044】つぎに、この装置を用い、実際に酸化エチ
レンを処理した例を示す。
【0045】図1に示す装置を、医療器具滅菌装置(商
品名:ゼンメル601、ジェイ.エム.シー社製)に接
続し、これから排気される気体中の酸化エチレンガスを
処理した。前記滅菌装置の運転条件は、温度55℃、処
理圧力1.0kg/cm2、処理室容積38リットルで
ある。また、運転方法は、個別運転でおこない、処理室
内に残留する酸化エチレンガスのパージのために、エア
レーションを30回行った。したがって、この装置から
30回間欠的に酸化エチレン含有気体が排出されること
になる。前記滅菌装置からの排出ガス中の酸化エチレン
濃度は、180000〜200000ppmの範囲であ
る。
【0046】また、図1に示す装置において、触媒部5
2の触媒としては、カルシウムアルミネートをハニカム
構造に成形した担体に白金を含浸させたものを用いた。
この処理能力は、SV値(空間速度)が40000h-1
以下であり、LV値(線速度)が2.0m/秒以下であ
る。また、液体として、8リットルの水を容積12リッ
トルの容器41(内径200mm,高さ380mmの円
筒状容器)に注入した。なお、前記水の温度は特に制御
しなかった。したがって、前記水の温度は室温(約10
〜20℃)の範囲である。そして、以下に示すようにし
て前述の第1の方法および第2の方法により酸化エチレ
ンガスの処理を行った。そして、パイプ15(浄化部5
1導入口)およびパイプ16(浄化部51排出口)にお
いて、酸化エチレン濃度を測定した。この結果を、図2
および図3のグラフに示す。図2は、前記第1の方法の
結果を示し、図3は前記第2の方法の結果を示す。両図
において、曲線Aは浄化部51導入口の濃度を示し、曲
線Bは浄化部51排出口の濃度を示す。また、両図にお
いて、縦軸の数字(単位:ppm)は、曲線Aを読む場
合は1000倍し、曲線Bを読む場合は10倍し、横軸
は処理時間(実際の時刻)を示す。
【0047】(第1の方法の条件) まず、清浄空気の導入なしで前記滅菌装置により排出さ
れる排気ガス(エアーおよび酸化エチレンガス)を容器
41の水42中に吹き込む。この時の排気ガスの流量
は、80リットル/分である。そして、前記滅菌装置の
処理室から酸化エチレンをパージするためのエアレーシ
ョンが30回行われた後、清浄空気を流量80リットル
/分で水42中に吹き込む。前記エアレーションの一回
の流量は10リットル/分である。
【0048】(第2の方法の条件) 前記滅菌装置により排気される排出ガス(エアーおよび
酸化エチレンガス)とともに、清浄空気を流量80リッ
トル/分で水42中に吹き込んだ。
【0049】図2のグラフの曲線Aに示すように、前記
第1の方法で処理した場合、浄化部51導入口の酸化エ
チレン濃度は、急激に高くなるが、12000ppmを
超えることはなく、その後、徐々に低下していった。こ
のように、酸化エチレンの濃度が当初より低くなってい
ることから、水が緩衝能を発揮したといえる。なお、曲
線Aの小さなピークは、前記滅菌装置の各エアレーショ
ンに対応するものである。すなわち、前記エアレーショ
ンによっても、僅かではあるが、水に溶解した酸化エチ
レンを放出させる働きがある。そして、このエアレーシ
ョンの30回目が終了した後、清浄空気を水に吹き込ん
だ結果、水に溶解した酸化エチレンがほぼ放出され(曲
線Aの一番右側のピーク)、その後、急激に酸化エチレ
ンの濃度が低下した。これに対し、同図の曲線Bに示す
ように、浄化部51排出口の酸化エチレン濃度は、常
時、10ppm以下の低い濃度を維持していた。なお、
この第1の方法の処理に要した全体時間は、240分間
であった。
【0050】図3のグラフの曲線Aに示すように、前記
第2の方法で処理した場合、浄化部51導入口の酸化エ
チレンの濃度は、排気が開始された時点(16時10分
36秒)から急激に増加して2つのピークを示した。し
かし、このピークは、いずれも、10000ppm以下
であった。このように、酸化エチレンの濃度が当初より
低くなっていることから、水が緩衝能を発揮したといえ
る。その後、直ちに低下し、18時4分4秒の時点でほ
ぼ0ppmとなった。この第2の方法では、常時、清浄
空気を水に吹き込んでいるため、前記滅菌装置のエアレ
ーションに対応するような小さなピークはあまりなかっ
た。これに対し、浄化部51排出口の酸化エチレン濃度
は、前記入り口の濃度が急激に増加した時点と同じ時点
で僅かに増加が認められたが、常時、5ppm以下の低
い濃度であった。この第2の方法で処理した場合の全体
の処理時間は、120分間であり、前記第1の方法に比
べ、処理時間が大幅に短縮された。
【0051】(実施例2) 図4の模式図に示す装置は、液体から放出された気体を
前記液体と再度接触させる手段を有する装置である。図
示のように、この装置では、緩衝手段に用いる液体42
を充填する容器61において、その下部側面にパイプ1
7の一端が連結し、前記パイプ17の他端は、前記容器
61の上部に連結しており、前記パイプ17の他端先端
部は、液体をシャワー若しくは噴霧できるようになって
いる。また、前記パイプ17の途中には、ウォーターポ
ンプ32が配置されている。その他の部分は、図1に示
す装置(実施例1)と同じであり、同一部分には同一符
号を付している。この装置を用いての有害ガスの浄化
は、例えば、つぎのようにして行われる。
【0052】まず、開閉バルブ22を閉じた状態(清浄
空気を供給しない状態)で、ウォーターポンプ32を作
動させ、容器61に充填されている液体42を、パイプ
17を通して容器61の上部からシャワー若しくは噴霧
する。これにより、液体42は、容器61の上下を循環
することになる。この循環において、その流量は、通
常、30〜40リットル/分であり、これは、ウォータ
ーポンプ32の出力若しくはパイプ17の孔径により調
整できる。この状態で、開閉バルブ21を開き、有害ガ
ス含有気体をパイプ11を通し、その先端13から液体
42中に吹き込む。すると、前記気体は気泡となって液
面に上昇する。この間に、前記有害ガスの最初の液体へ
の溶解が起こる。そして、液体42から放出された前記
気体は、シャワー若しくは噴霧された液体42と再度接
触し、この間に、2回目の溶解が起こる。そして、有害
ガス濃度が低減された気体が、パイプ15を通り浄化部
51に導入され、触媒部52で浄化されてパイプ16を
通して外部に排出される。
【0053】そして、液体42中に溶存する有害ガス濃
度が高くなった場合、または緩衝部に供給される気体中
の有害ガス濃度が低い場合は、ウォーターポンプ32を
停止して液体42の循環を中止し、この状態で、開閉バ
ルブ22を開き、エアーポンプ31を作動させて清浄空
気を液体42中に吹き込む。なお、液体42中に溶存す
る有害ガス濃度が高くなった場合では、開閉バルブ21
を閉じて有害ガス含有気体の供給を停止するが、有害ガ
ス含有気体の有害ガス濃度が低い場合は、この気体の供
給を行ってもよいし停止してもよい。前記清浄空気の吹
き込みにより、溶存していた有害ガスが液体42から放
出され、前述と同様にして浄化部51に導入され、触媒
部52により浄化される。浄化された気体は、パイプ1
6を通して外部に排出される。なお、前述のようなバル
ブの開閉やポンプの作動等は、ガス濃度センサ−等によ
り液体42および浄化部51に供給される気体中等の有
害ガス濃度を検出し、これに基づき自動制御することが
好ましい。
【0054】このように、この浄化装置は、その緩衝部
の緩衝能が優れているため、浄化部51に導入する気体
中の有害ガス濃度をさらに均一化された一定値以下にす
ることが可能である。この結果、有害ガスの浄化効率が
さらに向上することとなる。なお、この装置において、
液体から放出された気体と前記液体とを再度接触させる
他は、処理の条件や装置の構成等は、実施例1の装置と
同様である。
【0055】(実施例3) 図5の模式図に示す装置は、図4に示す装置(実施例
2)の装置の容器61において、液体42から放出され
た気体と前記液体42とを再度接触させる際に、前記接
触面積を増大させるための部材62を設置した装置であ
る。したがって、図5において、図4と同一部分には同
一符号を付している。前記部材は、前述に示した部材が
使用できる。
【0056】例えば、前記部材として、馬蹄形状の部材
を使用する場合、この部材の大きさは、通常、最大径6
〜10mmの範囲である。これを金属製カゴ等に複数個
入れ、これを容器61中の液面と液体のシャワー口若し
くは噴霧口との間に配置する。前記部材の個数は、容器
61の大きさ等により適宜決定されるが、通常、500
0〜10000個である。
【0057】この部材62を用いれば、シャワー若しく
は噴霧された液体が、その部材表面に沿って流れるた
め、液体42から放出された気体との接触面積等が増大
し、さらに緩衝能が向上する。その他、この浄化装置を
用いた有害ガスの浄化は、前述の実施例2と同様にして
行われ、処理の条件や装置の構成等は、実施例2の装置
と同様である。
【0058】(実施例4) 図6の模式図に示す装置は、有害ガスを液体42a中に
溶解させる容器61aと、有害ガスを溶解した液体42
bを清浄空気で清浄する容器61bを有する。前記容器
61aの底部(液体42a中)には、その途中に開閉バ
ルブ21が配置されたパイプ11の先端部13が配置さ
れており、ここから有害ガス含有気体が吹き込まれる。
また、前記容器61bの底部(液体42b中)には、そ
の途中にエアーポンプ31が配置されたパイプ14aの
先端部14bが配置されている。前記両容器61a、6
1bは、パイプ18により連結されており、前記容器6
1bの下部の側面には、その途中にウォーターポンプ3
2が配置されたパイプ17の一端が連結され、このパイ
プ17の他端は、容器61aの上部に連結され、前記他
端の先端部は、液体をシャワー若しくは噴霧できるよう
になっている。前記両容器61a、61bの上部から
は、それぞれパイプ15aおよび15bの一端が連結さ
れ、これらの他端は、その途中にガス濃度センサーを備
えるパイプ15cの一端に連結し、前記パイプ15cの
他端は、浄化部51に連結している。この浄化部51
は、実施例1と同様に、触媒部52を有し、また前記浄
化部51には、排気用のパイプ16の一端が連結してい
る。この装置を用いた有害ガス含有気体の処理は、例え
ば、つぎのようにして行われる。
【0059】まず、ウォーターポンプ32を作動させる
と、容器61b中の液体42bが容器61aの上部に送
られ、ここから容器61aの下部にシャワー若しくは噴
霧され、また容器61a中の液体42aは、パイプ18
を通り容器61bに流入し、結果として、液体42a,
42bが、両容器61a,61bの間を循環する。この
循環の流量は、供給される有害ガス含有気体中の有害ガ
ス濃度等により適宜決定することができ、その調整は、
ウォーターポンプ32の出力や、パイプ17の孔径等に
より適宜行うことができる。つぎに、この循環と同時に
または前後して、エアーポンプ31を作動させて、清浄
空気をパイプ14aを通し、その先端14bから液体4
2b中に吹き込む。この状態で、開閉バルブ21を開
き、有害ガス含有気体をパイプ11を通し、この先端部
13から液体42a中に吹き込む。すると、吹き込まれ
た前記気体は、多数の気泡となって液面まで上昇し、こ
の間に有害ガスが液体42a中に溶解する。有害ガスを
溶解した液体42aはパイプ18を通り容器61bに送
られ、ここで清浄空気により清浄化される。また、容器
61a内の液体42aから放出された気体は、容器61
bから送られシャワー若しくは噴霧される液体42bと
再度接触する。前記液体42bは清浄化されているた
め、有害ガスの溶解性は向上している。そして、有害ガ
スを溶解した液体42bは容器61aの底部に落ちて液
体42aとなり、再度容器61bに送られ再度清浄化さ
れる。また、この容器61b内で液体42bが清浄化さ
れると同時に、前記液体42bから有害ガスを含む気体
が放出され、これはパイプ15bおよびパイプ15cを
順に通って浄化部51に導入される。また、容器61a
からも、有害ガス濃度が低減された気体が、パイプ15
aおよび15cを順に通って浄化部51に導入される。
導入された気体は触媒部52で浄化され、浄化された気
体はパイプ16を通り外部に放出される。この浄化部5
1での浄化において、パイプ15cに設けられた濃度セ
ンサーにより、有害ガス濃度に応じ、エアーポンプ3
1、ウォーターポンプ32および開閉バルブ21を自動
制御し、浄化部51に導入される気体の流量を調整する
ことも可能である。
【0060】このように、この装置の緩衝部では、有害
ガスを液体に溶解させる部分と、有害ガスを溶解した液
体を清浄化する部分とを分けることにより、前記溶解と
清浄化とを同時に行うことができるようにしている。こ
のため、前記実施例2および実施例3の装置のように、
2段階に分けて有害ガスの液体への溶解と前記液体の浄
化を行う必要がなく、処理効率が極めて高くなる。ま
た、この装置は、有害ガスの液体への溶解工程を少なく
とも2回行うため、緩衝能も優れたものとなっている。
これらの他は、実施例1または実施例2の浄化装置と、
処理条件および構成等において同じである。
【0061】(実施例5) 図7の模式図に示す装置は、図6に示す装置(実施例
4)の装置の容器61aにおいて、液体42aから放出
された気体とシャワー等された液体42bとを接触させ
る際に、前記接触面積等を増大させるための部材62を
設置した装置である。したがって、図7において、図6
と同一部分には同一符号を付している。前記部材は、前
述に示した部材が使用でき、例えば、馬蹄形状の部材を
使用する場合の条件は、実施例3に示した場合と同様で
ある。
【0062】この部材62を用いれば、シャワー若しく
は噴霧された液体42bが、その部材表面に沿って流れ
るため、液体42aから放出された気体との接触面積等
が増大し、さら緩衝能が向上する。その他、この浄化装
置を用いた有害ガスの浄化は、前述の実施例4と同様に
して行われ、処理の条件や装置の構成等は、実施例4の
装置と同様である。
【0063】(実施例6) 図8の模式図に、水封式真空ポンプを有する滅菌装置に
対応した本発明の浄化装置の一例を示す。
【0064】図示のように、この装置では、滅菌装置2
21の水封式真空ポンプ223が、パイプ101および
パイプ108で、容器41と連結している。水封式真空
ポンプ223は、処理室222からパイプ224を通し
て有害ガス(滅菌ガス)含有気体を排出するためのもの
である。前記有害ガス含有気体は、その一部または全部
が水に溶存した状態で水封式真空ポンプ223から排出
される。パイプ101は、水封式真空ポンプ223から
の有害ガス含有気体および水を容器41に送るためのも
のであり、その途中にはバルブ25が配置され、その先
端部102は、容器41の底部(水42中)に配置され
ている。また、パイプ108は、容器41中の水42を
水封式真空ポンプ223に返送するためのものであり、
その途中にバルブ27およびウォーターポンプ32が配
置されている。また、容器41の底部からは、ドレイン
用パイプ105が導出されており、その途中にはバルブ
26が配置され、このバルブ26より先の部分に、パイ
プ101から分岐しているパイプ107が連結し、パイ
プ105の先端は、装置外にある貯蔵タンク(図示せ
ず)に連結している。パイプ107の途中にはバルブ2
4が配置されている。また、この装置は、その途中にバ
ルブ28が配置されている水供給用パイプ109を備え
ており、その先端は、容器41の上部に導入されてい
る。また、パイプ109の途中からは、その途中にバル
ブ23が配置されているパイプ110が分岐しており、
その先端は前記返送用のパイプ108の途中に連結して
いる。前記容器41には、エアーポンプ31およびバル
ブ22を備えた清浄空気導入用パイプ103が導入され
ており、その先端部104は、容器41底部(水42
中)に位置している。また、容器41の上部にはパイプ
15の一端が連結しており、このパイプ15の他端は浄
化部51に連結している。そして、浄化部51からは、
浄化気体排出用パイプ16の一端が連結されており、こ
の他端は外部に向かって解放されている。前記浄化部5
1は、触媒部52を有する。
【0065】この装置による有害ガスの浄化は、水封式
真空ポンプ223と容器41との間で水が循環する以外
は、実施例1の装置と同様である。すなわち、滅菌器2
21の処理室222から、有害ガス含有気体および水
が、水封式真空ポンプ223により、パイプ101を通
って容器41の水42中に導入される。この際、気体の
状態で導入されたガスは、水42中に一部または全部溶
解し、また水に溶存状態で導入されたガスは、そのまま
水42中に溶解した状態となる。これにより、一定濃度
の有害ガス含有気体が、浄化部51に供給されることに
なる。なお、実施例1と同様に、浄化方法は、有害ガス
濃度に応じ清浄空気を間欠的に吹き込む前記第1の方法
および有害ガス含有気体とともに清浄空気を常に吹き込
む第2の方法のいずれであってもよい。そして、容器4
1から、水42の一部が、ウォーターポンプ32により
パイプ108を通って水封式ポンプ223に返送され
る。このようにして、図中の矢印で示すように、水封式
真空ポンプ223と容器41との間で水が循環する。な
お、通常の浄化運転の際、水供給はストップされている
ことが一般的であるため、バルブ28、23は通常閉止
されており、また、ドレイン用のバルブ24、26も閉
止されている。
【0066】つぎに、この装置は、安全装置を備えてお
り、異常事態の際には、水封式真空ポンプ223からの
容器41への有害ガス含有気体および水の供給がストッ
プされる。
【0067】図9の模式図に示すように、異常事態発生
の際には、バルブ25が閉止されて、有害ガス含有気体
および水の容器41への供給がストップされるととも
に、バルブ24が開いて、前記気体および水は、パイプ
107を通して装置外の予備タンク(図示せず)に排出
される。また、バルブ27が閉止しかつウォーターポン
プ32が停止して、水封式真空ポンプ223への水42
の返送がストップされる。これと同時またはその前後
に、バルブ23が開いて水がパイプ110、108を通
して水封式真空ポンプ223に供給される。異常事態発
生時における、水封式真空ポンプ223からの有害ガス
含有気体および水の流れは、同図において矢印で示すと
おりである。
【0068】そして、装置が、通常の運転に復帰した場
合は、予備タンクに貯蔵した水および有害ガス含有気体
が、容器41に導入され、有害ガスが浄化部51によっ
て浄化されてから、浄化気体が装置外に排出される。
【0069】なお、異常事態とは、例えば、装置が停止
した場合、浄化部52のファン(図示せず)やエアポン
プ31等が停止した場合、触媒部52の燃焼温度が異常
になった場合、容器41の水42の量が異常に減少また
は増加した場合等がある。
【0070】この装置において、通常の運転と異常事態
発生時の運転の切り替えは、マイクロコンピューターな
どによって自動的に制御されることが好ましい。例え
ば、容器41内の液面センサー、触媒部52の温度セン
サー、パイプ15、16等に取り付けられた有害ガス濃
度検知センサー等によって異常事態を感知し、自動制御
によって、異常事態発生の運転に切り替え、前記センサ
ー等により、通常の状態に復帰したら、通常の運転に切
り替えることが好ましい。
【0071】以上、本発明の浄化装置を、6個の代表例
をあげて説明したが、本発明はこれらに限定されない。
前記の各実施例の一部または全部を組み合わせて実施し
てもよいし、他の種々の変更を前記実施例に加えて実施
してもよい。
【0072】産業上の利用可能性 以上のように、本発明の浄化装置は、有害ガス成分を一
旦溶解し、溶解した有害ガスを後に放出する液体を用い
た緩衝手段を備えることにより、有害ガスの発生量又は
濃度が変動する場合に有害ガスの浄化を経済的かつ安全
に行うことができる。 [図面の簡単な説明]
【図1】 本発明の実施例1に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図2】 前記実施例1において、本発明の第1の方法
により酸化エチレンガスを処理した結果を示すグラフで
ある。
【図3】 前記実施例1において、本発明の第2の方法
により酸化エチレンガスを処理した結果を示すグラフで
ある。
【図4】 本発明の実施例2に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図5】 本発明の実施例3に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図6】 本発明の実施例4に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図7】 本発明の実施例5に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図8】 本発明の実施例6に係る浄化装置の概略構成
を示す模式図である。
【図9】 前記実施例6において、安全装置が作動した
状態を示す模式図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B01D 53/86

Claims (22)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有害ガス成分を含む気体の供給手段と、
    供給された気体中の有害ガス成分を一旦溶解し、溶解し
    た有害ガス成分を後に放出する液体を用いた緩衝手段
    と、前記緩衝手段から供給される気体中の有害ガス成分
    の浄化手段とを備え、前記緩衝手段の液体が、前記供給
    された気体に含まれる有害ガス成分の濃度が高いときは
    前記有害ガス成分を溶解し、前記濃度が低いときはそれ
    までに溶解した有害ガス成分を放出する液体である有害
    ガス浄化装置。
  2. 【請求項2】 清浄気体を緩衝手段の液体中に供給する
    清浄気体供給手段をさらに備える請求項1記載の浄化装
    置。
  3. 【請求項3】 有害ガス成分を含む気体および清浄気体
    を同時に緩衝手段の液体中に供給する請求項1記載の浄
    化装置。
  4. 【請求項4】 緩衝手段が、液体から放出される気体と
    前記液体とを再度接触させる手段を有する請求項1記載
    の浄化装置。
  5. 【請求項5】 液体から放出される気体と前記液体とを
    再度接触させる場合は、清浄気体を液体中に供給せず、
    液体から放出される気体と前記液体とを再度接触させな
    い場合に清浄気体を前記液体中に供給する請求項4記載
    の浄化装置。
  6. 【請求項6】 緩衝手段が、有害ガスを液体中に溶解さ
    せる溶解部と、有害ガスを溶解した液体を清浄気体で清
    浄する清浄部とを有し、前記溶解部の液体から放出され
    る気体と前記清浄部で清浄化された液体とを接触させる
    手段を有する請求項1記載の装置。
  7. 【請求項7】 溶解部および清浄部の間を液体が循環
    し、前記溶解部および前記清浄部の少なくとも前記清浄
    部から有害ガスを含む気体が浄化手段に供給される請求
    項6記載の浄化装置。
  8. 【請求項8】 液体から放出される気体と液体とを再度
    接触させる場合、その接触面積および接触時間の少なく
    とも一方を増大させる手段を有する請求項4記載の浄化
    装置。
  9. 【請求項9】 接触面積および接触時間の少なくとも一
    方を増大させる手段が、液体を霧状若しくはシャワー状
    に噴出する手段である請求項8記載の浄化装置。
  10. 【請求項10】 接触面積および接触時間の少なくとも
    一方を増大させる手段が、液体を部材表面に沿って流す
    手段である請求項8記載の浄化装置。
  11. 【請求項11】 浄化手段が、触媒を用いて有害ガス成
    分の浄化を行う手段で、ある請求項1記載の浄化装置。
  12. 【請求項12】 浄化手段が、触媒温度検出手段と、前
    記触媒温度検出手段の検出温度に基づいて前記浄化手段
    への有害ガスを含む気体の供給量を制御する制御手段と
    を備えている請求項11記載の浄化装置。
  13. 【請求項13】 液体が、水、水酸化ナトリウム水溶
    液、アルコール類および多価アルコール誘導体からなる
    群から選択される少なくとも一つの液体である請求項1
    記載の浄化装置。
  14. 【請求項14】 浄化対象の有害ガスが酸化エチレンで
    ある場合、液体が水である請求項1記載の浄化装置。
  15. 【請求項15】 浄化対象の有害ガスが酸化エチレンで
    ある場合、緩衝手段から浄化手段へ供給される気体中の
    酸化エチレンの濃度が20000ppm以下に制御され
    る請求項14記載の浄化装置。
  16. 【請求項16】 清浄気体が、清浄空気である請求項2
    記載の浄化装置。
  17. 【請求項17】 液体中に気体を供給する手段が、液体
    中に気体を吹き込み多数の気泡を発生させる手段である
    請求項1記載の浄化装置。
  18. 【請求項18】 水封式真空ポンプにより有害ガス含有
    気体が水と共に供給される浄化装置であって、前記水封
    式真空ポンプと緩衝手段との間で水が循環する請求項1
    記載の浄化装置。
  19. 【請求項19】 異常事態において、水封式真空ポンプ
    から供給される水および有害ガス含有気体が、緩衝手段
    に供給されず、浄化装置外に排出される請求項18記載
    の浄化装置。
  20. 【請求項20】 浄化装置外に排出される水および有害
    ガス含有気体が、貯蔵タンクに一時的に貯蔵され、浄化
    装置が通常の状態に復帰したら、前記貯蔵タンク内の水
    および有害ガス含有気体が緩衝手段に供給される請求項
    19記載の浄化装置。
  21. 【請求項21】 有害ガス成分を含む気体の浄化方法で
    あって、前記有害ガス成分を一旦溶解し、溶解した成分
    を後に放出する液体を用いた緩衝手段を介して前記気体
    を浄化手段に供給することにより、間欠的に供給されま
    たは間欠的に有害ガス成分の濃度が高くなる前記気体の
    有害ガス成分の濃度ピーク値を低減して前記浄化手段に
    供給する浄化方法において、前記緩衝手段の液体とし
    て、前記供給された気体に含まれる有害ガス成分の濃度
    が高いときは前記有害ガス成分を溶解し、前記濃度が低
    いときはそれまでに溶解した有害ガス成分を放出する液
    体を用いる有害ガスの浄化方法。
  22. 【請求項22】 有害ガス成分を含む気体および清浄気
    体を同時に緩衝手段の液体中に供給する請求項21記載
    の浄化方法。
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