JP3522930B2 - 抗菌剤及びこれを含有する口腔用組成物 - Google Patents
抗菌剤及びこれを含有する口腔用組成物Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、う蝕、歯周病及び
口臭等の原因菌の生育を著しく阻害し、う蝕及び歯周病
に有効に作用するセスキテルペン化合物を含有する口腔
用組成物に関する。 【０００２】 【従来の技術】う蝕及び歯周病は、口腔内の疾患であ
り、いずれも特定の細菌による感染症であることが知ら
れている。ストレプトコッカス・ミュータンスはヒトの
う蝕病巣や歯垢の中に見出され、う蝕発生において重要
な役割をはたす。この菌種はショ糖から菌体外酵素によ
ってグルカンとよばれる粘着性の高い高分子多糖体を産
生し、歯のエナメル質表層に強く定着し歯垢を形成す
る。歯垢に生息する微生物群は糖代謝により酸を産生
し、う蝕が誘発される。 【０００３】一方、歯周病は作用因子、環境及び宿主か
らなる多因性疾患である。この中で最も病因的な役割を
果たすのは細菌であり、近年の研究によりいくつかの病
原菌及びその病原性因子等が報告されている。中でもポ
ルフィロモナス・ジンジバリスは、歯周炎患者の歯周ポ
ケットから高頻度に分離されることから、歯周病の中で
最も多い成人性歯周炎の病原菌として有力視されてい
る。 【０００４】また、口臭の原因は主としてフゾバクテリ
ウム・ヌクレイタムなどの嫌気性細菌がメチオニン代謝
により産生するメチルメルカプタンである。う蝕、歯周
病及び口臭を予防するためには、病巣においてこれらの
菌類の生育を阻害することが重要であり、これらの菌類
に対して有効な抗菌性物質の応用が効果的である。 【０００５】従来、このような抗菌性物質として、テト
ラサイクリン、ミノサイクリン等の抗生物質が用いられ
てきた。 【０００６】しかしながら、これらの抗生物質は、作用
が強力である反面、副作用が強く、更に耐性菌が出現す
る等の欠点があり、日常的に使用できるものではなかっ
た。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、う蝕、歯周病及び口臭の原因となる細菌に対し強い
抗菌活性を持ち、副作用が少なく、日常的に使用できる
口腔用組成物を提供することにある。 【０００８】 【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み、本出
願人は、すでに副作用の心配がなく、古くから漢方薬と
して用いられている天然物たるウコン（Curcuma longa
L.）の抽出物が、う蝕、歯周病菌に対して強い抗菌活性
を有することを見出し特許出願した（特開平４−５２２
２号公報）。本発明者らはより強力な抗菌活性をもつ物
質を得るべく更に研究を行った結果、ウコンの抽出物中
に強力な抗菌活性を有する下記一般式（１）で表される
化合物を見出し本発明を完成した。 【０００９】すなわち本発明は、次の一般式（１） 【００１０】 【化２】 【００１１】（式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はヒドロ
キシル基を示し、Ｒ3及びＲ4は水素原子もしくはヒドロ
キシル基を示すか又は一緒になって隣接する炭素原子と
ともにカルボニル基を形成し、破線は当該箇所が二重結
合になっていてもよいことを示す）で表されるセスキテ
ルペン化合物の１種又は２種以上を含有する口腔用組成
物を提供するものである。 【００１２】 【発明の実施の形態】上記一般式（１）で表されるセス
キテルペン化合物がう蝕、歯周病、口臭の原因となる菌
に対して優れた抗菌性を示すことを見出したのは、本発
明者が初めてである。 【００１３】本発明に用いるセスキテルペン化合物
（１）は、ウコン及びウコン以外のCurcuma属植物にも
含まれていることが知られているので、これらから単離
することができる。また化学合成によりこの化合物を製
造することもできる。 【００１４】上記植物から、セスキテルペン化合物
（１）を単離するには例えば、上記植物の抽出物よりク
ロマトグラフィーにて分取することが好ましい。すなわ
ち、乾燥させたCurcuma属植物を粉砕し、水、アルコー
ル、グリコール類、アセトンなどの親水性有機溶媒、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエ
ステル類、クロロホルムなどのハロゲン化有機溶媒、ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ペンタン、
ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、又はこれらの混合溶液
を用いて粗抽出液を得る。粗抽出液から溶媒を除去して
得た粗抽出物を、水、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、アセトニトリル、アセトン、メチル
エチルケトン、クロロホルム、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル
より選ばれる少なくとも一種類の溶媒を溶出溶媒とし
て、ＤＩＡＩＯＮ ＨＰ−２０、ＴＳＫＧＥＬＨＷ−４
０、などのポーラスポリマーＳｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ−
２０などのセファデックス、ポリアミド、セルロース、
逆相系シリカゲル、シリカゲルなどを担体に用いたカラ
ムクロマトグラフィー、分取ＨＰＬＣ、調製薄層クロマ
トグラフィーなどの分画法に付すことによりセスキテル
ペン化合物（１）を得る。 【００１５】一方、化学合成によりセスキテルペン化合
物（１）を得るには、例えば、Ｗｏｏ Ｙｏｕｎｇ Ｌ
ｅｅ，ｏｎｇ Ｂｏ Ｌｅｅ，Ｓｅ ｙｏｕｎｇ Ｊａ
ｎｇ，Ｂｕｌｌ，Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１０，４，３９４（１９８９）、Ｔａｋｅｓｈｉ Ｋｉ
ｔａｈａｒａ，Ｙｏｓｈｉｏ Ｆｕｒｕｓｈｏ，Ｋｅｎ
ｊｉ Ｍｏｒｉ，Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉ
ｏｃｈｅｍ．，５７，７，１１３７（１９９３）、Ｙｕ
ｋｉｏ Ｍａｓａｋｉ Ｋｉｎｊｉ Ｈａｓｈｉｍｏｔ
ｏ，Ｋａｚｕｈｉｒｏ Ｓａｋｕｍａ，Ｋｅｎｊｉ Ｋ
ａｊｉ，Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎ
ｓ，Ｉ，１２８９（１９８８）等の方法を用いることが
好ましい。 【００１６】本発明の口腔用組成物は、上記のセスキテ
ルペン化合物（１）の１種又は２種以上を有効成分とし
て含有せしめたものであり、この含有量は、０．０００
１〜１０重量％（以下、単に「％」という）、特に０．
００１〜５％とすることが好ましい。また、セスキテル
ペン化合物（１）は単離品でなくとも、公知のものより
多く含有するものであれば、粗抽出物でも用いることが
できる。 【００１７】本発明の口腔用組成物は上記必須成分の
他、本発明の効果を損なわない範囲で通常用いられてい
る口腔用ビヒクルを配合し、トローチ、粉歯磨、練歯
磨、液状歯磨、液体歯磨（デンタルリンス）、洗口剤
（マウスウォッシュ）、うがい薬、歯肉マッサージクリ
ーム、キャンディー、チューインガム等の形態とするこ
とができる。このような口腔用ビヒクルとしては、研磨
剤、粘結剤、湿潤剤、界面活性剤、香料、甘味料、防腐
剤、色素、水、殺菌剤、水溶性フッ化物及びその他の有
効成分等が挙げられる。 【００１８】ここで研磨剤としては歯磨用リン酸水素カ
ルシウム、炭酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、不
溶性メタリン酸ナトリウム、メタリン酸カリウム、無水
ケイ酸、含水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ジル
コニウム、ベントナイト、ゼオライト、酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、レジン及びこれらの混合物が
挙げられる。粘結剤としてはカルボキシメチルセルロー
スナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、アルギン酸塩、カラギーナン、アラビアゴ
ム、ポリビニルアルコール、キサンカンガム、トラガン
トガム、デンプン、ポリアクリル酸ナトリウム等が挙げ
られる。湿潤剤としてはポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ソルビトール、グリセリン、マルチ
トール、キシリトール等が挙げられる。 【００１９】界面活性剤は、発泡剤又は油状物質の安定
化剤として用いられるものである。好ましい界面活性剤
の例としては、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルリン
酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、
Ｎ−アシルザルコシン酸ナトリウム、Ｎ−アシルグルタ
ミン酸塩、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキ
シエチレンポリプロピレンブロック共重合体（プルロニ
ック型）、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグリコシド
類、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、アルキルジメチルアミンオキ
サイド、アルキルベタイン類等が挙げられる。 【００２０】香料としてはスペアミント油、ペパーミン
ト油、ウインターグリーン油、サッサフラス油、丁子
油、セージ油、ユーカリ油、マヨナラ油、肉桂油、タイ
ム油、レモン油及びオレンジ油等の天然香料；及びｌ−
メントール、アネトール、カルボン、オイゲノール、チ
モール、サリチル酸メチル等の合成香料が挙げられる。 【００２１】甘味料としてはサッカリン、サッカリンナ
トリウム、ステビオサイド、ネオヘスペリジルジヒドロ
カルコン、ベルラルチン、ｐ−メトキシシンナミックア
ルデヒド、グリチルリチン酸塩、アスパルテーム（アス
パルチルフェニルアラニンメチルエステル）等が挙げら
れる。防腐剤としては安息香酸、安息香酸ナトリウム、
パラヒドロキシ安息香酸エステル、サリチル酸、サリチ
ル酸ナトリウム、ソルビン酸、イソプロピルメチルフェ
ノール等が挙げられる。殺菌剤としてはクロルヘキシジ
ン類、第４級アンモニウム塩、トリクロサン、塩酸アル
キルジアミノエチルグリシン等が挙げられる。水溶性フ
ッ化物としてはフッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸
ナトリウム等が挙げられる。その他の有効成分として
は、クロロフィル化合物、塩化ナトリウム、ビタミン
Ｃ、ビタミンＥ、ニコチン酸エステル、アラントインク
ロルヒドロキシアルミニウム、アズレン、塩化リゾチー
ム、ヒノキチオール、β−グリチルレチン酸、グリチル
リチン酸ジカリウム、プロテアーゼ、他の生薬抽出物等
が挙げられる。 【００２２】これらの口腔用ビヒクルの配合量は口腔用
組成物の形態によって異なり、液体組成物の場合には当
該液状組成物には前記の口腔用ビヒクルのうち、研磨剤
を除くすべてのビヒクルが配合できるが、基本的には界
面活性剤を０．０５〜１０％、湿潤剤を１〜３０％、ア
ルコール及び水を５０〜９６％含有するのが好ましい。
ここで水：アルコールの比率は重量比で１：１〜１：
０、特に５：１〜１０００：１が好ましい。 【００２３】ペースト状の組成物の場合には、前記口腔
用ビヒクルの全てが配合できるが、基本的には研磨剤を
１０〜７５％、粘結剤を０．５〜５％、湿潤剤及び水を
１０〜８５％含有するのが好ましい。ここで、研磨剤
は、練歯磨の場合には２０〜７５％、液状歯磨の場合に
は１０〜３０％が好ましい。 【００２４】前記口腔用ビヒクルのうち、香料及び甘味
料は合計で０．０１〜５％配合するのが好ましい。ま
た、本発明口腔用組成物のpHは４〜１１、特に５〜１０
の範囲内とすることが好ましい。 【００２５】 【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明は、これら実施例に限定されるもので
はない。 【００２６】参考例１（ウコンからセスキテルペン化合
物（１）の単離） 下記式で表されるセスキテルペン化合物を単離した。 【００２７】 【化３】 【００２８】単離方法 （１）化合物１ ウコン原体（粉末）２．０kgをヘキサン２リットルで室
温にて抽出を２回行い、濾過後濃縮して粗抽出物（Ｋ１
００４Ａ ５１．３ｇ）を得た。粗抽出物４９．３ｇを
ヘキサン１リットルに溶解したのち、当量の９０％メタ
ノール水で３回分配抽出して得た９０％メタノール水層
を濃縮した（画分Ｋ１００４Ｍ ２９．６ｇ）。画分Ｋ
１００４Ｍ ２１．５ｇを逆相フラッシュクロマトグラ
フィー（ＹＭＣ社製 ＯＤＳ−Ａ 水／メタノール／ク
ロロホルム系）に供して、メタノール溶出区を濃縮した
（画分Ｋ１００６Ｄ １７．６ｇ）。画分Ｋ１００６Ｄ
９．５ｇを中圧順相クロマトグラフィー（メルク社製
キーゼルゲル６０ ２３０−４００メッシュ ヘキサン
／酢酸エチル系）に供して、ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１溶出区を濃縮した（画分Ｋ１０２８Ｈ ５３８．
７mg）。画分Ｋ１０２８Ｈ ５１８．６mgを更にＨＰＬ
Ｃ（ＹＭＣＰＡＣＫ Ｃ８ １０μm ２５０×２０mm、
８０％メタノール水、流速５ml／min、検出ＵＶ２２０n
m）に供し、単離化合物Ｋ１０２９Ａを５．９mgを得
て、化合物１と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 89.4°(c=0.51 CHCl3) FAB-MS(M+H)+ 233 200MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.29(d,J=7.1Hz,3H), 1.85(d,
J=1.2Hz,3H),2.11(d,J=1.4Hz,3H), 2.26(s,3H),2.80(d,
J=6.4Hz,2H), 3.57(m,1H),6.00(m,1H), 6.72(dd,J=7.6,
1.0Hz,1H), 6.74(d,J=1.0Hz,1H),7.02(d,J=7.6Hz,1H),
8.09(s,1H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);20.9, 21.1, 21.4, 25.7, 27.
8, 54.2,118.5, 121.7, 123.1, 126.1, 130.0, 137.1,
153.5, 157.8, 201.9. （２）化合物２ 前述したＨＰＬＣにおいて単離化合物Ｋ１０２９Ｂを
７．０mg得て、化合物２と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 50.0°(c=0.11 CHCl3) FAB-MS(M+H)+ 233 500MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.22(d,J=7.0Hz,3H), 1.85(s,
3H),2.10(s,3H), 2.19(s,3H), 2.59(dd,J=15.0,9.0Hz,1
H),2.69(dd,J=15.0,7.0Hz,1H), 3.23(m,1H), 4.65(s,1
H), 6.01(s,1H),6.64(s,1H), 6.69(d,J=9.0Hz,1H), 7.0
2(d,J=9.0Hz,1H). 22.4MHz 13C-NMRδ(CDCl3);15.3, 20.8, 21.9, 27.7, 3
5.3, 52.6,113.5, 118.9, 121.4, 124.1, 130.9, 146.
0, 153.8, 200.1 （３）化合物３ 前述のＨＰＬＣにおいて画分Ｋ１０２９Ｃを３７．１mg
得た。全量を調製薄層クロマトグラフィー（メルク社製
キーゼルゲル６０ Ｆ254 Ａｒｔ．１１７９８、ヘキ
サン：酢酸エチル＝６：１、２回展開）に供試、画分Ｋ
１０３０Ｚを１４．０mg得た。全量を調製薄層クロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１、２回展
開）に供試、単離化合物Ｋ１０４０Ａを４．３mg得て、
化合物３と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 14.8°(c=0.27 EtOH) FAB-MS(M+H)+ 219 200MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.23(d,J=7.0Hz,3H), 1.53(d,
J=1.5Hz,3H),1.68(d,J=1.5Hz,3H), 1.77(m,2H), 2.32
(s,3H), 2.86(m,1H),4.17(dd,J=8.5,5.1Hz,1H), 5.16(d
qq,J=8.5,1.5,1.5Hz,1H), 7.10(s,4H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);18.0, 20.9, 23.0, 25.6, 35.
8, 45.8, 66.8,126.8, 128.8, 129.0, 134.2, 135.1, 1
43.9 （４）化合物４ 前述の調製薄層クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝６：１、２回展開）の際に、画分Ｋ１０３０Ａ
１９．１mg得た。この画分は化合物３を５％程度含有し
ており、通常のクロマトグラフィーでは分離困難であ
る。そこで、画分Ｋ１０３０Ａをアセチル化反応にかけ
化合物３のみをアセチル化物にして化合物４を単離し
た。すなわち、窒素雰囲気下、画分Ｋ１０３０Ａ ９．
５mgを氷冷したピリジン３mlに溶解したのち無水酢酸
０．５mlを加えて、成りゆきで室温まで反応系を昇温し
て一晩反応させた。反応系に水を加えたのちに酢酸エチ
ルで分液抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄後濃縮し
た。濃縮物を調製薄層クロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝２：１）に供し、単離化合物Ｋ１０３３Ａ
を６．５mg得て、化合物４と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 22 16.3°(c=0.43 MeOH) FAB-MS(M+H)+ 219 500MHz 1H-NMRδ(C6D6);1.146(s,3H), 1.153(s,3H),1.2
1(d,J=6.0Hz,3H), 2.17(s,3H), 2.18(ddd,J=12.8,7.0,
6.0Hz,1H),2.28(dd,J=12.8,7.5Hz,1H), 2.66(ddt,J=7.
5,7.0,6.0Hz,1H),5.59(d,J=16Hz,1H), 5.64(dd,J=16.0,
6.0Hz,1H), 7.04(s,4H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);20.9, 21.3, 29.8, 39.6, 41.
1, 70.6, 125.5,126.9,128.9, 135.3, 139.7, 144.0 【００２９】試験例１（抗菌性試験） ヘミン及びメナジオンを添加したＢＨＩ液体培地（Difc
o社製）を調製し、滅菌後、前記化合物１〜４及びチモ
ール（比較化合物）を倍々に段階希釈して各濃度になる
ように添加した。試験菌として、Streptococcus mutans
JC2(Sm)、Porphyromonas gingivalis ATCC 33227(P
g)、Fusobacterium nucleatum ATCC 25586(Fn)、Propio
nibacteriumacnes ATCC 6919(Pa)、Escherichia coli I
FO 3972(Ec)を選び、それぞれ約１０6CFU／mlになるよ
うに試験培地に接種した。Sm、Pg、Fn、Paは嫌気グロー
ブボックス内(N2:H2:CO2=80:10:10)３７℃で２日間培養
し、Ecは好気的に３７℃で２日間培養し、発育の認めら
れない薬剤の最小濃度（OD600が０．１以下）を求め
た。結果を表１に示す。 【００３０】 【表１】 【００３１】その結果、表に示すように化合物１〜４
は、う蝕、歯周病、口臭、ニキビの病原菌に対して顕著
な抗菌効果を有し、一般的な腸内細菌であるエシェリヒ
ア・コリにはほとんど効果を示さなかった。 【００３２】実施例１ 下記組成の各成分を混合した後、打錠機を用いて円盤状
に圧縮成形し、１錠の直径が１８mmで重量が１．５ｇの
トローチ剤（口中清涼剤）を得た。 【００３３】 【表２】 （成分） （％） キシリトール ８０．０ 化合物１ ０．１ リンゴ酸 １．８ ｌ−アスコルビン酸 ０．２ 炭酸水素ナトリウム ２．０ アラビアゴム １５．８ ｌ−メントール ０．１ 計 １００．０ 【００３４】実施例２ 下記組成の各成分を混合し、粉歯磨剤を得た。ここで、
下記表における吸着デキストリンはｌ−メントールをペ
パーミント油に溶解後、多孔質デキストリンと共にヘン
シェルミキサーで攪拌し、吸着させながら整粒調製した
ものを用いた。吸着デキストリン３．０％の内容は、多
孔質デキストリン２．２％、ｌ−メントール０．４％、
ペパーミント油０．４％である。 【００３５】 【表３】 （成分） （％） ソルビトール ３２．３８ マンニトール ２０．００ 化合物１ ０．０１ 化合物２ ０．０１ リンゴ酸ナトリウム ５．０ コーンスターチ ５．０ 水酸化アルミニウム ３０．０ ４Ａ型ゼオライト ２．０ ミリスチルリン酸 １．３ １−アルギニン １．０ フッ化ナトリウム ０．２ サッカリンナトリウム ０．１ 吸着デキストリン ３．０ 計 １００．００ 【００３６】実施例３ 下記組成の各成分を脱気混合し、ペースト状の練歯磨を
得た。 【００３７】 【表４】 （成分） （％） リン酸水素カルシウム ４５．０ 無水ケイ酸 ２．０ カルボキシメチルセルロースナトリウム １．２ グリセリン ７．０ ソルビット液（７０％） ２０．０ サッカリンナトリウム ０．２ メチルパラベン ０．１ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ アラントインクロルヒドロキシアルミニウム ０．１ 化合物１ ０．１ 香料 ０．９ 精製水 残量 計 １００．０ 【００３８】実施例４ 下記組成の各成分を脱気混合し、液状歯磨を得た。 【００３９】 【表５】 （成分） （％） 無水ケイ酸 ７．５ カルボキシメチルセルロースナトリウム ０．８ グリセリン ３．０ ソルビット液（７０％） ４５．０ サッカリンナトリウム ０．３ メチルパラベン ０．１ ショ糖脂肪酸エステル １．０ フッ化ナトリウム ０．２ 化合物４ ０．０１ 香料 ０．９ 精製水 残量 計 １００．０ 【００４０】実施例５ 下記組成の各成分を攪拌混合し、洗口液を得た。 【００４１】 【表６】 （成分） （％） キシリトール １０．０ 化合物２ ０．０１ 化合物３ ０．０１ エタノール ４．０ ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 （マエノーンCH-60、花王社製) ０．２ ミリスチルリン酸 ０．１ ｌ−アルギニン ０．０９ 香料 ０．１５ 色素 微量 精製水 残量 計 １００．００ 【００４２】実施例６ 下記組成の各成分を加熱溶解しながら混合し、更に板状
に引き延ばし、その後冷却乾燥固化させることによりチ
ューインガムを得た。 【００４３】 【表７】 （成分） （％） キシリトール ５０．０ 化合物４ ０．０１ 銅クロロフィンナトリウム ０．０１ ガムベース ２５．０ コーンシロップ 残量 中鎖脂肪酸トリグリセライド （ココナードMT、花王社製） 微量 香料 微量 計 １００．００ 【００４４】実施例７ 下記糖成分を精製水に溶解させ、これを１４５℃まで煮
詰めた後、１００℃以下に冷却し、その後下記の他の成
分を添加し、冷却固化させることによりキャンディーを
得た。 【００４５】 【表８】 （成分） （％） （糖成分） ショ糖 ８４．６ 還元麦芽糖水飴 １５．０ （他の成分） 化合物３ ０．０５ 化合物４ ０．０５ ｌ−アスコルビン酸 ０．１ カプリル酸モノジグリセライド （ホモテックスPT、花王社製） ０．１ 香料 ０．１ 計 １００．００ 【００４６】 【発明の効果】式（１）のセスキテルペン化合物は、う
蝕病原菌であるストレプトコッカス・ミュータンス(Str
eptococcus mutans)、歯周病原因菌であるポルフィロモ
ナス・ジンジバリス(Porphyromonas gingivalis)、口臭
原因菌であるフゾバクテリウム・ヌクレイタム(Fusobac
terium nucleatum)、ニキビ原因菌であるプロピオニバ
クテリウム・アクネス(Propionibacterium acnes) の生
育を抑える効果を有し、腸内細菌であるエシェリヒア・
コリ(Escherichia coli)にはほとんど効果を示さない。
従って、これを含有する口腔用組成物は、う蝕、歯周
病、口臭の予防・防止に優れた効果を示す。
口臭等の原因菌の生育を著しく阻害し、う蝕及び歯周病
に有効に作用するセスキテルペン化合物を含有する口腔
用組成物に関する。 【０００２】 【従来の技術】う蝕及び歯周病は、口腔内の疾患であ
り、いずれも特定の細菌による感染症であることが知ら
れている。ストレプトコッカス・ミュータンスはヒトの
う蝕病巣や歯垢の中に見出され、う蝕発生において重要
な役割をはたす。この菌種はショ糖から菌体外酵素によ
ってグルカンとよばれる粘着性の高い高分子多糖体を産
生し、歯のエナメル質表層に強く定着し歯垢を形成す
る。歯垢に生息する微生物群は糖代謝により酸を産生
し、う蝕が誘発される。 【０００３】一方、歯周病は作用因子、環境及び宿主か
らなる多因性疾患である。この中で最も病因的な役割を
果たすのは細菌であり、近年の研究によりいくつかの病
原菌及びその病原性因子等が報告されている。中でもポ
ルフィロモナス・ジンジバリスは、歯周炎患者の歯周ポ
ケットから高頻度に分離されることから、歯周病の中で
最も多い成人性歯周炎の病原菌として有力視されてい
る。 【０００４】また、口臭の原因は主としてフゾバクテリ
ウム・ヌクレイタムなどの嫌気性細菌がメチオニン代謝
により産生するメチルメルカプタンである。う蝕、歯周
病及び口臭を予防するためには、病巣においてこれらの
菌類の生育を阻害することが重要であり、これらの菌類
に対して有効な抗菌性物質の応用が効果的である。 【０００５】従来、このような抗菌性物質として、テト
ラサイクリン、ミノサイクリン等の抗生物質が用いられ
てきた。 【０００６】しかしながら、これらの抗生物質は、作用
が強力である反面、副作用が強く、更に耐性菌が出現す
る等の欠点があり、日常的に使用できるものではなかっ
た。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、う蝕、歯周病及び口臭の原因となる細菌に対し強い
抗菌活性を持ち、副作用が少なく、日常的に使用できる
口腔用組成物を提供することにある。 【０００８】 【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み、本出
願人は、すでに副作用の心配がなく、古くから漢方薬と
して用いられている天然物たるウコン（Curcuma longa
L.）の抽出物が、う蝕、歯周病菌に対して強い抗菌活性
を有することを見出し特許出願した（特開平４−５２２
２号公報）。本発明者らはより強力な抗菌活性をもつ物
質を得るべく更に研究を行った結果、ウコンの抽出物中
に強力な抗菌活性を有する下記一般式（１）で表される
化合物を見出し本発明を完成した。 【０００９】すなわち本発明は、次の一般式（１） 【００１０】 【化２】 【００１１】（式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はヒドロ
キシル基を示し、Ｒ3及びＲ4は水素原子もしくはヒドロ
キシル基を示すか又は一緒になって隣接する炭素原子と
ともにカルボニル基を形成し、破線は当該箇所が二重結
合になっていてもよいことを示す）で表されるセスキテ
ルペン化合物の１種又は２種以上を含有する口腔用組成
物を提供するものである。 【００１２】 【発明の実施の形態】上記一般式（１）で表されるセス
キテルペン化合物がう蝕、歯周病、口臭の原因となる菌
に対して優れた抗菌性を示すことを見出したのは、本発
明者が初めてである。 【００１３】本発明に用いるセスキテルペン化合物
（１）は、ウコン及びウコン以外のCurcuma属植物にも
含まれていることが知られているので、これらから単離
することができる。また化学合成によりこの化合物を製
造することもできる。 【００１４】上記植物から、セスキテルペン化合物
（１）を単離するには例えば、上記植物の抽出物よりク
ロマトグラフィーにて分取することが好ましい。すなわ
ち、乾燥させたCurcuma属植物を粉砕し、水、アルコー
ル、グリコール類、アセトンなどの親水性有機溶媒、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエ
ステル類、クロロホルムなどのハロゲン化有機溶媒、ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ペンタン、
ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、又はこれらの混合溶液
を用いて粗抽出液を得る。粗抽出液から溶媒を除去して
得た粗抽出物を、水、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、アセトニトリル、アセトン、メチル
エチルケトン、クロロホルム、ジエチルエーテル、酢酸
エチル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル
より選ばれる少なくとも一種類の溶媒を溶出溶媒とし
て、ＤＩＡＩＯＮ ＨＰ−２０、ＴＳＫＧＥＬＨＷ−４
０、などのポーラスポリマーＳｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ−
２０などのセファデックス、ポリアミド、セルロース、
逆相系シリカゲル、シリカゲルなどを担体に用いたカラ
ムクロマトグラフィー、分取ＨＰＬＣ、調製薄層クロマ
トグラフィーなどの分画法に付すことによりセスキテル
ペン化合物（１）を得る。 【００１５】一方、化学合成によりセスキテルペン化合
物（１）を得るには、例えば、Ｗｏｏ Ｙｏｕｎｇ Ｌ
ｅｅ，ｏｎｇ Ｂｏ Ｌｅｅ，Ｓｅ ｙｏｕｎｇ Ｊａ
ｎｇ，Ｂｕｌｌ，Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
１０，４，３９４（１９８９）、Ｔａｋｅｓｈｉ Ｋｉ
ｔａｈａｒａ，Ｙｏｓｈｉｏ Ｆｕｒｕｓｈｏ，Ｋｅｎ
ｊｉ Ｍｏｒｉ，Ｂｉｏｓｃｉ．Ｂｉｏｔｅｃｈ．Ｂｉ
ｏｃｈｅｍ．，５７，７，１１３７（１９９３）、Ｙｕ
ｋｉｏ Ｍａｓａｋｉ Ｋｉｎｊｉ Ｈａｓｈｉｍｏｔ
ｏ，Ｋａｚｕｈｉｒｏ Ｓａｋｕｍａ，Ｋｅｎｊｉ Ｋ
ａｊｉ，Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎ
ｓ，Ｉ，１２８９（１９８８）等の方法を用いることが
好ましい。 【００１６】本発明の口腔用組成物は、上記のセスキテ
ルペン化合物（１）の１種又は２種以上を有効成分とし
て含有せしめたものであり、この含有量は、０．０００
１〜１０重量％（以下、単に「％」という）、特に０．
００１〜５％とすることが好ましい。また、セスキテル
ペン化合物（１）は単離品でなくとも、公知のものより
多く含有するものであれば、粗抽出物でも用いることが
できる。 【００１７】本発明の口腔用組成物は上記必須成分の
他、本発明の効果を損なわない範囲で通常用いられてい
る口腔用ビヒクルを配合し、トローチ、粉歯磨、練歯
磨、液状歯磨、液体歯磨（デンタルリンス）、洗口剤
（マウスウォッシュ）、うがい薬、歯肉マッサージクリ
ーム、キャンディー、チューインガム等の形態とするこ
とができる。このような口腔用ビヒクルとしては、研磨
剤、粘結剤、湿潤剤、界面活性剤、香料、甘味料、防腐
剤、色素、水、殺菌剤、水溶性フッ化物及びその他の有
効成分等が挙げられる。 【００１８】ここで研磨剤としては歯磨用リン酸水素カ
ルシウム、炭酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、不
溶性メタリン酸ナトリウム、メタリン酸カリウム、無水
ケイ酸、含水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸ジル
コニウム、ベントナイト、ゼオライト、酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、レジン及びこれらの混合物が
挙げられる。粘結剤としてはカルボキシメチルセルロー
スナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、アルギン酸塩、カラギーナン、アラビアゴ
ム、ポリビニルアルコール、キサンカンガム、トラガン
トガム、デンプン、ポリアクリル酸ナトリウム等が挙げ
られる。湿潤剤としてはポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ソルビトール、グリセリン、マルチ
トール、キシリトール等が挙げられる。 【００１９】界面活性剤は、発泡剤又は油状物質の安定
化剤として用いられるものである。好ましい界面活性剤
の例としては、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルリン
酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、
Ｎ−アシルザルコシン酸ナトリウム、Ｎ−アシルグルタ
ミン酸塩、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキ
シエチレンポリプロピレンブロック共重合体（プルロニ
ック型）、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグリコシド
類、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、アルキルジメチルアミンオキ
サイド、アルキルベタイン類等が挙げられる。 【００２０】香料としてはスペアミント油、ペパーミン
ト油、ウインターグリーン油、サッサフラス油、丁子
油、セージ油、ユーカリ油、マヨナラ油、肉桂油、タイ
ム油、レモン油及びオレンジ油等の天然香料；及びｌ−
メントール、アネトール、カルボン、オイゲノール、チ
モール、サリチル酸メチル等の合成香料が挙げられる。 【００２１】甘味料としてはサッカリン、サッカリンナ
トリウム、ステビオサイド、ネオヘスペリジルジヒドロ
カルコン、ベルラルチン、ｐ−メトキシシンナミックア
ルデヒド、グリチルリチン酸塩、アスパルテーム（アス
パルチルフェニルアラニンメチルエステル）等が挙げら
れる。防腐剤としては安息香酸、安息香酸ナトリウム、
パラヒドロキシ安息香酸エステル、サリチル酸、サリチ
ル酸ナトリウム、ソルビン酸、イソプロピルメチルフェ
ノール等が挙げられる。殺菌剤としてはクロルヘキシジ
ン類、第４級アンモニウム塩、トリクロサン、塩酸アル
キルジアミノエチルグリシン等が挙げられる。水溶性フ
ッ化物としてはフッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸
ナトリウム等が挙げられる。その他の有効成分として
は、クロロフィル化合物、塩化ナトリウム、ビタミン
Ｃ、ビタミンＥ、ニコチン酸エステル、アラントインク
ロルヒドロキシアルミニウム、アズレン、塩化リゾチー
ム、ヒノキチオール、β−グリチルレチン酸、グリチル
リチン酸ジカリウム、プロテアーゼ、他の生薬抽出物等
が挙げられる。 【００２２】これらの口腔用ビヒクルの配合量は口腔用
組成物の形態によって異なり、液体組成物の場合には当
該液状組成物には前記の口腔用ビヒクルのうち、研磨剤
を除くすべてのビヒクルが配合できるが、基本的には界
面活性剤を０．０５〜１０％、湿潤剤を１〜３０％、ア
ルコール及び水を５０〜９６％含有するのが好ましい。
ここで水：アルコールの比率は重量比で１：１〜１：
０、特に５：１〜１０００：１が好ましい。 【００２３】ペースト状の組成物の場合には、前記口腔
用ビヒクルの全てが配合できるが、基本的には研磨剤を
１０〜７５％、粘結剤を０．５〜５％、湿潤剤及び水を
１０〜８５％含有するのが好ましい。ここで、研磨剤
は、練歯磨の場合には２０〜７５％、液状歯磨の場合に
は１０〜３０％が好ましい。 【００２４】前記口腔用ビヒクルのうち、香料及び甘味
料は合計で０．０１〜５％配合するのが好ましい。ま
た、本発明口腔用組成物のpHは４〜１１、特に５〜１０
の範囲内とすることが好ましい。 【００２５】 【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明は、これら実施例に限定されるもので
はない。 【００２６】参考例１（ウコンからセスキテルペン化合
物（１）の単離） 下記式で表されるセスキテルペン化合物を単離した。 【００２７】 【化３】 【００２８】単離方法 （１）化合物１ ウコン原体（粉末）２．０kgをヘキサン２リットルで室
温にて抽出を２回行い、濾過後濃縮して粗抽出物（Ｋ１
００４Ａ ５１．３ｇ）を得た。粗抽出物４９．３ｇを
ヘキサン１リットルに溶解したのち、当量の９０％メタ
ノール水で３回分配抽出して得た９０％メタノール水層
を濃縮した（画分Ｋ１００４Ｍ ２９．６ｇ）。画分Ｋ
１００４Ｍ ２１．５ｇを逆相フラッシュクロマトグラ
フィー（ＹＭＣ社製 ＯＤＳ−Ａ 水／メタノール／ク
ロロホルム系）に供して、メタノール溶出区を濃縮した
（画分Ｋ１００６Ｄ １７．６ｇ）。画分Ｋ１００６Ｄ
９．５ｇを中圧順相クロマトグラフィー（メルク社製
キーゼルゲル６０ ２３０−４００メッシュ ヘキサン
／酢酸エチル系）に供して、ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１溶出区を濃縮した（画分Ｋ１０２８Ｈ ５３８．
７mg）。画分Ｋ１０２８Ｈ ５１８．６mgを更にＨＰＬ
Ｃ（ＹＭＣＰＡＣＫ Ｃ８ １０μm ２５０×２０mm、
８０％メタノール水、流速５ml／min、検出ＵＶ２２０n
m）に供し、単離化合物Ｋ１０２９Ａを５．９mgを得
て、化合物１と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 89.4°(c=0.51 CHCl3) FAB-MS(M+H)+ 233 200MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.29(d,J=7.1Hz,3H), 1.85(d,
J=1.2Hz,3H),2.11(d,J=1.4Hz,3H), 2.26(s,3H),2.80(d,
J=6.4Hz,2H), 3.57(m,1H),6.00(m,1H), 6.72(dd,J=7.6,
1.0Hz,1H), 6.74(d,J=1.0Hz,1H),7.02(d,J=7.6Hz,1H),
8.09(s,1H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);20.9, 21.1, 21.4, 25.7, 27.
8, 54.2,118.5, 121.7, 123.1, 126.1, 130.0, 137.1,
153.5, 157.8, 201.9. （２）化合物２ 前述したＨＰＬＣにおいて単離化合物Ｋ１０２９Ｂを
７．０mg得て、化合物２と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 50.0°(c=0.11 CHCl3) FAB-MS(M+H)+ 233 500MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.22(d,J=7.0Hz,3H), 1.85(s,
3H),2.10(s,3H), 2.19(s,3H), 2.59(dd,J=15.0,9.0Hz,1
H),2.69(dd,J=15.0,7.0Hz,1H), 3.23(m,1H), 4.65(s,1
H), 6.01(s,1H),6.64(s,1H), 6.69(d,J=9.0Hz,1H), 7.0
2(d,J=9.0Hz,1H). 22.4MHz 13C-NMRδ(CDCl3);15.3, 20.8, 21.9, 27.7, 3
5.3, 52.6,113.5, 118.9, 121.4, 124.1, 130.9, 146.
0, 153.8, 200.1 （３）化合物３ 前述のＨＰＬＣにおいて画分Ｋ１０２９Ｃを３７．１mg
得た。全量を調製薄層クロマトグラフィー（メルク社製
キーゼルゲル６０ Ｆ254 Ａｒｔ．１１７９８、ヘキ
サン：酢酸エチル＝６：１、２回展開）に供試、画分Ｋ
１０３０Ｚを１４．０mg得た。全量を調製薄層クロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１、２回展
開）に供試、単離化合物Ｋ１０４０Ａを４．３mg得て、
化合物３と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 20 14.8°(c=0.27 EtOH) FAB-MS(M+H)+ 219 200MHz 1H-NMRδ(CDCl3);1.23(d,J=7.0Hz,3H), 1.53(d,
J=1.5Hz,3H),1.68(d,J=1.5Hz,3H), 1.77(m,2H), 2.32
(s,3H), 2.86(m,1H),4.17(dd,J=8.5,5.1Hz,1H), 5.16(d
qq,J=8.5,1.5,1.5Hz,1H), 7.10(s,4H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);18.0, 20.9, 23.0, 25.6, 35.
8, 45.8, 66.8,126.8, 128.8, 129.0, 134.2, 135.1, 1
43.9 （４）化合物４ 前述の調製薄層クロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エ
チル＝６：１、２回展開）の際に、画分Ｋ１０３０Ａ
１９．１mg得た。この画分は化合物３を５％程度含有し
ており、通常のクロマトグラフィーでは分離困難であ
る。そこで、画分Ｋ１０３０Ａをアセチル化反応にかけ
化合物３のみをアセチル化物にして化合物４を単離し
た。すなわち、窒素雰囲気下、画分Ｋ１０３０Ａ ９．
５mgを氷冷したピリジン３mlに溶解したのち無水酢酸
０．５mlを加えて、成りゆきで室温まで反応系を昇温し
て一晩反応させた。反応系に水を加えたのちに酢酸エチ
ルで分液抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄後濃縮し
た。濃縮物を調製薄層クロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝２：１）に供し、単離化合物Ｋ１０３３Ａ
を６．５mg得て、化合物４と同定した。 機器分析結果 〔α〕D 22 16.3°(c=0.43 MeOH) FAB-MS(M+H)+ 219 500MHz 1H-NMRδ(C6D6);1.146(s,3H), 1.153(s,3H),1.2
1(d,J=6.0Hz,3H), 2.17(s,3H), 2.18(ddd,J=12.8,7.0,
6.0Hz,1H),2.28(dd,J=12.8,7.5Hz,1H), 2.66(ddt,J=7.
5,7.0,6.0Hz,1H),5.59(d,J=16Hz,1H), 5.64(dd,J=16.0,
6.0Hz,1H), 7.04(s,4H). 50MHz 13C-NMRδ(CDCl3);20.9, 21.3, 29.8, 39.6, 41.
1, 70.6, 125.5,126.9,128.9, 135.3, 139.7, 144.0 【００２９】試験例１（抗菌性試験） ヘミン及びメナジオンを添加したＢＨＩ液体培地（Difc
o社製）を調製し、滅菌後、前記化合物１〜４及びチモ
ール（比較化合物）を倍々に段階希釈して各濃度になる
ように添加した。試験菌として、Streptococcus mutans
JC2(Sm)、Porphyromonas gingivalis ATCC 33227(P
g)、Fusobacterium nucleatum ATCC 25586(Fn)、Propio
nibacteriumacnes ATCC 6919(Pa)、Escherichia coli I
FO 3972(Ec)を選び、それぞれ約１０6CFU／mlになるよ
うに試験培地に接種した。Sm、Pg、Fn、Paは嫌気グロー
ブボックス内(N2:H2:CO2=80:10:10)３７℃で２日間培養
し、Ecは好気的に３７℃で２日間培養し、発育の認めら
れない薬剤の最小濃度（OD600が０．１以下）を求め
た。結果を表１に示す。 【００３０】 【表１】 【００３１】その結果、表に示すように化合物１〜４
は、う蝕、歯周病、口臭、ニキビの病原菌に対して顕著
な抗菌効果を有し、一般的な腸内細菌であるエシェリヒ
ア・コリにはほとんど効果を示さなかった。 【００３２】実施例１ 下記組成の各成分を混合した後、打錠機を用いて円盤状
に圧縮成形し、１錠の直径が１８mmで重量が１．５ｇの
トローチ剤（口中清涼剤）を得た。 【００３３】 【表２】 （成分） （％） キシリトール ８０．０ 化合物１ ０．１ リンゴ酸 １．８ ｌ−アスコルビン酸 ０．２ 炭酸水素ナトリウム ２．０ アラビアゴム １５．８ ｌ−メントール ０．１ 計 １００．０ 【００３４】実施例２ 下記組成の各成分を混合し、粉歯磨剤を得た。ここで、
下記表における吸着デキストリンはｌ−メントールをペ
パーミント油に溶解後、多孔質デキストリンと共にヘン
シェルミキサーで攪拌し、吸着させながら整粒調製した
ものを用いた。吸着デキストリン３．０％の内容は、多
孔質デキストリン２．２％、ｌ−メントール０．４％、
ペパーミント油０．４％である。 【００３５】 【表３】 （成分） （％） ソルビトール ３２．３８ マンニトール ２０．００ 化合物１ ０．０１ 化合物２ ０．０１ リンゴ酸ナトリウム ５．０ コーンスターチ ５．０ 水酸化アルミニウム ３０．０ ４Ａ型ゼオライト ２．０ ミリスチルリン酸 １．３ １−アルギニン １．０ フッ化ナトリウム ０．２ サッカリンナトリウム ０．１ 吸着デキストリン ３．０ 計 １００．００ 【００３６】実施例３ 下記組成の各成分を脱気混合し、ペースト状の練歯磨を
得た。 【００３７】 【表４】 （成分） （％） リン酸水素カルシウム ４５．０ 無水ケイ酸 ２．０ カルボキシメチルセルロースナトリウム １．２ グリセリン ７．０ ソルビット液（７０％） ２０．０ サッカリンナトリウム ０．２ メチルパラベン ０．１ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ アラントインクロルヒドロキシアルミニウム ０．１ 化合物１ ０．１ 香料 ０．９ 精製水 残量 計 １００．０ 【００３８】実施例４ 下記組成の各成分を脱気混合し、液状歯磨を得た。 【００３９】 【表５】 （成分） （％） 無水ケイ酸 ７．５ カルボキシメチルセルロースナトリウム ０．８ グリセリン ３．０ ソルビット液（７０％） ４５．０ サッカリンナトリウム ０．３ メチルパラベン ０．１ ショ糖脂肪酸エステル １．０ フッ化ナトリウム ０．２ 化合物４ ０．０１ 香料 ０．９ 精製水 残量 計 １００．０ 【００４０】実施例５ 下記組成の各成分を攪拌混合し、洗口液を得た。 【００４１】 【表６】 （成分） （％） キシリトール １０．０ 化合物２ ０．０１ 化合物３ ０．０１ エタノール ４．０ ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 （マエノーンCH-60、花王社製) ０．２ ミリスチルリン酸 ０．１ ｌ−アルギニン ０．０９ 香料 ０．１５ 色素 微量 精製水 残量 計 １００．００ 【００４２】実施例６ 下記組成の各成分を加熱溶解しながら混合し、更に板状
に引き延ばし、その後冷却乾燥固化させることによりチ
ューインガムを得た。 【００４３】 【表７】 （成分） （％） キシリトール ５０．０ 化合物４ ０．０１ 銅クロロフィンナトリウム ０．０１ ガムベース ２５．０ コーンシロップ 残量 中鎖脂肪酸トリグリセライド （ココナードMT、花王社製） 微量 香料 微量 計 １００．００ 【００４４】実施例７ 下記糖成分を精製水に溶解させ、これを１４５℃まで煮
詰めた後、１００℃以下に冷却し、その後下記の他の成
分を添加し、冷却固化させることによりキャンディーを
得た。 【００４５】 【表８】 （成分） （％） （糖成分） ショ糖 ８４．６ 還元麦芽糖水飴 １５．０ （他の成分） 化合物３ ０．０５ 化合物４ ０．０５ ｌ−アスコルビン酸 ０．１ カプリル酸モノジグリセライド （ホモテックスPT、花王社製） ０．１ 香料 ０．１ 計 １００．００ 【００４６】 【発明の効果】式（１）のセスキテルペン化合物は、う
蝕病原菌であるストレプトコッカス・ミュータンス(Str
eptococcus mutans)、歯周病原因菌であるポルフィロモ
ナス・ジンジバリス(Porphyromonas gingivalis)、口臭
原因菌であるフゾバクテリウム・ヌクレイタム(Fusobac
terium nucleatum)、ニキビ原因菌であるプロピオニバ
クテリウム・アクネス(Propionibacterium acnes) の生
育を抑える効果を有し、腸内細菌であるエシェリヒア・
コリ(Escherichia coli)にはほとんど効果を示さない。
従って、これを含有する口腔用組成物は、う蝕、歯周
病、口臭の予防・防止に優れた効果を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 西澤 義則
栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式
会社研究所内
(72)発明者 押野 一志
栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式
会社研究所内
(72)発明者 江口 泰輝
栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式
会社研究所内
(56)参考文献 ＭｃＥＮＲＯＥ， Ｆｒａｎｋ Ｊ.
ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ，1978年，Ｖｏｌ．34， Ｎｏ．11,
ｐｐ1661−1664
ＢＥＲＯＵＳＯＶＡ， Ｎ． ｅｔ
ａｌ，Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ ｏｉｌｓ
ｉｎ Ｌｅｄｕｍ Ｌ． ａｎｔｉｆｕ
ｎｇａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ，Ｋｈ
ｉｍｉｋｏ−Ｆａｒｍａｔｓｅｖｔｉｃ
ｈｅｓｋｉｉ Ｚｈｕｒｎａｌ，1989
年，Ｖｏｌ．23， Ｎｏ．３，ｐｐ317
−319
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はヒドロキシル基を示
し、Ｒ3及びＲ4は水素原子もしくはヒドロキシル基を示
すか又は一緒になって隣接する炭素原子とともにカルボ
ニル基を形成し、破線は当該箇所が二重結合になってい
てもよいことを示す）で表されるセスキテルペン化合物
の１種又は２種以上を含有する口腔用組成物。
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| JP31790195A JP3522930B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 抗菌剤及びこれを含有する口腔用組成物 |
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|---|---|---|---|
| JP31790195A JP3522930B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 抗菌剤及びこれを含有する口腔用組成物 |
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ID=18093326
Family Applications (1)
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| JP31790195A Expired - Fee Related JP3522930B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 抗菌剤及びこれを含有する口腔用組成物 |
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| JP2003171301A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-06-20 | Mahidol Univ | 歯周炎治療における補助剤としてのカルメグゲル |
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-
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- 1995-12-06 JP JP31790195A patent/JP3522930B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| ＭｃＥＮＲＯＥ， Ｆｒａｎｋ Ｊ． ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９７８年，Ｖｏｌ．３４， Ｎｏ．１１，ｐｐ１６６１−１６６４ |
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