JP3521355B2 - 偏光板用保護フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、偏光板用保護フィルム
に関し、特に接着性に優れた偏光板用保護フィルムに関
する。

【０００２】

【従来の技術】染色一軸延伸されたポリビニルアルコー
ル膜（ＰＶＡ膜）の偏光子に、セルローストリアセテー
トフィルムを保護フィルムとして貼り合わせた偏光フィ
ルムは、広く液晶表示素子として、電卓の表示部、パソ
コンや液晶テレビ、自動車のディスプレイ等に利用され
ている。

【０００３】これらのディスプレイ素子の用途におい
て、各種環境下で高い信頼性と耐久性を発揮するため
に、偏光子と保護フィルム間には強固な接着性が要求さ
れる。この接着性を向上させる方法として、最も広く保
護フィルムとして使用されるセルローストリアセテート
フィルムの場合、予めアルカリ液で表面のケン化処理を
行い、しかるのちにポリビニルアルコール系接着剤等で
積層し偏光フィルムとしている。

【０００４】しかし、上記アルカリ処理は高濃度アルカ
リ液を使用するため、作業安全上、又環境保全の上で好
ましくなく、更にアルカリ処理によって、可塑剤のブリ
ードアウトや、ヘイズが高くなるなど品質を落とすおそ
れがある。

【０００５】又、アルカリ処理の前に帯電防止加工や、
ハードコート加工などの機能性付与の加工を行うと、ア
ルカリ処理によってその効果が減殺されるため、保護フ
ィルムの機能性付与はアルカリ処理後に限定される等の
問題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は第１に
ＰＶＡ膜と接着し易い偏光板用保護フィルムを提供する
ことにある。第２に作業上安全で環境に悪影響を及ぼさ
ない加工により接着性の優れた偏光板用保護フィルムを
提供することにある。第３に生産性の良い高品質の接着
性に優れた偏光板用保護フィルムを提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。

【０００８】１．偏光子に隣接して接着する偏光板用保
護フィルムにおいて、少なくとも偏光子と接着される面
に偏光子側から、親水性高分子化合物の少なくとも１種
を含有する層、次いで該親水性高分子とは異なり、下記
一般式〔１〕又は〔２〕で表される−COOM基含有高分子
化合物の少なくとも１種を含む層を有することを特徴と
する偏光板用保護フィルム。

【０００９】

【化２】

【００１０】式中、Ａはビニル単量体が重合して生成す
る構造単位、Ｂは水素原子、−CO−OM又は−CO−Rを表
し、Ｍは水素原子又はカチオンを表し、ｚ＝０のとき、
Ｂは水素原子である。Ｒは−O−R′又は−N(R′)(R″)
を表し、ここでＲ′はアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、複素環残基又はＲ″と共同して複素環を形成す
るに必要な非金属原子を表し、Ｒ″は水素原子、低級ア
ルキル基又はＲ′と共同して複素環を形成するに必要な
非金属原子を表し、Ｒ₁及びＲ₂は各々、水素原子又は低
級アルキル基を表し、Ｘは−CO−O−又は−O−CO−を表
し、Ｒ₃はハロゲノアルキル基又はハロゲノアルキルオ
キシアルキル基を表し、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚ
は各々、各単量体のモル％を示す値であって、ｍ及びｘ
は各々０〜60、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々０〜10
0であり、ｍ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝100、ｘ＋ｙ＋ｚ＝100であ
る。

【００１１】２．前記親水性高分子化合物が親水性セル
ロース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、天然高分
子、親水性ポリエステル誘導体及び親水性ポリビニル誘
導体から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とす
る請求項１記載の偏光板用保護フィルム。

【００１２】以下本発明を更に詳しく説明する。

【００１３】本発明に係る親水性高分子化合物として、
好ましくは親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセ
ルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、
ポリビニルアルコール、酢酸ビニル-ビニルアルコール
共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例
えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性
ポリエステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化され
たポリエチレンテレフタレート等）、ポリビニル誘導体
（例えば、ポリ-N-ビニルピロリドン、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾール
等）が挙げられる。

【００１４】本発明に係る親水性高分子化合物は単独あ
るいは２種以上併用して用いられる。

【００１５】前記一般式〔１〕及び〔２〕において、Ａ
で表される構造単位を生成するビニル単量体としては、
例えばスチレン、ニトロ基、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、クロロメチル基、低級アルキル基等で置換され
たスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエー
テル、ビニルクロロエチルエーテル、酢酸ビニル、クロ
ロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸、メタ
クリル酸又はイタコン酸等の不飽和酸、アクリル酸若し
くはメタクリル酸のアルキルエステル（該アルキル基は
炭素数１〜５の、非置換アルキル基又は塩素原子、フェ
ニル基等で置換したアルキル基）、アクリル酸若しくは
メタクリル酸のフェニルエステル（該フェニル基は非置
換フェニル基又は塩素原子、フェニル基等で置換したフ
ェニル基）、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニ
リデン、エチレン、アクリルアミド、炭素数１〜５のア
ルキル基あるいは塩素、フェニル基等で置換したアクリ
ルアミド、ビニルアルコール、クリシジルアクリレー
ト、アクロレイン等があり、好ましくはスチレン、置換
基を有するスチレン、酢酸ビニル、ビニルメチルエーテ
ル、アルキルアクリレート、アクリロニトリル等であ
る。

【００１６】また、前記式中、Ｒ′が表すアルキル基と
しては、炭素数１〜24のものが好ましく、直鎖アルキル
基、分岐アルキル基及びシクロアルキル基のいずれでも
よく、また該アルキル基は置換基を有していてもよく、
この置換基としてはヒドロキシル基、ヒドロキシカルボ
ニル基、−COOM′(Ｍ′はカチオンを表す）基等で、特
にフッ素原子のようなハロゲン原子で置換された炭素数
２〜18のハロゲノアルキル基又は炭素数２〜18のハロゲ
ノアルキルオキシアルキル基は本発明の目的に対して好
ましい結果が得られる。該ハロゲノアルキル基及び該ハ
ロゲノアルキルオキシアルキル基に置換されたハロゲン
原子数は望ましくは１〜37である。このハロゲノアルキ
ル基及びハロゲノアルキルオキシアルキル基並びに一般
式〔２〕中のＲ₃が表すハロゲノアルキル基及びハロゲ
ノアルキルオキシアルキル基は、好ましくは下記一般式
〔Ａ〕で示される。

【００１７】

【化３】

【００１８】（式中、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉及
びＲ₁₀は各々、水素原子又はフッ素原子を表し、ｎは１
〜12の整数を表し、ｎ₂は０または１であり、ｎ₂が０の
ときにはｎ₁は０、ｎ₂が１のときにはｎ₁は２または３
であって、ｎ₃は１〜17の整数を表す。 但し、n₁＋n₃は
１〜17である。なお、Ｒ₄が一般式〔Ａ〕中で２個以上
ある場合には１個が水素で他がフッ素原子であるように
異なる基であってもよく、同様にＲ₅、Ｒ₆及びＲ₇がそ
れぞれ一般式〔Ａ〕中に複数個あるときには、異なる基
であってもよい。） また、前記一般式〔１〕及び一般式〔２〕において、
Ｒ′が前述のようなハロゲノアルキル基又はハロゲノア
ルキルオキシアルキル基のときには、好ましくは前記一
般式〔１〕及び一般式〔２〕中のＲは−O−R′である。
また、Ｒ′が表すフェニル基のようなアリール基又はベ
ンジル基のようなアラルキル基は置換基を有していても
よく、この置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子等のハロゲン原子で置換された低級アルキル基、
ヒドロキシル基、ヒドロキシカルボニル基、カチオンの
オキシカルボニル基、ニトリル基、ニトロ基等が挙げら
れる。

【００１９】また、Ｒ′が表す複素環又はＲ′とＲ″と
で形成する複素環は、酸素原子、イオウ原子又は窒素原
子を含む飽和又は不飽和の複素環であって、例えばアジ
リジン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾ
ール、イミダゾリン、トリアゾール、ピペリジン、ピペ
ラジン、オキサジン、モルホリン、チアジン等の複素環
から選択される複素環である。また、Ｍが表すカチオン
は、例えばアンモニウムイオン、ナトリウムイオン、カ
リウムイオン、リチウムイオン等のカチオンである。

【００２０】本発明において、上記一般式〔１〕又は
〔２〕で示される−COOM基含有高分子化合物は、単独で
又は２種以上併用して用いられ、好ましくは平均分子量
約500〜500,000（重量平均）程度のものが用いられる。

【００２１】このような本発明に使用する上記高分子化
合物の代表的なものとしては、下記を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００２２】

【化４】

【００２３】

【化５】

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】前記一般式〔１〕又は〔２〕で表される−
COOM基含有高分子化合物は、公知の方法で合成すること
ができる。即ち、無水マレイン酸共重合物は極く一般的
な重合物であることは周知のとおりであり、これらの誘
導体もそれらに適合するアルコール又はアミン類を無水
マレイン酸共重合物に反応させれば簡単に得られ、また
無水マレイン酸単量体に適合するアルコール又はアミン
類を反応し精製したものを他のビニル単量体と共重合さ
せても得られる。また、ハロゲノアルキル、ハロゲノア
ルキルオキシアルキル等のアクリレート類は、ジャーナ
ル・オブ・ポリマー・サイエンス（Journal of Polymer
Science，15 515〜574（1955）あるいは英国特許1,12
1,357号明細書に記載されている単量体及び重合体の合
成法によって容易に合成される。

【００２８】前記一般式〔１〕又は〔２〕で表される高
分子化合物の使用量は、10〜1000mg／m²であることが好
ましく、更には20〜300mg／m²であることが特に好まし
い。

【００２９】本発明に係る親水性高分子化合物の少なく
とも１種を含有する層（以下「上層」と記すことがあ
る）及び前記一般式〔１〕又は〔２〕で表される高分子
化合物の少なくとも１種を含有する層（以下「下層」と
記すことがある）が設けられる保護フィルムとしては、
従来主として用いられているセルローストリアセテート
フィルムの他に、セルロースジアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースプロピオネートなど
のセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリアクリレート等からなるフィル
ムが挙げられる。保護フィルムの厚みは特に制限はない
が、機能上および取扱い易さから10〜500μm、特に30〜
300μmが好ましい。保護フィルムには所望により紫外線
吸収剤、可塑剤、滑り剤、マット剤等を含有させてもよ
い。

【００３０】本発明の上層及び下層は、前記高分子化合
物及びその他必要に応じで含有させる添加剤を溶剤に溶
解ないし分散させた塗布液の形態でグラビアコーター、
ディプコーター、リバースロールコーター、押し出しコ
ーター等の公知の方法で保護フィルムの表面に塗設して
形成させることができる。上層の親水性高分子化合物の
付量及び下層の前記高分子化合物の付量は、好ましくは
それぞれ10〜1000mg／m²の範囲であり、特に安定な接着
力及び塗布後の仕上り性の点からそれぞれ20〜300mg／m
²の範囲が好ましい。

【００３１】上記塗布液を塗布した後乾燥する方法とし
ては特に制限はないが、乾燥後の残留溶媒量は５wt％以
下とするのが好ましい。残留溶媒量が多いと、偏光子と
積層された後の乾燥過程で接着界面に気泡を生じる場合
があり好ましくない。

【００３２】本発明の上層及び下層の塗布液には所望に
より紫外線吸収剤、滑り剤、マット剤、帯電防止剤、架
橋剤、及び活性剤などを添加してもよい。特に架橋剤は
偏光子のポリビニルアルコールフィルムとの接着を促進
する上で好ましい。この様な架橋剤としては、例えば多
価のエポキシ化合物、アジリジン化合物、イソシアネー
ト化合物や、明バン、ホウ素化合物等が挙げられる。

【００３３】本発明の上層及び下層を有する保護フィル
ムの該上層の側の面と偏光子とを貼り合わせるのに使用
する接着剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポ
リビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤
や、ブチルアクリレートなどビニル系ラテックス等を用
いることができる。

【００３４】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらの実施態様に限定されるものではない。

【００３５】実施例１ 厚さ80μmのセルローストリアセテートフィルムの一方
の面に下記組成の下層液（１）及び上層液（１）をこの
順に、それぞれ20ml／m²の割合で塗布し、100℃で10分
間乾燥した後、本発明に係る偏光板用保護フィルム試料
１を得た。

【００３６】 下層液（１） 例示化合物（14） 0.5ｇ アセトン 60ml 酢酸エチル 30ml トルエン 10ml 上層液（１） ポリビニルアルコール 0.5ｇ （日本合成化学工業(株)製、ゴーセノールＮＨ−26） サポニン（メルク社製） 0.03ｇ 水 50ml メタノール 50ml 実施例２ 実施例１の上層液（１）を下記組成の上層液（２）に代
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料２を得た。

【００３７】 上層液（２） ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート 0.5ｇ （信越化学工業(株)製、ＨＰ−55） メタノール 60ml アセトン 30ml イソプロピルアルコール 10ml 実施例３ 実施例１の上層液（１）を下記組成の上層液（３）に代
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料３を得た。

【００３８】 上層液（３） ポリビニルブチラール 0.5ｇ （電気化学工業(株)製、エスレック＃2000−Ｌ） メタノール 70ml アセトン 20ml トルエン 10ml 実施例４ 実施例１の上層液（１）を下記組成の上層液（４）に代
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料４を得た。

【００３９】 上層液（４） ゼラチン １ｇ 硬膜剤（下記） 0.15ｇ 水 70ml メタノール 30ml

【００４０】

【化９】

【００４１】実施例５ 実施例１の上層液（１）を下記組成の上層液（５）に代
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料５を得た。

【００４２】 上層液（５） 親水性ポリエステル（下記組成） １ｇ 水 70ml メタノール 30ml 親水性ポリエステルの組成 テレフタル酸ジメチル 20モル％ イソフタル酸ジメチル 10モル％ 5-スルホイソフタル酸ジメチルNa塩 10モル％ 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸 10モル％ エチレングリコール 50モル％ 実施例６ 実施例１の上層液（１）を下記組成の上層液（６）に変
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料６を得た。

【００４３】 上層液（６） ポリビニルピロリドン １ｇ メタノール 70ml アセトン 30ml 実施例７ 実施例１の下層液（１）を下記組成の下層液（２）に変
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料７を得た。

【００４４】 下層液（２） 例示化合物（15） 0.5ｇ アセトン 60ml 酢酸エチル 30ml トルエン 10ml 実施例８ 実施例１の下層液（１）を下記組成の下層液（３）に変
えた以外は実施例１と同様にして本発明に係る偏光板用
保護フィルム試料８を得た。

【００４５】 下層液（３） 例示化合物（13） 0.5ｇ N,N-ジメチルホルムアミド 10ml アセトン 40ml メタノール 30ml 酢酸エチル 20ml 比較例１ 下層を設けなかった外は実施例１と同様にして比較用保
護フィルム試料９を得た。

【００４６】比較例２ 下層を設けなかった外は実施例２と同様にして比較用保
護フィルム試料10を得た。

【００４７】比較例３ 下層を設けなかった外は実施例３と同様にして比較用保
護フィルム試料11を得た。

【００４８】比較例４ 下層を設けなかった外は実施例４と同様にして比較用保
護フィルム試料12を得た。

【００４９】比較例５ 下層を設けなかった外は実施例５と同様にして比較用保
護フィルム試料13を得た。

【００５０】比較例６ 下層を設けなかった外は実施例６と同様にして比較用保
護フィルム試料14を得た。

【００５１】比較例７ 上層を設けなかった外は実施例１と同様にして比較用保
護フィルム試料15を得た。

【００５２】

【００５３】 下層液（４） ポリビニルアルコール （日本合成化学工業(株)製、ゴーセノールＫＬ−05） 0.5ｇ 水 10ml メタノール 30ml アセトン 50ml N,N-ジメチルホルムアミド 10ml 上層液（７） 例示化合物（４） 0.5ｇ アセトン 60ml 酢酸エチル 30ml トルエン 10ml 比較例９ 厚さ80μmのセルローストリアセテートフィルムを２Ｎ
の水酸化ナトリウム溶液に60℃で３分間浸漬し、さらに
水洗し乾燥して表面がアルカリケン化処理されたセルロ
ーストリアセテートフィルムを得た。これを比較用保護
フィルム試料17とする。

【００５４】次に、実施例１〜８及び比較例１〜９で作
製した保護フィルム試料１〜17について下記の方法で接
着力テストを行った。その結果を表１に示す。

【００５５】接着力テストの方法 まず、下記〜の工程で、偏光子と保護フィルムとを
張り合わせて偏光フィルムを作製した。

【００５６】 18cm×５cmサイズの保護フィルム試料
を塗工面を上にしてガラス板上に配置する。

【００５７】 保護フィルム試料と同サイズの１軸延
伸されたポリビニルアルコール染色フィルムからなる偏
光子を固形分２wt％のポリビニルアルコール接着剤槽中
に１〜２秒間浸漬（偏光子の両面を）する。

【００５８】 上記の偏光子に付着した過剰の接着
剤を軽く取り除き、上記の保護フィルム試料上にのせ
て、さらに上記と同一の試料フィルムの塗工面と接着
剤とが接するように次の保護フィルム試料を積層し配置
する。

【００５９】 ハンドローラで上記で積層された偏
光子と保護フィルムとの積層物の端部から過剰の接着剤
及び気泡を取り除き貼り合わせる。ハンドローラの圧力
は約２〜３kg／cm²、ローラスピードは約２ｍ／分とし
た。

【００６０】 80℃の乾燥器中にで得た試料を２分
間放置する。

【００６１】このようにして作製した偏光フィルムにつ
いて、偏光子と保護フィルムとの接着性を下記により評
価した。

【００６２】初期接着：偏光子と保護フィルムとを貼り
合わせ後、手で剥離性を測定し材料破壊の発生の程度で
下記〜の３段階に評価した。

【００６３】 材料破壊が起こる。（表１中「○」で
示す。） 一部材料破壊が起こるが、試料フィルムとＰＶＡフ
ィルム間で剥がれる面積が大きい。（表１中「△」で示
す。） 試料フィルムとＰＶＡフィルムとの間で剥がれる。
（表１中「×」で示す。） 加工性：片刃を用いて断裁して接着面の浮きの程度で下
記〜の３段階に評価した。

【００６４】 接着面の浮きが全くない。（表１中
「○」で示す。） 僅かに接着面の浮きが起こる。（表１中「△」で示
す。） 接着面の浮きが起こる。（表１中「×」で示す。） 耐久性能：75℃で相対湿度90％の条件（Ａ）下、及び90
℃の条件（Ｂ）下に500時間放置し、外観変化を観察
し、端部からの剥離の幅を測定した。表１中の符号の意
味は下記のとおりである。

【００６５】○：0.5mm以内 △：0.6〜1.5mm ×：1.6mm以上 なお、比較試料17（本発明の目標）と同等かそれ以上の
接着性であれば実用上問題なく、表１において「○」の
評価を与えている。

【００６６】また、前記偏光フィルムの各試料について
透過率を島津製作所(株)製ＭＰＳ−2000を用い、波長35
0〜700nmの範囲で測定した。結果を表１に示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】表１に示す結果から明らかなように、本発
明の保護フィルム試料は、アルカリケン化処理を行うこ
となく良好な接着性を示す。また、可塑剤のブリードア
ウトもなく、優れた光線透過率を示す。

【００６９】

【発明の効果】本発明による偏光板用保護フィルムは、
偏光子のＰＶＡ膜との接着性及び透過率に優れ、かつそ
の製造工程において、アルカリ液で表面のケン化処理を
行ったセルローストリアセテートフィルムからなる保護
フィルムと対比して、ケン化のために高濃度のアルカリ
液を使用する必要がないので、作業安全性及び環境保全
性が改善され、生産性が良好であり、かつ、従来のセル
ローストリアセテートフィルムの表面のケン化のための
アルカリ処理による可塑剤のブリードアウト及びヘイズ
が高くなる問題が改善される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｃ０９Ｊ 7/02 (72)発明者 小笠原 直子 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式 会社内 (56)参考文献 特開 平６−148430（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−94915（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−245107（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−118232（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−130702（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏光子に隣接して接着する偏光板用保護
   フィルムにおいて、少なくとも偏光子と接着される面に
   偏光子側から、親水性高分子化合物の少なくとも１種を
   含有する層、次いで該親水性高分子とは異なり、下記一
   般式〔１〕又は〔２〕で表される−COOM基含有高分子化
   合物の少なくとも１種を含む層を有することを特徴とす
   る偏光板用保護フィルム。 【化１】 〔式中、Ａはビニル単量体が重合して生成する構造単
   位、Ｂは水素原子、−CO−OM又は−CO−Rを表し、Ｍは
   水素原子又はカチオンを表し、ｚ＝０のとき、Ｂは水素
   原子である。Ｒは−O−R′又は−N(R′)(R″)を表し、
   ここでＲ′はアルキル基、アラルキル基、アリール基、
   複素環残基又はＲ″と共同して複素環を形成するに必要
   な非金属原子を表し、Ｒ″は水素原子、低級アルキル基
   又はＲ′と共同して複素環を形成するに必要な非金属原
   子を表し、Ｒ₁及びＲ₂は各々、水素原子又は低級アルキ
   ル基を表し、Ｘは−CO−O−又は−O−CO−を表し、Ｒ₃
   はハロゲノアルキル基又はハロゲノアルキルオキシアル
   キル基を表し、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々、
   各単量体のモル％を示す値であって、ｍ及びｘは各々０
   〜60、ｐ、ｑ、ｒ、ｘ、ｙ及びｚは各々０〜100であ
   り、ｍ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝100、ｘ＋ｙ＋ｚ＝100である。〕
2. 【請求項２】 前記親水性高分子化合物が親水性セルロ
   ース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、天然高分
   子、親水性ポリエステル誘導体及び親水性ポリビニル誘
   導体から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とす
   る請求項１記載の偏光板用保護フィルム。