JP3520806B2 - β−ケトエステルの製造法 - Google Patents
β−ケトエステルの製造法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬の合成
中間体として有用なβ-ケトエステルの製造法に関す
る。
中間体として有用なβ-ケトエステルの製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、一般式（３）
【０００３】
【化４】
（式中、Ｒ1はアルキル基又はフェニル基、Ｒ2は水素原
子又はアルキル基、Ｒ3はアルキル基を示す。また、Ｒ1
とＲ2は連結して環を形成していても良い。）
子又はアルキル基、Ｒ3はアルキル基を示す。また、Ｒ1
とＲ2は連結して環を形成していても良い。）
【０００４】で示されるβ-ケトエステルの製造法とし
ては、メチルn-プロピルケトンと炭酸ジメチルとを水素
化ナトリウム存在下、ジエチルエーテル中で反応させ
て、メチル 3-オキソヘキサノエートを合成する方法
（J.Chem.Soc.Perkin Trans.I.,1397(1995)）や、メチ
ルn-ヘキシルケトンと炭酸ジエチルとを水素化ナトリウ
ムの存在下、ジオキサン中で反応させて、エチル 3-オ
キソノナノエートを合成する方法（特開昭63-258872号
公報）が開示されている。しかしながら、これらの方法
では、工業的に取り扱いが困難な水素化ナトリウムを用
いなければならないという問題があった。一方、J.Am.C
hem.Soc.,63,2252(1941)には、メチルi-プロピルケトン
と炭酸ジメチルとをナトリウムメトキシドの存在下、無
溶媒中で反応させてメチル 4-メチル-3-オキソペンタノ
エートを合成する方法が記載されているが、この方法で
は極めて収率が低かった。また、上記いずれの方法にお
いても、大量に副生するジアルキルエーテルについては
何ら言及されていなかった。更に、特開昭50-126618号
公報には、ジアルキルケトンと炭酸ジアルキルを、塩基
の存在下、溶媒としてヘキサメチルリン酸トリアミド及
び必要ならばベンゼンを添加して反応させて、β-ケト
エステルを製造する方法が開示されている。しかしなが
ら、この方法の追試実験（後述の比較例３に記載）を当
方の発明者らが行ったところ、目的とするβ-ケトエス
テルの収率が極端に低下すると共に、ジアルキルエーテ
ルが大量に副生した。前記ジアルキルエーテルは、低沸
点の可燃性気体又は液体であって取り扱いが非常に困難
であり、安全性や生産性を考慮した大量製造において
は、出来るだけその発生を抑制する必要があった。
ては、メチルn-プロピルケトンと炭酸ジメチルとを水素
化ナトリウム存在下、ジエチルエーテル中で反応させ
て、メチル 3-オキソヘキサノエートを合成する方法
（J.Chem.Soc.Perkin Trans.I.,1397(1995)）や、メチ
ルn-ヘキシルケトンと炭酸ジエチルとを水素化ナトリウ
ムの存在下、ジオキサン中で反応させて、エチル 3-オ
キソノナノエートを合成する方法（特開昭63-258872号
公報）が開示されている。しかしながら、これらの方法
では、工業的に取り扱いが困難な水素化ナトリウムを用
いなければならないという問題があった。一方、J.Am.C
hem.Soc.,63,2252(1941)には、メチルi-プロピルケトン
と炭酸ジメチルとをナトリウムメトキシドの存在下、無
溶媒中で反応させてメチル 4-メチル-3-オキソペンタノ
エートを合成する方法が記載されているが、この方法で
は極めて収率が低かった。また、上記いずれの方法にお
いても、大量に副生するジアルキルエーテルについては
何ら言及されていなかった。更に、特開昭50-126618号
公報には、ジアルキルケトンと炭酸ジアルキルを、塩基
の存在下、溶媒としてヘキサメチルリン酸トリアミド及
び必要ならばベンゼンを添加して反応させて、β-ケト
エステルを製造する方法が開示されている。しかしなが
ら、この方法の追試実験（後述の比較例３に記載）を当
方の発明者らが行ったところ、目的とするβ-ケトエス
テルの収率が極端に低下すると共に、ジアルキルエーテ
ルが大量に副生した。前記ジアルキルエーテルは、低沸
点の可燃性気体又は液体であって取り扱いが非常に困難
であり、安全性や生産性を考慮した大量製造において
は、出来るだけその発生を抑制する必要があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、即
ち、副生物であるジアルキルエーテルの発生等の上記問
題点を解決し、一般式（１）で示されるメチルケトン類
と炭酸ジアルキルから高収率でβ-ケトエステルを得る
ことが出来る、工業的に好適なβ-ケトエステルの製造
法を提供するものである。
ち、副生物であるジアルキルエーテルの発生等の上記問
題点を解決し、一般式（１）で示されるメチルケトン類
と炭酸ジアルキルから高収率でβ-ケトエステルを得る
ことが出来る、工業的に好適なβ-ケトエステルの製造
法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、一般式
（１）
（１）
【０００７】
【化５】
（式中、Ｒ1はアルキル基又はフェニル基、Ｒ2は水素原
子又はアルキル基を示す。また、Ｒ1とＲ2は連結して環
を形成していても良い。）
子又はアルキル基を示す。また、Ｒ1とＲ2は連結して環
を形成していても良い。）
【０００８】で示されるメチルケトン類と、一般式
（２）
（２）
【０００９】
【化６】
（式中、Ｒ3はアルキル基を示す。）
【００１０】で示される炭酸ジアルキルとを塩基の存在
下、炭化水素及びハロゲン化炭化水素から選ばれる少な
くとも一つの反応溶媒中で、アルコールを留出させなが
ら反応させて、一般式（３）
下、炭化水素及びハロゲン化炭化水素から選ばれる少な
くとも一つの反応溶媒中で、アルコールを留出させなが
ら反応させて、一般式（３）
【００１１】
【化７】
（式中、Ｒ1はアルキル基又はフェニル基、Ｒ2は水素原
子又はアルキル基、Ｒ3はアルキル基を示す。また、Ｒ1
とＲ2は連結して環を形成していても良い。）
子又はアルキル基、Ｒ3はアルキル基を示す。また、Ｒ1
とＲ2は連結して環を形成していても良い。）
【００１２】で示されるβ-ケトエステル及び／又はそ
の塩を生成させた後、中和してβ-ケトエステルを得る
ことを特徴とするβ-ケトエステルの製造法によって解
決される。
の塩を生成させた後、中和してβ-ケトエステルを得る
ことを特徴とするβ-ケトエステルの製造法によって解
決される。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の反応において使用する一
般式（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 1はアルキ
ル基又はフェニル基である。アルキル基としては、特に
炭素数1〜15のアルキル基が好ましく、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチ
ル基（直鎖状又は分岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分
岐状）、ヘキシル基（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基
（直鎖状又は分岐状）、オクチル基（直鎖状又は分岐
状）、ノニル基（直鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖
状又は分岐状）、ウンデシル基（直鎖状又は分岐状）、
ドデシル基（直鎖状又は分岐状）、トリデシル基（直鎖
状又は分岐状）、テトラデシル基（直鎖状又は分岐
状）、ペンタデシル基（直鎖状又は分岐状）が挙げられ
るが、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、
n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル
基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデ
シル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシ
ル基、n-ペンタデシル基が挙げられる。
般式（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 1はアルキ
ル基又はフェニル基である。アルキル基としては、特に
炭素数1〜15のアルキル基が好ましく、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチ
ル基（直鎖状又は分岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分
岐状）、ヘキシル基（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基
（直鎖状又は分岐状）、オクチル基（直鎖状又は分岐
状）、ノニル基（直鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖
状又は分岐状）、ウンデシル基（直鎖状又は分岐状）、
ドデシル基（直鎖状又は分岐状）、トリデシル基（直鎖
状又は分岐状）、テトラデシル基（直鎖状又は分岐
状）、ペンタデシル基（直鎖状又は分岐状）が挙げられ
るが、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、
n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル
基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデ
シル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシ
ル基、n-ペンタデシル基が挙げられる。
【００１４】本発明の反応において使用する一般式
（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 2は水素原子又
はアルキル基である。アルキル基としては、特に炭素数
1〜15のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基
（直鎖状又は分岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分岐
状）、ヘキシル基（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基
（直鎖状又は分岐状）、オクチル基（直鎖状又は分岐
状）、ノニル基（直鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖
状又は分岐状）、ウンデシル基（直鎖状又は分岐状）、
ドデシル基（直鎖状又は分岐状）、トリデシル基（直鎖
状又は分岐状）、テトラデシル基（直鎖状又は分岐
状）、ペンタデシル基（直鎖状又は分岐状）が挙げられ
るが、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、
n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル
基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデ
シル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシ
ル基、n-ペンタデシル基が挙げられる。
（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 2は水素原子又
はアルキル基である。アルキル基としては、特に炭素数
1〜15のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基
（直鎖状又は分岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分岐
状）、ヘキシル基（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基
（直鎖状又は分岐状）、オクチル基（直鎖状又は分岐
状）、ノニル基（直鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖
状又は分岐状）、ウンデシル基（直鎖状又は分岐状）、
ドデシル基（直鎖状又は分岐状）、トリデシル基（直鎖
状又は分岐状）、テトラデシル基（直鎖状又は分岐
状）、ペンタデシル基（直鎖状又は分岐状）が挙げられ
るが、好ましくはメチル基、エチル基、n-プロピル基、
n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル
基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデ
シル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシ
ル基、n-ペンタデシル基が挙げられる。
【００１５】本発明の反応において使用する一般式
（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 1とＲ2は連結し
て環を形成していても良い。連結することで形成される
基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデ
シル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シク
ロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタ
デシル基が挙げられるが、好ましくはシクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられ
る。
（１）で示されるメチルケトン類中のＲ 1とＲ2は連結し
て環を形成していても良い。連結することで形成される
基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデ
シル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シク
ロトリデシル基、シクロテトラデシル基、シクロペンタ
デシル基が挙げられるが、好ましくはシクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられ
る。
【００１６】本発明の反応において使用する一般式
（１）で示されるメチルケトン類の具体例としては、メ
チルエチルケトン、メチルn-プロピルケトン、メチルi-
プロピルケトン、メチルn-ブチルケトン、メチルi-ブチ
ルケトン、メチルs-ブチルケトン、メチルn-ペンチルケ
トン、メチルi-ペンチルケトン、メチルネオペンチルケ
トン、メチルs-ペンチルケトン、メチルn-ヘキシルケト
ン、メチルi-ヘキシルケトン、メチルネオヘキシルケト
ン、メチルs-ヘキシルケトン、メチルn-ヘプチルケト
ン、メチルi-ヘプチルケトン、メチルネオヘプチルケト
ン、メチルs-ヘプチルケトン、メチルn-オクチルケト
ン、メチルi-オクチルケトン、メチルネオオクチルケト
ン、メチルs-オクチルケトン、メチルn-ノニルケトン、
メチルi-ノニルケトン、メチルネオノニルケトン、メチ
ルs-ノニルケトン、メチルn-デシルケトン、メチルi-デ
シルケトン、メチルネオデシルケトン、メチルs-デシル
ケトン、メチルn-ウンデシルケトン、メチル-iウンデシ
ルケトン、メチルネオウンデシルケトン、メチルs-ウン
デシルケトン、メチルn-ドデシルケトン、メチルi-ドデ
シルケトン、メチルネオドデシルケトン、メチルs-ドデ
シルケトン、メチルn-トリデシルケトン、メチルi-トリ
デシルケトン、メチルネオトリドデシルケトン、メチル
s-トリドデシルケトン、メチルn-テトラデシルケトン、
メチルi-テトラデシルケトン、メチルネオテトラデシル
ケトン、メチルs-テトラデシルケトン、メチルn-ペンタ
デシルケトン、メチルi-ペンタデシルケトン、メチルネ
オペンタデシルケトン、メチルs-ペンタデシルケトン、
メチルn-ヘキサデシルケトン、メチルi-ヘキサデシルケ
トン、メチルネオヘキサデシルケトン、メチルs-ヘキサ
デシルケトン、メチルシクロプロピルケトン、メチルシ
クロブチルケトン、メチルシクロペンチルケトン、メチ
ルシクロヘキシルケトン、メチルシクロヘプチルケト
ン、メチルシクロオクチルケトン、メチルシクロノニル
ケトン、メチルシクロデシルケトン、メチルウンデシル
ケトン、メチルシクロドデシルケトン、メチルシクロト
リデシルケトン、メチルシクロテトラデシルケトン、メ
チルシクロペンタデシルケトン、メチルベンジルケトン
が挙げられるが、好ましくはメチルエチルケトン、メチ
ルn-プロピルケトン、メチルi-プロピルケトン、メチル
n-ブチルケトン、メチルn-ペンチルケトン、メチルn-ヘ
キシルケトン、メチルn-ヘプチルケトン、メチルn-オク
チルケトン、メチルn-ノニルケトン、メチルn-デシルケ
トン、メチルn-ウンデシルケトン、メチルn-ドデシルケ
トン、メチルn-トリデシルケトン、メチルn-テトラデシ
ルケトン、メチルn-ペンタデシルケトン、メチルシクロ
プロピルケトン、メチルシクロブチルケトン、メチルシ
クロペンチルケトン、メチルシクロヘキシルケトン、メ
チルシクロヘプチルケトン、メチルシクロオクチルケト
ンが使用される。
（１）で示されるメチルケトン類の具体例としては、メ
チルエチルケトン、メチルn-プロピルケトン、メチルi-
プロピルケトン、メチルn-ブチルケトン、メチルi-ブチ
ルケトン、メチルs-ブチルケトン、メチルn-ペンチルケ
トン、メチルi-ペンチルケトン、メチルネオペンチルケ
トン、メチルs-ペンチルケトン、メチルn-ヘキシルケト
ン、メチルi-ヘキシルケトン、メチルネオヘキシルケト
ン、メチルs-ヘキシルケトン、メチルn-ヘプチルケト
ン、メチルi-ヘプチルケトン、メチルネオヘプチルケト
ン、メチルs-ヘプチルケトン、メチルn-オクチルケト
ン、メチルi-オクチルケトン、メチルネオオクチルケト
ン、メチルs-オクチルケトン、メチルn-ノニルケトン、
メチルi-ノニルケトン、メチルネオノニルケトン、メチ
ルs-ノニルケトン、メチルn-デシルケトン、メチルi-デ
シルケトン、メチルネオデシルケトン、メチルs-デシル
ケトン、メチルn-ウンデシルケトン、メチル-iウンデシ
ルケトン、メチルネオウンデシルケトン、メチルs-ウン
デシルケトン、メチルn-ドデシルケトン、メチルi-ドデ
シルケトン、メチルネオドデシルケトン、メチルs-ドデ
シルケトン、メチルn-トリデシルケトン、メチルi-トリ
デシルケトン、メチルネオトリドデシルケトン、メチル
s-トリドデシルケトン、メチルn-テトラデシルケトン、
メチルi-テトラデシルケトン、メチルネオテトラデシル
ケトン、メチルs-テトラデシルケトン、メチルn-ペンタ
デシルケトン、メチルi-ペンタデシルケトン、メチルネ
オペンタデシルケトン、メチルs-ペンタデシルケトン、
メチルn-ヘキサデシルケトン、メチルi-ヘキサデシルケ
トン、メチルネオヘキサデシルケトン、メチルs-ヘキサ
デシルケトン、メチルシクロプロピルケトン、メチルシ
クロブチルケトン、メチルシクロペンチルケトン、メチ
ルシクロヘキシルケトン、メチルシクロヘプチルケト
ン、メチルシクロオクチルケトン、メチルシクロノニル
ケトン、メチルシクロデシルケトン、メチルウンデシル
ケトン、メチルシクロドデシルケトン、メチルシクロト
リデシルケトン、メチルシクロテトラデシルケトン、メ
チルシクロペンタデシルケトン、メチルベンジルケトン
が挙げられるが、好ましくはメチルエチルケトン、メチ
ルn-プロピルケトン、メチルi-プロピルケトン、メチル
n-ブチルケトン、メチルn-ペンチルケトン、メチルn-ヘ
キシルケトン、メチルn-ヘプチルケトン、メチルn-オク
チルケトン、メチルn-ノニルケトン、メチルn-デシルケ
トン、メチルn-ウンデシルケトン、メチルn-ドデシルケ
トン、メチルn-トリデシルケトン、メチルn-テトラデシ
ルケトン、メチルn-ペンタデシルケトン、メチルシクロ
プロピルケトン、メチルシクロブチルケトン、メチルシ
クロペンチルケトン、メチルシクロヘキシルケトン、メ
チルシクロヘプチルケトン、メチルシクロオクチルケト
ンが使用される。
【００１７】本発明の反応において使用する一般式
（２）で示される炭酸ジアルキル中のＲ 3はアルキル基
である。アルキル基としては、特に炭素数1〜10のアル
キル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基（直鎖状又は分
岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分岐状）、ヘキシル基
（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基（直鎖状又は分岐
状）、オクチル基（直鎖状又は分岐状）、ノニル基（直
鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖状又は分岐状）が挙
げられるが、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル
基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基（直鎖状又は分岐
状）が挙げられる。
（２）で示される炭酸ジアルキル中のＲ 3はアルキル基
である。アルキル基としては、特に炭素数1〜10のアル
キル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基（直鎖状又は分
岐状）、ペンチル基（直鎖状又は分岐状）、ヘキシル基
（直鎖状又は分岐状）、ヘプチル基（直鎖状又は分岐
状）、オクチル基（直鎖状又は分岐状）、ノニル基（直
鎖状又は分岐状）、デシル基（直鎖状又は分岐状）が挙
げられるが、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル
基（直鎖状又は分岐状）、ブチル基（直鎖状又は分岐
状）が挙げられる。
【００１８】本発明の反応において使用する一般式
（２）で示される炭酸ジアルキルの具体例としては、炭
酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジn-プロピル、炭酸ジ
i-プロピル、炭酸ジn-ブチル、炭酸ジi-ブチル、炭酸ジ
t-ブチル、炭酸ジn-ペンチル、炭酸ジi-ペンチル、炭酸
ジt-ペンチル、炭酸ジn-ヘキシル、炭酸ジi-ヘキシル、
炭酸ジt-ヘキシル、炭酸ジn-ヘプチル、炭酸ジi-ヘプチ
ル、炭酸ジt-ヘプチル、炭酸ジn-オクチル、炭酸ジi-オ
クチル、炭酸ジt-オクチル、炭酸ジn-ノニル、炭酸ジi-
ノニル、炭酸ジt-ノニル、炭酸ジn-デシル、炭酸ジi-デ
シル、炭酸ジt-デシルが挙げられるが、好ましくは炭酸
ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジn-プロピル、炭酸ジi-
プロピル、炭酸ジn-ブチル、炭酸ジi-ブチル、炭酸ジt-
ブチルが使用される。これら炭酸ジアルキルの使用量
は、メチルケトン類に対して好ましくは1〜50倍モル、
更に好ましくは1.5〜10倍モルである。
（２）で示される炭酸ジアルキルの具体例としては、炭
酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジn-プロピル、炭酸ジ
i-プロピル、炭酸ジn-ブチル、炭酸ジi-ブチル、炭酸ジ
t-ブチル、炭酸ジn-ペンチル、炭酸ジi-ペンチル、炭酸
ジt-ペンチル、炭酸ジn-ヘキシル、炭酸ジi-ヘキシル、
炭酸ジt-ヘキシル、炭酸ジn-ヘプチル、炭酸ジi-ヘプチ
ル、炭酸ジt-ヘプチル、炭酸ジn-オクチル、炭酸ジi-オ
クチル、炭酸ジt-オクチル、炭酸ジn-ノニル、炭酸ジi-
ノニル、炭酸ジt-ノニル、炭酸ジn-デシル、炭酸ジi-デ
シル、炭酸ジt-デシルが挙げられるが、好ましくは炭酸
ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジn-プロピル、炭酸ジi-
プロピル、炭酸ジn-ブチル、炭酸ジi-ブチル、炭酸ジt-
ブチルが使用される。これら炭酸ジアルキルの使用量
は、メチルケトン類に対して好ましくは1〜50倍モル、
更に好ましくは1.5〜10倍モルである。
【００１９】本発明の反応において使用する塩基は金属
アルコラート、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属
のアルコラートが好ましい。その具体例としては、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム
n-プロポキシド、ナトリウムi-プロポキシド、ナトリウ
ムn-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムメ
トキシド、カリウムエトキシド、カリウムn-プロポキシ
ド、カリウムi-プロポキシド、カリウムn-ブトキシド、
カリウムt-ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグ
ネシウムエトキシド、マグネシウムn-プロポキシド、マ
グネシウムi-プロポキシド、マグネシウムn-ブトキシ
ド、カルシウムメトキシド、カルシウムエトキシド、カ
ルシウムn-プロポキシド、カルシウムi-プロポキシドが
挙げられるが、好ましくはナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエト
キシド、更に好ましくはナトリウムメトキシドが使用さ
れる。これら金属アルコラートの使用量は、メチルケト
ン類に対して好ましくは0.5〜2.5倍モル、更に好ましく
は1.0〜2.0倍モルである。
アルコラート、特にアルカリ金属又はアルカリ土類金属
のアルコラートが好ましい。その具体例としては、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム
n-プロポキシド、ナトリウムi-プロポキシド、ナトリウ
ムn-ブトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムメ
トキシド、カリウムエトキシド、カリウムn-プロポキシ
ド、カリウムi-プロポキシド、カリウムn-ブトキシド、
カリウムt-ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグ
ネシウムエトキシド、マグネシウムn-プロポキシド、マ
グネシウムi-プロポキシド、マグネシウムn-ブトキシ
ド、カルシウムメトキシド、カルシウムエトキシド、カ
ルシウムn-プロポキシド、カルシウムi-プロポキシドが
挙げられるが、好ましくはナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエト
キシド、更に好ましくはナトリウムメトキシドが使用さ
れる。これら金属アルコラートの使用量は、メチルケト
ン類に対して好ましくは0.5〜2.5倍モル、更に好ましく
は1.0〜2.0倍モルである。
【００２０】前記金属アルコラートは、粉末又は低級ア
ルコール溶液のいずれの状態で用いても良い。前記低級
アルコールとしては、メタノール、エタノール、n-プロ
パノール、i-プロパノール、n-ブタノール、i-ブタノー
ル、t-ブタノールが挙げられる。この時使用する低級ア
ルコールの量は、金属アルコラートに対して好ましくは
1〜30重量倍、更に好ましくは2〜20重量倍である。
ルコール溶液のいずれの状態で用いても良い。前記低級
アルコールとしては、メタノール、エタノール、n-プロ
パノール、i-プロパノール、n-ブタノール、i-ブタノー
ル、t-ブタノールが挙げられる。この時使用する低級ア
ルコールの量は、金属アルコラートに対して好ましくは
1〜30重量倍、更に好ましくは2〜20重量倍である。
【００２１】本発明の反応において使用する反応溶媒
は、反応を阻害しないものなら特に制限はないが、炭化
水素及びハロゲン化炭化水素から選ばれる少なくとも一
つの反応溶媒であり、常圧での沸点が、好ましくは20〜
150℃、更に好ましくは35〜130℃のものが使用される。
そのような反応溶媒の具体例としては、n-ペンタン、n-
ヘキサン、n-ヘプタン、i-ヘプタン、n-オクタン、i-オ
クタン等の鎖状の非ハロゲン化脂肪族炭化水素類；1,1,
1-トリクロロエタン、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロ
ロエタン、塩化n-プロピル、塩化i-プロピル、臭化n-プ
ロピル、臭化i-プロピル、ヨウ化n-プロピル、ヨウ化i-
プロピル、塩化n-ブチル、臭化n-ブチル、1-クロロ-2-
メチルプロパン、2-クロロ-2-メチルプロパン等の鎖状
のハロゲン化脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状の非ハロゲ
ン化脂肪族炭化水素類；シクロペンチルクロライド等の
環状のハロゲン化脂肪族炭化水素類；トルエン等の非ハ
ロゲン化芳香族炭化水素類；フルオロベンゼン等のハロ
ゲン化芳香族炭化水素類が挙げられる。これら溶媒の使
用量は、メチルケトン類に対して、好ましくは0.1〜80
重量倍、更に好ましくは0.5〜10重量倍である。
は、反応を阻害しないものなら特に制限はないが、炭化
水素及びハロゲン化炭化水素から選ばれる少なくとも一
つの反応溶媒であり、常圧での沸点が、好ましくは20〜
150℃、更に好ましくは35〜130℃のものが使用される。
そのような反応溶媒の具体例としては、n-ペンタン、n-
ヘキサン、n-ヘプタン、i-ヘプタン、n-オクタン、i-オ
クタン等の鎖状の非ハロゲン化脂肪族炭化水素類；1,1,
1-トリクロロエタン、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロ
ロエタン、塩化n-プロピル、塩化i-プロピル、臭化n-プ
ロピル、臭化i-プロピル、ヨウ化n-プロピル、ヨウ化i-
プロピル、塩化n-ブチル、臭化n-ブチル、1-クロロ-2-
メチルプロパン、2-クロロ-2-メチルプロパン等の鎖状
のハロゲン化脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状の非ハロゲ
ン化脂肪族炭化水素類；シクロペンチルクロライド等の
環状のハロゲン化脂肪族炭化水素類；トルエン等の非ハ
ロゲン化芳香族炭化水素類；フルオロベンゼン等のハロ
ゲン化芳香族炭化水素類が挙げられる。これら溶媒の使
用量は、メチルケトン類に対して、好ましくは0.1〜80
重量倍、更に好ましくは0.5〜10重量倍である。
【００２２】本発明の反応は、例えば、メチルケトン
類、炭酸ジアルキル及び前記反応溶媒を混合し、加熱攪
拌しながら塩基（金属アルコラート）を添加する等の方
法によって、生成するアルコールを留出させながら、常
圧下又は減圧下で行われる。その際の反応温度は、好ま
しくは20〜150℃、更に好ましくは35〜130℃である。
類、炭酸ジアルキル及び前記反応溶媒を混合し、加熱攪
拌しながら塩基（金属アルコラート）を添加する等の方
法によって、生成するアルコールを留出させながら、常
圧下又は減圧下で行われる。その際の反応温度は、好ま
しくは20〜150℃、更に好ましくは35〜130℃である。
【００２３】なお、上記反応の副生成物としてジアルキ
ルエーテルが発生する。これは、反応液及び留出液中に
溶解しているものと、気体又は液体として系外に放出さ
れるものとがあるが、本反応において問題となるのは、
留出液中に溶解しているものと、気体又は液体として系
外に放出されるものである。本発明の方法では、それら
ジアルキルエーテルの発生量を抑制することが出来る。
ルエーテルが発生する。これは、反応液及び留出液中に
溶解しているものと、気体又は液体として系外に放出さ
れるものとがあるが、本反応において問題となるのは、
留出液中に溶解しているものと、気体又は液体として系
外に放出されるものである。本発明の方法では、それら
ジアルキルエーテルの発生量を抑制することが出来る。
【００２４】また、本発明の反応において、メチルケト
ン類、炭酸ジアルキル、反応溶媒及び金属アルコラート
の仕込み順序は特に限定されないが、加温した反応混合
液（メチルケトン類、炭酸ジアルキル及び反応溶媒の混
合液）中に金属アルコラートを添加する方法が、副生成
物であるジアルキルエーテル発生の抑制にはより望まし
い。
ン類、炭酸ジアルキル、反応溶媒及び金属アルコラート
の仕込み順序は特に限定されないが、加温した反応混合
液（メチルケトン類、炭酸ジアルキル及び反応溶媒の混
合液）中に金属アルコラートを添加する方法が、副生成
物であるジアルキルエーテル発生の抑制にはより望まし
い。
【００２５】以上のようにして得られる、目的とするβ
-ケトエステルは、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機
酸；シュウ酸、酢酸等の有機酸で反応混合物を中和した
後、蒸留や再結晶等の公知の方法によって分離精製され
る。
-ケトエステルは、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機
酸；シュウ酸、酢酸等の有機酸で反応混合物を中和した
後、蒸留や再結晶等の公知の方法によって分離精製され
る。
【００２６】
【実施例】次に、実施例及び比較例を用いて、本発明を
具体的に説明する。なお、収率は全て仕込みメチルケト
ン類基準である。また、ジアルキルエーテル量は、留出
液中に溶解しているものと、系外に放出されるものとの
合計量である。
具体的に説明する。なお、収率は全て仕込みメチルケト
ン類基準である。また、ジアルキルエーテル量は、留出
液中に溶解しているものと、系外に放出されるものとの
合計量である。
【００２７】実施例１
メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4mol)、炭酸ジメチル2
16.2g(2.4mol)及びシクロヘキサン67.3gの混合液を攪拌
しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でナトリウムメ
トキシド粉末28.1g(0.5mol)をシクロヘキサン67.3gに懸
濁させたものを45分間かけて滴下した。なお、滴下中に
生成したメタノールは留出させた。更に、メタノールを
留出させながら78〜85℃で50分間加熱攪拌した。この反
応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和
した後、有機相を分離した。この有機相をガスクロマト
グラフィーにより分析したところ、目的とするメチル 4
-メチル-3-オキソペンタノエート48.4g(収率83.9％)が
生成していた。また、この時の発生したジメチルエーテ
ル量は0.9gであった。
16.2g(2.4mol)及びシクロヘキサン67.3gの混合液を攪拌
しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でナトリウムメ
トキシド粉末28.1g(0.5mol)をシクロヘキサン67.3gに懸
濁させたものを45分間かけて滴下した。なお、滴下中に
生成したメタノールは留出させた。更に、メタノールを
留出させながら78〜85℃で50分間加熱攪拌した。この反
応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和
した後、有機相を分離した。この有機相をガスクロマト
グラフィーにより分析したところ、目的とするメチル 4
-メチル-3-オキソペンタノエート48.4g(収率83.9％)が
生成していた。また、この時の発生したジメチルエーテ
ル量は0.9gであった。
【００２８】比較例１
メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4mol)、炭酸ジメチル1
44.1g(1.6mol)の混合液を攪拌しながら90℃まで加熱し
た後、85〜90℃でナトリウムメトキシド粉末28.1g(0.5m
ol)を炭酸ジメチル72.1g(0.8mol)に懸濁させたものを45
分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成したメタノー
ルは留出させた。更に、メタノールを留出させながら85
〜90℃で30分間加熱攪拌した。この反応混合物を冷却
し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した後、有機相
を分離した。この有機相をガスクロマトグラフィーによ
り分析したところ、目的とするメチル 4-メチル-3-オキ
ソペンタノエート48.3g(収率83.8％)が生成していた。
また、この時の発生したジメチルエーテル量は1.9gであ
った。
44.1g(1.6mol)の混合液を攪拌しながら90℃まで加熱し
た後、85〜90℃でナトリウムメトキシド粉末28.1g(0.5m
ol)を炭酸ジメチル72.1g(0.8mol)に懸濁させたものを45
分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成したメタノー
ルは留出させた。更に、メタノールを留出させながら85
〜90℃で30分間加熱攪拌した。この反応混合物を冷却
し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した後、有機相
を分離した。この有機相をガスクロマトグラフィーによ
り分析したところ、目的とするメチル 4-メチル-3-オキ
ソペンタノエート48.3g(収率83.8％)が生成していた。
また、この時の発生したジメチルエーテル量は1.9gであ
った。
【００２９】実施例２
メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4mol)、炭酸ジメチル2
16.2g(2.4mol)及びシクロヘキサン67.3gの懸濁液を攪拌
しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でナトリウムメ
トキシド粉末28.1g(0.5mol)を15分間かけて添加した。
なお、滴下中に生成したメタノールは留出させた。更
に、メタノールを留出させながら78〜85℃で1時間加熱
攪拌した。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちな
がら希塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機
相をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目
的とするメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.1
g(収率83.4％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.0gであった。
16.2g(2.4mol)及びシクロヘキサン67.3gの懸濁液を攪拌
しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でナトリウムメ
トキシド粉末28.1g(0.5mol)を15分間かけて添加した。
なお、滴下中に生成したメタノールは留出させた。更
に、メタノールを留出させながら78〜85℃で1時間加熱
攪拌した。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちな
がら希塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機
相をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目
的とするメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.1
g(収率83.4％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.0gであった。
【００３０】実施例３
炭酸ジメチル216.2g(2.4mol)、ナトリウムメトキシド粉
末33.7g(0.6mol)及びシクロヘキサン67.3gの懸濁液を攪
拌しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でメチルi-プ
ロピルケトン34.5g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。
なお、滴下中に生成したメタノールは留出させた。更
に、メタノールを留出させながら78〜85℃で50分間加熱
攪拌した。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちな
がら希塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機
相をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目
的とするメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.0
g(収率83.2％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.5gであった。
末33.7g(0.6mol)及びシクロヘキサン67.3gの懸濁液を攪
拌しながら78℃まで加熱した後、78〜85℃でメチルi-プ
ロピルケトン34.5g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。
なお、滴下中に生成したメタノールは留出させた。更
に、メタノールを留出させながら78〜85℃で50分間加熱
攪拌した。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちな
がら希塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機
相をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、目
的とするメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.0
g(収率83.2％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.5gであった。
【００３１】比較例２
炭酸ジメチル216.2g(2.4mol)及びナトリウムメトキシド
粉末33.7g(0.6mol)の懸濁液を攪拌しながら90℃まで加
熱した後、85〜90℃でメチルi-プロピルケトン34.5g(0.
4mol)を45分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成し
たメタノールは留出させた。更に、メタノールを留出さ
せながら85〜90℃で20分間加熱攪拌した。この反応混合
物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した
後、有機相を分離した。この有機相をガスクロマトグラ
フィーにより分析したところ、目的とするメチル 4-メ
チル-3-オキソペンタノエート48.4g(収率83.9％)が生成
していた。また、この時の発生したジメチルエーテル量
は3.8gであった。
粉末33.7g(0.6mol)の懸濁液を攪拌しながら90℃まで加
熱した後、85〜90℃でメチルi-プロピルケトン34.5g(0.
4mol)を45分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成し
たメタノールは留出させた。更に、メタノールを留出さ
せながら85〜90℃で20分間加熱攪拌した。この反応混合
物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した
後、有機相を分離した。この有機相をガスクロマトグラ
フィーにより分析したところ、目的とするメチル 4-メ
チル-3-オキソペンタノエート48.4g(収率83.9％)が生成
していた。また、この時の発生したジメチルエーテル量
は3.8gであった。
【００３２】比較例３
炭酸ジメチル216.2g(2.4mol)、ナトリウムメトキシド粉
末33.7g(0.6mol)、シクロヘキサン67.3g及びヘキサメチ
ルリン酸トリアミド80ml(0.46mol)の懸濁液を攪拌しな
がら78℃まで加熱した後、77〜78℃でメチルi-プロピル
ケトン34.5g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。なお、
滴下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタ
ノールを留出させながら78〜80℃で50分間加熱攪拌し
た。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希
塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガ
スクロマトグラフィーにより分析したところ、目的とす
るメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート15.9g(収率
27.6％)が生成していた。また、この時の発生したジメ
チルエーテル量は3.6gであった。
末33.7g(0.6mol)、シクロヘキサン67.3g及びヘキサメチ
ルリン酸トリアミド80ml(0.46mol)の懸濁液を攪拌しな
がら78℃まで加熱した後、77〜78℃でメチルi-プロピル
ケトン34.5g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。なお、
滴下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタ
ノールを留出させながら78〜80℃で50分間加熱攪拌し
た。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希
塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガ
スクロマトグラフィーにより分析したところ、目的とす
るメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート15.9g(収率
27.6％)が生成していた。また、この時の発生したジメ
チルエーテル量は3.6gであった。
【００３３】実施例４
実施例１において、メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4m
ol)をメチルn-ブチルケトン40.1g(0.4mol)に変えたこと
以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、目
的とするメチル 3-オキソヘプタノエート51.6g(収率81.
5％)が生成していた。また、この時の発生したジメチル
エーテル量は1.0gであった。この溶液を減圧蒸留(4〜5
torr/77〜80℃)し、メチル 3-オキソヘプタノエート49.
6g(収率78.4％)を単離した。
ol)をメチルn-ブチルケトン40.1g(0.4mol)に変えたこと
以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、目
的とするメチル 3-オキソヘプタノエート51.6g(収率81.
5％)が生成していた。また、この時の発生したジメチル
エーテル量は1.0gであった。この溶液を減圧蒸留(4〜5
torr/77〜80℃)し、メチル 3-オキソヘプタノエート49.
6g(収率78.4％)を単離した。
【００３４】実施例５
実施例１において、メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4m
ol)をメチルn-トリデシルケトン90.6g(0.4mol)に変えた
こと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結
果、目的とするメチル 3-オキソヘキサデカノエート96.
6g(収率84.9％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.0gであった。この反応混合物
中の溶媒を減圧下で留去し、釜残にメタノール40mlと水
80mlを加えて一旦50℃まで加温して均一溶液にしたもの
を、5℃まで冷却した。析出した結晶を濾過し、30℃で
減圧乾燥させて、無色粉末のメチル 3-オキソヘキサデ
カノエート93.5g(収率82.1％)を単離した。
ol)をメチルn-トリデシルケトン90.6g(0.4mol)に変えた
こと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結
果、目的とするメチル 3-オキソヘキサデカノエート96.
6g(収率84.9％)が生成していた。また、この時の発生し
たジメチルエーテル量は1.0gであった。この反応混合物
中の溶媒を減圧下で留去し、釜残にメタノール40mlと水
80mlを加えて一旦50℃まで加温して均一溶液にしたもの
を、5℃まで冷却した。析出した結晶を濾過し、30℃で
減圧乾燥させて、無色粉末のメチル 3-オキソヘキサデ
カノエート93.5g(収率82.1％)を単離した。
【００３５】実施例６
実施例１において、メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4m
ol)をメチルシクロプロピルケトン33.6g(0.4mol)に変え
たこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結
果、目的とするメチル 3-シクロプロピル-3-オキソプロ
パノエート51.1g(収率89.9％)が生成していた。また、
この時の発生したジメチルエーテル量は0.1gであった。
ol)をメチルシクロプロピルケトン33.6g(0.4mol)に変え
たこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結
果、目的とするメチル 3-シクロプロピル-3-オキソプロ
パノエート51.1g(収率89.9％)が生成していた。また、
この時の発生したジメチルエーテル量は0.1gであった。
【００３６】実施例７
炭酸ジメチル216.2g(2.4mol)、ナトリウムメトキシド粉
末23.8g(0.4mol)及びn-ヘキサン68.9gの懸濁液を攪拌し
ながら70℃まで加熱した後、65〜70℃でメチルエチルケ
トン28.8g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。なお、滴
下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタノ
ールを留出させながら65〜70℃で40分間加熱攪拌した。
この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸
で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガスク
ロマトグラフィーにより分析したところ、目的とするメ
チル 3-オキソペンタノエート33.8g(収率65.0％)が生成
していた。また、この時の発生したジメチルエーテル量
は0.3gであった。
末23.8g(0.4mol)及びn-ヘキサン68.9gの懸濁液を攪拌し
ながら70℃まで加熱した後、65〜70℃でメチルエチルケ
トン28.8g(0.4mol)を45分間かけて滴下した。なお、滴
下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタノ
ールを留出させながら65〜70℃で40分間加熱攪拌した。
この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸
で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガスク
ロマトグラフィーにより分析したところ、目的とするメ
チル 3-オキソペンタノエート33.8g(収率65.0％)が生成
していた。また、この時の発生したジメチルエーテル量
は0.3gであった。
【００３７】比較例４
炭酸ジメチル216.2g(2.4mol)及びナトリウムメトキシド
粉末28.1g(0.5mol)の懸濁液を攪拌しながら90℃まで加
熱した後、85〜90℃でメチルエチルケトン28.8g(0.4mo
l)を45分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成したメ
タノールは留出させた。更に、メタノールを留出させな
がら85〜90℃で20分間加熱攪拌した。この反応混合物を
冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した後、有
機相を分離した。この有機相をガスクロマトグラフィー
により分析したところ、目的とするメチル 3-オキソペ
ンタノエート33.3g(収率64.0％)が生成していた。ま
た、この時の発生したジメチルエーテル量は3.0gであっ
た。
粉末28.1g(0.5mol)の懸濁液を攪拌しながら90℃まで加
熱した後、85〜90℃でメチルエチルケトン28.8g(0.4mo
l)を45分間かけて滴下した。なお、滴下中に生成したメ
タノールは留出させた。更に、メタノールを留出させな
がら85〜90℃で20分間加熱攪拌した。この反応混合物を
冷却し、10℃以下を保ちながら希塩酸で中和した後、有
機相を分離した。この有機相をガスクロマトグラフィー
により分析したところ、目的とするメチル 3-オキソペ
ンタノエート33.3g(収率64.0％)が生成していた。ま
た、この時の発生したジメチルエーテル量は3.0gであっ
た。
【００３８】実施例８
メチルi-プロピルケトン34.5g(0.4mol)、炭酸ジメチル2
16.2g(2.4mol)及び1,2-ジクロロエタン79.2gの混合液を
攪拌しながら81℃まで加熱した後、80〜88℃でナトリウ
ムメトキシド粉末28.1g(0.5mol)を1,2-ジクロロエタン7
9.2gに懸濁させたものを45分間かけて滴下した。なお、
滴下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタ
ノールを留出させながら80〜88℃で50分間加熱攪拌し
た。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希
塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガ
スクロマトグラフィーにより分析したところ、目的とす
るメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.6g(収率
84.3％)が生成していた。また、この時の発生したジメ
チルエーテル量は0.9gであった。
16.2g(2.4mol)及び1,2-ジクロロエタン79.2gの混合液を
攪拌しながら81℃まで加熱した後、80〜88℃でナトリウ
ムメトキシド粉末28.1g(0.5mol)を1,2-ジクロロエタン7
9.2gに懸濁させたものを45分間かけて滴下した。なお、
滴下中に生成したメタノールは留出させた。更に、メタ
ノールを留出させながら80〜88℃で50分間加熱攪拌し
た。この反応混合物を冷却し、10℃以下を保ちながら希
塩酸で中和した後、有機相を分離した。この有機相をガ
スクロマトグラフィーにより分析したところ、目的とす
るメチル 4-メチル-3-オキソペンタノエート48.6g(収率
84.3％)が生成していた。また、この時の発生したジメ
チルエーテル量は0.9gであった。
【００３９】
【発明の効果】本発明により、メチルケトン類と炭酸ジ
アルキルから高収率でβ-ケトエステルを得ることが出
来、また、副生するジアルキルエーテルの発生を大幅に
低減することが出来る、工業的に好適なβ-ケトエステ
ルの製造法を提供することが出来る。
アルキルから高収率でβ-ケトエステルを得ることが出
来、また、副生するジアルキルエーテルの発生を大幅に
低減することが出来る、工業的に好適なβ-ケトエステ
ルの製造法を提供することが出来る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−215915（ＪＰ，Ａ)
特開 昭50−126618（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−40612（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 69/716
C07C 67/313
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１はアルキル基又はフェニル基、Ｒ２は水素
原子又はアルキル基を示す。また、Ｒ１とＲ２は連結し
て環を形成していても良い。）で示されるメチルケトン
類と、一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ３はメチル基を示す。）で示される炭酸ジア
ルキルとを塩基の存在下、シクロヘキサン中で、アルコ
ールを留去させながら反応させて、一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ１はアルキル基又はフェニル基、Ｒ２は水素
原子又はアルキル基、Ｒ３はメチル基を示す。また、Ｒ
１とＲ２は連結して環を形成していても良い。）で示さ
れるβ−ケトエステル及び／又はその塩を生成させた
後、中和してβ−ケトエステルを得ることを特徴とする
β−ケトエステルの製造法。 - 【請求項２】メチルケトン類と炭酸ジアルキルとシクロ
ヘキサンからなる反応混合物中に、塩基を添加して反応
させる請求項１記載のβ−ケトエステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13935499A JP3520806B2 (ja) | 1998-05-22 | 1999-05-20 | β−ケトエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14176998 | 1998-05-22 | ||
| JP10-141769 | 1998-05-22 | ||
| JP13935499A JP3520806B2 (ja) | 1998-05-22 | 1999-05-20 | β−ケトエステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000044515A JP2000044515A (ja) | 2000-02-15 |
| JP3520806B2 true JP3520806B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=26472189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13935499A Expired - Fee Related JP3520806B2 (ja) | 1998-05-22 | 1999-05-20 | β−ケトエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3520806B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1898228B (zh) * | 2003-12-19 | 2012-05-02 | 宇部兴产株式会社 | 3-(4-四氢吡喃)-3-氧代丙酸烷基酯化合物以及4-酰基四氢吡喃的制备方法 |
-
1999
- 1999-05-20 JP JP13935499A patent/JP3520806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000044515A (ja) | 2000-02-15 |
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