JP3496171B2 - 光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ補正パターンの決定方法及び装置 - Google Patents
光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ補正パターンの決定方法及び装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビームを回転多面鏡
によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ
補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡によ
って偏向して記録体上を走査する装置に関するものであ
る。本発明は、例えば、光ビームを回転多面鏡によって
偏向して記録体上を走査する画像形成装置に利用可能な
発明である。
によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ
補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡によ
って偏向して記録体上を走査する装置に関するものであ
る。本発明は、例えば、光ビームを回転多面鏡によって
偏向して記録体上を走査する画像形成装置に利用可能な
発明である。
【０００２】
【従来の技術】光ビームを回転多面鏡によって偏向して
記録体上を走査する装置のムラ（例えば、画像形成装置
の場合は出力画像に現れるムラ）の影響を小さくするた
めに、幾つかの手法が知られている。第一の手法は、鏡
面の面倒れや鏡面の反射率のバラツキが小さいといった
高精度の回転多面鏡を用いる手法である。第二の手法
は、ムラの原因となる因子のそれぞれに対応する手法で
ある。例えば、特開平２−１３１９５６号には、ムラの
原因となる鏡面の面倒れの影響を補正するために、鏡面
の面倒れにより変化する走査線の間隔に応じて入力画像
信号を変調する画像形成装置が記載されている。また、
特公平４−７５７０２号には、鏡面の反射率のバラツキ
の影響を小さくするために、回転多面鏡の回転角により
変化する反射率を計算で求め、求めた反射率に応じて、
入力画像信号を変調する画像形成装置が記載されてい
る。第三の手法は、特開平２−２３７２６７号に記載さ
れているように、回転多面鏡の１回転を１周期とした複
数の周期的変調パターンで入力画像信号を変調し、その
中でムラが低減したパターンを選択し、それを周期的ム
ラ補正パターンとして、入力画像信号を変調する手法で
ある。
記録体上を走査する装置のムラ（例えば、画像形成装置
の場合は出力画像に現れるムラ）の影響を小さくするた
めに、幾つかの手法が知られている。第一の手法は、鏡
面の面倒れや鏡面の反射率のバラツキが小さいといった
高精度の回転多面鏡を用いる手法である。第二の手法
は、ムラの原因となる因子のそれぞれに対応する手法で
ある。例えば、特開平２−１３１９５６号には、ムラの
原因となる鏡面の面倒れの影響を補正するために、鏡面
の面倒れにより変化する走査線の間隔に応じて入力画像
信号を変調する画像形成装置が記載されている。また、
特公平４−７５７０２号には、鏡面の反射率のバラツキ
の影響を小さくするために、回転多面鏡の回転角により
変化する反射率を計算で求め、求めた反射率に応じて、
入力画像信号を変調する画像形成装置が記載されてい
る。第三の手法は、特開平２−２３７２６７号に記載さ
れているように、回転多面鏡の１回転を１周期とした複
数の周期的変調パターンで入力画像信号を変調し、その
中でムラが低減したパターンを選択し、それを周期的ム
ラ補正パターンとして、入力画像信号を変調する手法で
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の第一の手法
は、高価な回転多面鏡が必要である。また、従来技術の
第二の手法は、ムラの発生原因は多岐に渡り、１つの要
因を補正してもムラは補正しきれないので、複数の補正
が必要となり、また、ムラの原因とムラの関係は非線形
となることが多いので、複雑な演算が必要となる。複数
の補正が必要なので、多岐に渡る測定が必要となる。さ
らに、ムラの原因とムラとの因果関係が明確でないと適
用できない。
は、高価な回転多面鏡が必要である。また、従来技術の
第二の手法は、ムラの発生原因は多岐に渡り、１つの要
因を補正してもムラは補正しきれないので、複数の補正
が必要となり、また、ムラの原因とムラの関係は非線形
となることが多いので、複雑な演算が必要となる。複数
の補正が必要なので、多岐に渡る測定が必要となる。さ
らに、ムラの原因とムラとの因果関係が明確でないと適
用できない。
【０００４】この点、従来技術の第三の手法は、比較的
安価な回転多面鏡でもムラの影響を小さくできる手法で
ある。しかしながら、選択する複数の周期的変調パター
ンが多いと選択作業が煩雑になりやすく、また、少ない
とムラの影響を低減できない場合が発生するという問題
がある。
安価な回転多面鏡でもムラの影響を小さくできる手法で
ある。しかしながら、選択する複数の周期的変調パター
ンが多いと選択作業が煩雑になりやすく、また、少ない
とムラの影響を低減できない場合が発生するという問題
がある。
【０００５】請求項１、２の各項の目的は、比較的安価
な回転多面鏡でもムラの影響を小さくするために、周期
的変調パターンの選択作業がシンプルな割りに、良好に
ムラの影響を低減できる、光ビームを回転多面鏡によっ
て偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラパター
ンの決定方法を提供することである。
な回転多面鏡でもムラの影響を小さくするために、周期
的変調パターンの選択作業がシンプルな割りに、良好に
ムラの影響を低減できる、光ビームを回転多面鏡によっ
て偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラパター
ンの決定方法を提供することである。
【０００６】また、ムラの影響の大きさが主走査方向で
異なる場合が多いが、従来技術の第三の手法では、ムラ
の影響の大きさが主走査方向で異なる場合に対応できな
いという問題がある。
異なる場合が多いが、従来技術の第三の手法では、ムラ
の影響の大きさが主走査方向で異なる場合に対応できな
いという問題がある。
【０００７】請求項３、４の各項の目的は、ムラの影響
の大きさが主走査方向で異なる場合でも、良好にムラの
影響を低減できる、光ビームを回転多面鏡によって偏向
して記録体上を走査する装置を提供することである。
の大きさが主走査方向で異なる場合でも、良好にムラの
影響を低減できる、光ビームを回転多面鏡によって偏向
して記録体上を走査する装置を提供することである。
【０００８】また、回転多面鏡によるムラの影響を除去
しても、まだ、主走査方向の濃度ムラが残る場合がある
という問題がある。
しても、まだ、主走査方向の濃度ムラが残る場合がある
という問題がある。
【０００９】請求項５、６の各項の目的は、さらに主走
査方向の濃度ムラの影響を低減できる、光ビームを回転
多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置を提供
することである。
査方向の濃度ムラの影響を低減できる、光ビームを回転
多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置を提供
することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、特
許請求の範囲の記載の構成により達成される。
許請求の範囲の記載の構成により達成される。
【００１１】光ビームは、絞られた光束の意味である。
光ビームとしては、レーザビームが好ましい。周期的ム
ラ補正パターンは、回転多面鏡の１回転を１周期とする
周期的なパターンで、ムラを補正するためのパターンで
ある。周期的変調パターンは、回転多面鏡の１回転を１
周期とする周期的なパターンである。また、基本的周期
的変調パターンは装置に予め設定されている基本的な周
期的変調パターンである。周期的変調パターンは、回転
多面鏡の１回転を１周期とする正弦波を主成分とするこ
とが好ましい。
光ビームとしては、レーザビームが好ましい。周期的ム
ラ補正パターンは、回転多面鏡の１回転を１周期とする
周期的なパターンで、ムラを補正するためのパターンで
ある。周期的変調パターンは、回転多面鏡の１回転を１
周期とする周期的なパターンである。また、基本的周期
的変調パターンは装置に予め設定されている基本的な周
期的変調パターンである。周期的変調パターンは、回転
多面鏡の１回転を１周期とする正弦波を主成分とするこ
とが好ましい。
【００１２】回転多面鏡の１回転を１周期とする正弦波
を主成分とする周期的変調パターンとは、該周期的変調
パターンｆ（ｘ）をフーリエ級数
を主成分とする周期的変調パターンとは、該周期的変調
パターンｆ（ｘ）をフーリエ級数
【００１３】
【数１】
【００１４】に展開した際に、フーリエ係数ａn，ｂnが
２以上の自然数ｎに対し下記の式を満たすものである。
２以上の自然数ｎに対し下記の式を満たすものである。
【００１５】ａn 2＋ｂn 2≦（ａ1 2＋ｂ1 2）／３
この場合、特に下記の式を満たすものが好ましい。
【００１６】
ａn 2＋ｂn 2≦（ａ1 2＋ｂ1 2）／（ｎ2−１） ２≦ｎ≦５
ａn 2＋ｂn 2≦（ａ1 2＋ｂ1 2）／２５ ｎ≧６
さらに、下記の式を満たすものが好ましい。
【００１７】
ａn 2＋ｂn 2≦（ａ1 2＋ｂ1 2）／（ｎ2−１） ２≦ｎ≦１０
ａn 2＋ｂn 2≦（ａ1 2＋ｂ1 2）／１００ ｎ≧１１
これらフーリエ係数は周波数分析により測定することが
できる。
できる。
【００１８】周期的変調パターンを主走査方向で振幅変
調したものであるとは、１主走査を１周期とする振幅変
調パターンを、上記周期的変調パターンｆ（ｘ）に乗算
したものと同じものである。
調したものであるとは、１主走査を１周期とする振幅変
調パターンを、上記周期的変調パターンｆ（ｘ）に乗算
したものと同じものである。
【００１９】なお、空間周波数０．５ｍｍ〜２ｍｍのム
ラは人の目につき易く、この範囲を外れると極端に目に
つき難くなる性質がある。問題となるピッチムラは、例
えば、副走査ピッチを８０μｍ、回転多面鏡に８面のも
のを用いた場合、１回転のムラは６４０μｍ周期で発生
する。これは目につき易い範囲内のムラである。
ラは人の目につき易く、この範囲を外れると極端に目に
つき難くなる性質がある。問題となるピッチムラは、例
えば、副走査ピッチを８０μｍ、回転多面鏡に８面のも
のを用いた場合、１回転のムラは６４０μｍ周期で発生
する。これは目につき易い範囲内のムラである。
【００２０】又ムラは回転多面鏡１回転の逓倍周期でも
発生するが２倍、３倍時のムラの周期は、３２０μｍ、
１６０μｍとなり目につき易い範囲を外れる。そこで、
その成分つまり回転多面鏡の１回転を１周期とする正弦
波が好ましいわけである。
発生するが２倍、３倍時のムラの周期は、３２０μｍ、
１６０μｍとなり目につき易い範囲を外れる。そこで、
その成分つまり回転多面鏡の１回転を１周期とする正弦
波が好ましいわけである。
【００２１】本発明でいう装置には、光ビームを回転多
面鏡によって偏向して記録体上を走査する画像形成装置
などが挙げられる。記録体は、感光性フィルム、感光性
印刷版、電子写真感光体などが挙げられる。
面鏡によって偏向して記録体上を走査する画像形成装置
などが挙げられる。記録体は、感光性フィルム、感光性
印刷版、電子写真感光体などが挙げられる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。実施例におい
て断定的な表現もあるが、具体例を特定するための表現
であり、本発明の用語の意義はこれによって限定される
ものではない。
て断定的な表現もあるが、具体例を特定するための表現
であり、本発明の用語の意義はこれによって限定される
ものではない。
【００２３】実施例１
〔装置〕図１は、回転多面鏡を用いた画像記録装置の一
例の概略構成を示した斜視図である。
例の概略構成を示した斜視図である。
【００２４】本発明の記録体である画像記録用ハロゲン
化銀写真感光材料のフィルム２が画像記録装置１の所定
位置にセットされる。この所定位置にセットされたフィ
ルム２は図示しない駆動手段により駆動されるフィルム
搬送手段３により、矢印Ｙ方向に搬送（副走査）され
る。一方、半導体レーザ４から発せられたレーザビーム
５が、モータ制御回路６によって回転制御されたモータ
７により駆動される、矢印Ｚ方向に高速回転する回転多
面鏡８によって反射偏向され、ｆθレンズ９を通過した
後ミラー１０により光路を変えてフィルム２に入射し副
走査の方向（矢印Ｙ方向）と略直角な矢印Ｘ方向に延び
る主走査線１１に沿って繰り返し主走査する。
化銀写真感光材料のフィルム２が画像記録装置１の所定
位置にセットされる。この所定位置にセットされたフィ
ルム２は図示しない駆動手段により駆動されるフィルム
搬送手段３により、矢印Ｙ方向に搬送（副走査）され
る。一方、半導体レーザ４から発せられたレーザビーム
５が、モータ制御回路６によって回転制御されたモータ
７により駆動される、矢印Ｚ方向に高速回転する回転多
面鏡８によって反射偏向され、ｆθレンズ９を通過した
後ミラー１０により光路を変えてフィルム２に入射し副
走査の方向（矢印Ｙ方向）と略直角な矢印Ｘ方向に延び
る主走査線１１に沿って繰り返し主走査する。
【００２５】この画像記録装置に入力された画像信号
は、乗算器１３で、パターン発生器１４からの周期的ム
ラ補正パターンと濃度変調パターンを乗算した信号Ｓ４
と乗算され、補正画像信号Ｓ１となる。駆動回路１２
は、モータ制御回路６から出力された主走査信号Ｓ２と
補正画像信号Ｓ１に基づいて、主走査と同期してレーザ
ビームの強度を変調するように、半導体レーザ４を制御
する。モータ制御回路６は、モータ７を回転制御するだ
けでなく、主走査信号Ｓ２，Ｓ３を発生する。パターン
発生器１４は、主走査信号Ｓ３に基づいて、主走査と同
期して、また、回転多面鏡８の回転と同期して、メモリ
１５に記憶されている周期的ムラ補正パターンと濃度変
調パターンを読み出し乗算し、乗算器１３に周期的ムラ
補正パターンと濃度変調パターンを乗算した信号Ｓ４を
送る。また、パターン発生器１４には周期的ムラ補正パ
ターンや濃度変調パターンを決定するために用いるオペ
レータからの入力手段としてキーボード１６が接続され
ている。
は、乗算器１３で、パターン発生器１４からの周期的ム
ラ補正パターンと濃度変調パターンを乗算した信号Ｓ４
と乗算され、補正画像信号Ｓ１となる。駆動回路１２
は、モータ制御回路６から出力された主走査信号Ｓ２と
補正画像信号Ｓ１に基づいて、主走査と同期してレーザ
ビームの強度を変調するように、半導体レーザ４を制御
する。モータ制御回路６は、モータ７を回転制御するだ
けでなく、主走査信号Ｓ２，Ｓ３を発生する。パターン
発生器１４は、主走査信号Ｓ３に基づいて、主走査と同
期して、また、回転多面鏡８の回転と同期して、メモリ
１５に記憶されている周期的ムラ補正パターンと濃度変
調パターンを読み出し乗算し、乗算器１３に周期的ムラ
補正パターンと濃度変調パターンを乗算した信号Ｓ４を
送る。また、パターン発生器１４には周期的ムラ補正パ
ターンや濃度変調パターンを決定するために用いるオペ
レータからの入力手段としてキーボード１６が接続され
ている。
【００２６】〔周期的ムラ補正パターン決定方法〕
〈Ａ１〉次に、周期的ムラ補正パターンを決める方法を
説明する。回転多面鏡８の１回転を１周期とした正弦波
を以下の式（１）で示す基本的周期的変調パターンｇ
（ｘ）とする。
説明する。回転多面鏡８の１回転を１周期とした正弦波
を以下の式（１）で示す基本的周期的変調パターンｇ
（ｘ）とする。
【００２７】
【数２】
【００２８】そして、この基本的周期的変調パターンの
位相δを変化させた上記式（２）で示す周期的変調パタ
ーンｈ（ｘ）をパターン発生器１４により発生させ、上
述の〔装置〕の説明における周期的ムラ補正パターンと
濃度変調パターンを乗算した信号の代わりに、周期的変
調パターン信号を乗算器１３に送り、また、画像信号と
して一定の値の画像信号を入力して、以下、上述の〔装
置〕と同様に画像記録し、テストフィルムを得る。
位相δを変化させた上記式（２）で示す周期的変調パタ
ーンｈ（ｘ）をパターン発生器１４により発生させ、上
述の〔装置〕の説明における周期的ムラ補正パターンと
濃度変調パターンを乗算した信号の代わりに、周期的変
調パターン信号を乗算器１３に送り、また、画像信号と
して一定の値の画像信号を入力して、以下、上述の〔装
置〕と同様に画像記録し、テストフィルムを得る。
【００２９】第１回目のテストフィルムの作成では、基
本的周期的変調パターンの所定の振幅ａ1の正弦波の位
相δを、所定の長さの副走査毎に所定の角度（例えば４
５°）ずつずらせて、パターン発生器１４が周期的変調
パターンを発生させる。
本的周期的変調パターンの所定の振幅ａ1の正弦波の位
相δを、所定の長さの副走査毎に所定の角度（例えば４
５°）ずつずらせて、パターン発生器１４が周期的変調
パターンを発生させる。
【００３０】〈Ａ２〉そして、オペレータはテストフィ
ルムを現像処理して、最もムラの消えているものを選択
する。そして、最もムラの消えている位相δをオペレー
タがキーボード１６から入力する。パターン発生器１４
はメモリ１５に入力された位相δを記憶させる。
ルムを現像処理して、最もムラの消えているものを選択
する。そして、最もムラの消えている位相δをオペレー
タがキーボード１６から入力する。パターン発生器１４
はメモリ１５に入力された位相δを記憶させる。
【００３１】例えば、図２では４番目の位相のもの（位
相を１３５°ずらせたもの）が最もムラが消えているも
のなので、オペレータが“４”とキーボード１６から入
力する。すると、パターン発生器１４はメモリ１５に入
力された位相（１３５°）を記憶させる。
相を１３５°ずらせたもの）が最もムラが消えているも
のなので、オペレータが“４”とキーボード１６から入
力する。すると、パターン発生器１４はメモリ１５に入
力された位相（１３５°）を記憶させる。
【００３２】〈Ａ３〉第二回目のテストフィルムの作成
では、メモリ１５に記憶されている位相δの正弦波でそ
の振幅ａ1を０から所定の割合（例えば０．４％）ず
つ、所定の長さの副走査毎に大きくして、パターン発生
器１４が周期的変調パターンを発生させる。
では、メモリ１５に記憶されている位相δの正弦波でそ
の振幅ａ1を０から所定の割合（例えば０．４％）ず
つ、所定の長さの副走査毎に大きくして、パターン発生
器１４が周期的変調パターンを発生させる。
【００３３】〈Ａ４〉そして、オペレータはテストフィ
ルムを現像処理して、テストフィルムを主走査方向で
前、中、後で３等分して、前、中、後の各部で最もムラ
の消えているものを選択する。そして、前、中、後の各
部で、最もムラの消えている振幅をオペレータがキーボ
ード１６から入力する。パターン発生器１４はメモリ１
５に入力さた振幅ａをそれぞれ記憶させる。
ルムを現像処理して、テストフィルムを主走査方向で
前、中、後で３等分して、前、中、後の各部で最もムラ
の消えているものを選択する。そして、前、中、後の各
部で、最もムラの消えている振幅をオペレータがキーボ
ード１６から入力する。パターン発生器１４はメモリ１
５に入力さた振幅ａをそれぞれ記憶させる。
【００３４】例えば、図２では、前部では５番目の振幅
のもの、中部、後部では４番目の振幅のものが最もムラ
が消えているものなので、オペレータが“５，４，４”
とキーボード１６から入力する。すると、パターン発生
器１４はメモリ１５に入力された前部の振幅（入力信号
の２％に相当する振幅：ａ1＝０．０２）、中部の振
幅、後部の振幅（いずれも、入力信号の１．６％に相当
する振幅：ａ1＝０．０１６）を記憶させる。
のもの、中部、後部では４番目の振幅のものが最もムラ
が消えているものなので、オペレータが“５，４，４”
とキーボード１６から入力する。すると、パターン発生
器１４はメモリ１５に入力された前部の振幅（入力信号
の２％に相当する振幅：ａ1＝０．０２）、中部の振
幅、後部の振幅（いずれも、入力信号の１．６％に相当
する振幅：ａ1＝０．０１６）を記憶させる。
【００３５】次に、パターン発生器１４はメモリ１５に
記憶されている補間演算プログラムにより、主走査方向
の振幅を補間演算し、振幅パターンを決定する。そし
て、メモリ１５に記憶されている位相の正弦波に振幅パ
ターンを乗算して、周期的ムラ補正パターンを演算し、
メモリ１５に記憶させる。こうすることにより、補正信
号の振幅の急激な変化によるムラの発生を防止できる。
記憶されている補間演算プログラムにより、主走査方向
の振幅を補間演算し、振幅パターンを決定する。そし
て、メモリ１５に記憶されている位相の正弦波に振幅パ
ターンを乗算して、周期的ムラ補正パターンを演算し、
メモリ１５に記憶させる。こうすることにより、補正信
号の振幅の急激な変化によるムラの発生を防止できる。
【００３６】〔濃度変調パターン決定方法〕
〈Ａ５〉次に、濃度変調パターンを決める方法を説明す
る。濃度変調パターンは周期的ムラ補正パターンを決め
た後に行う。濃度変調パターンを決めるためのテストフ
ィルムの作成では、パターン発生器１４から、周期的ム
ラ補正パターンを読み出し、所定の長さの副走査毎に所
定の割合（例えば１％）ずつバイアスレベルを低くした
周期的ムラ補正パターン信号を乗算器１３に送り、画像
信号として一定の値の画像信号を入力して、以下、前述
の〔装置〕と同様に画像記録し、テストフィルムを得
る。
る。濃度変調パターンは周期的ムラ補正パターンを決め
た後に行う。濃度変調パターンを決めるためのテストフ
ィルムの作成では、パターン発生器１４から、周期的ム
ラ補正パターンを読み出し、所定の長さの副走査毎に所
定の割合（例えば１％）ずつバイアスレベルを低くした
周期的ムラ補正パターン信号を乗算器１３に送り、画像
信号として一定の値の画像信号を入力して、以下、前述
の〔装置〕と同様に画像記録し、テストフィルムを得
る。
【００３７】〈Ａ６〉そして、オペレータはテストフィ
ルムを現像処理して、テストフィルムを主走査方向で
前、中、後で３等分して、前、中、後の各部の間で最も
濃度が等しい組み合わせを選択する。そして、その組み
合わせの前、中、後の各部のバイアスをオペレータがキ
ーボード１６から入力する。パターン発生器１４はメモ
リ１５に入力された各部のバイアスを記憶させる。
ルムを現像処理して、テストフィルムを主走査方向で
前、中、後で３等分して、前、中、後の各部の間で最も
濃度が等しい組み合わせを選択する。そして、その組み
合わせの前、中、後の各部のバイアスをオペレータがキ
ーボード１６から入力する。パターン発生器１４はメモ
リ１５に入力された各部のバイアスを記憶させる。
【００３８】例えば、前部の２番目と中部の７番目と後
部の４番目の組み合わせが最も濃度が等しいものだとす
ると、オペレータが“２，７，４”とキーボード１６か
ら入力する。すると、パターン発生器１４はメモリ１５
に入力された前部のバイアス（９９％）、中間のバイア
ス（９４％）、後部のバイアス（９７％）を記憶させ
る。
部の４番目の組み合わせが最も濃度が等しいものだとす
ると、オペレータが“２，７，４”とキーボード１６か
ら入力する。すると、パターン発生器１４はメモリ１５
に入力された前部のバイアス（９９％）、中間のバイア
ス（９４％）、後部のバイアス（９７％）を記憶させ
る。
【００３９】次に、パターン発生器１４はメモリ１５に
記憶されている補間演算プログラムにより、主走査方向
のバイアスを補間演算し、濃度変調パターンを決定す
る。そして、メモリ１５に記憶させる。
記憶されている補間演算プログラムにより、主走査方向
のバイアスを補間演算し、濃度変調パターンを決定す
る。そして、メモリ１５に記憶させる。
【００４０】なお、ここで決定した濃度変調パターンと
メモリ１５に記憶してある周期的ムラ補正パターンとを
各主走査位置のデータ毎に乗算し、記憶させ、〔装置〕
の説明における「メモリ１５に記憶されている周期的ム
ラ補正パターンと濃度変調パターンを読み出し、乗算
し、」の代わりに、そのパターンを読み出してもよい。
メモリ１５に記憶してある周期的ムラ補正パターンとを
各主走査位置のデータ毎に乗算し、記憶させ、〔装置〕
の説明における「メモリ１５に記憶されている周期的ム
ラ補正パターンと濃度変調パターンを読み出し、乗算
し、」の代わりに、そのパターンを読み出してもよい。
【００４１】又、実施例では触れなかったが、走査線方
向で、位相が異なる場合もある。この時も振幅を決めた
方法と同様に、各部で最もムラの消えているものを選択
し、補正パラメータを決定する。
向で、位相が異なる場合もある。この時も振幅を決めた
方法と同様に、各部で最もムラの消えているものを選択
し、補正パラメータを決定する。
【００４２】なお、周期的ムラ補正パターンの決定に際
して出力するテストフィルムの濃度は中間調濃度（例え
ば０．６〜２．０Ｄ程度）が望ましい。この濃度領域で
は、視覚特性上、及び記録媒体の濃度特性上、ムラが最
も視覚され易いからである。
して出力するテストフィルムの濃度は中間調濃度（例え
ば０．６〜２．０Ｄ程度）が望ましい。この濃度領域で
は、視覚特性上、及び記録媒体の濃度特性上、ムラが最
も視覚され易いからである。
【００４３】また、〈Ａ１〉〜〈Ａ４〉の順により、周
期的ムラ補正パターンを決定する理由を示す。
期的ムラ補正パターンを決定する理由を示す。
【００４４】「位相決定」→「振幅決定」の利点
工程において、補正をせずに中間調濃度で均一濃度のハ
ーフベタの画像を出力し、画像上にムラが発生していな
いか確認します。ムラの発生していないものは、次工程
に移ります。ムラの発生している画像を見ると、位相は
全く知ることができませんが、ムラの振幅はある程度わ
かります。ムラの見本と比較して、振幅を設定したうえ
で、補正パターンの位相を順次変え、ハーフベタ画像を
補正して出力します。すると、ムラの最も低減している
画像を選び出すことにより、確実に位相を決定すること
ができます。次に振幅を微調節すれば確実にムラを補正
するパターンを決定できます。
ーフベタの画像を出力し、画像上にムラが発生していな
いか確認します。ムラの発生していないものは、次工程
に移ります。ムラの発生している画像を見ると、位相は
全く知ることができませんが、ムラの振幅はある程度わ
かります。ムラの見本と比較して、振幅を設定したうえ
で、補正パターンの位相を順次変え、ハーフベタ画像を
補正して出力します。すると、ムラの最も低減している
画像を選び出すことにより、確実に位相を決定すること
ができます。次に振幅を微調節すれば確実にムラを補正
するパターンを決定できます。
【００４５】「振幅決定」→「位相決定」の欠点
逆に振幅を先に決めようと、位相が決まっていない段階
で振幅を順次変えた場合、位相が適正なものから１８０
度ずれている場合、ムラは、強調されるばかりで低減す
る箇所が現れず、適正な振幅を得られません。そのた
め、第二手順で位相を決めた後に再度振幅を求め直さな
ければならなくなり、効率が悪くなります。
で振幅を順次変えた場合、位相が適正なものから１８０
度ずれている場合、ムラは、強調されるばかりで低減す
る箇所が現れず、適正な振幅を得られません。そのた
め、第二手順で位相を決めた後に再度振幅を求め直さな
ければならなくなり、効率が悪くなります。
【００４６】
【発明の効果】請求項１、２の各項により、比較的安価
な回転多面鏡でもムラの影響を小さくするために、周期
的変調パターンの選択作業がシンプルな割りに、良好に
ムラの影響を低減できる。
な回転多面鏡でもムラの影響を小さくするために、周期
的変調パターンの選択作業がシンプルな割りに、良好に
ムラの影響を低減できる。
【００４７】請求項３、４の各項により、ムラの影響の
大きさが主走査方向で異なる場合でも、良好にムラの影
響を低減できる。
大きさが主走査方向で異なる場合でも、良好にムラの影
響を低減できる。
【００４８】請求項５、６の各項により、回転多面鏡に
よるムラを低減し、さらに主走査方向の濃度ムラの影響
を低減できる。
よるムラを低減し、さらに主走査方向の濃度ムラの影響
を低減できる。
【図１】実施例１の画像記録装置の概略構成を示す斜視
図。
図。
【図２】実施例の周期的ムラ補正パターンの決定方法及
びバイアスパターンの決定方法を示す図。
びバイアスパターンの決定方法を示す図。
２ フィルム
３ フィルム搬送装置
４ 半導体レーザ
５ レーザビーム
６ モータ制御回路
７ モータ
８ 回転多面鏡
９ ｆθレンズ
１０ 後ミラー
１１ 主走査線
１２ 駆動回路
１３ 乗算器
１４ パターン発生器
１５ メモリ
１６ キーボード
１７ 集光器
１８ 光電変換器
Claims (6)
- 【請求項１】 回転多面鏡の１回転を１周期とした周期
的ムラ補正パターンにより入力画像信号を変調し、変調
された入力画像信号により強度変調された光ビームを回
転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するととも
に、該記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略
垂直な方向に相対移動させることにより副走査する装置
の周期的ムラ補正パターンの決定方法において、 回転多面鏡の１回転を１周期とした基本的周期的変調パ
ターンの位相を変えた周期的変調パターンにより入力信
号を変調して出力し、ムラの小さい位相を選択し、 次に、選択された位相の周期的変調パターンの振幅を変
えた周期的変調パターンにより入力信号を変調して出力
し、ムラの小さい振幅を選択し、 周期的ムラ補正パターンを決定することを特徴とする方
法。 - 【請求項２】 前記装置が、 前記光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、 前記光ビームを反射偏向させ記録体上を主走査をさせる
回転多面鏡と、 前記記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略垂
直な方向に相対移動させる相対移動手段と、 前記周期的ムラ補正パターンを発生させるパターン発生
手段と、 前記周期的ムラ補正パターンにより入力画像信号を変調
させる変調手段と、 前記変調手段により変調された入力画像信号と前記回転
多面鏡の回転と同期する同期信号により、前記光ビーム
発生手段を制御して、光ビームを強度変調させる駆動手
段と、 を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 回転多面鏡の１回転を１周期とした周期
的ムラ補正パターンにより入力画像信号を変調し、変調
された入力画像信号により強度変調された光ビームを回
転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するととも
に、該記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略
垂直な方向に相対移動させることにより副走査する装置
において、 前記周期的ムラ補正パターンが周期的変調パターンを主
走査方向で振幅変調したものであることを特徴とする装
置。 - 【請求項４】 前記装置が、 前記光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、 前記光ビームを反射偏向させ記録体上を主走査をさせる
回転多面鏡と、 前記記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略垂
直な方向に相対移動させる相対移動手段と、 前記周期的ムラ補正パターンを発生させるパターン発生
手段と、 前記周期的ムラ補正パターンにより入力画像信号を変調
させる変調手段と、 前記変調手段により変調された入力画像信号と前記回転
多面鏡の回転と同期する同期信号により、前記光ビーム
発生手段を制御して、光ビームを強度変調させる駆動手
段と、 を有することを特徴とする請求項３に記載の装置。 - 【請求項５】 回転多面鏡の１回転を１周期とした周期
的ムラ補正パターンにより入力画像信号を変調し、変調
された入力画像信号により強度変調された光ビームを回
転多面鏡によって偏向して記録体上を主走査するととも
に、該記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略
垂直な方向に相対移動させることにより副走査する装置
において、 前記周期的ムラ補正パターンと、さらに主走査方向で異
なる濃度変調パターンによって入力画像信号を変調する
ものであることを特徴とする装置。 - 【請求項６】 前記装置が、 前記光ビームを発生させる光ビーム発生手段と、 前記光ビームを反射偏向させ記録体上を主走査をさせる
回転多面鏡と、 前記記録体を該光ビームに対して前記主走査方向と略垂
直な方向に相対移動させる相対移動手段と、 前記周期的ムラ補正パターンと濃度変調パターンを発生
させるパターン発生手段と、 前記周期的ムラ補正パターンと濃度変調パターンにより
入力画像信号を変調させる変調手段と、 前記変調手段により変調された入力画像信号と前記回転
多面鏡の回転と同期する同期信号により、前記光ビーム
発生手段を制御して、光ビームを強度変調させる駆動手
段と、を有することを特徴とする請求項５に記載の装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20238295A JP3496171B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ補正パターンの決定方法及び装置 |
| US08/681,920 US5845054A (en) | 1995-08-08 | 1996-07-29 | Method and apparatus for determining a correction pattern of periodical unevenness of an apparatus in which optical beams are reflected by a rotating polygonal mirror and scan a recording body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20238295A JP3496171B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ補正パターンの決定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0949973A JPH0949973A (ja) | 1997-02-18 |
| JP3496171B2 true JP3496171B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=16456578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20238295A Expired - Fee Related JP3496171B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | 光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的ムラ補正パターンの決定方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5845054A (ja) |
| JP (1) | JP3496171B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7367001B2 (en) * | 2004-12-02 | 2008-04-29 | International Business Machines Corporation | Method, system and computer program product for verification of digital designs using case-splitting via constrained internal signals |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5204759A (en) * | 1987-10-16 | 1993-04-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Image processing apparatus |
| EP0312301B1 (en) * | 1987-10-16 | 1994-04-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Image processing apparatus |
| JP2575849B2 (ja) * | 1988-11-14 | 1997-01-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像露光方法およびその装置 |
| JPH02237267A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置における濃度ムラ補正方法 |
| JPH0767561B2 (ja) * | 1990-07-18 | 1995-07-26 | 新日本製鐵株式会社 | 連続継手型形鋼の圧延方法 |
| JP2580933B2 (ja) * | 1992-04-10 | 1997-02-12 | キヤノン株式会社 | ジッター量測定手段を有した光走査装置 |
-
1995
- 1995-08-08 JP JP20238295A patent/JP3496171B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-07-29 US US08/681,920 patent/US5845054A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5845054A (en) | 1998-12-01 |
| JPH0949973A (ja) | 1997-02-18 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |