JP3465853B2 - ZnSeバルク単結晶の製造方法 - Google Patents

ZnSeバルク単結晶の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ZnSe系化合物の薄
膜をエピタキシャル成長させ、半導体レーザや発光ダイ
オード等の青色発光素子を構築するための基板に用いら
れる、双晶のないZnSeバルク単結晶の製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】ZnSeバルク単結晶を融液から製造す
る従来の方法としては、(1)例えばJ.Cryst.
Growth 75(1986)609ー612に示さ
れているように、成長開始部に細管を有する坩堝を使用
した通常の高圧溶融法、(2)J.Cryst.Gro
wth 98(1989)302ー308に示されてい
るように、Zn雰囲気下で育成を行う方法、(3)J.
Cryst.Growth 117(1992)75ー
79に示されているように、コーンアングル30度の坩
堝を使用した高圧溶融法、(4)J.Cryst.Gr
owth 117(1992)80ー84に示されてい
るように、”sealed hotーwalled s
ystem”と種結晶を用いる方法および(5)J.C
ryst.Growth 86(1988)132ー1
37に示されているように、ドーピングを行う方法がそ
の代表的なものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし前記のような従
来の技術においては、双晶の発生を防ぐことが最大の課
題とされているが、(1)および(2)においては双晶
の発生を検討しておらず、これらの中で双晶のないバル
ク単結晶の育成に成功しているものは(3)、(4)お
よび(5)である。ただし(3)には、通常の高圧溶融
法と大きく変わった点がなく、結果の再現性についても
触れられていない。(4)では、双晶のない単結晶(結
晶定径部より径の小さいもの)を種結晶に用い、(5)
では、不純物とも言えるMnを添加することになってい
る。従って、これらの従来の方法には次のような欠点が
あった。
【0004】(1)および(2)の方法では、双晶が発
生する。(3)の方法では、双晶の発生を防ぐ方法と結
果の再現性が明確にされていない。(4)の方法では、
種結晶である双晶のない単結晶の入手が極めて困難であ
る。(5)の方法では、ドーパントであるMnが基板特
性に与える影響が不明である。
【0005】本発明が解決しようとする課題は、ZnS
eバルク結晶を融液から製造する方法において、入手困
難な双晶のない単結晶を種結晶として用いたり、あるい
はドーパントを添加したりせずに、容易に入手できる材
料を用いて双晶のないバルク単結晶を再現性良く育成す
る方法を見いだすことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の発明者は、前記
の課題を解決するため鋭意実験を繰り返し、ZnSeの
結晶の成長過程を詳細に観察した結果、ZnSeバルク
結晶を融液から製造する際に、育成される結晶と同じ口
径を有する多結晶が存在する場合、該多結晶の上に双晶
のないバルク単結晶が得られること、また、通常の高圧
溶融法により育成した双晶のみを有する結晶を種結晶と
して用いた場合でも、原料を融解させる昇温の途中で該
種結晶がいったん多結晶に変換され、該多結晶の上に双
晶のないバルク単結晶が得られる現象を見いだし、本発
明を完成することができた。
【0007】すなわち本発明は、垂直ブリッジマン炉
(VB炉)または垂直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高
圧溶融法により、融液からZnSeバルク結晶を製造す
る方法であって、第1に、垂直ブリッジマン炉(VB
炉)または垂直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融
法により、融液からZnSeバルク結晶を製造する方法
において、育成される単結晶の口径と同一口径のZnS
e多結晶を種結晶として使用し、該種結晶の上に単結晶
を育成することによって双晶のない単結晶を得ることを
特徴とするZnSeバルク単結晶の製造方法を、第2
に、垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂直徐冷炉
(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融液からZ
nSeバルク結晶を製造する方法において、育成される
単結晶の口径と同一口径であって双晶のみを有するZn
Se結晶を種結晶として使用し、該種結晶が原料を融解
させる昇温の途中で変換した多結晶の上に単結晶を育成
することによって双晶のない単結晶を得ることを特徴と
するZnSeバルク単結晶の製造方法を、第3に、垂直
ブリッジマン炉(VB炉)または垂直徐冷炉(VGF
炉)を用いて、高圧溶融法により、融液からZnSeバ
ルク結晶を製造する方法において、育成される単結晶の
口径と同一口径のZnSe多結晶を種結晶として使用
し、原料および種結晶の一部を融解させた後該種結晶の
上に単結晶を育成することによって双晶のない単結晶を
得ることを特徴とするZnSeバルク単結晶の製造方法
を、第4に、垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂直
徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融液
からZnSeバルク結晶を製造する方法において、育成
される単結晶の口径と同一口径であって双晶のみを有す
るZnSe結晶を種結晶として使用し、原料を融解させ
る昇温の途中で該種結晶を多結晶に変換して、該原料お
よび該種結晶の一部を融解させた後該種結晶の上に単結
晶を育成することによって双晶のない単結晶を得ること
を特徴とするZnSeバルク単結晶の製造方法を、第5
に、垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂直徐冷炉
(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融液からZ
nSeバルク結晶を製造する方法において、ZnSe融
液からZnSe多結晶を育成し、いったん育成を止め
て、多結晶の一部を再び融解させた後、該多結晶上に単
結晶を育成することを特徴とするZnSeバルク単結晶
の製造方法を、第6に、多結晶の口径が育成される単結
晶の口径と同一である上記第5記載のZnSeバルク単
結晶の製造方法を提供するものである。
【0008】
【作用】本発明の製造方法は、結晶の育成条件によって
次の2種類に分類することができる。
【0009】ひとつの方法は、先ず予め育成したZnS
eの多結晶、あるいは双晶のみを有する結晶を種結晶と
して坩堝の底に配置し、その上にZnSe原料を装入
し、この坩堝を垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
直徐冷炉(VGF炉)内で窒素等の不活性ガス雰囲気の
下で融点以上の所定温度まで加熱し、原料および種結晶
の一部を融解させ、その後所定の速度で坩堝を低温域
(すなわち下方)に移動させて、種結晶の上に単結晶を
育成する方法(二段階法)である。
【0010】もうひとつの方法は、原料のみを装入した
坩堝を垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂直徐冷炉
(VGF炉)内で窒素等の不活性ガス雰囲気の下で融点
以上の所定温度まで加熱し、原料を融解させた後、比較
的速い速度で坩堝を下降させ、結晶先端部にのみ多結晶
を育成し、いったん育成を止めて多結晶の一部を再度融
解した後、所定の速度で坩堝を下降して単結晶を育成す
る方法(一段階法)である。
【0011】上記いずれの場合でも、種結晶または多結
晶の上に双晶のないバルク単結晶が良い再現性で育成さ
れる。
【0012】
【実施例1】実施例1において、次のような原料および
装置を使用した。
【0013】原料として、同和鉱業(株)中央研究所に
おいて気相法により製造された塊状の高純度ZnSe
(純度99.999%)を使用した。使用した炉は、垂
直ブリッジマン炉(雅慶電気製作所製高温高圧雰囲気電
気炉、型番:GHP−A202)である。坩堝として
は、窒化ホウ素を材質とし、38゜のコーンアングルと
35mmの長さを有する増径部および約30mmの内径
と35mmの長さを有する定径部から構成されるものを
使用した。
【0014】ZnSe単結晶の製造は次のような方法で
行った。予め育成した、増径部と長さ約5mm以上の定
径部とを有するZnSe多結晶を種結晶として前記坩堝
の底に配置し、その上に前記原料を装入した。該坩堝を
前記垂直ブリッジマン炉内の坩堝軸に取り付け、所定の
位置に設置した。炉内を窒素で置換した後、30kgf
/cm2 の圧力まで窒素を導入した(窒素の代わりに他
の不活性ガスを使用してもよい)。炉内温度を1550
℃(炉内最高温度)まで昇温し、この温度を5時間保持
し、坩堝内の原料および種結晶の一部(定径部の上端約
5mm)を融解した後、3ー5mm/hの速度で坩堝を
降下させて種結晶の上に結晶を育成した。融点付近の温
度勾配は約22℃/cmであった。溶融した原料がすべ
て充分に固化したところで坩堝の移動を止め、炉内の温
度を室温まで下げて、結晶を取りだした。その結果、種
結晶の上に、双晶のない単結晶を得ることができた。得
られたZnSe単結晶の口径と長さは、それぞれ約28
mmおよび約15mmであった。
【0015】
【実施例2】実施例1における種結晶を双晶のみを有す
るZnSe結晶に変えたこと以外は実施例1と同様の工
程を実施した結果、種結晶は多結晶に変換され、その上
に双晶のない単結晶を育成することができた。得られた
単結晶の口径および長さは、それぞれ約28mmおよび
約15mmであった。
【0016】
【実施例3】前記坩堝に前記原料のみを装入した。該坩
堝を前記垂直ブリッジマン炉内の坩堝軸に取り付け、所
定の位置に設置した。炉内を窒素で置換した後、30k
gf/cm2 の圧力まで窒素を導入した(窒素の代わり
に他の不活性ガスを使用してもよい)。炉内温度を16
30℃(炉内最高温度)まで昇温し、この温度を5時間
保持し、坩堝内の原料を融解した後、20mm/cm以
上の比較的速い速度で坩堝を降下させ、結晶先端部にの
み多結晶を育成した。長さ約5mmの定径部を有する多
結晶を育成した時点でいったん育成を止め、多結晶の一
部(定径部の上端約5mm)を再び溶融した後、引き続
き3ー5mm/hの速度で坩堝を降下させ、単結晶の育
成を行った。融点付近の温度勾配は約42℃/cmであ
った。溶融した原料がすべて充分に固化したところで坩
堝の移動を止め、炉内の温度を室温まで下げて、結晶を
取りだした。その結果、先端の多結晶上に双晶のない単
結晶を得ることができた。得られた単結晶の口径と長さ
は、それぞれ約20mmおよび約10mmであった。
【0017】なお、上記各実施例において垂直ブリッジ
マン炉(VB炉)に代えて垂直徐冷炉(VGF炉)を使
用しても本発明の方法が実施でき、同様の結果が得られ
ることは当業者にとって自明のことである。
【0018】
【比較例】例えば、J.Cryst.Growth 7
5(1986)609ー612に示されているように、
種結晶を使用しない通常の高圧溶融法で得られる結晶
は、常に(111)方向に多数の双晶を有する。
【0019】
【発明の効果】従来の製造方法では、種結晶として極め
て入手困難な双晶のない単結晶を使用したり、あるいは
基板特性に影響を与えるかも知れないドーパントを添加
する必要があったので、双晶のないZnSe単結晶を工
業的に製造するのは困難であったが、本発明の製造方法
によれば、種結晶として容易に育成可能な多結晶または
双晶のみを有する結晶を使用して、あるいは種結晶を使
用せずに、双晶のない高純度のZnSeバルク単結晶を
良い再現性で製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−51799(JP,A) 特開 昭57−156398(JP,A) 特開 昭62−202895(JP,A) 特開 昭63−139097(JP,A) 特開 昭63−260897(JP,A) 特開 平2−153891(JP,A) 特開 平3−40987(JP,A) 特開 平4−74788(JP,A) 特開 平7−101800(JP,A) Akira OMINO et a l., Bridgman growt h of ZnSe crystals with a PBN crucib le sealed in a mol ybdenum capsule,Jo urnal of Crystal G rowth,1992年 2月 2日,Vo l.117,Nos.1−4,pp.80− 84 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C30B 1/00 - 35/00 JSTPlus(JOIS)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
    直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融
    液からZnSeバルク結晶を製造する方法において、
    成される単結晶の口径と同一口径のZnSe多結晶を種
    結晶として使用し、該種結晶の上に単結晶を育成する
    とによって双晶のない単結晶を得ることを特徴とするZ
    nSeバルク単結晶の製造方法。
  2. 【請求項2】 垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
    直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融
    液からZnSeバルク結晶を製造する方法において、
    成される単結晶の口径と同一口径であって双晶のみを有
    するZnSe結晶を種結晶として使用し、該種結晶が原
    料を融解させる昇温の途中で変換した多結晶の上に単結
    晶を育成することによって双晶のない単結晶を得ること
    を特徴とするZnSeバルク単結晶の製造方法。
  3. 【請求項3】 垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
    直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融
    液からZnSeバルク結晶を製造する方法において、
    成される単結晶の口径と同一口径のZnSe多結晶を種
    結晶として使用し、原料および種結晶の一部を融解させ
    た後該種結晶の上に単結晶を育成することによって双晶
    のない単結晶を得ることを特徴とするZnSeバルク単
    結晶の製造方法。
  4. 【請求項4】 垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
    直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融
    液からZnSeバルク結晶を製造する方法において、
    成される単結晶の口径と同一口径であって双晶のみを有
    するZnSe結晶を種結晶として使用し、原料を融解さ
    せる昇温の途中で該種結晶を多結晶に変換して、該原料
    および該種結晶の一部を融解させた後該種結晶の上に単
    結晶を育成することによって双晶のない単結晶を得る
    とを特徴とするZnSeバルク単結晶の製造方法。
  5. 【請求項5】 垂直ブリッジマン炉(VB炉)または垂
    直徐冷炉(VGF炉)を用いて、高圧溶融法により、融
    液からZnSeバルク結晶を製造する方法において、Z
    nSe融液からZnSe多結晶を育成し、いったん育成
    を止めて、多結晶の一部を再び融解させた後、該多結晶
    上に単結晶を育成することを特徴とするZnSeバルク
    単結晶の製造方法。
  6. 【請求項6】 多結晶の口径が育成される単結晶の口径
    と同一である請求項5記載のZnSeバルク単結晶の製
    造方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5871580A (en) * 1994-11-11 1999-02-16 Japan Energy Corporation Method of growing a bulk crystal
JP3648703B2 (ja) * 2000-01-07 2005-05-18 株式会社日鉱マテリアルズ 化合物半導体単結晶の製造方法
TW555895B (en) * 2000-09-11 2003-10-01 Ii Vi Inc Single crystals of lead magnesium niobate-lead titanate
DE10124423A1 (de) * 2001-05-18 2003-01-02 Schott Glas Züchten von orientierten Einkristallen mit wiederverwendbaren Kristallkeimen
DE102009043002A1 (de) 2009-09-25 2011-04-07 Schott Ag Verwendung eines Fluoridflussmittels zur Kristallisation von Seltenerd-Aluminium-Granat aus einer Schmelze zur Herstellung optischer Elemente für die Mikrolithographie sowie von Szintillatoren
DE102009043003A1 (de) * 2009-09-25 2011-04-07 Schott Ag Herstellung von Seltenerd-Aluminium- oder -Gallium-Granat-Kristallen aus einer fluoridhaltigen Schmelze sowie ihre Verwendung als optisches Element für die Mirolithographie sowie als Szintillator
US10358739B2 (en) 2016-12-15 2019-07-23 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force Heteroepitaxial hydrothermal crystal growth of zinc selenide

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6313097A (ja) * 1986-07-04 1988-01-20 株式会社日立製作所 カ−ソル制御方法
JPH01231331A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Seisan Gijutsu Shinko Kyokai 半導体単結晶製造方法
JPH01232732A (ja) * 1988-03-14 1989-09-18 Seisan Gijutsu Shinko Kyokai 半導体結晶製造方法
JP2717256B2 (ja) * 1988-03-16 1998-02-18 社団法人生産技術振興協会 半導体結晶
US5169799A (en) * 1988-03-16 1992-12-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method for forming a doped ZnSe single crystal

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Akira OMINO et al., Bridgman growth of ZnSe crystals with a PBN crucible sealed in a molybdenum capsule,Journal of Crystal Growth,1992年 2月 2日,Vol.117,Nos.1−4,pp.80−84

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DE19502029A1 (de) 1995-07-27
US5554219A (en) 1996-09-10
JPH07206597A (ja) 1995-08-08

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