JP3454967B2 - X線診断装置およびx線像検出装置 - Google Patents
X線診断装置およびx線像検出装置Info
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Description
を電気信号に変換し、被検体のX線透過像を検出してX
線検出を行うX線診断装置に関する。
診断装置の構成の概要を示したものである。このX線診
断装置は、フィルムレス撮影を目的としたものであり、
次のようにして被検体のX線透過像をえている。X線源
(X線管303)からX線を被検体に曝射し、被検体を
透過して得たX線像をX線イメージインテンシファイア
(I.I.)305で増強した光学像に変換する。そし
て、複数のタンデムレンズからなる光学系306を用い
て光学像をテレビカメラ307で撮影し、制御部310
でサブストラクション処理などを行ってモニター323
で被検体のX線透過像を観察できるようになっている。
得るためには適度な線量でX線管303からX線を曝射
する必要がある。そのため、次のような方法でX線量の
制御が行われている。
の例を示したものであり、AEC(Automatic
Exposure Control)と知られている
方法である。被検体とフィルム324との間に配置され
たX線量検出用のセンサー325は、X線がある線量以
上になると信号を発生するものであり、この信号によっ
てX線制御部311はX線管303の管電流などを制限
し、X線の線量が一定になるようにしている。
影を目的とした場合に適用されるものであり、ABC
(Auto Brightness Control )としてと知られている方
法である。光学系306に光ガイド326を挿入して光
の一部を取り出し、光電子増倍管332で検出し、その
検出信号を増幅器333で増幅してX線制御部311に
与えるようになっている。この検出信号に応じてX線制
御部311はX線管303の管電流などを制御し、X線
の線量が一定になるようにフィードバック制御が行われ
ている。
線診断装置では糸まきひずみやシェーディング等の問題
点があり、これを改善するものとして固体の薄型平面X
線検出器が提案されている(Demonstration of megavol
tage and diagnostic x-rayimaging with hydrogenated
amorphous silicon arrays(Med Phys.19(6),Nov/Dec
1992 ;P.1455-1466)、特開昭61−62283「X線
/電気変換装置」、特開昭61−244176「デジタ
ルラジオグラフイ装置」等)。
器の代表的な構成例を示したものである。図14は、検
出器の1画素の断面図であり、図15は、検出器の回路
構成を示した図である。
出器101の各画素は、支持体136上にTFT(thin
film transistor)140及びpinフォトダイオード
(PD)150を1つ有し、これがマトリクス状に配置
され、これらの上方に蛍光体122を有するという構造
になっている。TFT140及びPD150は、CVD
法によってアモルファスシリコンで形成され、その支持
体136の材質としてはガラスなどを用いることができ
る。支持体136上にまずAlのゲート電極145のパ
ターンを形成し、その上にCVD法によってSiNx 膜
132を成膜している。SiNx 膜132上に、i−ア
モルファスシリコン(a−Si)膜148、n+ −アモ
ルファスシリコン(n+ a−Si)膜143,147を
形成してTFT140のチャネル領域148、TFT1
40のドレイン領域、ソース領域とし、Alのドレイン
電極142、ソース電極146のパターンが形成されて
いる。ソース電極146のパターン上には、PD150
のn+ a−Si層154、i−Si層153、p+ a−
Si層154を形成し、その上に透明電極126が形成
されている。各PD150は、Alの金属電極125で
接続され、共通のレベルにされる。
イミド樹脂124及び透明保護膜123でコーティング
され、その上にさらに蛍光体122が形成されている。
そして、蛍光体122上のX線の入射面には光反射層1
21が設けられている。
D150が1つの画素について1つづつ設けられてい
る。各PD150は、透明電極126を介してAlの金
属電極125で接続され、共通のレベルにされる。横方
向のシフトレジスタ170から順次TFT140のゲー
トに電圧を与えて順次オンにし、縦方向のシフトレジス
タ180から順次TFT190のゲートに電圧を与えて
順次オンにしていく、といういわゆるCCDと同じよう
な読みだし制御が成される。この読みだし制御によって
1画素づつ読み出されたPD150の電荷をチャージア
ンプ195で増幅し、X線像の1画素づつ順次読み出さ
れ増幅された信号をビデオ信号として出力するようにな
っている。
光に変換され、PD150で電荷に変換される。PD1
50でこの蛍光による光学像に応じて各画素の電荷が蓄
積され、TFT140によるスイッチで、蓄積された電
荷が外部に読み出されビデオ信号として出力される。
I.I.を用いたX線診断装置は、前述したように、一
定になるようにX線の線量を制御できるようになってい
るが、X線診断装置に薄型平面X線検出器を用いた場合
は、問題点が生じる。
は、センサーを検出器の前に配置しなければならないた
め、検出器の感度を落とすことになる。I.I.を用い
た場合のABC法は、検出器の感度低下は小さいがタン
デムレンズが必要であるため、X線診断装置に薄型平面
X線検出器を用いた場合では、適用できない。そこで、
本発明の目的は、固体の薄型平面X線検出器を用いたX
線診断装置において最適になるようにX線の線量を制御
できるようにすることにある。
に、本願の請求項1に記載の発明にかかるX線診断装置
は、被検体のX線透過像を撮影するX線診断装置におい
て、前記被検体に対してX線を曝射するX線源と、入射
面を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入射し
たX線から前記被検体のX線透過像に対応したビデオ信
号を出力するとともに当該入射X線の一部を前記入射面
に対向する背面を透過させるX線平面検出器と、このX
線平面検出器の前記背面から透過してきたX線を受けて
蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍光体膜から発せられた
蛍光を導く光ガイド系と、この光ガイド系により導かれ
た蛍光を受けて当該蛍光の量を検出する光検出器と、前
記蛍光体膜と前記光ガイド系との間に前記蛍光をマスク
するように介挿され且つ当該蛍光をマスクする範囲を変
更可能な光マスクとを有する検出手段と、この検出手段
の光検出器により検出された前記蛍光の量に応じて前記
X線源から曝射される前記X線の量を制御するとともに
前記光マスクにより前記蛍光がマスクされる範囲に応じ
て前記X線源から曝射される前記X線の条件制御を行う
X線制御部と、を備えたことを特徴とする。
診断装置は、被検体のX線透過像を撮影するX線診断装
置において、前記被検体に対してX線を曝射するX線源
と、入射面を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面
に入射したX線に応じて蛍光を発する蛍光体を有し、こ
の蛍光体が発した蛍光に応じて前記被検体のX線透過像
に対応したビデオ信号を出力するとともに前記蛍光体に
入射した前記X線の一部が前記入射面に対向する背面を
透過することを許容するX線平面検出器と、このX線平
面検出器の背面に接合状態で設けられ且つ遮光性を有す
る遮光膜と、この遮光膜の前記X線平面検出器とは反対
の面に接合状態で設けられ且つ前記X線平面検出器を透
過してきた前記X線の一部に応じて蛍光を発する蛍光体
膜と、この蛍光体膜から発せられた蛍光を導く光ガイド
系と、この光ガイド系により導かれた蛍光を受けて当該
蛍光の量を検出する光検出器と、前記蛍光体膜と前記光
ガイド系との間に介挿され且つ前記蛍光をマスクする光
マスクとを有する検出手段と、この検出手段の光検出器
により検出された前記蛍光の量に応じて前記X線源から
曝射される前記X線の量を制御するX線制御部と、を備
えたことを特徴とする。
るX線診断装置によれば、請求項1又は2に記載の構成
において、前記光ガイド系は、前記蛍光体膜から発せら
れた蛍光を集光する集光用光ガイドと、この集光用光ガ
イドで集光された蛍光を前記光検出器に導く光ファイバ
ーとを含んで構成されている。
かるX線診断装置によれば、請求項3に記載の構成にお
いて、前記X線平面検出器、前記蛍光体膜、および前記
検出手段の集光用光ガイドは、前記X線平面検出器の入
射面及び背面が向いている方向において同じ面積を有す
るように形成されている。
かるX線診断装置の場合、請求項2に記載の構成におい
て、前記光マスクは、前記蛍光をマスクする範囲を変更
可能な構成を有し、前記X線制御部は、前記光マスクに
より前記蛍光がマスクされる範囲に応じて前記X線源か
ら曝射される前記X線の条件制御を行うように構成され
る。また、本願の請求項6に記載の発明にかかるX線診
断装置の場合、請求項1〜5の何れか一項に記載の構成
において、前記X線平面検出器は、固体の薄型平面検出
器として構成されている。一方、前述した課題を解決す
るために、本願の請求項7に記載の発明は、被検体のX
線透過像に応じたビデオ信号を検出するX線像検出装置
において、入射面を有し且つ前記被検体を透過して当該
入射面に入射したX線に応じて蛍光を発する蛍光体を有
し、この蛍光体が発した蛍光に応じて前記ビデオ信号を
出力するとともに前記蛍光体に入射した前記X線の一部
が前記入射面に対向する背面を透過することを許容する
X線平面検出器と、このX線平面検出器の背面に接合状
態で設けられ且つ遮光性を有する遮光膜と、この遮光膜
の前記X線平面検出器とは反対の面に接合状態で設けら
れ且つ前記X線平面検出器を透過してきた前記X線の一
部に応じて蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍光体膜から
発せられた蛍光を導く光ガイド系と、この光ガイド系に
より導かれた蛍光を受けて当該蛍光の量を検出する光検
出器と、前記蛍光体膜と前記光ガイド系との間に介挿さ
れ且つ前記蛍光をマスクする光マスクとを有する検出手
段とを備え、前記検出手段の光検出器により検出された
前記蛍光の量に応じて、前記被検体に対して曝射される
前記X線の量をX線制御部に制御させるように構成した
ことを特徴とする。
装置によれば、X線平面検出器の入射面に入射したX線
の一部がその背面を透過し、このX線が検出手段により
X線透過量として検出される。このX線平面検出器の背
面を透過したX線量に応じてX線源から曝射するX線量
がX線制御部により制御されるので、X線平面検出器を
用いたX線診断装置においてもX線量が最適になる。こ
のX線量の最適制御において、光マスクの蛍光をマスク
する範囲は可変であって、X線制御部は、そのマスク範
囲に応じてX線の条件制御を行うので、撮影条件に合わ
せた良好なX線像を得ることができる。また、本願の請
求項2に記載の発明にかかるX線診断装置によれば、X
線平面検出器の入射面に入射したX線の一部がその背面
を透過し、このX線が検出手段の蛍光体膜によりX線透
過量として検出される。このX線平面検出器を透過した
X線量に応じてX線源から曝射するX線量がX線制御部
により制御されるので、X線平面検出器を用いたX線診
断装置においてもX線量が最適になる。このX線量の最
適制御において、遮光膜により、検出手段の蛍光体膜で
発生した光がX線平面検出器側に入り込んでノイズが発
生するという事態を確実に防止できる。また、このと
き、光マスクにより、不要な蛍光が光マスクされるの
で、X線量がより最適に制御される。
かるX線診断装置によれば、X線平面検出器、蛍光体
膜、及び集光用ガイドは同じ面積を有することから、散
乱線を均一にできるとともに、X線平面検出器の後方へ
のX線の遮蔽を兼ねることができる。
発明にかかるX線診断装置によれば、光マスクにより蛍
光がマスクされる範囲に応じてX線制御部によりX線の
条件制御がなされる。このため、撮影条件に合わせて、
より良好なX線像が得られる。
かかるX線診断装置によれば、X線平面検出が固体の薄
型平面検出器で構成されているときにおいても、上述し
た各種の作用が好適に得られる。一方、本願の請求項7
に記載の発明に係るX線像検出装置によれば、上述のX
線診断装置のときと同様に、X線平面検出器を透過した
X線が検出手段によりX線透過量として検出され、この
透過量がX線源から曝射するX線量の制御に供される。
これにより、曝射されるX線量の最適な制御に寄与す
る。このX線像検出装置を用いることにより、かかるX
線量の最適制御において、遮光膜により、蛍光体膜で発
生した光がX線平面検出器側に入り込んでノイズが発生
するという事態が確実に防止される。
前述の従来例と同一若しくは同等のものについては同一
の符号を用いるものとし、その説明を省略し若しくは簡
略化するものとする。
診断装置を示すブロック図であり、このX線診断装置
は、X線管303、制御部310、モニター323、X
線制御部311は前述の従来例と同等のものが用いられ
ているが、X線検出に前述した固体の薄型平面X線検出
器101を用い、その後ろ側にX線条件制御用の採光部
350と、採光部350につながれた光検出器332と
を有する点に特徴がある。そして、採光部350および
光検出器332がX線平面検出器101を透過したX線
を検出する手段を成し、X線制御部311にフィードバ
ックしX線平面検出器101を透過したX線量に応じて
X線源から曝射するX線量を制御している点に特徴があ
る。
射するためのX線源であり、そのX線強度はX線制御部
311からの電圧に応じて変化するようになっている。
X線制御部311は、図示せぬ操作パネルで設定した一
定の線量になるようにX線の制御を行うためのものであ
り、光電子増倍管332からの信号により線量が一定に
なるようにしている。また、X線制御部311には、後
述するように、採光部350の光マスク354のマスク
する範囲に応じた信号が与えられており、その範囲の面
積にあわせて一定の線量になるように制御している。
とを拡大して示したものである。X線平面検出器101
は、被検体のX線像を検出しビデオ信号として出力する
フラットパネルイメージャーであり、40cm四方程度の
大きさを有し、胸部一般撮影から外科用透視に至るまで
全X線診断に用いること可能であり、撮影条件により検
出器の稼働領域を変えてX線診断に用いられる。そし
て、X線検出器101は、光反射層121及び蛍光体1
22がX線の入射方向の側になるように配置されてい
る。符号160は、図14の符号123から132の光
センサー部を示す。また、符号156は図14の符号1
36と同様に支持体を示す。
背面側に配置され、X線検出器101の側から蛍光体膜
352、光マスク354、光ガイド系356a,356
bで構成されている。そして、採光部350のX線検出
器101の接合部分には遮光フィルム315が貼られて
おり、X線検出器101と採光部350との間で光が遮
断されるようになっている。これによって、蛍光体膜3
52で発生した光がX線検出器101側に入り込んでノ
イズが発生するのを防いでいる。
過したX線により蛍光を発するものであり、X線検出器
101のように光の位置検出を行うほどの感度を要しな
いことから、GOSを用いた増感紙で十分である。この
他に、例えばCsIなどを用いても良い。
蛍光のうち必要な部分の光のみを光ガイド356aに通
すためのものである。この実施例では、光マスク354
に液晶を用い、図3にしめす平面図のように5×5のマ
トリクス状のマスクとしている。そして、液晶コントロ
ーラ(図1符号354b)からの制御によりマスクする
範囲を撮影対象の大きさに合わせて変え、撮影条件に応
じて必要な部分の光だけを光ガイド356aに通すよう
に調節できるようにしている(図3は周辺部を遮光した
場合を示している)。尚、このマスク範囲は、オペレー
タの操作により決定するようにしても良い。この制御信
号はX線制御部311にも与えられている。なお、光マ
スク354は、液晶を用いていることからより細かいマ
トリクス状にすることが可能である。
ク354を通ってきた光を光検出器332に導くための
ものである。集光用光ガイド356aは光マスク354
を通ってきた光を一括して集めるためのものであり、そ
の材質としてアクリルやガラスなどの光を通すものであ
れば良い。また、光ガイド356bは、集められた光を
光検出器332に導くためのもので、光ファイバを用い
ている。図4は、光ガイド系356a,356bの構成
を示したものであり、1方向に集光できるように底面に
傾斜を持たせ、集光用光ガイド356aを厚くしないよ
うにしている。
いて集光用光ガイド356aの幅分につけるようにする
こともでき、また、集光用光ガイド356aを図6の形
状にすることもできる。さらに、図7のように光マスク
354のマトリクス別に光ガイド356a,356bを
設けるようにすることもできる。集光用光ガイド356
aの形状は、図8のように、1方向に傾斜した細かい傷
を入れたような構造にしても良い。また、感度が十分で
あれば、図9のように単純な直方体にしても良い。
354、集光用光ガイド356aは、面積がX線検出器
101と同じになるようにしている。これによって、X
線検出器101を透過したX線は、採光部350によっ
て散乱線を発生し、採光部350があるかないかで散乱
線の発生が異なるのであるが、この散乱線の不均一さが
取り除かれ、均一なものになる。また、これらのもの
は、X線検出器101の後方へのX線の遮蔽も兼ねるこ
とになる。
フォトダイオードを用いることができるが、この実施例
では、光電子増倍管を用い、その検出信号を増幅器33
3で増幅してX線制御部311に与えている。
採光部350の光マスク354のマスクする範囲に応じ
た信号が与えられている。光マスク354のそのマスク
する範囲によって集光用光ガイド356aに入射する光
量が違い、光検出器332の検出出力も異なってくる。
そのため、光検出器332の検出出力を単にフィードバ
ックしてX線の条件制御を行うと、マスクによって光量
が減少した場合、X線量を増加させ得られる画像は明る
すぎるものとなってしまう。これに対し、本実施例で
は、そのマスクする範囲の面積に応じた上記信号が与え
られることによって、X線制御部311は、そのマスク
する範囲の面積の変化にかかわらず一定の線量になるよ
うに制御している。すなわち、X線照射領域、検出器の
稼働領域といったX線撮影条件を設定したときに、光マ
スク354のマスクする範囲が決まるのであるが、この
マスクされた領域の面積をX線制御部311にフィード
バックさせている。そして、その採光領域で得られる光
量におけるX線量の最適条件を設定する。X線制御部3
11では、例えば、光マスク354によって採光面が小
さくなれば、X線量の最適条件を決める光量も小さくす
るように制御し、採光面が大きくなれば、X線量の最適
条件を決める光量も大きくするように制御する。
X線管303からX線制御部311により制御された線
量のX線が照射され、被検体を透過したX線がX線平面
検出器101に入射する。この入射X線は、まず、X線
平面検出器101の蛍光体層122で光に変換され、そ
の光は光センサー部160のPD150によって検知さ
れ、図15に示したように、画素ごとに読み出され、被
検体のX線透過像はビデオ信号としてX線平面検出器1
01から検出され出力される。そして、制御部310で
サブストラクション処理などを行ってモニター323で
被検体のX線透過像を撮影できるようになっている。
X線は、すべてが蛍光体層122で光に変換されるので
はなく一部は、蛍光体層122、光センサー部160、
支持体156、すなわちX線平面検出器101を透過す
る。このX線平面検出器101を透過したX線は、採光
部350の蛍光体膜352で光に変換される。蛍光体膜
352からの蛍光は、光マスク354で一部が遮蔽され
て、集光用光ガイド356aに入射する。そして、この
入射した光は光ファイバー354bに導かれて光検出器
332で電流に変換され、増幅器333で増幅してX線
制御部311に与えられる。この電流に応じて、X線制
御部311は、X線管303のX線が適正な一定の線量
になるようにX線管303の照射を制御する。これによ
って、過大な被爆や失敗撮影を防ぐことができる。
被検体を通らなかったものもあり、これが採光部350
の蛍光体膜352に入射するのであるが、マスクしなか
った場合その部分の光量が多くなり、その情報がフィー
ドバックされてX線量を抑えることになる。しかし、こ
の実施例の装置では、光マスク354によって不要な蛍
光が光ガイド356aに入射することが押さえられ、す
なわち被検体を通らなかったX線がマスクされるので、
良好なX線像が得られる。しかも、マスクする範囲を調
節可能であるので、胸部一般撮影から外科用透視に至る
まで全X線診断に応じて、撮影条件に合わせて良好なX
線像が得られる。また、撮影条件により検出器の稼働領
域を変えて撮影する範囲をX線診断中に変えたとして
も、撮影条件に応じた良好なX線像が得られる。とく
に、関心領域を絞り込んで見るような場合には有効であ
る。
断装置において、光マスク354によって不要な部分の
X線を等価的に取り除くため、画質が一定となるので、
撮影などの精度が上がると共に、照射するX線量を最適
化して行うのでX線曝射量が減少する。また、自動でX
線量を制御するため、オペレータの負担が軽減する。こ
うして、X線撮影を最適条件で行うことができる。ま
た、採光部350の蛍光体膜352、光マスク354、
集光用光ガイド356aをX線平面検出器101と同じ
面積にするため、後方散乱の影響が均一になり、画質の
劣化を防ぐことができる。また、X線量の制御に用いる
採光部を、平面検出器の後方に設けたので、採光部の影
響による画像の劣化がない。また、後方散乱の遮蔽にな
り、X線を防護することができる。
する。図10は、本発明の第2の実施例に係るX線診断
装置を示すブロック図であり、このX線診断装置は、上
記第1実施例と同等の構成を有するが、採光部350の
光マスク354が固定になっている点に特徴がある。
検出器101の中心付近を主に使用することが多いと思
われるので、光マスク354は、図3のような中心付近
を開口部としてマスク領域外とし、マスク領域固定にし
ている。この光マスク354材質としては遮光フィルム
(315と同様)などを用いることができる。
あるのでマスク領域を変えるためのコントローラは不要
である。X線制御部311は、光マスク354のマスク
領域で得られる光量におけるX線量の最適条件を設定す
るようにフィードバック制御を行う。
る点を除いて上記第1実施例と同じ動作をし、X線管3
03のX線が適正な一定の線量になるようにX線管30
3の照射を制御するので、過大な被爆や失敗撮影を防ぐ
ことができる。マスク領域固定であることから柔軟性に
欠ける点はあるかもしれないが、上記第1実施例よりも
若干構成は簡単であるという利点がある。
数有する場合、集光用光ガイドごとに光検出器を配置
し、光検出器の出力を切り替えることにより等価的にマ
スク領域を可変にすることが可能になる。この場合、第
1実施例と同等である。
有する場合、光ファイバーごとに光検出器を配置し、光
検出器の出力を切り替えることにより等価的にマスク領
域を可変にすることが可能になる。
線診断装置によれば、X線平面検出器の入射面に入射し
たX線の一部がその背面を透過し、このX線が検出手段
の蛍光体膜によりX線透過量として検出される。このX
線平面検出器を透過したX線量に応じてX線源から曝射
するX線量がX線制御部により制御されるので、X線平
面検出器を用いたX線診断装置においてもX線量が最適
になる。このX線量の最適制御において、光マスクの蛍
光をマスクする範囲に応じてX線の条件制御を行うの
で、撮影条件に合わせた良好なX線像を得ることができ
る。また、本願の請求項2に記載の発明にかかるX線診
断装置によれば、X線平面検出器の入射面に入射したX
線の一部がその背面を透過し、このX線が検出手段の蛍
光体膜によりX線透過量として検出される。このX線平
面検出器を透過したX線量に応じてX線源から曝射する
X線量がX線制御部により制御されるので、X線平面検
出器を用いたX線診断装置においてもX線量が最適にな
る。このX線量の最適制御において、遮光膜により、検
出手段の蛍光体膜で発生した光がX線平面検出器側に入
り込んでノイズが発生するという事態を確実に防止する
ことができる。また、このとき、光マスクにより、不要
な蛍光が光マスクされるので、X線量がより最適に制御
される。
かるX線診断装置によれば、X線平面検出器、蛍光体
膜、及び集光用ガイドは同じ面積を有することから、散
乱線を均一にできるとともに、X線平面検出器の後方へ
のX線の遮蔽を兼ねることができる。
発明にかかるX線診断装置によれば、光マスクにより蛍
光がマスクされる範囲に応じてX線の条件制御がなされ
る。このため、撮影条件に合わせて、より良好なX線像
が得られる。
かかるX線診断装置によれば、X線平面検出器が固体の
薄型平面検出器であっても、上述した作用効果を発揮す
ることができる。一方、請求項7に記載の発明にかかる
X線像検出装置によれば、X線平面検出器の背面を透過
したX線の一部が検出手段によりX線透過量として検出
され、このX線透過量がX線源の曝射制御に供されるこ
とから、このX線平面検出器を用いたX線診断装置にお
いて、曝射されるX線量が最適に制御される。このX線
量の最適制御において、遮光膜により、検出手段の蛍光
体膜で発生した光がX線平面検出器側に入り込んでノイ
ズが発生するという事態が確実に防止される。
すブロック図。
示した図。
示すブロック図。
の概要を示した図。
図。
図。
X線制御部、332 光検出器、 350 採光部、
351 遮光フィルム 352 蛍光体膜、 354 光マスク、 356a
集光用光ガイド、356b 光ファイバ、
Claims (7)
- 【請求項1】 被検体のX線透過像を撮影するX線診断
装置において、前記被検体に対してX線を 曝射するX線源と、入射面を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入
射したX線から前記被検体のX線透過像に対応した ビデ
オ信号を出力するとともに当該入射X線の一部を前記入
射面に対向する背面を透過させるX線平面検出器と、 このX線平面検出器の前記背面から透過してきたX線を
受けて蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍光体膜から発せ
られた蛍光を導く光ガイド系と、この光ガイド系により
導かれた蛍光を受けて当該蛍光の量を検出する光検出器
と、前記蛍光体膜と前記光ガイド系との間に前記蛍光を
マスクするように介挿され且つ当該蛍光をマスクする範
囲を変更可能な光マスクとを有する検出手段と、 この検出手段の光検出器により検出された前記蛍光の量
に応じて前記X線源から曝射される前記X線の量を制御
するとともに前記光マスクにより前記蛍光がマスクされ
る範囲に応じて前記X線源から曝射される前記X線の条
件制御を行うX線制御部と、を備えたことを特徴とする
X線診断装置。 - 【請求項2】 被検体のX線透過像を撮影するX線診断
装置において、前記被検体に対してX線を 曝射するX線源と、入射面を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入
射したX線に応じて蛍光を発する蛍光体を有し、この蛍
光体が発した蛍光に応じて前記被検体のX線透過像に対
応したビデオ信号を出力するとともに前記蛍光体に入射
した前記X線の一部が前記入射面に対向する背面を透過
することを許容する X線平面検出器と、このX線平面検出器の背面に接合状態で設けられ且つ遮
光性を有する遮光膜と、 この遮光膜の前記X線平面検出器とは反対の面に接合状
態で設けられ且つ前記X線平面検出器を透過してきた前
記X線の一部に応じて蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍
光体膜から発せられた蛍光を導く光ガイド系と、この光
ガイド系により導かれた蛍光を受けて当該蛍光の量を検
出する光検出器と、前記蛍光体膜と前記光ガイド系との
間に介挿され且つ前記蛍光をマスクする光マスクとを有
する検出手段と、 この検出手段の光検出器により検出された前記蛍光の量
に応じて前記X線源から曝射される前記X線の量を制御
するX線制御部と、を備えたことを 特徴とするX線診断
装置。 - 【請求項3】 前記光ガイド系は、前記蛍光体膜から発
せられた蛍光を集光する集光用光ガイドと、この集光用
光ガイドで集光された蛍光を前記光検出器に導く光ファ
イバーとを含んで構成されることを特徴とする請求項1
又は2記載のX線診断装置。 - 【請求項4】 前記X線平面検出器、前記蛍光体膜、お
よび前記検出手段の集光用光ガイドは、前記X線平面検
出器の入射面及び背面が向いている方向において同じ面
積を有するように形成したことを特徴とする請求項3記
載のX線診断装置。 - 【請求項5】 前記光マスクは、前記蛍光をマスクする
範囲を変更可能な構成を有し、 前記X線制御部は、前記光マスクにより前記蛍光がマス
クされる範囲に応じて前記X線源から曝射される前記X
線の条件制御を行うように構成したことを特徴とする請
求項2記載のX線診断装置。 - 【請求項6】 前記X線平面検出器は、固体の薄型平面
検出器として構成したことを特徴とする請求項1〜5の
何れか一項に記載のX線診断装置。 - 【請求項7】 被検体のX線透過像に応じたビデオ信号
を検出するX線像検出装置において、入射面を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入
射したX線に応じて蛍光を発する蛍光体を有し、この蛍
光体が発した蛍光に応じて前記ビデオ信号を出力すると
ともに前記蛍光体に入射した前記X線の一部が前記入射
面に対向する背面を透過することを許容する X線平面検
出器と、このX線平面検出器の背面に接合状態で設けられ且つ遮
光性を有する遮光膜と、 この遮光膜の前記X線平面検出器とは反対の面に接合状
態で設けられ且つ前記X線平面検出器を透過してきた前
記X線の一部に応じて蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍
光体膜から発せられた蛍光を導く光ガイド系と、この光
ガイド系により 導かれた蛍光を受けて当該蛍光の量を検
出する光検出器と、前記蛍光体膜と前記光ガイド系との
間に介挿され且つ前記蛍光をマスクする光マスクとを有
する検出手段とを備え、 前記検出手段の光検出器により検出された前記蛍光の量
に応じて、前記被検体に対して曝射される前記X線の量
をX線制御部に制御させるように構成したことを特徴と
するX線像検出装置。
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ID=14400032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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-
1995
- 1995-04-28 JP JP10516395A patent/JP3454967B2/ja not_active Expired - Lifetime
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