JP3535842B2

JP3535842B2 - Ｘ線像検出装置

Info

Publication number: JP3535842B2
Application number: JP2001085705A
Authority: JP
Inventors: 雅行西木; 学田中
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2001-03-23
Filing date: 2001-03-23
Publication date: 2004-06-07
Anticipated expiration: 2019-06-07
Also published as: JP2001305232A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線を被検体に曝射し
て得られるＸ線透過像を検出するＸ線像検出装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図１１は、従来から用いられているＸ線
診断装置の構成の概要を示したものである。このＸ線診
断装置は、フィルムレス撮影を目的としたものであり、
次のようにして被検体のＸ線透過像を得ている。Ｘ線源
（Ｘ線管３０３）からＸ線を被検体に曝射し、被検体を
透過して得たＸ線像をＸ線イメージインテンシファイア
（Ｉ．Ｉ．）３０５で増強した光学像に変換する。そし
て、複数のタンデムレンズからなる光学系３０６を用い
て光学像をテレビカメラ３０７で撮影し、制御部３１０
でサブストラクション処理などを行って、モニター３２
３で被検体のＸ線透過像を観察できるようになってい
る。

【０００３】このようなＸ線診断装置では、最適な像を
得るためには適度な線量でＸ線管３０３からＸ線を曝射
する必要がある。そのため、次のような方法でＸ線量の
制御が行われている。

【０００４】図１２は、フィルム撮影を目的とした場合
の例を示したものであり、ＡＥＣ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ
ＥｘｐｏｓｕｒｅＣｏｎｔｒｏｌ）と知られている
方法である。被検体とフィルム３２４との間に配置され
たＸ線量検出用のセンサー３２５は、Ｘ線がある線量以
上になると信号を発生するものであり、この信号によっ
てＸ線制御部３１１はＸ線管３０３の管電流などを制限
し、Ｘ線の線量が一定になるようにしている。

【０００５】図１３は、図１１で示したフィルムレス撮
影を目的とした場合に適用されるものであり、ＡＢＣ
（ＡｕｔｏＢｒｉｇｈｔｎｅｓｓＣｏｎｔｒｏｌ）
として知られている方法である。光学系３０６に光ガイ
ド３２６を挿入して光の一部を取り出し、光電子増倍管
３３２でその光を電気量の信号として検出し、その検出
信号を増幅器３３３で増幅してＸ線制御部３１１に与え
るようになっている。この検出信号に応じてＸ線制御部
３１１はＸ線管３０３の管電流などを制御し、これによ
り、Ｘ線の線量が一定になるようにフィードバック制御
が行われている。

【０００６】また、上述したようなＩ．Ｉ．を用いたＸ
線診断装置では糸まき歪やシェーディング等の問題点が
あり、これを改善するものとして固体の薄型平面Ｘ線検
出器が提案されている（Ｄｅｍｏｎｓｔｒａｔｉｏｎ
ｏｆｍｅｇａｖｏｌｔａｇｅａｎｄｄｉａｇｎｏ
ｓｔｉｃｘ−ｒａｙｉｍａｇｉｎｇｗｉｔｈｈ
ｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄａｍｏｒｐｈｏｕｓｓｉｌ
ｉｃｏｎａｒｒａｙｓ（ＭｅｄＰｈｙｓ．１９
（６），Ｎｏｖ／Ｄｅｃ１９９２；Ｐ．１４５５−１
４６６）、特開昭６１−６２２８３「Ｘ線／電気変換装
置」、特開昭６１−２４４１７６「デジタルラジオグラ
フイ装置」などを参照）。

【０００７】図１４及び１５は、その薄型平面Ｘ線検出
器の代表的な構成例を示したものである。図１４は、検
出器の１画素の断面図であり、図１５は、検出器の回路
構成を示した図である。

【０００８】図１４に示すように、この薄型平面Ｘ線検
出器１０１の各画素は、支持体１３６上にＴＦＴ（ｔｈ
ｉｎｆｉｌｍｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）１４０及びｐ
ｉｎフォトダイオード（ＰＤ）１５０を１つ有し、これ
がマトリクス状に配置され、これらの上に蛍光体１２２
を有するという構造になっている。ＴＦＴ１４０及びＰ
Ｄ１５０は、ＣＶＤ法によってアモルファスシリコンで
形成され、その支持体１３６の材質としてはガラスなど
を用いることができる。支持体１３６上にまずＡｌのゲ
ート電極１４５のパターンを形成し、その上にＣＶＤ法
によってＳｉＮｘ膜１３２を成膜している。ＳｉＮｘ膜
１３２上に、ｉ−アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）膜
１４８、ｎ＋−アモルファスシリコン（ｎ＋ａ−Ｓｉ）
膜１４３，１４７を形成してＴＦＴ１４０のチャネル領
域１４８、ＴＦＴ１４０のドレイン領域、ソース領域と
し、Ａｌのドレイン電極１４２、ソース電極１４６のパ
ターンが形成されている。ソース電極１４６のパターン
上には、ＰＤ１５０のｎ＋ａ−Ｓｉ層１５４、ｉ−Ｓｉ
層１５３、ｐ＋ａ−Ｓｉ層１５４を形成し、その上に透
明電極１２６が形成されている。各ＰＤ１５０は、Ａｌ
の金属電極１２５で接続され、共通のレベルにされる。

【０００９】ＴＦＴ１４０及びＰＤ１５０の上方はポリ
イミド樹脂１２４及び透明保護膜１２３でコーティング
され、その上にさらに蛍光体１２２が形成されている。
そして、蛍光体１２２上のＸ線の入射面には光反射層１
２１が設けられている。

【００１０】図１５に示すように、ＴＦＴ１４０及びＰ
Ｄ１５０が１つの画素について１つずつ設けられてい
る。各ＰＤ１５０は、透明電極１２６を介してＡｌの金
属電極１２５で接続され、共通のレベルにされる。横方
向のシフトレジスタ１７０から順次ＴＦＴ１４０のゲー
トに電圧を与えて順次オンにし、縦方向のシフトレジス
タ１８０から順次ＴＦＴ１９０のゲートに電圧を与えて
順次オンにするという、いわゆるＣＣＤと同じような読
みだし制御がなされる。この読みだし制御によって１画
素ずつ読み出されたＰＤ１５０の電荷をチャージアンプ
１９５で増幅する。これにより、Ｘ線像の１画素ずつ順
次読み出されて増幅された信号をビデオ信号として出力
されるようになっている。

【００１１】検出器に入射するＸ線はまず蛍光体で可視
光に変換され、ＰＤ１５０で電荷に変換される。ＰＤ１
５０でこの蛍光による光学像に応じて各画素の電荷が蓄
積され、ＴＦＴ１４０によるスイッチにより、蓄積され
た電荷が外部に読み出されてビデオ信号として出力され
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】フィルム撮影の場合や
Ｉ．Ｉ．を用いたＸ線診断装置は、前述したように、一
定になるようにＸ線の線量を制御できるようになってい
るが、Ｘ線診断装置に薄型平面Ｘ線検出器を用いた場合
は、問題点が生じる。

【００１３】例えば、フィルム撮影の場合のＡＥＣ法で
は、センサーを検出器の前に配置しなければならないた
め、検出器の感度を落とすことになる。Ｉ．Ｉ．を用い
た場合のＡＢＣ法は、検出器の感度低下は小さいが、タ
ンデムレンズが必要である。このため、Ｘ線診断装置に
薄型平面Ｘ線検出器を用いた場合では、かかるＡＢＣ法
を適用することはできない。

【００１４】そこで、本発明の目的は、固体の薄型平面
Ｘ線検出器を用いたＸ線診断装置において、曝射するＸ
線の線量を最適に制御することができるＸ線像検出装置
を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に記載の発明によれば、Ｘ線源から曝射さ
れ且つ被検体を透過したＸ線によるＸ線透過像に応じた
ビデオ信号を検出する一方で、前記Ｘ線源から曝射され
るＸ線の量を当該Ｘ線の量に対応した蛍光の量に応じて
制御するとともに、前記Ｘ線源から曝射されるＸ線を当
該蛍光がマスクされる範囲に応じて条件制御するように
したＸ線像検出装置に用いられるＸ線像検出装置におい
て、前記Ｘ線源から曝射されたＸ線を入射させる入射面
を有し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入射した
Ｘ線から前記Ｘ線透過像に対応した前記ビデオ信号を出
力するとともに、当該入射Ｘ線の一部を、前記入射面に
対向する背面を透過させるＸ線平面検出器と、このＸ線
平面検出器の前記背面から透過してきたＸ線を受けて蛍
光を発する蛍光体膜と、この蛍光体膜から発せられた蛍
光を導く光ガイド系と、この光ガイド系により導かれた
蛍光を受けて前記Ｘ線の量の制御に供する前記蛍光の量
を検出する光検出器と、前記条件制御のために前記蛍光
体膜と前記光ガイド系との間に前記蛍光をマスクするよ
うに介挿され且つ当該蛍光をマスクする範囲を変更可能
な光マスクとを有する検出手段と、を備えたことを特徴
とする。

【００１６】好適には、請求項２に記載の発明のよう
に、前記光ガイド系は、前記蛍光体膜から発せられた蛍
光を集光する集光用光ガイドと、この集光用光ガイドで
集光された蛍光を前記光検出器に導く光ファイバーとを
備えていてもよい。

【００１７】さらに、請求項３に記載の発明のように、
前記Ｘ線平面検出器、前記蛍光体膜、及び集光用光ガイ
ドは、前記Ｘ線平面検出器の入射面及び背面に対向する
方向において同一面積を有するように形成してもよい。

【００１８】

【作用】請求項１〜３に記載の発明にかかるＸ線像検出
装置によれば、Ｘ線平面検出器により、被検体のＸ線透
過像に対応したビデオ信号が出力されるとともに、当該
検出器への入射Ｘ線の一部が、入射面に対向する背面を
透過して出力される。この透過Ｘ線は検出手段に入射し
て、蛍光に変換された後、マスク範囲可変の光マスクを
介して蛍光の量として検出される。この蛍光の量を表す
情報は、Ｘ線診断装置に設けられているＸ線制御部によ
って実行されるＸ線制御に供される。すなわち、Ｘ線制
御部により、蛍光の量に応じて、Ｘ線源から曝射される
Ｘ線の量が制御される。これとともに、Ｘ線制御部によ
って、光マスクにより蛍光がマスクされる範囲に応じ
て、Ｘ線診断装置のＸ線源から曝射されるＸ線の条件制
御が実行される。このため、本願発明に係るＸ線像検出
装置を用いたＸ線診断装置において、曝射されるＸ線量
を最適に制御することができる。

【００１９】

【実施例】本発明の実施例を、図面を参照して説明す
る。前述の従来例と同一若しくは同等のものについては
同一の符号を用いるものとし、その説明を省略し若しく
は簡略化するものとする。

【００２０】図１は、本発明の第１の実施例に係るＸ線
診断装置を示すブロック図であり、このＸ線診断装置で
は、Ｘ線管３０３、制御部３１０、モニター３２３、Ｘ
線制御部３１１は前述の従来例と同等のものが用いられ
ているが、Ｘ線検出に前述した固体の薄型平面Ｘ線検出
器１０１を用い、その後ろ側にＸ線条件制御用の採光部
３５０と、採光部３５０につながれた光検出器３３２と
を有する点に特徴がある。そして、採光部３５０および
光検出器３３２がＸ線平面検出器１０１を透過したＸ線
を検出する手段を成し、Ｘ線制御部３１１にフィードバ
ックしＸ線平面検出器１０１を透過したＸ線量に応じて
Ｘ線源から曝射するＸ線量を制御している点に特徴があ
る。

【００２１】Ｘ線管３０３は、Ｘ線を被検体に対して曝
射するためのＸ線源であり、そのＸ線強度はＸ線制御部
３１１からの電圧に応じて変化するようになっている。
Ｘ線制御部３１１は、図示せぬ操作パネルで設定した一
定の線量になるようにＸ線の制御を行うためのものであ
り、光電子増倍管３３２からの信号により線量が一定に
なるようにしている。また、Ｘ線制御部３１１には、後
述するように、採光部３５０の光マスク３５４のマスク
する範囲に応じた信号が与えられており、その範囲の面
積にあわせて一定の線量になるように制御している。

【００２２】図２は、Ｘ線検出器１０１と採光部３５０
とを拡大して示したものである。Ｘ線平面検出器１０１
は、被検体のＸ線像を検出しビデオ信号として出力する
フラットパネルイメージャーであり、４０ｃｍ四方程度
の大きさを有し、胸部一般撮影から外科用透視に至るま
で全Ｘ線診断に用いること可能であり、撮影条件により
検出器の稼働領域を変えてＸ線診断に用いられる。そし
て、Ｘ線検出器１０１は、光反射層１２１及び蛍光体１
２２がＸ線の入射方向の側になるように配置されてい
る。符号１６０は、図１４の符号１２５から１３２の光
センサー部を示す。

【００２３】採光部３５０は、Ｘ線平面検出器１０１の
背面側に配置され、Ｘ線検出器１０１の側から蛍光体膜
３５２、光マスク３５４、光ガイド系３５６ａ，３５６
ｂで構成されている。そして、採光部３５０のＸ線検出
器１０１の接合部分には遮光フィルム３１５が貼られて
おり、Ｘ線検出器１０１と採光部３５０との間で光が遮
断されるようになっている。これによって、蛍光体膜３
５２で発生した光がＸ線検出器１０１側に入り込んでノ
イズを発生させることを防いでいる。

【００２４】蛍光体膜３５２は、Ｘ線検出器１０１を通
過したＸ線により蛍光を発するものであり、Ｘ線検出器
１０１のように光の位置検出を行うほどの感度を要しな
いことから、ＧＯＳを用いた増感紙で十分である。この
他に、例えばＣｓＩなどを用いても良い。

【００２５】光マスク３５４は、蛍光体膜３５２からの
蛍光のうち必要な部分の光のみを光ガイド３５６ａに通
すためのものである。この実施例では、光マスク３５４
に液晶を用い、図３に示す平面図のように５×５のマト
リクス状のマスクとしている。そして、液晶コントロー
ラ（図１符号３５４ｂ）からの制御によりマスクする範
囲を撮影対象の大きさに合わせて変え、撮影条件に応じ
て必要な部分の光だけを光ガイド３５６ａに通すように
調節できるようにしている（図３は周辺部を遮光した場
合を示している）。なお、このマスク範囲は、オペレー
タの操作により決定するようにしても良い。この制御信
号はＸ線制御部３１１にも与えられている。なお、光マ
スク３５４は、液晶を用いていることから、より細かい
マトリクス状にすることが可能である。

【００２６】光ガイド系３５６ａ，３５６ｂは、光マス
ク３５４を通ってきた光を光検出器３３２に導くための
ものである。集光用光ガイド３５６ａは光マスク３５４
を通ってきた光を一括して集めるためのものであり、そ
の材質としてアクリルやガラスなどの光を通すものであ
れば良い。また、光ガイド３５６ｂは、集められた光を
光検出器３３２に導くためのもので、光ファイバを用い
ている。図４は、光ガイド系３５６ａ，３５６ｂの構成
を示したものであり、１方向に集光できるように底面に
傾斜を持たせ、集光用光ガイド３５６ａを厚くしないよ
うにしている。

【００２７】また、図５に示すように、光ファイバを複
数本用いて集光用光ガイド３５６ａの幅の分に設けるよ
うにすることもでき、また、集光用光ガイド３５６ａ
を、図６に示す形状にすることもできる。さらに、図７
に示すように、光マスク３５４のマトリクス別に光ガイ
ド３５６ａ，３５６ｂを設けるようにすることもでき
る。集光用光ガイド３５６ａの形状は、図８に示すよう
に、１方向に傾斜した細かい傷を入れたような構造にし
ても良い。また、感度が十分であれば、図９に示すよう
に単純な直方体にしても良い。

【００２８】採光部３５０の蛍光体膜３５２、光マスク
３５４、及び集光用光ガイド３５６ａは、面積がＸ線検
出器１０１と同じになるようにしている。これによっ
て、Ｘ線検出器１０１を透過したＸ線は、採光部３５に
よって散乱線を発生し、採光部３５が在るか否かで散乱
線の発生が異なるのであるが、この散乱線の不均一さが
取り除かれ、均一なものになる。また、これらの要素
は、Ｘ線検出器１０１の後方へのＸ線の遮蔽も兼ねるこ
とになる。

【００２９】光検出器３３２としては、光電子増倍管や
フォトダイオードを用いることができるが、この実施例
では、光電子増倍管を用い、その検出信号を増幅器３３
３で増幅してＸ線制御部３１１に与えている。

【００３０】Ｘ線制御部３１１には、後述するように、
採光部３５０の光マスク３５４のマスクする範囲に応じ
た信号が与えられている。光マスク３５４のそのマスク
する範囲によって集光用光ガイド３５６ａに入射する光
量が違い、光検出器３３２の検出出力も異なってくる。
そのため、光検出器３３２の検出出力を単にフィードバ
ックしてＸ線の条件制御を行うと、マスクによって光量
が減少した場合、Ｘ線量を増加させ得られる画像は明る
すぎるものとなってしまう。これに対し、本実施例で
は、そのマスクする範囲の面積に応じた上記信号が与え
られる。これによって、Ｘ線制御部３１１は、そのマス
クする範囲の面積の変化にかかわらず、一定の線量にな
るように制御している。すなわち、Ｘ線照射領域、検出
器の稼働領域といったＸ線撮影条件を設定したときに、
光マスク３５４のマスクする範囲が決まるのであるが、
このマスクされた領域の面積をＸ線制御部３１１にフィ
ードバックさせている。そして、その採光領域で得られ
る光量におけるＸ線量の最適条件を設定する。Ｘ線制御
部３１１では、例えば、光マスク３５４によって採光面
が小さくなれば、Ｘ線量の最適条件を決める光量も小さ
くするように制御し、採光面が大きくなれば、Ｘ線量の
最適条件を決める光量も大きくするように制御する。

【００３１】次に、この装置の動作に付いて説明する。
Ｘ線管３０３からＸ線制御部３１１により制御された線
量のＸ線が照射され、被検体を透過したＸ線がＸ線平面
検出器１０１に入射する。この入射Ｘ線は、まず、Ｘ線
平面検出器１０１の蛍光体層１２２で光に変換され、そ
の光は光センサー部１６０のＰＤ１５０によって検知さ
れ、図１５に示したように、画素ごとに読み出される。
このため、被検体のＸ線透過像はビデオ信号としてＸ線
平面検出器１０１から検出され、出力される。そして、
制御部３１０でサブストラクション処理などを行ってモ
ニター３２３で被検体のＸ線透過像を撮影できるように
なっている。

【００３２】ここで、Ｘ線平面検出器１０１に入射した
Ｘ線は、すべてが蛍光体層１２２で光に変換されるので
はなく、その一部は、蛍光体層１２２、光センサー部１
６０、及び支持体１３６、すなわちＸ線平面検出器１０
１を透過する。このＸ線平面検出器１０１を透過したＸ
線は、採光部３５０の蛍光体膜３５２で光に変換され
る。蛍光体膜３５２からの蛍光は、光マスク３５４で一
部が遮蔽されて、集光用光ガイド３５６ａに入射する。
そして、この入射した光は光ファイバ３５４ｂに導かれ
て光検出器３３２で電流に変換され、増幅器３３３で増
幅してＸ線制御部３１１に与えられる。この電流に応じ
て、Ｘ線制御部３１１は、Ｘ線管３０３のＸ線が適正な
一定の線量になるようにＸ線管３０３の照射を制御す
る。これによって、過大な被爆や失敗撮影を防ぐことが
できる。

【００３３】Ｘ線平面検出器１０１を通過するＸ線には
被検体を通らなかったものもあり、これが採光部３５０
の蛍光体膜３５２に入射するのであるが、マスクしなか
った場合、その部分の光量が多くなり、その情報がフィ
ードバックされてＸ線量を抑えることになる。しかし、
この実施例の装置では、光マスク３５４を設けているた
め、不要な蛍光が光ガイド３５６ａに入射するという事
態の発生を防止又は抑制できる。すなわち被検体を通ら
なかったＸ線がマスクされるので、良好なＸ線像が得ら
れる。しかも、マスクする範囲を調節可能であるので、
胸部一般撮影から外科用透視に至るまで全Ｘ線診断に応
じて、撮影条件に合わせて良好なＸ線像が得られる。ま
た、Ｘ線診断中に、撮影条件により検出器の稼働領域を
変えることで撮影する範囲を変えたとしても、撮影条件
に応じた良好なＸ線像が得られる。とくに、関心領域を
絞り込んで見るような場合には有効である。

【００３４】この様に、Ｘ線平面検出器を用いたＸ線診
断装置において、光マスク３５４によって不要な部分の
Ｘ線を等価的に取り除くため、画質が一定となるので、
撮影などの精度が上がると共に、照射するＸ線量を最適
化して行うのでＸ線曝射量が減少する。また、自動でＸ
線量を制御するため、オペレータの負担が軽減する。こ
うして、Ｘ線撮影を最適条件で行うことができる。ま
た、採光部３５０の蛍光体膜３５２、光マスク３５４、
及び集光用光ガイド３５６ａをＸ線平面検出器１０１と
同じ面積にするため、後方散乱の影響が均一になり、画
質の劣化を防ぐことができる。また、Ｘ線量の制御に用
いる採光部を、平面検出器の後方に設けたので、採光部
の影響による画像の劣化がない。また、後方散乱の遮蔽
になり、Ｘ線を防護することができる。

【００３５】次に、本発明の第２の実施例について説明
する。図１０は、本発明の第２の実施例に係るＸ線診断
装置を示すブロック図であり、このＸ線診断装置は、上
記第１実施例と同等の構成を有するが、採光部３５０の
光マスク３５４が固定になっている点に特徴がある。

【００３６】撮影や透視といったモードでは、Ｘ線平面
検出器１０１の中心付近を主に使用することが多いと思
われるので、光マスク３５４は、図３のような中心付近
を開口部としてマスク領域外とし、マスク領域固定にし
ている。この光マスク３５４の材質としては遮光フィル
ム（前述した遮光フィルム３１５と同様）などを用いる
ことができる。

【００３７】このＸ線診断装置では、マスク領域固定で
あるので、マスク領域を変えるためのコントローラは不
要である。Ｘ線制御部３１１は、光マスク３５４のマス
ク領域で得られる光量におけるＸ線量の最適条件を設定
するようにフィードバック制御を行う。

【００３８】このＸ線診断装置は、マスク領域固定であ
る点を除いて上記第１実施例と同じ動作をし、Ｘ線管３
０３のＸ線が適正な一定の線量になるようにＸ線管３０
３の照射を制御するので、過大な被爆や失敗撮影を防ぐ
ことができる。本第２実施例では、マスク領域固定であ
ることから柔軟性に欠ける点はあるかもしれないが、上
記第１実施例よりも若干構成は簡単であるという利点が
ある。

【００３９】なお、図７に示したように、集光用光ガイ
ドを複数有する場合、集光用光ガイドごとに光検出器を
配置し、光検出器の出力を切り替えることにより等価的
にマスク領域を可変にすることが可能になる。この場
合、第１実施例と同等である。

【００４０】また、図５に示したように、光ファイバを
複数有する場合、光ファイバ毎に光検出器を配置し、光
検出器の出力を切り替えることにより等価的にマスク領
域を可変にすることが可能になる。

【００４１】

【発明の効果】本願発明にかかるＸ線像検出装置によれ
ば、以上のように構成され且つ機能することから、その
Ｘ線平面検出器により、被検体のＸ線透過像に対応した
ビデオ信号が出力されるとともに、当該検出器への入射
Ｘ線の一部が、入射面に対向する背面を透過して出力さ
れる。この透過Ｘ線は検出手段に入射して、蛍光に変換
された後、マスク範囲可変の光マスクを介して蛍光の量
として検出される。この蛍光の量を表す情報は、Ｘ線診
断装置に設けられているＸ線制御部によって実行される
Ｘ線制御に供される。すなわち、Ｘ線制御部により、蛍
光の量に応じて、Ｘ線源から曝射されるＸ線の量が制御
される。これとともに、Ｘ線制御部によって、光マスク
により蛍光がマスクされる範囲に応じて、Ｘ線診断装置
のＸ線源から曝射されるＸ線の条件制御が実行される。
このため、本願発明に係るＸ線像検出装置を用いたＸ線
診断装置において、曝射されるＸ線量を最適に制御する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係るＸ線診断装置を示
すブロック図。

【図２】Ｘ線検出器１０１と採光部３５０とを拡大して
示した図。

【図３】光マスクの平面図。

【図４】光ガイド系の構成を示した図。

【図５】光ガイド系の構成を示した図。

【図６】光ガイド系の構成を示した図。

【図７】光ガイド系の構成を示した図。

【図８】光ガイド系の構成を示した図。

【図９】光ガイド系の構成を示した図。

【図１０】本発明の第２の実施例に係るＸ線診断装置を
示すブロック図。

【図１１】従来から用いられているＸ線診断装置の構成
の概要を示した図。

【図１２】適度な線量でＸ線を曝射する方法の例を示す
図。

【図１３】適度な線量でＸ線を曝射する方法の例を示す
図。

【図１４】平面Ｘ線検出器の断面図。

【図１５】平面Ｘ線検出器の回路構成を示した図。

【符号の説明】

１０１Ｘ線平面検出器３０３Ｘ線管３１１Ｘ線制御部３３２光検出器３５０採光部３５１遮光フィルム３５２蛍光体膜３５４光マスク３５６ａ集光用光ガイド３５６ｂ光ファイバ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61B 6/00 - 6/14 H05G 1/64 G01T 1/20

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｘ線源から曝射され且つ被検体を透過し
たＸ線によるＸ線透過像に応じたビデオ信号を検出する
一方で、前記Ｘ線源から曝射されるＸ線の量を当該Ｘ線
の量に対応した蛍光の量に応じて制御するとともに、前
記Ｘ線源から曝射されるＸ線を当該蛍光がマスクされる
範囲に応じて条件制御するようにしたＸ線像検出装置に
用いられるＸ線像検出装置において、前記Ｘ線源から曝射されたＸ線を入射させる入射面を有
し且つ前記被検体を透過して当該入射面に入射したＸ線
から前記Ｘ線透過像に対応した前記ビデオ信号を出力す
るとともに、当該入射Ｘ線の一部を、前記入射面に対向
する背面を透過させるＸ線平面検出器と、このＸ線平面検出器の前記背面から透過してきたＸ線を
受けて蛍光を発する蛍光体膜と、この蛍光体膜から発せ
られた蛍光を導く光ガイド系と、この光ガイド系により
導かれた蛍光を受けて前記Ｘ線の量の制御に供する前記
蛍光の量を検出する光検出器と、前記条件制御のために
前記蛍光体膜と前記光ガイド系との間に前記蛍光をマス
クするように介挿され且つ当該蛍光をマスクする範囲を
変更可能な光マスクとを有する検出手段と、を備えたこ
とを特徴とするＸ線像検出装置。
【請求項２】前記光ガイド系は、前記蛍光体膜から発
せられた蛍光を集光する集光用光ガイドと、この集光用
光ガイドで集光された蛍光を前記光検出器に導く光ファ
イバーとを備えたことを特徴とする請求項１に記載のＸ
線像検出装置。
【請求項３】前記Ｘ線平面検出器、前記蛍光体膜、及
び集光用光ガイドは、前記Ｘ線平面検出器の入射面及び
背面に対向する方向において同一面積を有するように形
成したことを特徴とする請求項２に記載のＸ線像検出装
置。