JP3451641B2 - タイルの施釉方法及びその施釉装置 - Google Patents
タイルの施釉方法及びその施釉装置Info
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C5/002—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the work consisting of separate articles
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タイル素地の表面に釉
薬を施すためのタイルの施釉方法及びその施釉装置に関
し、詳しくはタイルの施釉面に凹凸模様を形成するもの
である。
薬を施すためのタイルの施釉方法及びその施釉装置に関
し、詳しくはタイルの施釉面に凹凸模様を形成するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来より、装飾性を高めるために、タイ
ルの施釉面に凹凸を形成する技術が知られている。この
方法として、タイル素地自体の表面をプレス成形により
凹凸に形成するプレス成形方法、スクリーン印刷により
施釉面を凹凸に形成するスクリーン印刷方法、スプレー
やディスクモットルにより釉薬を飛散させて散布する散
布方法等がある。
ルの施釉面に凹凸を形成する技術が知られている。この
方法として、タイル素地自体の表面をプレス成形により
凹凸に形成するプレス成形方法、スクリーン印刷により
施釉面を凹凸に形成するスクリーン印刷方法、スプレー
やディスクモットルにより釉薬を飛散させて散布する散
布方法等がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法によると各種の問題がある。すなわち、プレス成形
方法では、凹凸を形成するために特殊な金型を必要とす
るだけでなく、その凹凸の変化に乏しく、また、スクリ
ーン印刷方法では、複数のスクリーンを必要とし工程が
複雑になる上に、その工程の際に一時的にラインを止め
るので生産性がよくなく、さらに、スプレー方法等で
は、ほぼ同じタイル模様を形成することが難しく、タイ
ルを施工した際の模様の調和に欠けるという問題があっ
た。
方法によると各種の問題がある。すなわち、プレス成形
方法では、凹凸を形成するために特殊な金型を必要とす
るだけでなく、その凹凸の変化に乏しく、また、スクリ
ーン印刷方法では、複数のスクリーンを必要とし工程が
複雑になる上に、その工程の際に一時的にラインを止め
るので生産性がよくなく、さらに、スプレー方法等で
は、ほぼ同じタイル模様を形成することが難しく、タイ
ルを施工した際の模様の調和に欠けるという問題があっ
た。
【０００４】本発明は、上記従来の技術の問題を解決す
るものであり、タイルの施釉面に、自然な変化であり、
かつ調和性を有する筋状の模様を簡単に形成できるタイ
ルの施釉装置及びその施釉装置を提供することを目的と
する。
るものであり、タイルの施釉面に、自然な変化であり、
かつ調和性を有する筋状の模様を簡単に形成できるタイ
ルの施釉装置及びその施釉装置を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項１の発明は、タイル素地を所定の搬送
方向に搬送しつつ、該タイル素地の表面に、上記搬送方
向と交差するタイルの幅方向に配置されたスリットから
釉薬を流出させて凹凸状の施釉面を形成するためのタイ
ルの施釉方法において、上記スリットの開口面積を上記
幅方向に異にするように形成された鋸形、楔形または波
形の先端部を有する整流板を用いて、タイル素地の表面
に向けて流出する釉薬の量を異なるようにして上記施釉
面を形成すること、を特徴とする。
になされた請求項１の発明は、タイル素地を所定の搬送
方向に搬送しつつ、該タイル素地の表面に、上記搬送方
向と交差するタイルの幅方向に配置されたスリットから
釉薬を流出させて凹凸状の施釉面を形成するためのタイ
ルの施釉方法において、上記スリットの開口面積を上記
幅方向に異にするように形成された鋸形、楔形または波
形の先端部を有する整流板を用いて、タイル素地の表面
に向けて流出する釉薬の量を異なるようにして上記施釉
面を形成すること、を特徴とする。
【０００６】請求項２の発明は、タイル素地の表面に、
凹凸状の施釉面を形成するためのタイルの施釉方法にお
いて、タイル素地を所定の搬送方向へ搬送しつつ、タイ
ル素地の表面に釉薬を幕掛けした後、鋸形である先端部
を有する除去板を用いて、上記先端部をタイル施釉面に
接触させて該タイル施釉面を部分的にかつ連続的又は断
続的に除去することを特徴とする。
凹凸状の施釉面を形成するためのタイルの施釉方法にお
いて、タイル素地を所定の搬送方向へ搬送しつつ、タイ
ル素地の表面に釉薬を幕掛けした後、鋸形である先端部
を有する除去板を用いて、上記先端部をタイル施釉面に
接触させて該タイル施釉面を部分的にかつ連続的又は断
続的に除去することを特徴とする。
【０００７】請求項３の発明は、タイル素地の表面に、
凹凸状の施釉面を形成するための施釉装置において、タ
イル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段と、該搬
送手段の上方に設置され、搬送方向と交差するタイルの
幅方向に設けられたスリットを有し、該スリットから釉
薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に施釉する
釉薬掛け手段と、上記スリットの付近に固定された整流
板と、 を備え、 上記整流板は、上記幅方向で該スリット
の開口面積を異にする鋸形、楔形または波形である先端
部を備え、該先端部でスリットの一部を塞ぐことによ
り、上記タイルの幅方向における釉薬の流出量が異なる
ように構成したことを特徴とする。
凹凸状の施釉面を形成するための施釉装置において、タ
イル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段と、該搬
送手段の上方に設置され、搬送方向と交差するタイルの
幅方向に設けられたスリットを有し、該スリットから釉
薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に施釉する
釉薬掛け手段と、上記スリットの付近に固定された整流
板と、 を備え、 上記整流板は、上記幅方向で該スリット
の開口面積を異にする鋸形、楔形または波形である先端
部を備え、該先端部でスリットの一部を塞ぐことによ
り、上記タイルの幅方向における釉薬の流出量が異なる
ように構成したことを特徴とする。
【０００８】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、上記整流板の先端部は、上記楔形または波形の高さ
が異なるように形成されているものである。
て、上記整流板の先端部は、上記楔形または波形の高さ
が異なるように形成されているものである。
【０００９】請求項５の発明は、請求項３又は請求項４
において、上記整流板は、上記スリットの外側から開口
面積を変えるように配置した構成である。
において、上記整流板は、上記スリットの外側から開口
面積を変えるように配置した構成である。
【００１０】請求項６の発明は、施釉位置付近の搬送手
段又は釉薬掛け手段に、該搬送手段又は釉薬掛け手段を
振動させる振動手段を設けた構成である。
段又は釉薬掛け手段に、該搬送手段又は釉薬掛け手段を
振動させる振動手段を設けた構成である。
【００１１】請求項７の発明は、タイル素地の表面に、
凹凸状の施釉面を形成するためのタイルの施釉装置にお
いて、タイル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段
と、該搬送手段の上方に設置され、搬送方向と交差する
タイルの幅方向に設けられたスリットを有し、該スリッ
トから釉薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に
施釉する釉薬掛け手段と、上記タイル表面に釉薬が幕掛
けされる位置から僅かに搬送方向の位置に設けられ、タ
イル施釉面に部分的に接触して、上記タイル表面に施釉
された釉薬を部分的にかつ連続的又は断続的に接触して
除去する除去板を有する釉薬除去手段と、上記除去板
は、タイル施釉面に接触する先端部の形状が鋸形である
こと、を特徴とする。
凹凸状の施釉面を形成するためのタイルの施釉装置にお
いて、タイル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段
と、該搬送手段の上方に設置され、搬送方向と交差する
タイルの幅方向に設けられたスリットを有し、該スリッ
トから釉薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に
施釉する釉薬掛け手段と、上記タイル表面に釉薬が幕掛
けされる位置から僅かに搬送方向の位置に設けられ、タ
イル施釉面に部分的に接触して、上記タイル表面に施釉
された釉薬を部分的にかつ連続的又は断続的に接触して
除去する除去板を有する釉薬除去手段と、上記除去板
は、タイル施釉面に接触する先端部の形状が鋸形である
こと、を特徴とする。
【００１２】
【作用】本発明の請求項１に係るタイルの施釉方法で
は、タイルを所定の搬送方向へ搬送しつつ、タイル素地
の表面に、釉薬量がタイルの幅方向で部分的に異なるよ
うに幕掛けすることにより、タイル表面には搬送方向に
筋状の凹凸模様が形成される。
は、タイルを所定の搬送方向へ搬送しつつ、タイル素地
の表面に、釉薬量がタイルの幅方向で部分的に異なるよ
うに幕掛けすることにより、タイル表面には搬送方向に
筋状の凹凸模様が形成される。
【００１３】請求項２に係るタイルの施釉方法では、タ
イル素地の表面に釉薬が施された後に、該タイル素地上
の釉薬を除去板で部分的にかつ連続的又は断続的に接触
して除去することにより、タイル表面には搬送方向に筋
状の凹凸模様が形成される。
イル素地の表面に釉薬が施された後に、該タイル素地上
の釉薬を除去板で部分的にかつ連続的又は断続的に接触
して除去することにより、タイル表面には搬送方向に筋
状の凹凸模様が形成される。
【００１４】また、請求項３では、請求項１の方法を好
適に実現する施釉装置の構成であり、搬送手段によって
タイルを搬送しつつ、該搬送手段の上方に設置された釉
薬掛け手段のスリットから流し出される釉薬をタイル表
面に施すことにより、タイル表面に施釉面を形成する。
このとき、スリットは、整流板の先端部の形状により搬
送方向と交差する方向であるタイルの幅方向への釉薬の
流出量が異なるような間隙に形成されている。したがっ
て、タイル素地は、タイルの幅方向で釉薬の量が異なる
ように施釉されつつ搬送手段で搬送されるから、タイル
表面には、搬送方向に筋状の凹凸模様が形成される。
適に実現する施釉装置の構成であり、搬送手段によって
タイルを搬送しつつ、該搬送手段の上方に設置された釉
薬掛け手段のスリットから流し出される釉薬をタイル表
面に施すことにより、タイル表面に施釉面を形成する。
このとき、スリットは、整流板の先端部の形状により搬
送方向と交差する方向であるタイルの幅方向への釉薬の
流出量が異なるような間隙に形成されている。したがっ
て、タイル素地は、タイルの幅方向で釉薬の量が異なる
ように施釉されつつ搬送手段で搬送されるから、タイル
表面には、搬送方向に筋状の凹凸模様が形成される。
【００１５】請求項４の発明では、請求項３の整流板の
好適な態様である。
好適な態様である。
【００１６】請求項５は、整流板の取付位置の好適な態
様である。請求項６では、搬送手段の施釉位置部分又は
釉薬掛け手段を振動させながらタイル表面への釉薬の量
を不均一に施すことにより、それぞれタイル表面に筋状
の模様を形成する。
様である。請求項６では、搬送手段の施釉位置部分又は
釉薬掛け手段を振動させながらタイル表面への釉薬の量
を不均一に施すことにより、それぞれタイル表面に筋状
の模様を形成する。
【００１７】請求項７では、釉薬が施された直後に、釉
薬除去手段の除去板の先端部がタイル施釉面に部分的に
接触して、該タイルに施釉された釉薬を部分的に除去す
ることにより、タイル表面に搬送方向に筋状の凹凸模様
が形成される。
薬除去手段の除去板の先端部がタイル施釉面に部分的に
接触して、該タイルに施釉された釉薬を部分的に除去す
ることにより、タイル表面に搬送方向に筋状の凹凸模様
が形成される。
【００１８】
【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の好適な実施例について説
明する。
かにするために、以下本発明の好適な実施例について説
明する。
【００１９】図１ないし図３は本発明の一実施例に係る
タイル施釉装置を示す。これらの図において、タイル施
釉装置１０は、タイル素地ＴB を搬送方向ａへ搬送する
搬送機構２０と、タイル素地ＴB に釉薬を幕掛けする幕
掛け装置４０と、幕掛け装置４０に釉薬を供給する釉薬
供給機構８０（図２参照）と、を主要な構成としてい
る。
タイル施釉装置を示す。これらの図において、タイル施
釉装置１０は、タイル素地ＴB を搬送方向ａへ搬送する
搬送機構２０と、タイル素地ＴB に釉薬を幕掛けする幕
掛け装置４０と、幕掛け装置４０に釉薬を供給する釉薬
供給機構８０（図２参照）と、を主要な構成としてい
る。
【００２０】上記搬送機構２０は、搬送方向ａと直角で
かつ互いに平行に架設された複数のローラ２２と、これ
らのローラ２２上に搬送方向ａに架設された２本の搬送
ベルト２４と、搬送ベルト２４を図示しない動力伝達機
構を介して駆動するモータとを備えている。こうした構
成により、モータの駆動により動力伝達機構を介して搬
送ベルト２４が駆動されることにより、タイル素地ＴB
が搬送方向ａへ搬送される。
かつ互いに平行に架設された複数のローラ２２と、これ
らのローラ２２上に搬送方向ａに架設された２本の搬送
ベルト２４と、搬送ベルト２４を図示しない動力伝達機
構を介して駆動するモータとを備えている。こうした構
成により、モータの駆動により動力伝達機構を介して搬
送ベルト２４が駆動されることにより、タイル素地ＴB
が搬送方向ａへ搬送される。
【００２１】上記幕掛け装置４０は、搬送機構２０の上
方に設置された釉薬タンク５０を備えている。釉薬タン
ク５０は、底面を形成する傾斜部５２、側板部５４、前
板部５６、後板部５８により囲まれかつ支持柱６６によ
り支持された箱体を備え、さらに、釉薬供給機構８０に
より釉薬が供給される上部開口６２と、傾斜部５２と前
板部５６との合わせ部に形成されたスリット６４と、こ
のスリット６４を開閉する図示しない開閉部を有してい
る。
方に設置された釉薬タンク５０を備えている。釉薬タン
ク５０は、底面を形成する傾斜部５２、側板部５４、前
板部５６、後板部５８により囲まれかつ支持柱６６によ
り支持された箱体を備え、さらに、釉薬供給機構８０に
より釉薬が供給される上部開口６２と、傾斜部５２と前
板部５６との合わせ部に形成されたスリット６４と、こ
のスリット６４を開閉する図示しない開閉部を有してい
る。
【００２２】また、釉薬タンク５０の前板部５６の内側
には、整流板７０が設置されている。整流板７０は、図
４に示すように、その先端部が鋸刃形状部７２になって
おり、この鋸刃形状部７２により、スリット６４の一部
を釉薬が流出する流出隙間部７４とし、その開口面積が
搬送方向ａに対して直角方向ｂで異なるようになってい
る。
には、整流板７０が設置されている。整流板７０は、図
４に示すように、その先端部が鋸刃形状部７２になって
おり、この鋸刃形状部７２により、スリット６４の一部
を釉薬が流出する流出隙間部７４とし、その開口面積が
搬送方向ａに対して直角方向ｂで異なるようになってい
る。
【００２３】上記釉薬供給機構８０は、釉薬タンク５０
及び搬送ベルト２４の下方に設置された回収槽８２と、
供給パイプ８６を介して回収槽８２内の釉薬を汲み上げ
るポンプ８４とを備えており、ポンプ８４の駆動により
供給パイプ８６を介して釉薬が釉薬タンク５０に供給さ
れることになる。したがって、釉薬タンク５０からタイ
ル素地ＴB 上に施釉されなかった釉薬は、回収槽８２に
溜まり、ポンプ８４により釉薬タンク５０に戻されて繰
り返し使用されることになる。なお、ここで使用される
釉薬は、通常の釉薬でよいが、特に、粘度が大きいと、
筋状の凹凸形状を大きくすることができ、よって、模様
の仕様に応じるには、適宜粘度で調整することもでき
る。
及び搬送ベルト２４の下方に設置された回収槽８２と、
供給パイプ８６を介して回収槽８２内の釉薬を汲み上げ
るポンプ８４とを備えており、ポンプ８４の駆動により
供給パイプ８６を介して釉薬が釉薬タンク５０に供給さ
れることになる。したがって、釉薬タンク５０からタイ
ル素地ＴB 上に施釉されなかった釉薬は、回収槽８２に
溜まり、ポンプ８４により釉薬タンク５０に戻されて繰
り返し使用されることになる。なお、ここで使用される
釉薬は、通常の釉薬でよいが、特に、粘度が大きいと、
筋状の凹凸形状を大きくすることができ、よって、模様
の仕様に応じるには、適宜粘度で調整することもでき
る。
【００２４】次に上記タイル施釉装置１０によるタイル
素地ＴB への施釉動作について説明する。図１におい
て、いま、搬送ベルト２４上にタイル素地ＴB を乗せ
て、モータを駆動することにより搬送すると共に、釉薬
タンク５０の開閉部を開けて釉薬を流出させる。この状
態にて、搬送機構２０により搬送されるタイル素地ＴB
が釉薬タンク５０のスリット６４の下方位置に達する
と、釉薬タンク５０から幕掛け状に流出している釉薬が
タイル素地ＴB 上に施される。
素地ＴB への施釉動作について説明する。図１におい
て、いま、搬送ベルト２４上にタイル素地ＴB を乗せ
て、モータを駆動することにより搬送すると共に、釉薬
タンク５０の開閉部を開けて釉薬を流出させる。この状
態にて、搬送機構２０により搬送されるタイル素地ＴB
が釉薬タンク５０のスリット６４の下方位置に達する
と、釉薬タンク５０から幕掛け状に流出している釉薬が
タイル素地ＴB 上に施される。
【００２５】このとき、整流板７０の先端部は、鋸刃形
状部７２となっており、傾斜部５２に沿って滑り落ちた
釉薬は、鋸刃形状部７２を通ると、層流から乱流にな
り、流出隙間部７４から直角方向ｂへ異なった量で流出
する。したがって、タイル素地ＴB が搬送されながら、
直角方向ｂにて異なった釉薬量にて施釉されることか
ら、タイル上に筋状の凹凸模様が形成される。
状部７２となっており、傾斜部５２に沿って滑り落ちた
釉薬は、鋸刃形状部７２を通ると、層流から乱流にな
り、流出隙間部７４から直角方向ｂへ異なった量で流出
する。したがって、タイル素地ＴB が搬送されながら、
直角方向ｂにて異なった釉薬量にて施釉されることか
ら、タイル上に筋状の凹凸模様が形成される。
【００２６】上記実施例によれば、タイルの施釉面に筋
状の模様を形成する構成として、鋸刃形状部７２を有す
る整流板７０を用いているだけであり、従来の技術で説
明したプレス方法やスクリーン印刷方法に比べて、装置
自体の構成や製造工程も簡単である。
状の模様を形成する構成として、鋸刃形状部７２を有す
る整流板７０を用いているだけであり、従来の技術で説
明したプレス方法やスクリーン印刷方法に比べて、装置
自体の構成や製造工程も簡単である。
【００２７】また、上記タイル施釉装置１０により施釉
されたタイルは、流出隙間部７４からの自然な流れの変
化で筋状の模様が形成されるから、これを施工して配列
した際に、自然な変化で調和性にも優れた筋状の模様を
形成することができる。しかも、そのタイル上の模様
は、釉薬のタイル素地ＴB への浸透量により変化するこ
とから、水彩画のような自然な筋状の模様となる。しか
も、凹凸の高さや模様は、釉薬の粘度に応じて高さを自
然かつ自由に変えることができる。
されたタイルは、流出隙間部７４からの自然な流れの変
化で筋状の模様が形成されるから、これを施工して配列
した際に、自然な変化で調和性にも優れた筋状の模様を
形成することができる。しかも、そのタイル上の模様
は、釉薬のタイル素地ＴB への浸透量により変化するこ
とから、水彩画のような自然な筋状の模様となる。しか
も、凹凸の高さや模様は、釉薬の粘度に応じて高さを自
然かつ自由に変えることができる。
【００２８】なお、上記実施例では、整流板７０として
鋸刃形状部７２を用いたが、これに限らず、直角方向ｂ
への釉薬量を異なるように流出させる形状であれば、そ
の形状は特に限定されず、例えば、図５に示すような楔
形形状部７２Ａを有する整流板７０Ａや、図６に示す波
形形状部７２Ｂを有する整流板７０Ｂであってもよい。
このような種々の形状の整流板を用いることにより、タ
イルに多種類の筋状の模様を形成することができる。ま
た、図６に示す整流板７０Ｂによれば、その波形形状部
７２の波形の高さが異なることから、それぞれの筋状の
模様の厚みも異なり、一層、変化に富んだタイル模様を
形成できる。
鋸刃形状部７２を用いたが、これに限らず、直角方向ｂ
への釉薬量を異なるように流出させる形状であれば、そ
の形状は特に限定されず、例えば、図５に示すような楔
形形状部７２Ａを有する整流板７０Ａや、図６に示す波
形形状部７２Ｂを有する整流板７０Ｂであってもよい。
このような種々の形状の整流板を用いることにより、タ
イルに多種類の筋状の模様を形成することができる。ま
た、図６に示す整流板７０Ｂによれば、その波形形状部
７２の波形の高さが異なることから、それぞれの筋状の
模様の厚みも異なり、一層、変化に富んだタイル模様を
形成できる。
【００２９】また、整流板７０の位置は、図１の実施例
のように、釉薬タンク５０内に設置するほかに、釉薬タ
ンク５０の前板部５６の外壁に取り付けると共に、その
先端部がスリット６４の外側から開口面積を変えるよう
に配置してもよい。この場合には、整流板７０の交換作
業が容易になるという効果がある。また、幕掛け装置４
０におけるスリット６４の形状を整流板形状と同様に変
えることにより、整流板を使用することと同様の効果が
得られる。
のように、釉薬タンク５０内に設置するほかに、釉薬タ
ンク５０の前板部５６の外壁に取り付けると共に、その
先端部がスリット６４の外側から開口面積を変えるよう
に配置してもよい。この場合には、整流板７０の交換作
業が容易になるという効果がある。また、幕掛け装置４
０におけるスリット６４の形状を整流板形状と同様に変
えることにより、整流板を使用することと同様の効果が
得られる。
【００３０】次に、筋状模様を有するタイルを製造する
ための他の実施例に係るタイル施釉装置１０Ａについて
説明する。図７において、図１の実施例と異なる構成
は、整流板７０を設けないで、釉薬タンク５０の前板部
５６の外壁に除去板９０を取り付けた点である。この除
去板９０は、その下端部の高さ位置、つまり、その下端
位置とタイル素地ＴB の上面との所定間隙（例えば、約
１ｍｍ）を保持するようにネジで調整可能なように前板
部５６に取り付けられており、その先端が図４と同様
に、鋸刃形状部９２に形成されている。
ための他の実施例に係るタイル施釉装置１０Ａについて
説明する。図７において、図１の実施例と異なる構成
は、整流板７０を設けないで、釉薬タンク５０の前板部
５６の外壁に除去板９０を取り付けた点である。この除
去板９０は、その下端部の高さ位置、つまり、その下端
位置とタイル素地ＴB の上面との所定間隙（例えば、約
１ｍｍ）を保持するようにネジで調整可能なように前板
部５６に取り付けられており、その先端が図４と同様
に、鋸刃形状部９２に形成されている。
【００３１】上記実施例において、釉薬タンク５０から
スリット６４を介して流出される釉薬は、整流板７０が
なく、層流状態であるから、その直角方向ｂの量が異な
らず、タイル素地ＴB 上に所定の厚さに一旦積層される
ことになる。その直後にタイル素地ＴB に施された釉薬
は、搬送機構２０により搬送されるにつれて、除去板９
０の鋸刃形状部９２により筋状に除去される。すなわ
ち、タイル素地ＴB の施釉される位置と、除去板９０の
位置は、搬送方向ａに僅かな距離しか隔てられていない
ので、タイル上の釉薬は、乾燥する前に筋状に除去さ
れ、その状態にて固化することになる。よって、タイル
に筋状の模様が形成されることになる。
スリット６４を介して流出される釉薬は、整流板７０が
なく、層流状態であるから、その直角方向ｂの量が異な
らず、タイル素地ＴB 上に所定の厚さに一旦積層される
ことになる。その直後にタイル素地ＴB に施された釉薬
は、搬送機構２０により搬送されるにつれて、除去板９
０の鋸刃形状部９２により筋状に除去される。すなわ
ち、タイル素地ＴB の施釉される位置と、除去板９０の
位置は、搬送方向ａに僅かな距離しか隔てられていない
ので、タイル上の釉薬は、乾燥する前に筋状に除去さ
れ、その状態にて固化することになる。よって、タイル
に筋状の模様が形成されることになる。
【００３２】さらに、上記実施例では、タイル素地ＴB
上の釉薬を乾燥する前に除去板９０により除去している
から、粉塵が舞い上がったり、除去板９０の鋸刃形状部
９２に目詰まり等を生じたりすることがなく、さらに、
施釉面の剥離やチッピング等を生じない。
上の釉薬を乾燥する前に除去板９０により除去している
から、粉塵が舞い上がったり、除去板９０の鋸刃形状部
９２に目詰まり等を生じたりすることがなく、さらに、
施釉面の剥離やチッピング等を生じない。
【００３３】なお、上記実施例では、除去板９０を釉薬
タンク５０の前板部５６に取り付けたが、これに限ら
ず、タイル素地ＴB の釉薬が乾く前の位置、つまりタイ
ル素地ＴB 上の釉薬が乾燥する時間は、施釉後５秒であ
るから、その間に除去できる位置であればよい。また、
釉薬量を部分的に異なるように流出させるよう構成した
形状の整流板又はスリットで施釉した後に、同様にして
施釉面を除去することもできる。さらに、除去板９０の
先端部は、タイルの施釉面を筋状に除去できる構成であ
れば、例えば、ブラシ等を用いてもよい。
タンク５０の前板部５６に取り付けたが、これに限ら
ず、タイル素地ＴB の釉薬が乾く前の位置、つまりタイ
ル素地ＴB 上の釉薬が乾燥する時間は、施釉後５秒であ
るから、その間に除去できる位置であればよい。また、
釉薬量を部分的に異なるように流出させるよう構成した
形状の整流板又はスリットで施釉した後に、同様にして
施釉面を除去することもできる。さらに、除去板９０の
先端部は、タイルの施釉面を筋状に除去できる構成であ
れば、例えば、ブラシ等を用いてもよい。
【００３４】図８は他の実施例を示す概略構成図であ
り、釉薬タンク５０を振動させることにより、タイルの
施釉面に筋状の模様を形成する実施例である。図８にお
いて、釉薬タンク５０の一方の支持柱６６には、振動機
１００が取り付けられており、この振動機１００の所定
周期の振動が支持柱６６に伝達されて、釉薬タンク５０
自体を振動させる。これにより、釉薬タンク５０のスリ
ット６４から幕掛けされる釉薬が乱流状態になり、タイ
ル上に筋状の模様が形成される。しかも、振動機１００
により釉薬タンク５０をタイル搬送方向ａと直角方向ｂ
へ振動させているから、筋状の模様がタイル幅方向へも
波打った自然な模様を形成することができる。
り、釉薬タンク５０を振動させることにより、タイルの
施釉面に筋状の模様を形成する実施例である。図８にお
いて、釉薬タンク５０の一方の支持柱６６には、振動機
１００が取り付けられており、この振動機１００の所定
周期の振動が支持柱６６に伝達されて、釉薬タンク５０
自体を振動させる。これにより、釉薬タンク５０のスリ
ット６４から幕掛けされる釉薬が乱流状態になり、タイ
ル上に筋状の模様が形成される。しかも、振動機１００
により釉薬タンク５０をタイル搬送方向ａと直角方向ｂ
へ振動させているから、筋状の模様がタイル幅方向へも
波打った自然な模様を形成することができる。
【００３５】こうした振動させる手段は、釉薬タンク５
０に振動機で与えるほか、施釉位置付近のローラ２２ａ
の表面に凹凸を形成してもよい。この場合には、ローラ
２２ａを通過する際に、搬送ベルト２４を介してタイル
素地ＴB が振動するから、タイル上に筋状の模様が形成
される。
０に振動機で与えるほか、施釉位置付近のローラ２２ａ
の表面に凹凸を形成してもよい。この場合には、ローラ
２２ａを通過する際に、搬送ベルト２４を介してタイル
素地ＴB が振動するから、タイル上に筋状の模様が形成
される。
【００３６】なお、この発明は上記実施例に限られるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の
態様において実施することが可能であり、例えば次のよ
うな変形も可能である。
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の
態様において実施することが可能であり、例えば次のよ
うな変形も可能である。
【００３７】すなわち、タイルに筋状の模様を形成する
には、上記実施例に係る整流板、除去板及び振動機等を
必要に応じて組み合わせてもよい。これにより、多様な
筋状模様を形成することができる。
には、上記実施例に係る整流板、除去板及び振動機等を
必要に応じて組み合わせてもよい。これにより、多様な
筋状模様を形成することができる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１の
タイルの施釉方法によれば、タイル素地を所定の搬送方
向へ搬送しつつ、タイル素地の表面に釉薬の量がタイル
の幅方向で部分的に異なるように施すことにより、タイ
ル表面に搬送方向に釉厚に変化のある模様を容易に形成
することができる。
タイルの施釉方法によれば、タイル素地を所定の搬送方
向へ搬送しつつ、タイル素地の表面に釉薬の量がタイル
の幅方向で部分的に異なるように施すことにより、タイ
ル表面に搬送方向に釉厚に変化のある模様を容易に形成
することができる。
【００３９】請求項２のタイルの施釉方法によれば、釉
薬除去手段をタイル施釉面に部分的かつ連続的又は断続
的に接触させて除去することで、任意の凹凸形状を自由
に形成することができる。
薬除去手段をタイル施釉面に部分的かつ連続的又は断続
的に接触させて除去することで、任意の凹凸形状を自由
に形成することができる。
【００４０】請求項３では、請求項１を好適に実現する
施釉装置であり、搬送手段によってタイルを搬送しつ
つ、該搬送手段の上方に設置された釉薬掛け手段のスリ
ットから流し出される釉薬の量がタイルの幅方向で部分
的に異なるようにタイル表面に施すことにより、タイル
表面に搬送方向に筋状の模様が形成される。したがっ
て、タイル幅方向での釉薬量を変えるという簡単な構成
で、タイル表面に釉厚に変化のある筋状の模様を形成す
ることができる。
施釉装置であり、搬送手段によってタイルを搬送しつ
つ、該搬送手段の上方に設置された釉薬掛け手段のスリ
ットから流し出される釉薬の量がタイルの幅方向で部分
的に異なるようにタイル表面に施すことにより、タイル
表面に搬送方向に筋状の模様が形成される。したがっ
て、タイル幅方向での釉薬量を変えるという簡単な構成
で、タイル表面に釉厚に変化のある筋状の模様を形成す
ることができる。
【００４１】請求項４の発明では、請求項３の発明にお
いて、釉薬を流す流出間隙として、幕掛け手段のスリッ
トの開口を整流板を用いて変えることにより、汎用の釉
薬掛け手段に対してより簡単に実現することができる。
いて、釉薬を流す流出間隙として、幕掛け手段のスリッ
トの開口を整流板を用いて変えることにより、汎用の釉
薬掛け手段に対してより簡単に実現することができる。
【００４２】請求項５によれば、整流板の好適な形状を
実現できる。請求項６の発明によれば、搬送手段の施釉
位置付近又は釉薬掛け手段を振動させながらタイル表面
への釉薬の量を不均一に施すという簡単な装置構成によ
り、それぞれタイル表面に変化のある凹凸状の模様を形
成することができる。
実現できる。請求項６の発明によれば、搬送手段の施釉
位置付近又は釉薬掛け手段を振動させながらタイル表面
への釉薬の量を不均一に施すという簡単な装置構成によ
り、それぞれタイル表面に変化のある凹凸状の模様を形
成することができる。
【００４３】請求項７の発明によれば、釉薬が施された
直後の位置に、釉薬除去手段を設けこの釉薬除去手段に
よりタイル施釉面の釉薬を部分的に除去するという簡単
な構成により、タイル表面に変化のある凹凸状の模様を
形成することができる。
直後の位置に、釉薬除去手段を設けこの釉薬除去手段に
よりタイル施釉面の釉薬を部分的に除去するという簡単
な構成により、タイル表面に変化のある凹凸状の模様を
形成することができる。
【図１】本発明の一実施例に係るタイル施釉装置を示す
斜視図。
斜視図。
【図２】同実施例に係るタイル施釉装置を一部破断して
説明する側面図。
説明する側面図。
【図３】同実施例に係るタイル施釉装置を一部破断して
説明する正面図。
説明する正面図。
【図４】同実施例に係る整流板を示す正面図。
【図５】他の整流板を示す正面図。
【図６】さらに他の整流板を示す正面図。
【図７】他の実施例に係るタイル施釉装置を一部破断し
て説明する側面図。
て説明する側面図。
【図８】さらに他の実施例に係るタイル施釉装置を一部
破断して説明する側面図。
破断して説明する側面図。
１０…タイル施釉装置
１０Ａ…タイル施釉装置
２０…搬送機構
２２…ローラ
２２ａ…ローラ
２４…搬送ベルト
２６…動力伝達機構
２８…モータ
４０…幕掛け装置
５０…釉薬タンク
５２…傾斜部
５４…側板部
５６…前板部
５８…後板部
６２…上部開口
６４…スリット
６６…支持柱
７０…整流板
７０Ａ…整流板
７０Ｂ…整流板
７２…鋸刃形状部
７２Ａ…波形形状部
７２Ｂ…楔形形状部
７４…流出隙間部
８０…釉薬供給機構
８２…回収槽
８４…ポンプ
８６…供給パイプ
９０…除去板
９２…鋸刃形状部
１００…振動機
ＴB…タイル素地
ａ…搬送方向
ｂ…直角方向
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−338186（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−97501（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−74781（ＪＰ，Ａ)
実開 昭55−8635（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C04B 41/80 - 41/91
C04B 33/34
Claims (7)
- 【請求項１】 タイル素地を所定の搬送方向に搬送しつ
つ、該タイル素地の表面に、上記搬送方向と交差するタ
イルの幅方向に配置されたスリットから釉薬を流出させ
て凹凸状の施釉面を形成するためのタイルの施釉方法に
おいて、上記スリットの開口面積を上記幅方向に異にするように
形成された鋸形、楔形または波形の先端部を有する整流
板を用いて、タイル素地の表面に向けて流出する釉薬の
量を異なるようにして上記施釉面を形成すること、 を特徴とするタイルの施釉方法。 - 【請求項２】 タイル素地の表面に、凹凸状の施釉面を
形成するためのタイルの施釉方法において、 タイル素地を所定の搬送方向へ搬送しつつ、タイル素地
の表面に釉薬を幕掛けした後、鋸形である先端部を有す
る除去板を用いて、上記先端部をタイル施釉面に接触さ
せて該タイル施釉面を部分的にかつ連続的又は断続的に
除去することを特徴とするタイルの施釉方法。 - 【請求項３】 タイル素地の表面に、凹凸状の施釉面を
形成するための施釉装置において、 タイル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段と、 該搬送手段の上方に設置され、搬送方向と交差するタイ
ルの幅方向に設けられたスリットを有し、該スリットか
ら釉薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に施釉
する釉薬掛け手段と、上記スリットの付近に固定された整流板と、 を備え、 上記整流板は、上記幅方向で該スリットの開口面積を異
にする鋸形、楔形または波形である先端部を備え、該先
端部でスリットの一部を塞ぐことにより、上記タイルの
幅方向における釉薬の流出量が異なるように構成した こ
とを特徴とするタイルの施釉装置。 - 【請求項４】 上記整流板の先端部は、上記楔形または
波形の高さが異なるように形成されている請求項３に記
載のタイルの施釉装置。 - 【請求項５】 請求項３又は請求項４に記載のタイルの
施釉装置において、 上記整流板は、上記スリットの外側から開口面積を変え
るように配置したタイルの施釉装置。 - 【請求項６】 施釉位置付近の搬送手段又は釉薬掛け手
段に、該搬送手段又は釉薬掛け手段を振動させる振動手
段を設けた請求項３ないし請求項５のいずれかに記載の
タイルの施釉装置。 - 【請求項７】 タイル素地の表面に、凹凸状の施釉面を
形成するためのタイルの施釉装置において、 タイル素地を所定の搬送方向へ搬送する搬送手段と、 該搬送手段の上方に設置され、搬送方向と交差するタイ
ルの幅方向に設けられたスリットを有し、該スリットか
ら釉薬を幕掛け状に流し出してタイル素地の表面に施釉
する釉薬掛け手段と、 上記タイル表面に釉薬が幕掛けされる位置から僅かに搬
送方向の位置に設けられ、タイル施釉面に部分的に接触
して、上記タイル表面に施釉された釉薬を部分的にかつ
連続的又は断続的に接触して除去する除去板を有する釉
薬除去手段と、上記除去板は、タイル施釉面に接触する先端部の形状が
鋸形であること、 を特徴とするタイルの施釉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33962092A JP3451641B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | タイルの施釉方法及びその施釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33962092A JP3451641B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | タイルの施釉方法及びその施釉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06157167A JPH06157167A (ja) | 1994-06-03 |
| JP3451641B2 true JP3451641B2 (ja) | 2003-09-29 |
Family
ID=18329222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33962092A Expired - Lifetime JP3451641B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | タイルの施釉方法及びその施釉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3451641B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1305489B1 (it) * | 1998-06-24 | 2001-05-09 | Eurotecnica Srl | Macchina per la smaltatura di piastrelle ceramiche |
| ITBO20060069A1 (it) * | 2006-02-07 | 2007-08-08 | Air Power Group S P A | Dispositivo convogliatore per il trasporto di piastrelle o articoli similari in una linea di applicazione a velo di un prodotto decorativo |
| IT1396989B1 (it) * | 2009-12-09 | 2012-12-20 | Giuri | Dispositivo di protezione di cinghie, catene o simili mezzi di trasporto, e per il recupero di fluidi come ad esempio smalti, vernici o resine, applicati a velatrice, campana o simili |
| ES2399648B1 (es) * | 2010-11-17 | 2014-02-21 | Asociación De Investigación De Las Industrias Cerámicas A.I.C.E. | Campana esmaltadora isoflujo de piezas cerámicas |
| CN108437172B (zh) * | 2018-03-29 | 2023-07-18 | 郑州科技学院 | 雾化施釉装置及施釉方法 |
| CN108638309A (zh) * | 2018-06-07 | 2018-10-12 | 佛山市三水盈捷精密机械有限公司 | 一种淋釉主件及其制备方法 |
| CN112776147A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-05-11 | 廖绍基 | 一种淋釉器 |
| CN112898048A (zh) * | 2021-03-06 | 2021-06-04 | 赵静 | 一种环保柔光陶瓷砖制备釉面处理方法 |
| CN115990938B (zh) * | 2023-03-23 | 2023-09-22 | 河北汇力瓷业有限公司 | 一种钻石釉板材坯料液压成型设备 |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP33962092A patent/JP3451641B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06157167A (ja) | 1994-06-03 |
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