JP3434846B2 - ２平面における蒸着 - Google Patents
２平面における蒸着Info
- Publication number
- JP3434846B2 JP3434846B2 JP03923093A JP3923093A JP3434846B2 JP 3434846 B2 JP3434846 B2 JP 3434846B2 JP 03923093 A JP03923093 A JP 03923093A JP 3923093 A JP3923093 A JP 3923093A JP 3434846 B2 JP3434846 B2 JP 3434846B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- article
- horizontal
- metal
- metallizing
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック及び類似の
誘電材の真空メタライジング処理にして、腐蝕性の金属
が真空蒸着によって誘電材上に付着される前記真空メタ
ライジング処理に関する。
誘電材の真空メタライジング処理にして、腐蝕性の金属
が真空蒸着によって誘電材上に付着される前記真空メタ
ライジング処理に関する。
【０００２】
【従来技術】プラスチック及び類似の誘電材の真空メタ
ライジングはしばしば実施されている。自動車工業に於
ては、従来からのクロームメッキ部品に代替し得るメタ
ライジング処理されたトリム部品が使用されている。真
空蒸着による金属被膜成長段階は以下の段階、即ち、金
属核の形成及び核の成長、電気的に独立した島としての
液体の凝縮、初期に於ける被膜導電性上の連繋、そして
最終的な、完全に連続した被膜の形成を経て為される。
米国特許番号第４４３１７７１号には、誘電材をインジ
ウム及びその合金で真空メタライジング処理する一つの
方法が記載される。この米国特許は円滑面を具備する有
機誘電ベース或は材料、例えば成形プラスチックを含む
物品の製造に関するものである。その円滑面上にはイン
ジウム及びその合金の、顕微鏡を使用すれば連続に見え
る極薄層が付着される。金属被膜上には誘電性樹脂の被
膜が密着コーティングされ、このコーティングが金属粒
子を包納し且つ保護しそしてそれらを誘電材にしっかり
と結合する。こうして出来た部材は自動車用途、例えば
自動車外装トリム部品として、これを従来からのより重
く且つ高価なクロームメッキした金属部品に代替させる
用途に於て特に有用である。
ライジングはしばしば実施されている。自動車工業に於
ては、従来からのクロームメッキ部品に代替し得るメタ
ライジング処理されたトリム部品が使用されている。真
空蒸着による金属被膜成長段階は以下の段階、即ち、金
属核の形成及び核の成長、電気的に独立した島としての
液体の凝縮、初期に於ける被膜導電性上の連繋、そして
最終的な、完全に連続した被膜の形成を経て為される。
米国特許番号第４４３１７７１号には、誘電材をインジ
ウム及びその合金で真空メタライジング処理する一つの
方法が記載される。この米国特許は円滑面を具備する有
機誘電ベース或は材料、例えば成形プラスチックを含む
物品の製造に関するものである。その円滑面上にはイン
ジウム及びその合金の、顕微鏡を使用すれば連続に見え
る極薄層が付着される。金属被膜上には誘電性樹脂の被
膜が密着コーティングされ、このコーティングが金属粒
子を包納し且つ保護しそしてそれらを誘電材にしっかり
と結合する。こうして出来た部材は自動車用途、例えば
自動車外装トリム部品として、これを従来からのより重
く且つ高価なクロームメッキした金属部品に代替させる
用途に於て特に有用である。
【０００３】真空メタライジングプロセス中は真空チャ
ンバーが、コーティングされるべき誘電材を、金属材料
がそこに付着されてなるボート、即ち蒸発ボートと共に
包囲し、その金属材料が前記誘電材上に蒸着され或は蒸
発する。真空メタライジング法の作業上の特性上、合致
する蒸発ボート、即ち蒸発速度或は加熱速度が類似する
蒸発ボートを使用することが部品の品質及び初期作業性
を良好にすると判断されてきている。それは米国特許第
７３７６８６号に記載されている。
ンバーが、コーティングされるべき誘電材を、金属材料
がそこに付着されてなるボート、即ち蒸発ボートと共に
包囲し、その金属材料が前記誘電材上に蒸着され或は蒸
発する。真空メタライジング法の作業上の特性上、合致
する蒸発ボート、即ち蒸発速度或は加熱速度が類似する
蒸発ボートを使用することが部品の品質及び初期作業性
を良好にすると判断されてきている。それは米国特許第
７３７６８６号に記載されている。
【０００４】一般に、金属材料の蒸着中には複数の蒸発
ボートが水平方向のブスバ（以下、母線とも称する）に
取付けられ、並列或は直列状態で、このブスバを介して
電源に接続される。蒸発ボートは、メタライジング処理
するべき物品を支持する回転カルーセルの下方に水平状
態で結合される。この回転カルーセルには、メタライジ
ング処理するべき物品を支持し且つこの回転カルーセル
の回転とは無関係に回転し得る複数のリールが含まれ
る。前記回転カルーセルは蒸着プロセス中回転しそれに
より、各々の物品上への金属の付着を均等化する。
ボートが水平方向のブスバ（以下、母線とも称する）に
取付けられ、並列或は直列状態で、このブスバを介して
電源に接続される。蒸発ボートは、メタライジング処理
するべき物品を支持する回転カルーセルの下方に水平状
態で結合される。この回転カルーセルには、メタライジ
ング処理するべき物品を支持し且つこの回転カルーセル
の回転とは無関係に回転し得る複数のリールが含まれ
る。前記回転カルーセルは蒸着プロセス中回転しそれに
より、各々の物品上への金属の付着を均等化する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この形式のシステムで
はインジウムが物品の、縦方向のみに於て主に水平面に
対し蒸着されるという問題がある。物品の湾曲した或は
縦方向の面にはインジウムは一般にコーティングされな
い。或は物品の残余の部分との関連に於て均一なコーテ
ィングは為されない。従って、解決しようとする課題
は、メタライジング処理に於てインジウムが物品の、主
に水平面に対し縦方向に於てのみ蒸着されるという問題
を解決し、インジウムが物品の湾曲した或は縦方向の面
にも蒸着されるような蒸着装置及び方法を提供すること
である。
はインジウムが物品の、縦方向のみに於て主に水平面に
対し蒸着されるという問題がある。物品の湾曲した或は
縦方向の面にはインジウムは一般にコーティングされな
い。或は物品の残余の部分との関連に於て均一なコーテ
ィングは為されない。従って、解決しようとする課題
は、メタライジング処理に於てインジウムが物品の、主
に水平面に対し縦方向に於てのみ蒸着されるという問題
を解決し、インジウムが物品の湾曲した或は縦方向の面
にも蒸着されるような蒸着装置及び方法を提供すること
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、真空チ
ャンバー（２０）と、該真空チャンバー内に配設され、
水平方向軸（Ａ）を有し、該水平方向軸を中心として回
転自在の回転手段（２４）にして、メタライジング処理
されるべき物品（１２）を、該物品を回転し得る状態で
該回転手段（２４）の内側で支持するようになっている
回転手段と、該回転手段（２４）の内側に支持した前記
物品（１２）の水平方向面（１４）に向けて縦方向に金
属を蒸着させるための第１の蒸発手段（３２）にして、
回転手段（２４）の下方で前記真空チャンバー（２０）
内に水平方向に連結された第１の蒸発手段（３２）と、
を含む、水平方向面（１４）及び縦方向面（１６）を具
備する物品（１２）を真空メタライジング処理するため
のメタライジング装置（１０）であって、 回転手段（２
４）の内側に支持した前記物品（１２）の縦方向面（１
６）に向けて水平方向に金属を蒸着させるための第２の
蒸発手段（４０）にして、前記真空チャンバー（２０）
内に縦方向に連結した第２の蒸発手段（４０）を有する
ことを特徴とするメタライジング装置が提供される。
ャンバー（２０）と、該真空チャンバー内に配設され、
水平方向軸（Ａ）を有し、該水平方向軸を中心として回
転自在の回転手段（２４）にして、メタライジング処理
されるべき物品（１２）を、該物品を回転し得る状態で
該回転手段（２４）の内側で支持するようになっている
回転手段と、該回転手段（２４）の内側に支持した前記
物品（１２）の水平方向面（１４）に向けて縦方向に金
属を蒸着させるための第１の蒸発手段（３２）にして、
回転手段（２４）の下方で前記真空チャンバー（２０）
内に水平方向に連結された第１の蒸発手段（３２）と、
を含む、水平方向面（１４）及び縦方向面（１６）を具
備する物品（１２）を真空メタライジング処理するため
のメタライジング装置（１０）であって、 回転手段（２
４）の内側に支持した前記物品（１２）の縦方向面（１
６）に向けて水平方向に金属を蒸着させるための第２の
蒸発手段（４０）にして、前記真空チャンバー（２０）
内に縦方向に連結した第２の蒸発手段（４０）を有する
ことを特徴とするメタライジング装置が提供される。
【０００７】
【実施例】物品１２を真空メタライジングするためのメ
タライジング装置（以下、単に装置とも称する）が、図
１及び２に於て全体を参照番号１０で示されている。真
空メタライジングするべき物品或は基材１２は、水平方
向面１４及び縦方向面１６を具備する形式のものであ
る。形成される物品は、一般にＬ字型の自動車のバンパ
ーの如き自動車の外装トリム部品であり得る。本発明の
範囲内に於て、他の形式の物品及び材料を真空メタライ
ジング処理及び形成し得る。
タライジング装置（以下、単に装置とも称する）が、図
１及び２に於て全体を参照番号１０で示されている。真
空メタライジングするべき物品或は基材１２は、水平方
向面１４及び縦方向面１６を具備する形式のものであ
る。形成される物品は、一般にＬ字型の自動車のバンパ
ーの如き自動車の外装トリム部品であり得る。本発明の
範囲内に於て、他の形式の物品及び材料を真空メタライ
ジング処理及び形成し得る。
【０００８】物品１２には、成形プラスチックの如き円
滑な表面を有する誘電性の有機ベース或は基材が含まれ
る。メタライジング処理された物品１２或は製品は自動
車用途、例えば自動車外装トリム部品として、これを従
来からのより重く且つ高価なクロームメッキした金属部
品に代替させる用途に於て特に有用である。前記基材
は、ここに記載することによって本願発明の一部とする
米国特許第４４３１７１１号に言及される形式の如きも
のであり得る。
滑な表面を有する誘電性の有機ベース或は基材が含まれ
る。メタライジング処理された物品１２或は製品は自動
車用途、例えば自動車外装トリム部品として、これを従
来からのより重く且つ高価なクロームメッキした金属部
品に代替させる用途に於て特に有用である。前記基材
は、ここに記載することによって本願発明の一部とする
米国特許第４４３１７１１号に言及される形式の如きも
のであり得る。
【０００９】乾燥木材、ガラス或はプラスチックといっ
た任意の好適な誘電材料、即ち絶縁材料に金属を真空蒸
着させることが可能である。自動車の外装トリム部品と
して使用する場合、注型或は成形可能なプラスチックが
使用されるが好ましくは、強靭で酷使に耐えつつも幾分
の柔軟性を有する、例えば射出成形等級の熱可塑性プラ
スチックポリウレタンの如きエラストマーが使用され
る。その他の好適な基材は前記米国特許第４４３１７１
１号に記載される。
た任意の好適な誘電材料、即ち絶縁材料に金属を真空蒸
着させることが可能である。自動車の外装トリム部品と
して使用する場合、注型或は成形可能なプラスチックが
使用されるが好ましくは、強靭で酷使に耐えつつも幾分
の柔軟性を有する、例えば射出成形等級の熱可塑性プラ
スチックポリウレタンの如きエラストマーが使用され
る。その他の好適な基材は前記米国特許第４４３１７１
１号に記載される。
【００１０】装置１０は真空メタライジングされたイン
ジウムの薄い層、即ち被膜を付着させ或は収集して電気
的に独立した島とするために使用される。これらの島で
は前記被膜は、その上面を適切なコーティングを施した
場合、インジウムが特に腐蝕しやすい金属であるにも関
わらず耐腐蝕性がある。前記付着されたインジウムの被
膜は導電性である。なぜなら、蒸気相から初期に於て付
着された金属核は溶融相に於てはじめて、金属粒子が相
互に電気的に絶縁された独立した島へと成長が可能であ
るからである。コーティング肉厚は極めて薄く維持され
従って、付着される金属は金属粒子の凝集並びに導電性
被膜の形成をもたらすには不十分とされる。インジウム
の被膜は一般に１０００Å未満の公称肉厚、好ましくは
６００Å未満の肉厚を有する。ここで”公称肉厚”と
は、連続被膜状態に金属が付着すると仮定した場合の、
単位面積当りの金属の付着重量によって決定される厚さ
を意味する。
ジウムの薄い層、即ち被膜を付着させ或は収集して電気
的に独立した島とするために使用される。これらの島で
は前記被膜は、その上面を適切なコーティングを施した
場合、インジウムが特に腐蝕しやすい金属であるにも関
わらず耐腐蝕性がある。前記付着されたインジウムの被
膜は導電性である。なぜなら、蒸気相から初期に於て付
着された金属核は溶融相に於てはじめて、金属粒子が相
互に電気的に絶縁された独立した島へと成長が可能であ
るからである。コーティング肉厚は極めて薄く維持され
従って、付着される金属は金属粒子の凝集並びに導電性
被膜の形成をもたらすには不十分とされる。インジウム
の被膜は一般に１０００Å未満の公称肉厚、好ましくは
６００Å未満の肉厚を有する。ここで”公称肉厚”と
は、連続被膜状態に金属が付着すると仮定した場合の、
単位面積当りの金属の付着重量によって決定される厚さ
を意味する。
【００１１】被膜は、コーティングされた物品１２が先
に参照した米国特許に於て言及されるように金属製物品
として見えるに十分な光を反射するために十分な肉厚と
されるべきである。前記米国特許に於て議論されるよう
に、インジウムの被膜を覆って樹脂によるトップコーテ
ィングが施されそれにより、機械的酷使に対する抵抗力
が向上される。透明な、防湿性のアクリル、ウレタンそ
の他がラテックスとしてコーティングされ、そしてより
好ましくは溶剤溶液が好適にコーティングされる。イン
ジウムの被膜の先の付着はいろいろな方法によって実施
可能である。本発明は５×１０3 Ｔｏｒｒ或はそれ未満
の真空でのインジウムの熱的蒸発を通して実施される真
空蒸着に関するものである。例示された、また参照され
た米国特許に言及されたようなそうした真空蒸着を実行
する装置は、Ｄａｖｉｄｓｏｎ Ｔｅｘｔｒｏｎ社の一
部であるＤａｖｉｄｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃ
ｅｎｔｅｒが使用する、Ｆｒｅｄｅｒｉｃｋ社の製造す
るｃｕｓｔｏｍ４８インチメタライザーとして識別され
る形式のものであり得る。
に参照した米国特許に於て言及されるように金属製物品
として見えるに十分な光を反射するために十分な肉厚と
されるべきである。前記米国特許に於て議論されるよう
に、インジウムの被膜を覆って樹脂によるトップコーテ
ィングが施されそれにより、機械的酷使に対する抵抗力
が向上される。透明な、防湿性のアクリル、ウレタンそ
の他がラテックスとしてコーティングされ、そしてより
好ましくは溶剤溶液が好適にコーティングされる。イン
ジウムの被膜の先の付着はいろいろな方法によって実施
可能である。本発明は５×１０3 Ｔｏｒｒ或はそれ未満
の真空でのインジウムの熱的蒸発を通して実施される真
空蒸着に関するものである。例示された、また参照され
た米国特許に言及されたようなそうした真空蒸着を実行
する装置は、Ｄａｖｉｄｓｏｎ Ｔｅｘｔｒｏｎ社の一
部であるＤａｖｉｄｓｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃ
ｅｎｔｅｒが使用する、Ｆｒｅｄｅｒｉｃｋ社の製造す
るｃｕｓｔｏｍ４８インチメタライザーとして識別され
る形式のものであり得る。
【００１２】本発明の装置１０は、以下に述べるように
改変された従来技術によるメタライザーを使用する。本
発明によれば、全ての縦方向面１６及び水平方向面１４
がメタライジング処理される。装置１０にはハウジング
１８が含まれこのハウジング１８がその内部に真空チャ
ンバー２０を形成する。該チャンバー２０には、そこへ
のアクセスを可能とするためのドア２２がヒンジ２３に
於て蝶着される。ハウジング１８は、このドア２２をジ
ョイント部２５の位置で閉じることによりドア２２とハ
ウジングシリンダー１８ａ間で密閉される。
改変された従来技術によるメタライザーを使用する。本
発明によれば、全ての縦方向面１６及び水平方向面１４
がメタライジング処理される。装置１０にはハウジング
１８が含まれこのハウジング１８がその内部に真空チャ
ンバー２０を形成する。該チャンバー２０には、そこへ
のアクセスを可能とするためのドア２２がヒンジ２３に
於て蝶着される。ハウジング１８は、このドア２２をジ
ョイント部２５の位置で閉じることによりドア２２とハ
ウジングシリンダー１８ａ間で密閉される。
【００１３】回転手段２４には一般に回転カルーセル２
６が含まれ、水平方向軸Ａが回転カルーセル２６の実質
的に中心を貫いて伸延する。回転カルーセル２６には一
対の円形の端部支持体２７が含まれ、この端部支持体２
７間には、その外径部分に沿って且つ前記水平方向軸Ａ
と平行に複数の支持バー或は支持リール２８が伸延され
る。これらの支持バー或は支持リール２８は支承体２９
その他により端部支持体２７に回転し得る状態で固着さ
れる。物品１２をそこで支持するための複数のハンガー
３０が前記支持バー２８にしっかりと付設される。これ
らのハンガー３０には、物品１２をそこに保持するため
の、斯界に於て一般的に知られたクリップ或はファスナ
ーが含まれ得る。物品１２は、その水平方向面及び縦方
向面が前記水平方向軸Ａに対し夫々水平方向及び縦方向
に維持されるよう、前記支持バー２８に取付けられる。
蒸着中に回転カルーセル２６を回転せしめるための駆動
手段３１が、回転カルーセル２６に連結されまた支持バ
ー２８に随意的に連結される。回転カルーセル２６の回
転に応じ支持バー２８が回転せしめられる。ある適用例
に於ては回転カルーセル２６を回転させると共に支持バ
ー２８を独立して回転させることもまた望ましい。
６が含まれ、水平方向軸Ａが回転カルーセル２６の実質
的に中心を貫いて伸延する。回転カルーセル２６には一
対の円形の端部支持体２７が含まれ、この端部支持体２
７間には、その外径部分に沿って且つ前記水平方向軸Ａ
と平行に複数の支持バー或は支持リール２８が伸延され
る。これらの支持バー或は支持リール２８は支承体２９
その他により端部支持体２７に回転し得る状態で固着さ
れる。物品１２をそこで支持するための複数のハンガー
３０が前記支持バー２８にしっかりと付設される。これ
らのハンガー３０には、物品１２をそこに保持するため
の、斯界に於て一般的に知られたクリップ或はファスナ
ーが含まれ得る。物品１２は、その水平方向面及び縦方
向面が前記水平方向軸Ａに対し夫々水平方向及び縦方向
に維持されるよう、前記支持バー２８に取付けられる。
蒸着中に回転カルーセル２６を回転せしめるための駆動
手段３１が、回転カルーセル２６に連結されまた支持バ
ー２８に随意的に連結される。回転カルーセル２６の回
転に応じ支持バー２８が回転せしめられる。ある適用例
に於ては回転カルーセル２６を回転させると共に支持バ
ー２８を独立して回転させることもまた望ましい。
【００１４】本装置には、金属粒子を収納し且つこの金
属粒子を物品１２に向けて実質的にその水平方向面１４
に蒸着させるための第１の蒸着手段３２が、回転カルー
セル２６の下方に水平方向に於て連結される。この第１
の蒸着手段３２は、電圧を受けそれを伝達するための、
回転カルーセル２６の下方を水平方向軸Ａと平行状態で
その長手方向に伸延する母線３４を含む。この母線３４
は一般に、横断方向バー３６をその間部分に具備する平
行な２つの部材を含む。細長ボール（ｂｏｗｌ）形状の
複数の金属製のボート３８が、横断方向バー３６を横断
して母線に連結される。これらのボート３８は蒸発され
るべきインジウムの如き金属を収納する。ボート３８は
一般にタングステン金属からなり、前記米国特許第７３
７６８６号に説明される形式のものであり得る。母線３
４は、真空チャンバー２０が真空ポンプシステム２０ａ
によって脱気される間に前記金属粒子が蒸発しそして物
品１２に目視し得る付着ラインを生ぜしめるところの、
予め決定された時間に於て変圧器３７その他からの電圧
を受ける。ここで説明した基本的なシステムは斯界に一
般に知られたものでありまた先に参照した形式のもので
ある。
属粒子を物品１２に向けて実質的にその水平方向面１４
に蒸着させるための第１の蒸着手段３２が、回転カルー
セル２６の下方に水平方向に於て連結される。この第１
の蒸着手段３２は、電圧を受けそれを伝達するための、
回転カルーセル２６の下方を水平方向軸Ａと平行状態で
その長手方向に伸延する母線３４を含む。この母線３４
は一般に、横断方向バー３６をその間部分に具備する平
行な２つの部材を含む。細長ボール（ｂｏｗｌ）形状の
複数の金属製のボート３８が、横断方向バー３６を横断
して母線に連結される。これらのボート３８は蒸発され
るべきインジウムの如き金属を収納する。ボート３８は
一般にタングステン金属からなり、前記米国特許第７３
７６８６号に説明される形式のものであり得る。母線３
４は、真空チャンバー２０が真空ポンプシステム２０ａ
によって脱気される間に前記金属粒子が蒸発しそして物
品１２に目視し得る付着ラインを生ぜしめるところの、
予め決定された時間に於て変圧器３７その他からの電圧
を受ける。ここで説明した基本的なシステムは斯界に一
般に知られたものでありまた先に参照した形式のもので
ある。
【００１５】以下に本発明における前記基本的システム
の改変部分並びに新規構造部分が説明される。装置１０
は、縦方向に取付けられた第２の蒸発手段４０を含むこ
とにより特徴付けられる。この第２の蒸発手段４０は、
金属粒子を収納しこれを物品１２に向けてその縦方向面
１６に蒸着させるためのものである。この第２の蒸発手
段４０もまた母線を含み、この母線は回転カルーセル２
６の中心軸Ａ方向へと縦方向に伸延する導電性の２本の
平行なアーム４４を具備する。導電性の中央の横断方向
バー４６が前記アーム４４を相互に連結する。この中央
の横断方向バー４６は蒸発されるべき金属、例えばイン
ジウムの如き金属を収納するチューブ状の蒸発ボート４
８に連結される。この蒸発ボート４８は一般にチューブ
形状を為し、その一方の開放端４９が回転カルーセル２
６の端部及び物品１２の縦方向面１６に配向される。蒸
発ボート４８は母線４４に電気的に接続される。蒸発ボ
ート４８はまた、蒸発するインジウムが真空蒸着プロセ
ス処理以前に流出しないことを保証するために、前記開
放端４９位置に於て若干、即ち５°上方に向けて傾倒さ
れる。母線４４を予め決定された電圧水準へと賦活する
のに応じて蒸発ボート４８内部の金属が蒸発し、真空チ
ャンバー２０が脱気されると物品の縦方向面１６上に水
平方向に於て蒸着する。
の改変部分並びに新規構造部分が説明される。装置１０
は、縦方向に取付けられた第２の蒸発手段４０を含むこ
とにより特徴付けられる。この第２の蒸発手段４０は、
金属粒子を収納しこれを物品１２に向けてその縦方向面
１６に蒸着させるためのものである。この第２の蒸発手
段４０もまた母線を含み、この母線は回転カルーセル２
６の中心軸Ａ方向へと縦方向に伸延する導電性の２本の
平行なアーム４４を具備する。導電性の中央の横断方向
バー４６が前記アーム４４を相互に連結する。この中央
の横断方向バー４６は蒸発されるべき金属、例えばイン
ジウムの如き金属を収納するチューブ状の蒸発ボート４
８に連結される。この蒸発ボート４８は一般にチューブ
形状を為し、その一方の開放端４９が回転カルーセル２
６の端部及び物品１２の縦方向面１６に配向される。蒸
発ボート４８は母線４４に電気的に接続される。蒸発ボ
ート４８はまた、蒸発するインジウムが真空蒸着プロセ
ス処理以前に流出しないことを保証するために、前記開
放端４９位置に於て若干、即ち５°上方に向けて傾倒さ
れる。母線４４を予め決定された電圧水準へと賦活する
のに応じて蒸発ボート４８内部の金属が蒸発し、真空チ
ャンバー２０が脱気されると物品の縦方向面１６上に水
平方向に於て蒸着する。
【００１６】第１の蒸発手段３２或は第２の蒸発手段４
０の何れに於ても、任意の数の蒸発ボート３８或は４８
を使用可能である。第１の蒸発手段３２に於ては複数の
蒸発ボート３８は電気的に並列或は直列に接続され、回
転カルーセル２６の下方を支持バー２８の長さ未満に於
て伸延される。第２の蒸発手段４０に関しては蒸発ボー
ト４８の数は一般に物品１２の縦方向面１６の長さによ
って異なり、また１から６の範囲で変化し得るものであ
る。本発明には、水平方向面及び縦方向面１６を具備す
る物品１２を真空蒸着によりメタライジング処理するた
めの方法もまた含まれる。この方法には、メタライジン
グ処理するべき物品１２を水平方向軸を中心として回転
させる段階と、水平方向に於て物品１２の縦方向面１６
に向けて真空蒸着させる段階と、縦方向に於て物品の水
平方向面１４に向けて真空蒸着させる段階とが含まれ
る。そして後、メタライジング処理された物品１２に対
し、追加的な腐蝕保護を目的とするトップコーティング
が施される。
０の何れに於ても、任意の数の蒸発ボート３８或は４８
を使用可能である。第１の蒸発手段３２に於ては複数の
蒸発ボート３８は電気的に並列或は直列に接続され、回
転カルーセル２６の下方を支持バー２８の長さ未満に於
て伸延される。第２の蒸発手段４０に関しては蒸発ボー
ト４８の数は一般に物品１２の縦方向面１６の長さによ
って異なり、また１から６の範囲で変化し得るものであ
る。本発明には、水平方向面及び縦方向面１６を具備す
る物品１２を真空蒸着によりメタライジング処理するた
めの方法もまた含まれる。この方法には、メタライジン
グ処理するべき物品１２を水平方向軸を中心として回転
させる段階と、水平方向に於て物品１２の縦方向面１６
に向けて真空蒸着させる段階と、縦方向に於て物品の水
平方向面１４に向けて真空蒸着させる段階とが含まれ
る。そして後、メタライジング処理された物品１２に対
し、追加的な腐蝕保護を目的とするトップコーティング
が施される。
【００１７】前記方法を実施するために、熱可塑性プラ
スチックウレタン製の射出成形バンパーが一般にＬ字型
に成形され、ウレタンエナメルのベースコーティングが
前記バンパーに施された。冷却した後、このバンパーを
先に言及したメタライザーを使用してメタライジング処
理した。装置１０のためのポンピングシステムは、機械
式粗引きポンプと、シリコーンオイル拡散ポンプと、真
空チャンバー２０内の水蒸気及びガス発生を最小化する
ための液体窒素コールドトラップとから成り立つ。１．
０グラムの高純度インジウムが、２０ボルトのＡＣ可変
変圧器に直列に接続された５ミル肉厚の８つのタングス
テン製の蒸発ボート３８から蒸発された。タングステン
製のチューブ状の４つの蒸発ボート４８が、５ボルトＡ
Ｃ可変変圧器に接続された。この蒸発ボート３８は０．
３グラムの高純度インジウムを含む。８つの蒸発ボート
３８が、回転カルーセル２６或は水平方向軸Ａと平行状
態でそれらの水平方向下方に位置付けられた。２．１ボ
ルト、２２５アンペアの電力が、好適な定電圧電源から
２分間にわたり水平方向の母船に流された。４つのチュ
ーブ状の蒸発ボート４８が使用され、その各２つが各支
持バー２８の端部位置に整列状態で配列された。２分間
送給された電力は２．８ボルト、６３アンペアであっ
た。バンパー１２が、その回転中に蒸発ボートとの距離
を８．５インチから１４．５インチ（約２１．６から３
６．８ｃｍ ）へと変化する状態で回転カルーセル上で
２０ｒｐｍの速度で回転された。これによるバンパー上
での金属被膜の肉厚は３５０Åであった。以上本発明を
具体例を参照して説明したが、本発明の内で多くの変更
を成し得ることを理解されたい。
スチックウレタン製の射出成形バンパーが一般にＬ字型
に成形され、ウレタンエナメルのベースコーティングが
前記バンパーに施された。冷却した後、このバンパーを
先に言及したメタライザーを使用してメタライジング処
理した。装置１０のためのポンピングシステムは、機械
式粗引きポンプと、シリコーンオイル拡散ポンプと、真
空チャンバー２０内の水蒸気及びガス発生を最小化する
ための液体窒素コールドトラップとから成り立つ。１．
０グラムの高純度インジウムが、２０ボルトのＡＣ可変
変圧器に直列に接続された５ミル肉厚の８つのタングス
テン製の蒸発ボート３８から蒸発された。タングステン
製のチューブ状の４つの蒸発ボート４８が、５ボルトＡ
Ｃ可変変圧器に接続された。この蒸発ボート３８は０．
３グラムの高純度インジウムを含む。８つの蒸発ボート
３８が、回転カルーセル２６或は水平方向軸Ａと平行状
態でそれらの水平方向下方に位置付けられた。２．１ボ
ルト、２２５アンペアの電力が、好適な定電圧電源から
２分間にわたり水平方向の母船に流された。４つのチュ
ーブ状の蒸発ボート４８が使用され、その各２つが各支
持バー２８の端部位置に整列状態で配列された。２分間
送給された電力は２．８ボルト、６３アンペアであっ
た。バンパー１２が、その回転中に蒸発ボートとの距離
を８．５インチから１４．５インチ（約２１．６から３
６．８ｃｍ ）へと変化する状態で回転カルーセル上で
２０ｒｐｍの速度で回転された。これによるバンパー上
での金属被膜の肉厚は３５０Åであった。以上本発明を
具体例を参照して説明したが、本発明の内で多くの変更
を成し得ることを理解されたい。
【００１８】
【発明の効果】インジウムが物品の湾曲した或は縦方向
の面にも蒸着されるような蒸着装置及び方法が提供され
る。
の面にも蒸着されるような蒸着装置及び方法が提供され
る。
【図１】本発明に従う蒸着装置の斜視図である。
【図２】図１を線２−２で切断した側面断面図である。
【図３】図２を線３−３で切断した正面断面図である。
１０：装置
１２：物品
１８：ハウジング
１８ａ：ハウジングシリンダー
２０：チャンバー
２４：回転手段
２６：回転カルーセル
２７：端部支持体
２８：支持バー
２９：支承体
３０：ハンガー
３２：第１の蒸発手段
３４：母線
３６：横断方向バー
３７：変圧器
３８：蒸発ボート
４０：第２の蒸発手段
４４：アーム
４８：蒸発ボート
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C23C 14/00 - 14/58
Claims (5)
- 【請求項１】 真空チャンバー（２０）と、該真空チャ
ンバー内に配設され、水平方向軸（Ａ）を有し、該水平
方向軸を中心として回転自在の回転手段（２４）にし
て、メタライジング処理されるべき物品（１２）を、該
物品を回転し得る状態で該回転手段（２４）の内側で支
持するようになっている回転手段と、該回転手段（２
４）の内側に支持した前記物品（１２）の水平方向面
（１４）に向けて縦方向に金属を蒸着させるための第１
の蒸発手段（３２）にして、回転手段（２４）の下方で
前記真空チャンバー（２０）内に水平方向に連結された
第１の蒸発手段（３２）と、を含む、水平方向面（１
４）及び縦方向面（１６）を具備する物品（１２）を真
空メタライジング処理するためのメタライジング装置
（１０）であって、回転手段（２４）の内側に支持した前記 物品（１２）の
縦方向面（１６）に向けて水平方向に金属を蒸着させる
ための第２の蒸発手段（４０）にして、前記真空チャン
バー（２０）内に縦方向に連結した第２の蒸発手段（４
０）を有することを特徴とするメタライジング装置。 - 【請求項２】 回転手段（２４）は回転カルーセル（２
６）を含み、該回転カルーセルは、該回転カルーセルの
直径位置で前記回転手段（２４）の水平方向軸（Ａ）と
平行に配設した複数の支持バー（２８）と、該支持バー
（２８）に廻動自在に付設された複数のハンガー（３
０）にして、前記支持バーと共に物品（１２）を、該物
品の縦方向面（１６）及び水平方向面（１４）を前記水
平方向軸（Ａ）に対し夫々縦方向及び水平方向に維持す
るに好適な複数のハンガーとを含む請求項１に記載のメ
タライジング装置。 - 【請求項３】 第２の蒸発手段（４０）は、電圧を受け
且つ伝達するためのブスバ（４４）にして、回転カルー
セル（２６）の一端に沿って回転手段（２４）の水平方
向軸（Ａ）を横断して縦方向に伸延するブスバと、該ブ
スバ（４４）に連結された、金属を収納するためのチュ
ーブ状のボート（４８）にして、前記ブスバ（４４）に
加えられた電圧に応答して物品（１２）の縦方向面（１
６）に向けて水平方向に於て金属を蒸着させるためのチ
ューブ状のボートとを含んでいる請求項２に記載のメタ
ライジング装置。 - 【請求項４】 第１の蒸発手段（３２）は、電圧を受け
且つ伝達するためのブスバ（３４）にして、水平方向軸
（Ａ）の下方を該水平方向軸（Ａ）と平行に長手方向に
於て伸延するブスバと、該ブスバを横断して該ブスバ
（３４）に連結され、金属を収納するための複数のボー
ト（３８）にして、該ボート（３８）への金属の供給に
応答して該金属を蒸発させるための複数のボートとを具
備する請求項３に記載のメタライジング装置。 - 【請求項５】 真空チャンバー内（２０）で物品（１
２）を、該物品が前記真空チャンバーの水平方向軸
（Ａ）に関してその水平方向面（１４）及び縦方向面
（１６）が維持される状態で前記水平方向軸を中心とし
て回転させる段階、蒸発された金属を縦方向に於て配向
することにより物品の水平方向面（１４）を真空メタラ
イジング処理する段階を含む水平方向面及び縦方向面を
具備する物品を真空メタライジング処理するための方法
であって、 蒸発した金属を、前記の如く縦方向に於て配向すること
とは別に水平方向に配向することにより、物品（１２）
の縦方向面（１６）を真空メタライジング処理する段階
を含むことを特徴とする水平方向面及び縦方向面を具備
する物品を真空メタライジング処理するための方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US856713 | 1992-01-24 | ||
| US07/856,713 US5198272A (en) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | Thermal evaporation in two planes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH062111A JPH062111A (ja) | 1994-01-11 |
| JP3434846B2 true JP3434846B2 (ja) | 2003-08-11 |
Family
ID=25324324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03923093A Expired - Fee Related JP3434846B2 (ja) | 1992-03-24 | 1993-02-04 | ２平面における蒸着 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5198272A (ja) |
| EP (1) | EP0558898B1 (ja) |
| JP (1) | JP3434846B2 (ja) |
| KR (1) | KR960002634B1 (ja) |
| AU (1) | AU3203793A (ja) |
| CA (1) | CA2087151C (ja) |
| CZ (1) | CZ39593A3 (ja) |
| DE (1) | DE69302507T2 (ja) |
| ES (1) | ES2087571T3 (ja) |
| HU (1) | HU9300833D0 (ja) |
| MX (1) | MX9301562A (ja) |
| PL (1) | PL298216A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4201584C1 (ja) * | 1992-01-22 | 1993-04-15 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
| CH685348A5 (de) * | 1992-05-08 | 1995-06-15 | Balzers Hochvakuum | Vakuumbeschichtungsanlage mit drehgetriebenem Substratträger. |
| US5284679A (en) * | 1992-11-16 | 1994-02-08 | Davidson Textron Inc. | Method for making bright trim articles |
| JP2590438B2 (ja) * | 1994-06-30 | 1997-03-12 | 工業技術院長 | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 |
| JPH09202963A (ja) | 1995-08-25 | 1997-08-05 | Abcor Inc | エッチングを行わずに金属化アイランド被覆製品を製造する方法 |
| US5558909A (en) * | 1996-01-17 | 1996-09-24 | Textron Automotive Interiors, Inc. | Apparatus and method for vacuum-metallizing articles with significant deposition onto three-dimensional surfaces |
| KR20010033813A (ko) * | 1997-12-31 | 2001-04-25 | 스코트 에이. 맥닐 | 금속화된 시이트와 복합물 및 이들의 제조방법 |
| US20070028842A1 (en) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Makoto Inagawa | Vacuum chamber bottom |
| JP4725589B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2011-07-13 | ソニー株式会社 | 複合微粒子の製造装置及び製造方法 |
| JP2011058071A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Sony Corp | 複合微粒子の製造装置、及び、複合微粒子の製造方法 |
| JP2013040357A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Optorun Co Ltd | 成膜装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4116161A (en) * | 1976-11-12 | 1978-09-26 | Mcdonnell Douglas Corporation | Dual tumbling barrel plating apparatus |
| US4431711A (en) * | 1980-03-25 | 1984-02-14 | Ex-Cell-O Corporation | Vacuum metallizing a dielectric substrate with indium and products thereof |
| CH650028A5 (de) * | 1980-09-26 | 1985-06-28 | Balzers Hochvakuum | Anordnung zum gleichfoermigen beschichten von rotationsflaechen durch bedampfen im hochvakuum. |
| JPS60129158A (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-10 | Toyoda Gosei Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| CA1249926A (en) * | 1984-06-12 | 1989-02-14 | Katsuhide Manabe | Plasma processing apparatus |
| GB8718916D0 (en) * | 1987-08-10 | 1987-09-16 | Ion Tech Ltd | Thin film alloying apparatus |
| DD265175A1 (de) * | 1987-09-24 | 1989-02-22 | Hochvakuum Dresden Veb | Verfahren und einrichtung zur homogenen schichtabscheidung in vakuumanlagen |
| US5090350A (en) * | 1989-12-27 | 1992-02-25 | Xerox Corporation | Method and apparatus for cleaning, coating and curing receptor substrates in an enclosed planetary array |
| US5133604A (en) * | 1991-07-30 | 1992-07-28 | Davidson Textron Inc. | Method and apparatus for evaluating evaporating boats based on evaporation rate characteristics |
-
1992
- 1992-03-24 US US07/856,713 patent/US5198272A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-01-12 CA CA002087151A patent/CA2087151C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-19 DE DE69302507T patent/DE69302507T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-19 EP EP93100690A patent/EP0558898B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-19 ES ES93100690T patent/ES2087571T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-27 AU AU32037/93A patent/AU3203793A/en not_active Abandoned
- 1993-02-04 JP JP03923093A patent/JP3434846B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-03-10 CZ CZ93395A patent/CZ39593A3/cs unknown
- 1993-03-19 MX MX9301562A patent/MX9301562A/es not_active IP Right Cessation
- 1993-03-23 KR KR1019930004468A patent/KR960002634B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-03-23 HU HU9300833A patent/HU9300833D0/hu unknown
- 1993-03-24 PL PL29821693A patent/PL298216A1/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69302507T2 (de) | 1996-11-28 |
| PL298216A1 (en) | 1993-10-04 |
| CA2087151C (en) | 2002-08-20 |
| MX9301562A (es) | 1993-09-01 |
| JPH062111A (ja) | 1994-01-11 |
| KR930019860A (ko) | 1993-10-19 |
| CA2087151A1 (en) | 1993-09-25 |
| HU9300833D0 (en) | 1993-06-28 |
| AU3203793A (en) | 1993-09-30 |
| EP0558898A1 (en) | 1993-09-08 |
| KR960002634B1 (ko) | 1996-02-24 |
| US5198272A (en) | 1993-03-30 |
| CZ39593A3 (en) | 1994-04-13 |
| EP0558898B1 (en) | 1996-05-08 |
| ES2087571T3 (es) | 1996-07-16 |
| DE69302507D1 (de) | 1996-06-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3434846B2 (ja) | ２平面における蒸着 | |
| US5387247A (en) | Prosthetic device having a biocompatible carbon film thereon and a method of and apparatus for forming such device | |
| US4431711A (en) | Vacuum metallizing a dielectric substrate with indium and products thereof | |
| JP3453174B2 (ja) | 光沢のある装備品を製造する方法 | |
| US6821560B2 (en) | Surface-treating support member and method using the same | |
| US4956196A (en) | Method for producing a corrosion-resistant coating on the surface of lacquered workpieces | |
| US3667424A (en) | Multi-station vacuum apparatus | |
| US5079101A (en) | Composite film | |
| EP0224080B1 (en) | Improvements in and relating to the manufacture of prosthetic devices | |
| JP2620573B2 (ja) | 電子パッケージ製造方法 | |
| JP2599176B2 (ja) | 金色装飾品 | |
| EP0310656B1 (en) | Surface treatment of polymers | |
| KR100323991B1 (ko) | 박막 제조 방법 및 제조 장치 | |
| Grantscharova et al. | Formation of texture in vacuum-condensed tin on glass | |
| JP3439993B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JP2002305163A (ja) | 複合クラスタ及びその製造方法、並びにその製造装置 | |
| TWI295325B (en) | An apparatus to deposite a conductive film on the plastic substrate using radio frequency cosputting technology | |
| JPH09143684A (ja) | 金属膜被覆高分子物品及びその製造方法 | |
| CN118184162A (zh) | 一种玻璃制品的镀膜设备 | |
| JPS5881970A (ja) | スパツタ装置 | |
| Choi et al. | Electrodeposition of copper for ULSI metallization | |
| JPH08225934A (ja) | サブストレートを被覆する装置 | |
| JPH0247277A (ja) | フェライトへのチタニウム又はチタニウム合金被膜の形成方法及びその装置 | |
| JPS6250551B2 (ja) | ||
| JPS62280358A (ja) | 蒸着装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030422 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |