JP3429553B2 - クリーンボックス - Google Patents
クリーンボックスInfo
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- JP3429553B2 JP3429553B2 JP08796494A JP8796494A JP3429553B2 JP 3429553 B2 JP3429553 B2 JP 3429553B2 JP 08796494 A JP08796494 A JP 08796494A JP 8796494 A JP8796494 A JP 8796494A JP 3429553 B2 JP3429553 B2 JP 3429553B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はクリーンボックス及びそ
の使用方法に係り、特に半導体ウエハあるいはガラス基
板等をきわめて清浄度の高い雰囲気下で保管又は運搬す
るのに好適なクリーンボックス及びその使用方法に関す
る。
の使用方法に係り、特に半導体ウエハあるいはガラス基
板等をきわめて清浄度の高い雰囲気下で保管又は運搬す
るのに好適なクリーンボックス及びその使用方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、あるいは液晶デバイス用
のガラス基板等を大気圧下で保管、運搬する場合には、
保管、運搬する空間に存在する粒子が対象物に付着する
と、いわゆる粒子汚染となり配線不良やレジスト塗布不
良等が発生し、製造歩留りの低下につながる。そのた
め、当然ながらウエハやガラス基板を保管、運搬するに
は粒子のない清浄空間を作りだし、その空間内にウエハ
やガラス基板を保管、運搬するのが一般的である。係る
清浄空間を作りだす通常の方法は、ＨＥＰＡフィルタや
ＵＬＰＡフィルタ等を用いてファンによって送り込まれ
る大気又は窒素ガス等の気体中の粒子を取り除き、清浄
気体を作り、清浄空間を確保する。そして、この空間に
ウエハやガラス基板を収納して、保管、運搬する方法が
一般的である。又ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ
を用いて、粒子を取り除いた窒素（Ｎ2 ）等の不活性ガ
スで満たした容器の中に、ウエハやガラス基板を収納
し、保管、運搬するのも一般的である。ここで、ＨＥＰ
Ａ（HIGH EFFICIENCY PARTICULATE ABSOLUTE）フィルタ
では、０．５μｍの塵埃が９９．９９９％以上除去さ
れ、ＵＬＰＡフィルタにおいては更に細かい粒径の塵埃
が除去される。
のガラス基板等を大気圧下で保管、運搬する場合には、
保管、運搬する空間に存在する粒子が対象物に付着する
と、いわゆる粒子汚染となり配線不良やレジスト塗布不
良等が発生し、製造歩留りの低下につながる。そのた
め、当然ながらウエハやガラス基板を保管、運搬するに
は粒子のない清浄空間を作りだし、その空間内にウエハ
やガラス基板を保管、運搬するのが一般的である。係る
清浄空間を作りだす通常の方法は、ＨＥＰＡフィルタや
ＵＬＰＡフィルタ等を用いてファンによって送り込まれ
る大気又は窒素ガス等の気体中の粒子を取り除き、清浄
気体を作り、清浄空間を確保する。そして、この空間に
ウエハやガラス基板を収納して、保管、運搬する方法が
一般的である。又ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ
を用いて、粒子を取り除いた窒素（Ｎ2 ）等の不活性ガ
スで満たした容器の中に、ウエハやガラス基板を収納
し、保管、運搬するのも一般的である。ここで、ＨＥＰ
Ａ（HIGH EFFICIENCY PARTICULATE ABSOLUTE）フィルタ
では、０．５μｍの塵埃が９９．９９９％以上除去さ
れ、ＵＬＰＡフィルタにおいては更に細かい粒径の塵埃
が除去される。
【０００３】しかし乍ら、半導体ＬＳＩの集積度が向上
するのに従って、あるいは液晶基板等のパターンが微細
化するのに従って、いわゆる粒子汚染のみならず、分子
レベルの汚染が問題となりつつある。分子レベルの汚染
とは、例えば大気中の雰囲気において、半導体ウエハに
自然酸化膜が付着する、あるいは塩基性ガス分子の存在
により半導体ウエハにごく微量のハロゲン化物が生成す
る等の汚染である。半導体ウエハ等の洗浄工程において
使用される代表的な酸性ガスには弗化水素酸（ＨＦ）
が、塩基性ガスにはアンモニア（ＮＨ3 ）が上げられ
る。酸性ガスはＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタの
濾材であるガラス繊維を腐食させ、ガラス繊維から金属
不純物を発生し易くさせ、半導体製造の歩留り低下につ
ながる。塩基性ガスは、リソグラフィ工程におけるパタ
ーンの解像度の劣化を引き起こし、これも又半導体デバ
イス等の歩留り低下につながる。
するのに従って、あるいは液晶基板等のパターンが微細
化するのに従って、いわゆる粒子汚染のみならず、分子
レベルの汚染が問題となりつつある。分子レベルの汚染
とは、例えば大気中の雰囲気において、半導体ウエハに
自然酸化膜が付着する、あるいは塩基性ガス分子の存在
により半導体ウエハにごく微量のハロゲン化物が生成す
る等の汚染である。半導体ウエハ等の洗浄工程において
使用される代表的な酸性ガスには弗化水素酸（ＨＦ）
が、塩基性ガスにはアンモニア（ＮＨ3 ）が上げられ
る。酸性ガスはＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタの
濾材であるガラス繊維を腐食させ、ガラス繊維から金属
不純物を発生し易くさせ、半導体製造の歩留り低下につ
ながる。塩基性ガスは、リソグラフィ工程におけるパタ
ーンの解像度の劣化を引き起こし、これも又半導体デバ
イス等の歩留り低下につながる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は係る上記事情
に鑑みて為されたもので、半導体ウエハあるいはガラス
基板等の高度の清浄度の要求される被処理物を、粒子汚
染及び分子汚染を受けることなく保管又は運搬が可能な
クリーンボックス及びその使用方法を提供することを目
的とする。
に鑑みて為されたもので、半導体ウエハあるいはガラス
基板等の高度の清浄度の要求される被処理物を、粒子汚
染及び分子汚染を受けることなく保管又は運搬が可能な
クリーンボックス及びその使用方法を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンボック
スは、運搬が可能な容器内に、粒子を除去するＨＥＰＡ
フィルタ又はＵＬＰＡフィルタと、酸性または塩基性ガ
スを除去するケミカルフィルタとを備え、前記容器内
に、該容器外部から気体を導入し、前記両フィルタによ
り濾過された気体を流通させ、前記濾過された気体中に
被処理物が収納されるようにしたことを特徴とする。
スは、運搬が可能な容器内に、粒子を除去するＨＥＰＡ
フィルタ又はＵＬＰＡフィルタと、酸性または塩基性ガ
スを除去するケミカルフィルタとを備え、前記容器内
に、該容器外部から気体を導入し、前記両フィルタによ
り濾過された気体を流通させ、前記濾過された気体中に
被処理物が収納されるようにしたことを特徴とする。
【０００６】前記ケミカルフィルタは、イオン交換繊維
を含むことが好ましく、前記ケミカルフィルタは、イオ
ン交換繊維層と活性炭層の２層構造のフィルタであるこ
とが好ましい。
を含むことが好ましく、前記ケミカルフィルタは、イオ
ン交換繊維層と活性炭層の２層構造のフィルタであるこ
とが好ましい。
【０００７】
【作用】本発明のクリーンボックスは、容器内に粒子を
除去するＨＥＰＡ又はＵＬＰＡフィルタを備えるため、
容器内に収納された半導体ウエハあるいはガラス基板等
の被処理物には粒子汚染が防止される。そして、容器内
に不純物ガスを除去するケミカルフィルタを備えること
から、容器内に収納された半導体ウエハあるいはガラス
基板等の被処理物には、分子レベルの汚染が防止され
る。すなわち、上記構成のクリーンボックスによれば、
粒子汚染及び分子汚染の双方が防止される。
除去するＨＥＰＡ又はＵＬＰＡフィルタを備えるため、
容器内に収納された半導体ウエハあるいはガラス基板等
の被処理物には粒子汚染が防止される。そして、容器内
に不純物ガスを除去するケミカルフィルタを備えること
から、容器内に収納された半導体ウエハあるいはガラス
基板等の被処理物には、分子レベルの汚染が防止され
る。すなわち、上記構成のクリーンボックスによれば、
粒子汚染及び分子汚染の双方が防止される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の１実施例について添付図面を
参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施例の
クリーンボックスを示す。このクリーンボックスは、容
器のボックス１に上蓋２を備え、ボックス１と上蓋２間
はＯリング等のシール材３によって密閉される。ボック
ス１の一端部には空気供給口５を備え、ボックス１の他
端部には空気出口６を備える。空気出口６にはチェッキ
弁７を備える。チェッキ弁７は、容器内部の気体の圧力
が高くなると、容器内部の気体は外に流れ出るが、外部
の気体は逆流しないので、容器内の圧力を適当な陽圧に
調整することができる。さらに、容器内には、ファン８
を備え、空気供給口５から供給される清浄空気をボック
ス下流部に送風する。そして、容器内にはケミカルフィ
ルタ１０及びＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１
１の２台のフィルタを重ねて備える。そして、ＨＥＰＡ
フィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１で囲まれた空間が半
導体ウエハあるいはガラス基板等の被処理物４が収納さ
れる清浄な空間である。
参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施例の
クリーンボックスを示す。このクリーンボックスは、容
器のボックス１に上蓋２を備え、ボックス１と上蓋２間
はＯリング等のシール材３によって密閉される。ボック
ス１の一端部には空気供給口５を備え、ボックス１の他
端部には空気出口６を備える。空気出口６にはチェッキ
弁７を備える。チェッキ弁７は、容器内部の気体の圧力
が高くなると、容器内部の気体は外に流れ出るが、外部
の気体は逆流しないので、容器内の圧力を適当な陽圧に
調整することができる。さらに、容器内には、ファン８
を備え、空気供給口５から供給される清浄空気をボック
ス下流部に送風する。そして、容器内にはケミカルフィ
ルタ１０及びＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１
１の２台のフィルタを重ねて備える。そして、ＨＥＰＡ
フィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１で囲まれた空間が半
導体ウエハあるいはガラス基板等の被処理物４が収納さ
れる清浄な空間である。
【０００９】このクリーンボックスに用いるケミカルフ
ィルタ１０としては、イオン交換繊維を用いたもの、活
性炭又は活性炭素繊維フィルタを用いたものが好適であ
る。大気中に含まれる不純物ガスは、以下の反応により
イオン交換し取り除かれる。 Poly-R1 -・H++NH3 → Poly-R1 -・NH4 + （１） Poly-R2・HNO3 → Poly-R2・HNO3 （２） 但し、 Poly ：基材ポリマー R1・H+：強酸性カチオン交換基（Ｈ型） R2 ：弱塩基性アニオン交換基（遊離塩基性） この繊維を用いたフィルタの空隙率は８０％であり、圧
力損失はほとんどない。ケミカルフィルタに用いる活性
炭又は活性炭素繊維は、周知のように、ＨＦ、ＮＨ3 、
ＣＯガス等を吸着させる働きがある。
ィルタ１０としては、イオン交換繊維を用いたもの、活
性炭又は活性炭素繊維フィルタを用いたものが好適であ
る。大気中に含まれる不純物ガスは、以下の反応により
イオン交換し取り除かれる。 Poly-R1 -・H++NH3 → Poly-R1 -・NH4 + （１） Poly-R2・HNO3 → Poly-R2・HNO3 （２） 但し、 Poly ：基材ポリマー R1・H+：強酸性カチオン交換基（Ｈ型） R2 ：弱塩基性アニオン交換基（遊離塩基性） この繊維を用いたフィルタの空隙率は８０％であり、圧
力損失はほとんどない。ケミカルフィルタに用いる活性
炭又は活性炭素繊維は、周知のように、ＨＦ、ＮＨ3 、
ＣＯガス等を吸着させる働きがある。
【００１０】すなわち、図１に示すクリーンボックス
は、クリーンルームの空気をボックス１に取り付けたフ
ァン８により取り入れる。取り入れられた空気に含まれ
る不純物ガスはケミカルフィルタ１０によりＨＦ、ＮＨ
3 、ＨＣｌ、ＳＯX ガス等が取り除かれる。更に、空気
中の不純物ガスを取り除かれた空気は、次のＨＥＰＡフ
ィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１により粒子が除去され
る。クリーンルーム内の空気を取り入れるとすれば、含
まれる粒子数は少なくクリーンボックスに取り付けたＨ
ＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１によりほとん
どの粒子が取り除かれることがわかる。不純物ガス及び
粒子を取り除いた空気は、保管、運搬されるべきウエハ
又はガラス基板等の被処理物が保管される空間に導入さ
れる。ファン８により空気をクリーンボックス内に導入
し続けると、当然ながらボックス内の圧力が高くなる
が、この圧力調整にチェッキ弁を用い、絶えずボックス
内には清浄な空気が流入し続けるようにして、気流が常
に流れ続けるようにする。又Ｏリング等のシール３は、
外の汚れた空気が逆流しないようにするためのものであ
る。
は、クリーンルームの空気をボックス１に取り付けたフ
ァン８により取り入れる。取り入れられた空気に含まれ
る不純物ガスはケミカルフィルタ１０によりＨＦ、ＮＨ
3 、ＨＣｌ、ＳＯX ガス等が取り除かれる。更に、空気
中の不純物ガスを取り除かれた空気は、次のＨＥＰＡフ
ィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１により粒子が除去され
る。クリーンルーム内の空気を取り入れるとすれば、含
まれる粒子数は少なくクリーンボックスに取り付けたＨ
ＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１によりほとん
どの粒子が取り除かれることがわかる。不純物ガス及び
粒子を取り除いた空気は、保管、運搬されるべきウエハ
又はガラス基板等の被処理物が保管される空間に導入さ
れる。ファン８により空気をクリーンボックス内に導入
し続けると、当然ながらボックス内の圧力が高くなる
が、この圧力調整にチェッキ弁を用い、絶えずボックス
内には清浄な空気が流入し続けるようにして、気流が常
に流れ続けるようにする。又Ｏリング等のシール３は、
外の汚れた空気が逆流しないようにするためのものであ
る。
【００１１】図２は、本発明の第２実施例のクリーンボ
ックスを示す。図２に示すクリーンボックスは、窒素
（Ｎ2 ）ガス等の不活性ガスを流し続ける構造にしたも
のである。不活性ガスボンベ等を供給口１３に取付け、
バルブ１４，１５を開きクリーンボックス内にガスを流
し続ける装置である。ボックス内に、ケミカルフィルタ
１０及びＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１を
備えることは第１の実施例と同様である。本実施例にお
いても、第１の実施例と同様にケミカルフィルタ１０に
おいて分子汚染物が取り除かれ、ＨＥＰＡフィルタ又は
ＵＬＰＡフィルタ１１により粒子汚染物が取り除かれ
る。
ックスを示す。図２に示すクリーンボックスは、窒素
（Ｎ2 ）ガス等の不活性ガスを流し続ける構造にしたも
のである。不活性ガスボンベ等を供給口１３に取付け、
バルブ１４，１５を開きクリーンボックス内にガスを流
し続ける装置である。ボックス内に、ケミカルフィルタ
１０及びＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ１１を
備えることは第１の実施例と同様である。本実施例にお
いても、第１の実施例と同様にケミカルフィルタ１０に
おいて分子汚染物が取り除かれ、ＨＥＰＡフィルタ又は
ＵＬＰＡフィルタ１１により粒子汚染物が取り除かれ
る。
【００１２】図１に示す第１実施例の装置は、大気中の
空気を取り込むタイプの装置であるので、クリーンボッ
クス以外の装置としては何もなくてもよい。そして、ク
リーンボックスごと運搬が可能であり、半導体ウエハあ
るいはガラス基板等を清浄雰囲気下に保持したまま移送
することができる。しかし乍ら、大気中の空気を取り込
むタイプの装置であるので、保管運搬中のウエハあるい
はガラス基板に自然酸化膜の付着が危惧される。
空気を取り込むタイプの装置であるので、クリーンボッ
クス以外の装置としては何もなくてもよい。そして、ク
リーンボックスごと運搬が可能であり、半導体ウエハあ
るいはガラス基板等を清浄雰囲気下に保持したまま移送
することができる。しかし乍ら、大気中の空気を取り込
むタイプの装置であるので、保管運搬中のウエハあるい
はガラス基板に自然酸化膜の付着が危惧される。
【００１３】第２実施例のクリーンボックスは、窒素ガ
ス等の不活性ガスを用いるためウエハに自然酸化膜が付
着するという問題はない。しかし乍ら、外部より不活性
ガスを常に導入しなくてはならないので、クリーンボッ
クス以外に不活性ガスのボンベあるいは不活性ガスの供
給源を必要とする。このように第１実施例及び第２実施
例のクリーンボックスにはそれぞれ一長一短があり、使
用目的に合わせ使い分ければよい。
ス等の不活性ガスを用いるためウエハに自然酸化膜が付
着するという問題はない。しかし乍ら、外部より不活性
ガスを常に導入しなくてはならないので、クリーンボッ
クス以外に不活性ガスのボンベあるいは不活性ガスの供
給源を必要とする。このように第１実施例及び第２実施
例のクリーンボックスにはそれぞれ一長一短があり、使
用目的に合わせ使い分ければよい。
【００１４】以上の説明はケミカルフィルタとして、イ
オン交換繊維又は活性炭又は活性炭素繊維のみを示した
が、その他の種類のケミカルフィルタを用いてもよい。
又、ケミカルフィルタとしてイオン交換繊維と活性炭又
は活性炭素繊維のような異種フィルタを組み合わせて用
いても良い。ケミカルフィルタとしては、異種フィルタ
を２種以上組み合わせた方が、取り除く不純物の種類が
増え有利であると考えられる。
オン交換繊維又は活性炭又は活性炭素繊維のみを示した
が、その他の種類のケミカルフィルタを用いてもよい。
又、ケミカルフィルタとしてイオン交換繊維と活性炭又
は活性炭素繊維のような異種フィルタを組み合わせて用
いても良い。ケミカルフィルタとしては、異種フィルタ
を２種以上組み合わせた方が、取り除く不純物の種類が
増え有利であると考えられる。
【００１５】本発明の趣旨は上記実施例に限定されるも
のでなく、例えばＨＥＰＡフィルタに変えて、ＨＥＰＡ
フィルタとＵＬＰＡフィルタとを２層構造としたフィル
タを用いても良い。このように、本発明の趣旨を逸脱す
ることなく種々の変形実施例が可能である。
のでなく、例えばＨＥＰＡフィルタに変えて、ＨＥＰＡ
フィルタとＵＬＰＡフィルタとを２層構造としたフィル
タを用いても良い。このように、本発明の趣旨を逸脱す
ることなく種々の変形実施例が可能である。
【００１６】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、クリーンボックス内の被処理物を粒子汚染のみなら
ず分子汚染からも保護することができ、被処理物を高清
浄度の環境下で保管あるいは運搬することができる。こ
のため、半導体ウエハやガラス基板等の製造歩留りの向
上、品質の向上に寄与するものである。尚、本発明のク
リーンボックスの被処理物としては、半導体ウエハある
いはガラス基板に限られず、医薬、食品等の高清浄度の
要求される産業に広く利用することができる。
ば、クリーンボックス内の被処理物を粒子汚染のみなら
ず分子汚染からも保護することができ、被処理物を高清
浄度の環境下で保管あるいは運搬することができる。こ
のため、半導体ウエハやガラス基板等の製造歩留りの向
上、品質の向上に寄与するものである。尚、本発明のク
リーンボックスの被処理物としては、半導体ウエハある
いはガラス基板に限られず、医薬、食品等の高清浄度の
要求される産業に広く利用することができる。
【図１】本発明の第１実施例のクリーンボックスの構造
を示す断面図。
を示す断面図。
【図２】本発明の第２実施例のクリーンボックスの構造
を示す断面図。
を示す断面図。
１ ボックス
２ 上蓋
３ シール
４ 被処理物
５ 空気供給口
６ 空気出口
７ チェッキ弁
１０ ケミカルフィルタ
１１ ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 竹内 則行
神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号
株式会社 荏原総合研究所内
(72)発明者 関口 英明
東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会
社 荏原製作所内
(56)参考文献 特開 平５−228378（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−47232（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−103946（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−309736（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−309735（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−247207（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−214137（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−32950（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−269334（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−39019（ＪＰ，Ａ)
実開 平４−118121（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/02
B01D 46/00
B01D 53/00
Claims (7)
- 【請求項１】 運搬が可能な容器内に、粒子を除去する
ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタと、酸性または
塩基性ガスを除去するケミカルフィルタとを備え、前記
容器内に、該容器外部から気体を導入し、前記両フィル
タにより濾過された気体を流通させ、前記濾過された気
体中に被処理物が収納されるようにしたことを特徴とす
るクリーンボックス。 - 【請求項２】 前記容器内に流通する気体は、不活性ガ
スであることを特徴とする請求項１記載のクリーンボッ
クス。 - 【請求項３】 前記容器の気体出口に弁を備えたことを
特徴とする請求項１又は２記載のクリーンボックス。 - 【請求項４】 前記容器内が陽圧に保持されることを特
徴とする請求項３記載のクリーンボックス。 - 【請求項５】 前記容器内の気体出口側に更に少なくと
も粒子を除去するフィルタを備えたことを特徴とする請
求項１乃至４のいずれか１項に記載のクリーンボック
ス。 - 【請求項６】 前記ケミカルフィルタは、イオン交換繊
維を含むことを特徴とする請求項１記載のクリーンボッ
クス。 - 【請求項７】 前記ケミカルフィルタは、イオン交換繊
維層と活性炭層の２層構造のフィルタであることを特徴
とする請求項６記載のクリーンボックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08796494A JP3429553B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | クリーンボックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08796494A JP3429553B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | クリーンボックス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07283092A JPH07283092A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3429553B2 true JP3429553B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=13929547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08796494A Expired - Fee Related JP3429553B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | クリーンボックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429553B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999028968A1 (fr) | 1997-12-02 | 1999-06-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Preservation de la proprete des substrats et boite de rangement de substrats |
| TW400303B (en) | 1997-12-03 | 2000-08-01 | Ebara Corp | Clean box |
| JP3916380B2 (ja) | 1999-07-06 | 2007-05-16 | 株式会社荏原製作所 | 基板搬送容器待機ステーション |
| JP2002299427A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | 基板カセット、基板汚染防止装置および半導体装置の製造方法 |
| US6875282B2 (en) | 2001-05-17 | 2005-04-05 | Ebara Corporation | Substrate transport container |
| KR20020089110A (ko) * | 2001-09-04 | 2002-11-29 | 주식회사 일진엔지니어링 | 엘시디기판용 트레이 |
| JP2004214516A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| KR101347895B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2014-01-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치의 제조방법 |
-
1994
- 1994-04-01 JP JP08796494A patent/JP3429553B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07283092A (ja) | 1995-10-27 |
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