JP3428969B2 - 内部気体の漏出遮断構造を備えた容器 - Google Patents
内部気体の漏出遮断構造を備えた容器Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、上部が開口した、
一定の内容積を有する容器本体と、該容器本体上に載置
され、前記開口部を閉塞する蓋体とから構成される容器
において、該容器内から気体が漏出するのを遮断する構
造を備えた容器に関する。
一定の内容積を有する容器本体と、該容器本体上に載置
され、前記開口部を閉塞する蓋体とから構成される容器
において、該容器内から気体が漏出するのを遮断する構
造を備えた容器に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、液晶基板を構成するＴＦＴ基板
は、種々の工程を経て製造され、各工程では、現像液や
レジスト膜の塗布、その剥離用の薬液，エッチング液或
いは洗浄液の塗布など、ＴＦＴ基板に対して各種の処理
液が塗布される。
は、種々の工程を経て製造され、各工程では、現像液や
レジスト膜の塗布、その剥離用の薬液，エッチング液或
いは洗浄液の塗布など、ＴＦＴ基板に対して各種の処理
液が塗布される。
【０００３】この内、例えば、エッチング工程では、基
板を支持する支持手段や、基板の上方に配置され、基板
に対してエッチング液を噴射するエッチング液噴射手段
などを所定の容器内に適宜配設した構成のエッチング装
置が用いられている。尚、前記支持手段には、支持した
基板を水平回転させるようになったものや、基板を水平
方向に搬送するようになったものなどがある。
板を支持する支持手段や、基板の上方に配置され、基板
に対してエッチング液を噴射するエッチング液噴射手段
などを所定の容器内に適宜配設した構成のエッチング装
置が用いられている。尚、前記支持手段には、支持した
基板を水平回転させるようになったものや、基板を水平
方向に搬送するようになったものなどがある。
【０００４】かかるエッチング装置では、容器内部の汚
れを定期的に浄化して、容器内を清潔にする必要があ
り、また、前記支持手段やエッチング液噴射手段を構成
する部品などが損傷した場合には、これを交換する必要
がある。そこで、このようなメンテナンス作業を行なう
ために、前記エッチング装置を構成する容器は、上部が
開口した構造を備えるとともに、この開口部を蓋体によ
って閉塞した構造を備え、その前記上部開口部からメン
テナンス作業を行なうことができるようになっている。
れを定期的に浄化して、容器内を清潔にする必要があ
り、また、前記支持手段やエッチング液噴射手段を構成
する部品などが損傷した場合には、これを交換する必要
がある。そこで、このようなメンテナンス作業を行なう
ために、前記エッチング装置を構成する容器は、上部が
開口した構造を備えるとともに、この開口部を蓋体によ
って閉塞した構造を備え、その前記上部開口部からメン
テナンス作業を行なうことができるようになっている。
【０００５】ところで、上述のエッチングに使用される
エッチング液は腐食性が高く、しかも気化し易いという
性状を備えており、また、エッチング液噴射手段から噴
射される際にミスト状になったりする。そして、このよ
うに気化したエッチングガスやミストが容器外に漏出す
ると、装置周辺の機械，器具や人体に悪影響を与える。
エッチング液は腐食性が高く、しかも気化し易いという
性状を備えており、また、エッチング液噴射手段から噴
射される際にミスト状になったりする。そして、このよ
うに気化したエッチングガスやミストが容器外に漏出す
ると、装置周辺の機械，器具や人体に悪影響を与える。
【０００６】そこで、従来、前記容器の開口部周縁と蓋
体との当接部にパッキンなどのシール部材を介在させ、
この状態で容器と蓋体とを多数のボルトによって締結
し、前記気化ガスやミストが容器外に漏出するのを防止
していた。
体との当接部にパッキンなどのシール部材を介在させ、
この状態で容器と蓋体とを多数のボルトによって締結
し、前記気化ガスやミストが容器外に漏出するのを防止
していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に容器と蓋体とを多数のボルトによって締結した構造で
は、前記気化ガスやミストの漏出防止に対しては相応の
効果を奏するものの、上記メンテナンス作業を行なう際
には、多数のボルトの取り外しと再締結を行なう必要が
あるため、その作業が極めて煩雑なものとなる。また、
このために、メンテナンス作業に長時間を要することと
なり、結果、エッチング装置の稼働率が低下するという
問題を生じる。
に容器と蓋体とを多数のボルトによって締結した構造で
は、前記気化ガスやミストの漏出防止に対しては相応の
効果を奏するものの、上記メンテナンス作業を行なう際
には、多数のボルトの取り外しと再締結を行なう必要が
あるため、その作業が極めて煩雑なものとなる。また、
このために、メンテナンス作業に長時間を要することと
なり、結果、エッチング装置の稼働率が低下するという
問題を生じる。
【０００８】本発明は、以上の実情に鑑みなされたもの
であって、内部気体の漏出を確実に防止することがで
き、しかも蓋体の着脱を容易且つ短時間で行なうことが
できるようになった内部気体の漏出遮断構造を備えた容
器の提供を目的とする。
であって、内部気体の漏出を確実に防止することがで
き、しかも蓋体の着脱を容易且つ短時間で行なうことが
できるようになった内部気体の漏出遮断構造を備えた容
器の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記課題を
解決するための本発明は、上部が開口し、一定の内容積
を有する容器本体と、該容器本体上に載置され、前記開
口部を閉塞する蓋体とから構成される容器であって、前
記容器本体の上端部外周に、上部が開口した環状の凹溝
部を形成し、該凹溝部内に液体を貯留せしめ、且つ、前
記蓋体の周縁に、該周縁部から下方に垂下する垂下部を
形成し、該垂下部を、その下端部が前記凹溝部内の液体
中に浸漬された状態で前記容器本体の上端部に外嵌可能
に構成するとともに、前記蓋体の下面に向けて洗浄液を
噴射する洗浄液噴射ノズルを設けて構成したことを特徴
とする内部気体の漏出遮断構造を備えた容器に係る。
解決するための本発明は、上部が開口し、一定の内容積
を有する容器本体と、該容器本体上に載置され、前記開
口部を閉塞する蓋体とから構成される容器であって、前
記容器本体の上端部外周に、上部が開口した環状の凹溝
部を形成し、該凹溝部内に液体を貯留せしめ、且つ、前
記蓋体の周縁に、該周縁部から下方に垂下する垂下部を
形成し、該垂下部を、その下端部が前記凹溝部内の液体
中に浸漬された状態で前記容器本体の上端部に外嵌可能
に構成するとともに、前記蓋体の下面に向けて洗浄液を
噴射する洗浄液噴射ノズルを設けて構成したことを特徴
とする内部気体の漏出遮断構造を備えた容器に係る。
【００１０】この発明によれば、蓋体の周縁に形成した
垂下部を、その下端部が凹溝部内に貯留せしめた液体中
に浸漬されるように、容器本体の上端部に外嵌せしめる
ことにより、容器内雰囲気と外部雰囲気とが凹溝部内の
液体によって遮断される。容器内雰囲気は容器本体と蓋
体との間の隙間から凹溝部内の液体と接触可能である
が、直接外部雰囲気と連通することはない。これによ
り、容器内の気体が外部に漏出するのが確実に防止され
る。また、蓋体は容器本体上に載置されているだけであ
るので、その取り外しが容易であり、これを短時間のう
ちに取り外すことができる。
垂下部を、その下端部が凹溝部内に貯留せしめた液体中
に浸漬されるように、容器本体の上端部に外嵌せしめる
ことにより、容器内雰囲気と外部雰囲気とが凹溝部内の
液体によって遮断される。容器内雰囲気は容器本体と蓋
体との間の隙間から凹溝部内の液体と接触可能である
が、直接外部雰囲気と連通することはない。これによ
り、容器内の気体が外部に漏出するのが確実に防止され
る。また、蓋体は容器本体上に載置されているだけであ
るので、その取り外しが容易であり、これを短時間のう
ちに取り外すことができる。
【００１１】ところで、容器内部に気化ガスや液体がミ
スト状になったものが存在する場合、この気化ガスやミ
ストが凹溝内の液体に対し可溶であれば、凹溝内の液体
と接触した際にこれに溶融するが、容器内の気化ガスや
ミストがそのまま外部に漏出することはない。したがっ
て、例え、これが現像液，エッチング液や剥離液といっ
た極めて腐食性が高いものであったとしても、容器周辺
の機械，器具や人体に悪影響を与えることはない。
スト状になったものが存在する場合、この気化ガスやミ
ストが凹溝内の液体に対し可溶であれば、凹溝内の液体
と接触した際にこれに溶融するが、容器内の気化ガスや
ミストがそのまま外部に漏出することはない。したがっ
て、例え、これが現像液，エッチング液や剥離液といっ
た極めて腐食性が高いものであったとしても、容器周辺
の機械，器具や人体に悪影響を与えることはない。
【００１２】また、蓋体の下面に向けて洗浄液を噴射す
る洗浄液噴射ノズルを設けているので、蓋体を取り外す
前に、この洗浄液噴射ノズルから蓋体の下面に向けて洗
浄液を噴射させることにより、蓋体の下面に付着した前
記ミストが洗い流され、蓋体を取り外す際に、これが外
部に持ち出されるのが防止される。
る洗浄液噴射ノズルを設けているので、蓋体を取り外す
前に、この洗浄液噴射ノズルから蓋体の下面に向けて洗
浄液を噴射させることにより、蓋体の下面に付着した前
記ミストが洗い流され、蓋体を取り外す際に、これが外
部に持ち出されるのが防止される。
【００１３】尚、上記構成に加えて、前記蓋体の外周縁
より内側の下面に、前記垂下部に沿って前記下面から下
方に垂下する第２垂下部を形成し、該第２垂下部を前記
容器本体の上端部に内嵌させるようにしても良い。この
ようにすれば、前記蓋体の垂下部と第２垂下部との間に
容器本体の上端部が挿入された状態のラビリンス構造が
形成され、容器本体内の気化ガスやミストが前記凹溝内
の液体により達し難くなる。
より内側の下面に、前記垂下部に沿って前記下面から下
方に垂下する第２垂下部を形成し、該第２垂下部を前記
容器本体の上端部に内嵌させるようにしても良い。この
ようにすれば、前記蓋体の垂下部と第２垂下部との間に
容器本体の上端部が挿入された状態のラビリンス構造が
形成され、容器本体内の気化ガスやミストが前記凹溝内
の液体により達し難くなる。
【００１４】また、上記構成の容器において、前記容器
本体の上縁部に、弾性体からなり、前記蓋体の内面に気
密状に当接する環状のシール部材を設けた構成としても
良い。このようにすれば、容器本体の上縁部に設けた環
状のシール部材によって、容器本体内の気体が外部に漏
出するのが防止される。したがって、容器内部に気化ガ
スやミストが存在する場合でも、かかる気化ガスやミス
トは更に前記凹溝内の液体に達し難くい。
本体の上縁部に、弾性体からなり、前記蓋体の内面に気
密状に当接する環状のシール部材を設けた構成としても
良い。このようにすれば、容器本体の上縁部に設けた環
状のシール部材によって、容器本体内の気体が外部に漏
出するのが防止される。したがって、容器内部に気化ガ
スやミストが存在する場合でも、かかる気化ガスやミス
トは更に前記凹溝内の液体に達し難くい。
【００１５】また、上記構成の容器において、前記凹溝
内に液体を供給する液体供給手段を設けるとともに、凹
溝内の液体を排出する液体排出手段を設けた構成として
も良い。
内に液体を供給する液体供給手段を設けるとともに、凹
溝内の液体を排出する液体排出手段を設けた構成として
も良い。
【００１６】上述したように、容器内部に気化ガスやミ
ストが存在する場合、この気化ガスやミストが凹溝内の
液体に対し可溶であれば、凹溝内の液体と接触した際に
これに溶融する。したがって、これを放置すると、凹溝
内の液体に溶融する気化ガス成分やミスト成分の濃度が
増加することになる。
ストが存在する場合、この気化ガスやミストが凹溝内の
液体に対し可溶であれば、凹溝内の液体と接触した際に
これに溶融する。したがって、これを放置すると、凹溝
内の液体に溶融する気化ガス成分やミスト成分の濃度が
増加することになる。
【００１７】上記のように液体供給手段及び液体排出手
段を設ければ、前記凹溝内の液体を連続的に新しい液体
によって置換することができるので、凹溝内の液体に溶
融する気化ガス成分やミスト成分の濃度が増加するのを
防止することができる。
段を設ければ、前記凹溝内の液体を連続的に新しい液体
によって置換することができるので、凹溝内の液体に溶
融する気化ガス成分やミスト成分の濃度が増加するのを
防止することができる。
【００１８】尚、上述した外嵌とは、垂下部が容器本体
の上端部に対し、しっくりと嵌め合わされる場合の他、
かなりの遊びをもって嵌め合わされる場合を含み、内嵌
も同様に、第２垂下部が前記容器本体の上端部に対し、
しっくりと嵌め合わされる場合の他、かなりの遊びをも
って嵌め合わされる場合を含む。
の上端部に対し、しっくりと嵌め合わされる場合の他、
かなりの遊びをもって嵌め合わされる場合を含み、内嵌
も同様に、第２垂下部が前記容器本体の上端部に対し、
しっくりと嵌め合わされる場合の他、かなりの遊びをも
って嵌め合わされる場合を含む。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
について、添付図面に基づき説明する。図１は、本発明
の一実施形態に係るエッチング装置を示した平面図であ
り、図２は、図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図であ
り、図３は、図２におけるＡ部を拡大して示した拡大図
である。
について、添付図面に基づき説明する。図１は、本発明
の一実施形態に係るエッチング装置を示した平面図であ
り、図２は、図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図であ
り、図３は、図２におけるＡ部を拡大して示した拡大図
である。
【００２０】本例のエッチング装置１はＴＦＴ基板にエ
ッチング処理を施す装置であって、図１及び図２に示す
ように、上部が開口した容器本体（以下、槽本体とい
う）３と、この槽本体３の開口部１１を閉塞する閉蓋２
０とからなる容器（以下、エッチング槽という）２、前
記槽本体３内に配設されたエッチング液噴射装置４０、
及び基板Ｋを水平方向に搬送する搬送装置５０などから
なる。また、図１に示すように、本例のエッチング装置
１は、その複数が直線状に連設されている。
ッチング処理を施す装置であって、図１及び図２に示す
ように、上部が開口した容器本体（以下、槽本体とい
う）３と、この槽本体３の開口部１１を閉塞する閉蓋２
０とからなる容器（以下、エッチング槽という）２、前
記槽本体３内に配設されたエッチング液噴射装置４０、
及び基板Ｋを水平方向に搬送する搬送装置５０などから
なる。また、図１に示すように、本例のエッチング装置
１は、その複数が直線状に連設されている。
【００２１】図１乃至図３に示すように、前記槽本体３
は、矩形状をした底板８と、この底板８の周縁に立設せ
しめられた側面板４，５，６，７と、底板８の上方にこ
れに対向して配設された天板９からなり、これら底板
８、側面板４，５，６，７及び天板９によって囲繞され
た所定の内容積を有している。
は、矩形状をした底板８と、この底板８の周縁に立設せ
しめられた側面板４，５，６，７と、底板８の上方にこ
れに対向して配設された天板９からなり、これら底板
８、側面板４，５，６，７及び天板９によって囲繞され
た所定の内容積を有している。
【００２２】前記側面板４，５，６，７はそれぞれ前記
天板９から上方に延出した状態に設けられており、図１
及び図２では、当該各延出部に符号４ａ，５ａ，６ａ，
７ａを付している。また、天板９は矩形状をした開口部
１１を備えており、この開口部１１の周縁に縁板１０が
立設せしめられている。斯くして、これら延出部４ａ，
５ａ，６ａ，７ａ、天板９及び縁板１０によって、前記
開口部１１の周りに環状の凹溝１２が形成される。ま
た、前記縁板１０の上端部には、横断面Ｈ形状をしたパ
ッキン３０が装着され、更に、パッキン３０の上溝３０
ａ内にＯリング３１が内装されている。
天板９から上方に延出した状態に設けられており、図１
及び図２では、当該各延出部に符号４ａ，５ａ，６ａ，
７ａを付している。また、天板９は矩形状をした開口部
１１を備えており、この開口部１１の周縁に縁板１０が
立設せしめられている。斯くして、これら延出部４ａ，
５ａ，６ａ，７ａ、天板９及び縁板１０によって、前記
開口部１１の周りに環状の凹溝１２が形成される。ま
た、前記縁板１０の上端部には、横断面Ｈ形状をしたパ
ッキン３０が装着され、更に、パッキン３０の上溝３０
ａ内にＯリング３１が内装されている。
【００２３】前記閉蓋２０は、矩形状をした蓋本体２１
と、この蓋本体２１の周縁に、これから下方に垂下せし
められた第１垂下部２２と、前記蓋本体２１の周縁より
内側の下面に、前記第１垂下部２２と平行にこれに沿っ
て垂下せしめられた第２垂下部２３からなる。そして、
この閉蓋２０は、第１垂下部２２，第２垂下部２３間に
前記槽本体３の縁板１０が挿入された状態、即ち、第１
垂下部２２が縁板１０に外嵌され、且つ第２垂下部２３
が縁板１０に内嵌された状態で、その下面がＯリング３
１と気密的に当接するように当該Ｏリング３１上に載置
され、前記槽本体３の開口部１１を閉塞する。
と、この蓋本体２１の周縁に、これから下方に垂下せし
められた第１垂下部２２と、前記蓋本体２１の周縁より
内側の下面に、前記第１垂下部２２と平行にこれに沿っ
て垂下せしめられた第２垂下部２３からなる。そして、
この閉蓋２０は、第１垂下部２２，第２垂下部２３間に
前記槽本体３の縁板１０が挿入された状態、即ち、第１
垂下部２２が縁板１０に外嵌され、且つ第２垂下部２３
が縁板１０に内嵌された状態で、その下面がＯリング３
１と気密的に当接するように当該Ｏリング３１上に載置
され、前記槽本体３の開口部１１を閉塞する。
【００２４】尚、蓋本体２１の上面には取手２４が固設
されており、この取手２４を把持して閉蓋２０を槽本体
３に対して着脱することができるようになっている。ま
た、蓋本体２１には、透明な板材によって閉じられた覗
き窓２５が形成されており、この覗き窓２５から槽本体
３内を観察することができるようになっている。
されており、この取手２４を把持して閉蓋２０を槽本体
３に対して着脱することができるようになっている。ま
た、蓋本体２１には、透明な板材によって閉じられた覗
き窓２５が形成されており、この覗き窓２５から槽本体
３内を観察することができるようになっている。
【００２５】前記槽本体３の凹溝１２内には、給水源
（図示せず）に接続された吐水部３５が配設されてお
り、この吐水部３５から凹溝１２内に水が吐出されるよ
うになっている。また、同凹溝１２内には、排水部３６
が設けられており、前記吐水部３５から凹溝１２内に吐
出され、貯留された水がこの排水部３６から排水される
ようになっている。尚、凹溝１２内に貯留される水量
は、その水位が前記第１垂下部２２の下端より上方に位
置するように保たれる。
（図示せず）に接続された吐水部３５が配設されてお
り、この吐水部３５から凹溝１２内に水が吐出されるよ
うになっている。また、同凹溝１２内には、排水部３６
が設けられており、前記吐水部３５から凹溝１２内に吐
出され、貯留された水がこの排水部３６から排水される
ようになっている。尚、凹溝１２内に貯留される水量
は、その水位が前記第１垂下部２２の下端より上方に位
置するように保たれる。
【００２６】図２に示すように、前記搬送装置５０は、
上下に並設され、且つ紙面に対し直交する方向に多列に
配設された搬送ローラ５１，５２を備えてなり、基板Ｋ
を搬送ローラ５１，５２間に挟持した状態で、紙面に対
して直交する方向（図１における矢示Ｃ方向）に搬送す
る。
上下に並設され、且つ紙面に対し直交する方向に多列に
配設された搬送ローラ５１，５２を備えてなり、基板Ｋ
を搬送ローラ５１，５２間に挟持した状態で、紙面に対
して直交する方向（図１における矢示Ｃ方向）に搬送す
る。
【００２７】同図２に示すように、前記エッチング液噴
射装置４０は、複数のエッチング液噴射ノズル４１と、
加圧されたエッチング液を前記エッチング液噴射ノズル
４１に供給するエッチング液供給手段（図示せず）など
からなる。エッチング液噴射ノズル４１は、搬送ローラ
５１，５２によって搬送される基板Ｋの上方に、その幅
方向及び搬送方向に沿って配列され、搬送ローラ５１，
５２によって搬送される基板Ｋの上面にエッチング液を
噴射する。尚、基板Ｋの搬送方向に沿ったその両側に
は、それぞれ適宜洗浄液供給手段（図示せず）に接続さ
れた洗浄液噴射ノズル４２が配列されており、この洗浄
液噴射ノズル４２から前記蓋本体２１の下面及び第２垂
下部２３に向けて洗浄液が噴射されるようになってい
る。
射装置４０は、複数のエッチング液噴射ノズル４１と、
加圧されたエッチング液を前記エッチング液噴射ノズル
４１に供給するエッチング液供給手段（図示せず）など
からなる。エッチング液噴射ノズル４１は、搬送ローラ
５１，５２によって搬送される基板Ｋの上方に、その幅
方向及び搬送方向に沿って配列され、搬送ローラ５１，
５２によって搬送される基板Ｋの上面にエッチング液を
噴射する。尚、基板Ｋの搬送方向に沿ったその両側に
は、それぞれ適宜洗浄液供給手段（図示せず）に接続さ
れた洗浄液噴射ノズル４２が配列されており、この洗浄
液噴射ノズル４２から前記蓋本体２１の下面及び第２垂
下部２３に向けて洗浄液が噴射されるようになってい
る。
【００２８】以上の構成を備えた本例のエッチング装置
１によると、搬送ローラ５１，５２によって基板Ｋがそ
の搬送方向に搬送され、搬送される基板Ｋの上面にエッ
チング液噴射ノズル４１からエッチング液が噴射され
る。尚、基板Ｋは直線状に連設されるエッチング装置１
に順次搬送され、各エッチング装置１においてそれぞれ
エッチングされる。
１によると、搬送ローラ５１，５２によって基板Ｋがそ
の搬送方向に搬送され、搬送される基板Ｋの上面にエッ
チング液噴射ノズル４１からエッチング液が噴射され
る。尚、基板Ｋは直線状に連設されるエッチング装置１
に順次搬送され、各エッチング装置１においてそれぞれ
エッチングされる。
【００２９】ところで、エッチング液は、気化し易いと
いう性状を備えており、また、エッチング液噴射ノズル
４１から噴射される際にミスト状になったりする。そし
て、このように気化したエッチングガスやミストが槽本
体３内に充満する。かかる気化したエッチングガスやミ
ストは極めて腐食性が高く、これが槽本体３から外部に
漏出すると、装置周辺の機械，器具や人体に悪影響を与
える。
いう性状を備えており、また、エッチング液噴射ノズル
４１から噴射される際にミスト状になったりする。そし
て、このように気化したエッチングガスやミストが槽本
体３内に充満する。かかる気化したエッチングガスやミ
ストは極めて腐食性が高く、これが槽本体３から外部に
漏出すると、装置周辺の機械，器具や人体に悪影響を与
える。
【００３０】本例のエッチング装置１によれば、槽本体
３を構成する縁板１０の上端部に、パッキン３０を装着
し、装着したパッキン３０の上溝３０ａ内にＯリング３
１を内装し、このＯリング３１に対して気密的に当接し
た状態で、当該Ｏリング３１上に閉蓋２０を載置せしめ
た構造としているので、槽本体３内の雰囲気とその外部
の雰囲気とが、このＯリング３１によって遮断される。
したがって、前記エッチングガスやミストが槽本体３内
から外部に漏出するのが、かかるＯリングによって１次
的に防止される。
３を構成する縁板１０の上端部に、パッキン３０を装着
し、装着したパッキン３０の上溝３０ａ内にＯリング３
１を内装し、このＯリング３１に対して気密的に当接し
た状態で、当該Ｏリング３１上に閉蓋２０を載置せしめ
た構造としているので、槽本体３内の雰囲気とその外部
の雰囲気とが、このＯリング３１によって遮断される。
したがって、前記エッチングガスやミストが槽本体３内
から外部に漏出するのが、かかるＯリングによって１次
的に防止される。
【００３１】また、本例のエッチング装置１では、槽本
体３の開口部１１の周りに環状の凹溝１２を形成すると
ともに、この凹溝１２内に水を貯留せしめ、閉蓋２０の
第１垂下部２２下端を、この水内に浸漬せしめた構造と
しているので、槽本体３内の雰囲気と外部の雰囲気と
が、かかる凹溝１２内の水によって遮断される。閉蓋２
０はＯリング３１上に載置されているだけであるので、
蓋本体２１とＯリング３１との間の気密性は必ずしも十
分なものではなく、蓋本体２１下面とＯリング３１との
間に生じた隙間から、槽本体３内のエッチングガスやミ
ストが外部に漏出するおそれがある。しかしながら、本
例のエッチング装置１では、上述したように、第１垂下
部２２，縁板１０，パッキン３０及びＯリング３１によ
り囲まれる雰囲気が、凹溝１２内に貯留せしめた水によ
って外部雰囲気と遮断されているので、蓋本体２１下面
とＯリング３１との間の隙間から漏出したエッチングガ
スやミストの外部への漏出が凹溝１２内の水によって２
次的に阻止される。斯くして、かかる凹溝１２内の水及
び前記Ｏリング３１の協働作用によって、槽本体３内に
存在するエッチングガスやミストの外部への漏出が確実
に防止される。
体３の開口部１１の周りに環状の凹溝１２を形成すると
ともに、この凹溝１２内に水を貯留せしめ、閉蓋２０の
第１垂下部２２下端を、この水内に浸漬せしめた構造と
しているので、槽本体３内の雰囲気と外部の雰囲気と
が、かかる凹溝１２内の水によって遮断される。閉蓋２
０はＯリング３１上に載置されているだけであるので、
蓋本体２１とＯリング３１との間の気密性は必ずしも十
分なものではなく、蓋本体２１下面とＯリング３１との
間に生じた隙間から、槽本体３内のエッチングガスやミ
ストが外部に漏出するおそれがある。しかしながら、本
例のエッチング装置１では、上述したように、第１垂下
部２２，縁板１０，パッキン３０及びＯリング３１によ
り囲まれる雰囲気が、凹溝１２内に貯留せしめた水によ
って外部雰囲気と遮断されているので、蓋本体２１下面
とＯリング３１との間の隙間から漏出したエッチングガ
スやミストの外部への漏出が凹溝１２内の水によって２
次的に阻止される。斯くして、かかる凹溝１２内の水及
び前記Ｏリング３１の協働作用によって、槽本体３内に
存在するエッチングガスやミストの外部への漏出が確実
に防止される。
【００３２】ところで、蓋本体２１下面とＯリング３１
との間の隙間から漏れ出たエッチングガスやミストが、
凹溝１２内の水に対し可溶であれば、凹溝１２内の水と
接触した際にこれに溶融するが、かかるエッチングガス
やミストがそのまま外部に漏出することはない。したが
って、例え、これが極めて腐食性が高いものであったと
しても、容器周辺の機械，器具や人体に悪影響を与える
ことはない。
との間の隙間から漏れ出たエッチングガスやミストが、
凹溝１２内の水に対し可溶であれば、凹溝１２内の水と
接触した際にこれに溶融するが、かかるエッチングガス
やミストがそのまま外部に漏出することはない。したが
って、例え、これが極めて腐食性が高いものであったと
しても、容器周辺の機械，器具や人体に悪影響を与える
ことはない。
【００３３】その一方、これを放置すると、凹溝１２内
の水に溶融するエッチングガスやミスト成分の濃度が増
加することになる。本例では、吐水部３５から凹溝１２
内に水を供給する一方、凹溝１２内に貯留された水を排
水部３６から排水して、凹溝１２内の水を連続的に新し
い水によって置換するようにしているので、凹溝１２内
の水に溶融するエッチングガスやミスト成分の濃度が増
加するのを防止することができる。
の水に溶融するエッチングガスやミスト成分の濃度が増
加することになる。本例では、吐水部３５から凹溝１２
内に水を供給する一方、凹溝１２内に貯留された水を排
水部３６から排水して、凹溝１２内の水を連続的に新し
い水によって置換するようにしているので、凹溝１２内
の水に溶融するエッチングガスやミスト成分の濃度が増
加するのを防止することができる。
【００３４】また、前記閉蓋２０の第１垂下部２２と第
２垂下部２３との間に槽本体３の縁板１０を挿入した状
態にしているので、これらによってラビリンス構造が形
成され、槽本体３内のエッチングガスやミストが蓋本体
２１下面とＯリング３１との間に生じた隙間により達し
難いものとなっている。したがって、かかる構造によっ
ても、槽本体３内のエッチングガスやミストの外部への
漏出が防止される。
２垂下部２３との間に槽本体３の縁板１０を挿入した状
態にしているので、これらによってラビリンス構造が形
成され、槽本体３内のエッチングガスやミストが蓋本体
２１下面とＯリング３１との間に生じた隙間により達し
難いものとなっている。したがって、かかる構造によっ
ても、槽本体３内のエッチングガスやミストの外部への
漏出が防止される。
【００３５】また、本例では、蓋本体２１を取り外す前
に、洗浄液噴射ノズル４２から蓋本体２１の下面及び第
２垂下部２３に向けて洗浄液が噴射される。これによ
り、蓋本体２１の下面や第２垂下部２３に付着したエッ
チング液が洗い流され、蓋本体２１を取り外す際に、エ
ッチング液が外部に持ち出されるのが防止される。
に、洗浄液噴射ノズル４２から蓋本体２１の下面及び第
２垂下部２３に向けて洗浄液が噴射される。これによ
り、蓋本体２１の下面や第２垂下部２３に付着したエッ
チング液が洗い流され、蓋本体２１を取り外す際に、エ
ッチング液が外部に持ち出されるのが防止される。
【００３６】更に、閉蓋２０は槽本体３上に載置されて
いるだけであるので、その取り外しが容易であり、これ
を短時間のうちに取り外すことができる。したがって、
エッチング装置１内のメンテナンス作業を容易に行なう
ことができる。
いるだけであるので、その取り外しが容易であり、これ
を短時間のうちに取り外すことができる。したがって、
エッチング装置１内のメンテナンス作業を容易に行なう
ことができる。
【００３７】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限
定されるものではない。例えば、上例では、本発明をエ
ッチング装置において具現化したが、これに限るもので
はなく、本発明は、この他に、例えば、現像液塗布装
置，レジスト膜形成装置，レジスト膜剥離装置や洗浄装
置など各種の装置に適用することができる。
たが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限
定されるものではない。例えば、上例では、本発明をエ
ッチング装置において具現化したが、これに限るもので
はなく、本発明は、この他に、例えば、現像液塗布装
置，レジスト膜形成装置，レジスト膜剥離装置や洗浄装
置など各種の装置に適用することができる。
【図１】本発明の一実施形態に係るエッチング装置を示
した平面図である。
した平面図である。
【図２】図１における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【図３】図２におけるＡ部を拡大して示した拡大図であ
る。
る。
１ エッチング装置
２ エッチング槽（容器）
３ 槽本体（容器本体）
４，５，６，７ 側面板
８ 底板
９ 天板
１０ 縁板
１１ 開口部
１２ 凹溝
２０ 閉蓋
２１ 蓋本体
２２ 第１垂下部
２３ 第２垂下部
３０ パッキン
３１ Ｏリング
３５ 吐水部
３６ 排水部
４０ エッチング液噴射装置
５０ 搬送装置
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−315478（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−152525（ＪＰ，Ａ)
実開 昭63−180927（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/304,21/306,21/308
Claims (4)
- 【請求項１】 上部が開口し、一定の内容積を有する容
器本体と、該容器本体上に載置され、前記開口部を閉塞
する蓋体とから構成される容器であって、 前記容器本体の上端部外周に、上部が開口した環状の凹
溝部を形成し、該凹溝部内に液体を貯留せしめ、且つ、
前記蓋体の周縁に、該周縁部から下方に垂下する垂下部
を形成し、該垂下部を、その下端部が前記凹溝部内の液
体中に浸漬された状態で前記容器本体の上端部に外嵌可
能に構成するとともに、 前記蓋体の下面に向けて洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノ
ズルを設けて構成したことを特徴とする内部気体の漏出
遮断構造を備えた容器。 - 【請求項２】 前記蓋体の外周縁より内側の下面に、前
記垂下部に沿って前記下面から下方に垂下する第２垂下
部を形成し、該第２垂下部を前記容器本体の上端部に内
嵌可能に構成するとともに、前記洗浄液噴射ノズルから
前記蓋体の下面及び前記第２垂下部に向けて洗浄液が噴
射されるように構成したことを特徴とする請求項１記載
の内部気体の漏出遮断構造を備えた容器。 - 【請求項３】 前記容器本体の上縁部に、弾性体からな
り、前記蓋体の内面に気密状に当接する環状のシール部
材を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の内部
気体の漏出遮断構造を備えた容器。 - 【請求項４】 前記凹溝内に液体を供給する液体供給手
段を設けるとともに、凹溝内の液体を排出する液体排出
手段を設けたことを特徴とする請求項１乃至３記載のい
ずれかの内部気体の漏出遮断構造を備えた容器。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001099127A JP3428969B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 内部気体の漏出遮断構造を備えた容器 |
| TW091104160A TW535201B (en) | 2001-03-30 | 2002-03-06 | Method of cutting out leakage of container gas and container with internal gas leakage cutout structure |
| PCT/JP2002/002222 WO2002082520A1 (fr) | 2001-03-30 | 2002-03-08 | Procede d'isolement de fuite dans un conteneur de gaz et conteneur comprenant une structure d'isolement de fuite de gaz interne |
| CNB028000307A CN1215536C (zh) | 2001-03-30 | 2002-03-08 | 容器内气体的外漏阻绝方法以及具备内部气体的外漏阻绝构造的容器 |
| KR1020027011887A KR20030023614A (ko) | 2001-03-30 | 2002-03-08 | 용기 내 기체의 누출 차단 방법 및 내부 기체의 누출 차단구조를 구비한 용기 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001099127A JP3428969B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 内部気体の漏出遮断構造を備えた容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002299311A JP2002299311A (ja) | 2002-10-11 |
| JP3428969B2 true JP3428969B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=18952712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001099127A Expired - Lifetime JP3428969B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 内部気体の漏出遮断構造を備えた容器 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3428969B2 (ja) |
| KR (1) | KR20030023614A (ja) |
| CN (1) | CN1215536C (ja) |
| TW (1) | TW535201B (ja) |
| WO (1) | WO2002082520A1 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0410690Y2 (ja) * | 1987-05-14 | 1992-03-17 | ||
| TW322605B (ja) * | 1995-12-07 | 1997-12-11 | Tokyo Electron Co Ltd |
-
2001
- 2001-03-30 JP JP2001099127A patent/JP3428969B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-03-06 TW TW091104160A patent/TW535201B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-03-08 CN CNB028000307A patent/CN1215536C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-08 KR KR1020027011887A patent/KR20030023614A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-03-08 WO PCT/JP2002/002222 patent/WO2002082520A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1455949A (zh) | 2003-11-12 |
| KR20030023614A (ko) | 2003-03-19 |
| CN1215536C (zh) | 2005-08-17 |
| TW535201B (en) | 2003-06-01 |
| JP2002299311A (ja) | 2002-10-11 |
| WO2002082520A1 (fr) | 2002-10-17 |
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