JP3415313B2 - 連続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使用する連続鋳造方法 - Google Patents
連続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使用する連続鋳造方法Info
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- JP3415313B2 JP3415313B2 JP02041495A JP2041495A JP3415313B2 JP 3415313 B2 JP3415313 B2 JP 3415313B2 JP 02041495 A JP02041495 A JP 02041495A JP 2041495 A JP2041495 A JP 2041495A JP 3415313 B2 JP3415313 B2 JP 3415313B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、溶融金属特に溶鋼中
の非金属介在物（スラグを含む）の分離促進に有利な連
続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使
用する連続鋳造方法に関するものである。
の非金属介在物（スラグを含む）の分離促進に有利な連
続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使
用する連続鋳造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】これまで、鋼の連続鋳造に際し、溶鋼段
階で非金属介在物を分離除去するために、タンディッシ
ュで種々の工夫がなされている。
階で非金属介在物を分離除去するために、タンディッシ
ュで種々の工夫がなされている。
【０００３】例えば、特開平１−312024号公報（溶融金
属中の非金属介在物の除去装置）には、溶融金属を水平
回転させる回流槽とこれに連接して非金属介在物を浮上
させる流出口を備えた浮上槽とからなる非金属介在物の
除去装置が、特開平３−110059号公報（溶融金属の不純
物除去方法とその装置）には、第一容器で溶融金属に水
平回転流を与えたのち、第二容器で溶融金属を加熱する
不純物の除去手段がそれぞれ提案開示されている。
属中の非金属介在物の除去装置）には、溶融金属を水平
回転させる回流槽とこれに連接して非金属介在物を浮上
させる流出口を備えた浮上槽とからなる非金属介在物の
除去装置が、特開平３−110059号公報（溶融金属の不純
物除去方法とその装置）には、第一容器で溶融金属に水
平回転流を与えたのち、第二容器で溶融金属を加熱する
不純物の除去手段がそれぞれ提案開示されている。
【０００４】しかしながら、これらの手段では、鋳造時
間の経過、特に連々鋳での時間の経過とともに、溶鋼を
水平回転させて非金属介在物を分離する回流槽あるいは
第一容器に、その分離されたスラグや非金属介在物が多
量に蓄積されるようになり、これらのスラグが溶鋼と反
応してその溶鋼を再酸化させ、酸素の低減すなわち非金
属介在物の少ない清浄な鋳片が得られなくなるという問
題を抱えていた。
間の経過、特に連々鋳での時間の経過とともに、溶鋼を
水平回転させて非金属介在物を分離する回流槽あるいは
第一容器に、その分離されたスラグや非金属介在物が多
量に蓄積されるようになり、これらのスラグが溶鋼と反
応してその溶鋼を再酸化させ、酸素の低減すなわち非金
属介在物の少ない清浄な鋳片が得られなくなるという問
題を抱えていた。
【０００５】さらに、鋳造開始初期においては、短時間
にタンディッシュを溶鋼で満杯にしたのち、鋳造を開始
するが、この鋳造開始時の溶鋼は、タンディッシュ内の
残鋼や残スラグによって汚染されて非金属介在物が多く
なり清浄度が劣化するという現象がある。
にタンディッシュを溶鋼で満杯にしたのち、鋳造を開始
するが、この鋳造開始時の溶鋼は、タンディッシュ内の
残鋼や残スラグによって汚染されて非金属介在物が多く
なり清浄度が劣化するという現象がある。
【０００６】この現象に対し、上記した特開平１−3120
24号公報の開示例では、鋳造開始初期には、回流槽での
回転流による非金属介在物の分離作用をほとんど受けな
い溶鋼が浮上槽流出口から流出して鋳造されるため、鋳
造初期鋳片は清浄度の向上ができないという問題があっ
た。
24号公報の開示例では、鋳造開始初期には、回流槽での
回転流による非金属介在物の分離作用をほとんど受けな
い溶鋼が浮上槽流出口から流出して鋳造されるため、鋳
造初期鋳片は清浄度の向上ができないという問題があっ
た。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、前記した
問題点を有利に解決しようとするもので、長時間鋳造時
の回流槽でのスラグによる溶鋼の再酸化と、鋳造開始時
の鋳片の清浄度の劣化などを防止できる連続鋳造用タン
ディッシュとそのタンディッシュを使用する連続鋳造方
法を提案することを目的とする。
問題点を有利に解決しようとするもので、長時間鋳造時
の回流槽でのスラグによる溶鋼の再酸化と、鋳造開始時
の鋳片の清浄度の劣化などを防止できる連続鋳造用タン
ディッシュとそのタンディッシュを使用する連続鋳造方
法を提案することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明の要旨とすると
ころは以下の通りである。
ころは以下の通りである。
【０００９】 溶融金属の供給を受け、電磁力によっ
てその溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の
非金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通す
る開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズ
ルを備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュ
であって、上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ
浮遊しているスラグの交流を自在とする切欠きを該仕切
り堰の上部に設けてなる連続鋳造用タンディッシュであ
る（第１発明）。
てその溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の
非金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通す
る開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズ
ルを備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュ
であって、上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ
浮遊しているスラグの交流を自在とする切欠きを該仕切
り堰の上部に設けてなる連続鋳造用タンディッシュであ
る（第１発明）。
【００１０】 溶融金属の供給を受け、電磁力によっ
てその溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の
非金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通す
る開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズ
ルを備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュ
であって、上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ
の溶融金属および浮遊しているスラグの交流を自在とす
る切欠きを仕切り堰に設けてなる連続鋳造用タンディッ
シュである（第２発明）。
てその溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の
非金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通す
る開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズ
ルを備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュ
であって、上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ
の溶融金属および浮遊しているスラグの交流を自在とす
る切欠きを仕切り堰に設けてなる連続鋳造用タンディッ
シュである（第２発明）。
【００１１】 溶融金属の連続鋳造にあたり、回流槽
に溶融金属の供給を開始すると同時に回転磁界を印加し
て、回流槽に供給される溶融金属に水平回転流を与える
ことを特徴とする第１発明または第２発明の連続鋳造用
タンディッシュを使用する連続鋳造方法である（第３発
明）。
に溶融金属の供給を開始すると同時に回転磁界を印加し
て、回流槽に供給される溶融金属に水平回転流を与える
ことを特徴とする第１発明または第２発明の連続鋳造用
タンディッシュを使用する連続鋳造方法である（第３発
明）。
【００１２】 溶融金属の連続鋳造にあたり、回流槽
および／または分配槽中スラグに高塩基度フラックスを
添加して、該スラグの塩基度を所定の値以上に調整保持
することを特徴とする第１発明または第２発明の連続鋳
造用タンディッシュを使用する連続鋳造方法（第４発
明）。
および／または分配槽中スラグに高塩基度フラックスを
添加して、該スラグの塩基度を所定の値以上に調整保持
することを特徴とする第１発明または第２発明の連続鋳
造用タンディッシュを使用する連続鋳造方法（第４発
明）。
【００１３】ここで、スラグの塩基度を所定の値以上に
保持するときの所定の値とは、溶鋼の再酸化を生じさせ
ない塩基度を採用することが重要で、その値は鋼種によ
って多少異なるが、CaO/SiO2であらわされるその塩基度
の所定の値はおよそ２とすることがよい。また、高塩基
度フラックスの塩基度（CaO/SiO2）は、スラグ塩基度の
調整の容易さ、フラックスの多量添加によるスラグ量の
過度の増加および容器類の耐火物の損傷などを考慮して
５以上、10以下とすることが好ましい。
保持するときの所定の値とは、溶鋼の再酸化を生じさせ
ない塩基度を採用することが重要で、その値は鋼種によ
って多少異なるが、CaO/SiO2であらわされるその塩基度
の所定の値はおよそ２とすることがよい。また、高塩基
度フラックスの塩基度（CaO/SiO2）は、スラグ塩基度の
調整の容易さ、フラックスの多量添加によるスラグ量の
過度の増加および容器類の耐火物の損傷などを考慮して
５以上、10以下とすることが好ましい。
【００１４】
【作用】この発明の作用について以下に述べる。この発
明は、溶鋼の供給を受け、磁力によりその溶鋼に水平回
転流を生起させて溶鋼中の非金属介在物の分離を促進す
る回流槽と、底部で貫通する開口部を有する仕切り堰を
介して連接し、かつ排出ノズルを備えた分配槽とからな
る連続鋳造用タンディッシュであって、その仕切り堰
に、回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ浮遊してい
るスラグの交流を自在とする切欠きを設ける（第１発
明）、あるいは溶鋼およびスラグの交流を自在とする切
欠きを設ける（第２発明）ものである。
明は、溶鋼の供給を受け、磁力によりその溶鋼に水平回
転流を生起させて溶鋼中の非金属介在物の分離を促進す
る回流槽と、底部で貫通する開口部を有する仕切り堰を
介して連接し、かつ排出ノズルを備えた分配槽とからな
る連続鋳造用タンディッシュであって、その仕切り堰
に、回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ浮遊してい
るスラグの交流を自在とする切欠きを設ける（第１発
明）、あるいは溶鋼およびスラグの交流を自在とする切
欠きを設ける（第２発明）ものである。
【００１５】このようなタンディッシュを用いて連続鋳
造することにより、従来技術では回流槽で分離された非
金属介在物すなわちスラグが回流槽に多量に蓄積される
が、回流槽のスラグと分配槽のスラグとの交流が自在と
なるので、このようなスラグの多量の蓄積がなくなり、
回流槽にスラグが蓄積されることによって生じる溶鋼の
再酸化を防止でき、加えて、高塩基度のフラックスを添
加してスラグの塩基度を高く調整すれば（第４発明）、
その酸素低減効果により溶鋼の再酸化の防止はより確実
なものとなるばかりでなく、溶鋼の脱酸を促進すること
もできる。
造することにより、従来技術では回流槽で分離された非
金属介在物すなわちスラグが回流槽に多量に蓄積される
が、回流槽のスラグと分配槽のスラグとの交流が自在と
なるので、このようなスラグの多量の蓄積がなくなり、
回流槽にスラグが蓄積されることによって生じる溶鋼の
再酸化を防止でき、加えて、高塩基度のフラックスを添
加してスラグの塩基度を高く調整すれば（第４発明）、
その酸素低減効果により溶鋼の再酸化の防止はより確実
なものとなるばかりでなく、溶鋼の脱酸を促進すること
もできる。
【００１６】さらに加えて、回流槽と分配槽との間で溶
鋼の交流を自在とすることおよび回流槽に溶鋼の供給を
開始すると同時に該溶鋼に回転磁界を印加して水平回転
流を与えること（第３発明）により、前記した鋳造初期
におけるタンディッシュ内の残鋼や残スラグによる汚染
で溶鋼の洗浄度が劣化する問題も、その劣化の程度を低
減できる。
鋼の交流を自在とすることおよび回流槽に溶鋼の供給を
開始すると同時に該溶鋼に回転磁界を印加して水平回転
流を与えること（第３発明）により、前記した鋳造初期
におけるタンディッシュ内の残鋼や残スラグによる汚染
で溶鋼の洗浄度が劣化する問題も、その劣化の程度を低
減できる。
【００１７】すなわち、溶鋼がタンディッシュにたま
り、分配槽の排出ノズルから排出を開始するまでに、回
流槽の溶鋼と分配槽の溶鋼との交流が自在であるため、
回流槽で水平回転流により非金属介在物の分離作用を受
けた溶鋼が鋳造初期から排出されることになり、鋳造初
期においても清浄度の劣化の少ない鋳片が得られること
になる。
り、分配槽の排出ノズルから排出を開始するまでに、回
流槽の溶鋼と分配槽の溶鋼との交流が自在であるため、
回流槽で水平回転流により非金属介在物の分離作用を受
けた溶鋼が鋳造初期から排出されることになり、鋳造初
期においても清浄度の劣化の少ない鋳片が得られること
になる。
【００１８】つぎに、この発明の連続鋳造用タンディッ
シュの作用効果を図面にもとづいて説明する。図１は、
従来の回流槽と分配槽とからなる連続鋳造用タンディッ
シュの縦断面の説明図で、(a) は鋳造初期のスラグが少
ないときの説明図、(b) は鋳造が進んでスラグが多くな
ったときの説明図である。
シュの作用効果を図面にもとづいて説明する。図１は、
従来の回流槽と分配槽とからなる連続鋳造用タンディッ
シュの縦断面の説明図で、(a) は鋳造初期のスラグが少
ないときの説明図、(b) は鋳造が進んでスラグが多くな
ったときの説明図である。
【００１９】一方、この発明に適合する連続鋳造用タン
ディッシュの代表例として、図２は、回流槽と分配槽と
の両槽間で、それぞれ浮遊しているスラグの交流を自在
とする切欠きを仕切り堰の上部に設けた連続鋳造用タン
ディッシュの説明図（第１発明）で、(a) は上面の説明
図、(b) は図(a) におけるＡ−Ａ′断面の説明図、(c)
は図(a) におけるＢ−Ｂ′断面の説明図である。
ディッシュの代表例として、図２は、回流槽と分配槽と
の両槽間で、それぞれ浮遊しているスラグの交流を自在
とする切欠きを仕切り堰の上部に設けた連続鋳造用タン
ディッシュの説明図（第１発明）で、(a) は上面の説明
図、(b) は図(a) におけるＡ−Ａ′断面の説明図、(c)
は図(a) におけるＢ−Ｂ′断面の説明図である。
【００２０】さらに、図３は、回流槽と分配槽との両槽
間で、それぞれの溶鋼および浮遊しているスラグの交流
を自在とする切欠きを仕切り堰に設けた連続鋳造用タン
ディッシュの説明図（第２発明）で、(a) は上面の説明
図、(b) は図(a) におけるＡ−Ａ′断面の説明図、(c)
は図(a) におけるＢ−Ｂ′断面の説明図である。
間で、それぞれの溶鋼および浮遊しているスラグの交流
を自在とする切欠きを仕切り堰に設けた連続鋳造用タン
ディッシュの説明図（第２発明）で、(a) は上面の説明
図、(b) は図(a) におけるＡ−Ａ′断面の説明図、(c)
は図(a) におけるＢ−Ｂ′断面の説明図である。
【００２１】これらの図において、１は溶鋼供給用の浸
漬ノズル、２は連鋳モールドへの排出ノズル、３は回流
槽、４は分配槽、５は仕切り堰で６はその切欠き部、７
は回流槽３内のスラグ、８は分配槽４内のスラグ、９は
回流槽３内の溶鋼、10は分配槽４内の溶鋼をそれぞれ示
し、11の矢印は回流槽３内の溶鋼９の水平回転流の回転
方向、12の矢印は底部における仕切り堰５の開口部での
溶鋼の流れの方向、13および13′の矢印（図２）は仕切
り堰５上部に設けた切欠き部６でのスラグの流れの方向
（13は回流槽３から分配槽４へ、13′は分配槽４から回
流槽３への方向）、14および14′の矢印（図３）は仕切
り堰５の上下方向の全長にわたって設けた切欠き部６で
の溶鋼およびスラグの流れの方向をそれぞれ示す。
漬ノズル、２は連鋳モールドへの排出ノズル、３は回流
槽、４は分配槽、５は仕切り堰で６はその切欠き部、７
は回流槽３内のスラグ、８は分配槽４内のスラグ、９は
回流槽３内の溶鋼、10は分配槽４内の溶鋼をそれぞれ示
し、11の矢印は回流槽３内の溶鋼９の水平回転流の回転
方向、12の矢印は底部における仕切り堰５の開口部での
溶鋼の流れの方向、13および13′の矢印（図２）は仕切
り堰５上部に設けた切欠き部６でのスラグの流れの方向
（13は回流槽３から分配槽４へ、13′は分配槽４から回
流槽３への方向）、14および14′の矢印（図３）は仕切
り堰５の上下方向の全長にわたって設けた切欠き部６で
の溶鋼およびスラグの流れの方向をそれぞれ示す。
【００２２】ここで、仕切り堰５は、図２の場合は仕切
り堰５の上方に切欠きを設けスラグ７と８との交流をは
かったものであるが、切欠きをさらに深く取るあるいは
下方にも切欠きを設けて図３の場合と同様にスラグ７と
８との交流と共に溶鋼９と10との交流ができるようにす
ることもよい。また、図３に示す仕切り堰５の切欠きの
水平方向の幅Ｗは、あまり広く取ると回流槽３内での溶
鋼９の水平回転流の乱れが大きくなり、狭すぎるとスラ
グ７と８および溶鋼９と10との交流が不十分となること
から、それらを勘案して切欠きの幅Ｗを定めることが肝
要であり、その幅Ｗは 10／Ｄ≦Ｗ≦Ｄ／３ ここで、Ｄは回流槽の内径の範囲から適当に定めること
が望ましい。
り堰５の上方に切欠きを設けスラグ７と８との交流をは
かったものであるが、切欠きをさらに深く取るあるいは
下方にも切欠きを設けて図３の場合と同様にスラグ７と
８との交流と共に溶鋼９と10との交流ができるようにす
ることもよい。また、図３に示す仕切り堰５の切欠きの
水平方向の幅Ｗは、あまり広く取ると回流槽３内での溶
鋼９の水平回転流の乱れが大きくなり、狭すぎるとスラ
グ７と８および溶鋼９と10との交流が不十分となること
から、それらを勘案して切欠きの幅Ｗを定めることが肝
要であり、その幅Ｗは 10／Ｄ≦Ｗ≦Ｄ／３ ここで、Ｄは回流槽の内径の範囲から適当に定めること
が望ましい。
【００２３】これらの図に示す連続鋳造用タンディッシ
ュを用いての連続鋳造にあたり、その鋳造初期において
は、図１(a) に示すように、回流槽３内のスラグ７の量
は少ないが、鋳造時間の経過とともにスラグが増加し、
従来例の場合は図１(b) に示すように回流槽３内にスラ
グ７が多量に蓄積される。そしてこの多量に蓄積された
スラグ７により溶鋼９の再酸化が生じる。
ュを用いての連続鋳造にあたり、その鋳造初期において
は、図１(a) に示すように、回流槽３内のスラグ７の量
は少ないが、鋳造時間の経過とともにスラグが増加し、
従来例の場合は図１(b) に示すように回流槽３内にスラ
グ７が多量に蓄積される。そしてこの多量に蓄積された
スラグ７により溶鋼９の再酸化が生じる。
【００２４】なお、一般にスラグによる溶鋼の酸化ある
いは還元反応は、回流槽３内の溶鋼９が水平回転流動し
ているため、静止状態に比し特に顕著になる。
いは還元反応は、回流槽３内の溶鋼９が水平回転流動し
ているため、静止状態に比し特に顕著になる。
【００２５】このような、従来例に比し、この発明の適
合例の図２の場合には、回流槽３内のスラグ７と分配槽
４内のスラグ８との交流が自在となるため、上記した従
来例のような回流槽３内でのスラグ７の多量の蓄積がな
く溶鋼９の再酸化が防止できる。加えて、回流槽３およ
び／または分配槽４に高塩基度フラックスを添加すれ
ば、スラグ７および８の塩基度を高めることができ、溶
鋼９および10の再酸化の防止はもとより、脱酸も可能と
なる。
合例の図２の場合には、回流槽３内のスラグ７と分配槽
４内のスラグ８との交流が自在となるため、上記した従
来例のような回流槽３内でのスラグ７の多量の蓄積がな
く溶鋼９の再酸化が防止できる。加えて、回流槽３およ
び／または分配槽４に高塩基度フラックスを添加すれ
ば、スラグ７および８の塩基度を高めることができ、溶
鋼９および10の再酸化の防止はもとより、脱酸も可能と
なる。
【００２６】さらに、この発明の適合例の図３の場合に
は、回流槽３内のスラグ７と分配槽４内のスラグ８との
交流はもとより、回流槽３内の溶鋼９と分配槽４内の溶
鋼10との交流が自在となるため、浸漬ノズル１から溶鋼
を回流槽３に供給すると同時に回転磁界を印加すること
により、溶鋼が回流槽３に供給されてからタンディッシ
ュ内に所定量蓄積されるまでの間に、タンディッシュの
回流槽３および分配槽４内の溶鋼９および10は一様に回
流槽３内で水平回転流による非金属介在物の分離作用を
受けたものとなり、分配槽４の排出ノズル２から最初に
排出される溶鋼も非金属介在物の分離作用を受けている
ため、鋳造初期におけるタンディッシュ内の残鋼および
残スラグによる汚染で鋳片の清浄度が劣化するという問
題の解消に役立つ。
は、回流槽３内のスラグ７と分配槽４内のスラグ８との
交流はもとより、回流槽３内の溶鋼９と分配槽４内の溶
鋼10との交流が自在となるため、浸漬ノズル１から溶鋼
を回流槽３に供給すると同時に回転磁界を印加すること
により、溶鋼が回流槽３に供給されてからタンディッシ
ュ内に所定量蓄積されるまでの間に、タンディッシュの
回流槽３および分配槽４内の溶鋼９および10は一様に回
流槽３内で水平回転流による非金属介在物の分離作用を
受けたものとなり、分配槽４の排出ノズル２から最初に
排出される溶鋼も非金属介在物の分離作用を受けている
ため、鋳造初期におけるタンディッシュ内の残鋼および
残スラグによる汚染で鋳片の清浄度が劣化するという問
題の解消に役立つ。
【００２７】上記において、高塩基度フラックスの塩基
度が低めの場合、スラグの塩基度を高めるためその添加
量が多くなりかつフラックスの多量添加によるスラグ量
の増加も無視できなくなり、またスラグ塩基度の調整の
容易さの観点からも好ましくない。逆に塩基度が高過ぎ
ると、タンディッシュ内の耐火物の損傷などの問題が生
じる。したがって回流槽３および／または分配槽４に添
加するフラックスの塩基度（CaO/SiO2）は５以上、20以
下とすることが好ましい。
度が低めの場合、スラグの塩基度を高めるためその添加
量が多くなりかつフラックスの多量添加によるスラグ量
の増加も無視できなくなり、またスラグ塩基度の調整の
容易さの観点からも好ましくない。逆に塩基度が高過ぎ
ると、タンディッシュ内の耐火物の損傷などの問題が生
じる。したがって回流槽３および／または分配槽４に添
加するフラックスの塩基度（CaO/SiO2）は５以上、20以
下とすることが好ましい。
【００２８】
実施例１
容量が、回流槽：６Ｔ，分配槽：22Ｔの前掲図１，２お
よび３に示したそれぞれのタンディッシュを用い、実生
産用連続鋳造機により、17％Crのフェライト系ステンレ
ス（SUS430）溶鋼の４連の連続鋳造を行った。
よび３に示したそれぞれのタンディッシュを用い、実生
産用連続鋳造機により、17％Crのフェライト系ステンレ
ス（SUS430）溶鋼の４連の連続鋳造を行った。
【００２９】それらの主要連続鋳造条件は以下のとおり
である。 取鍋容量： 130Ｔ 合計鋳造量： 130Ｔ×４＝ 520Ｔ 回流槽における溶鋼回転数：30〜70rpm （常態時の目標
値：50rpm) ・回流槽に溶鋼を供給すると同時に水平回転磁界を印加
して水平回転流を与えタンディシュが満杯になったのち
３分間保持後排出開始 溶鋼スループット量：0.5 〜４Ｔ／min （常態時の目標
値：２Ｔ／min) スラグの塩基度（CaO/SiO2）調整目標：２以上 （図１のダンディッシュを用いた場合は分配槽のみのス
ラグ） フラックス添加量：200kg ・フラックスは分配槽に投入 ・フラックスの投入開始時期は、タンディッシュ内で溶
鋼が所定量に達し、該溶鋼の排出を開始する時
である。 取鍋容量： 130Ｔ 合計鋳造量： 130Ｔ×４＝ 520Ｔ 回流槽における溶鋼回転数：30〜70rpm （常態時の目標
値：50rpm) ・回流槽に溶鋼を供給すると同時に水平回転磁界を印加
して水平回転流を与えタンディシュが満杯になったのち
３分間保持後排出開始 溶鋼スループット量：0.5 〜４Ｔ／min （常態時の目標
値：２Ｔ／min) スラグの塩基度（CaO/SiO2）調整目標：２以上 （図１のダンディッシュを用いた場合は分配槽のみのス
ラグ） フラックス添加量：200kg ・フラックスは分配槽に投入 ・フラックスの投入開始時期は、タンディッシュ内で溶
鋼が所定量に達し、該溶鋼の排出を開始する時
【００３０】かくして得られたそれぞれの鋳造時間ごと
に鋳造された鋳片について、それぞれのコーナー部より
採取したサンプルの酸素量を測定した。それらの測定結
果を図４にまとめて示す。図４は使用したタンディッシ
ュごとの鋳造時間とその時に鋳造された鋳片の酸素量と
の関係を示すグラフである。
に鋳造された鋳片について、それぞれのコーナー部より
採取したサンプルの酸素量を測定した。それらの測定結
果を図４にまとめて示す。図４は使用したタンディッシ
ュごとの鋳造時間とその時に鋳造された鋳片の酸素量と
の関係を示すグラフである。
【００３１】図４から明らかなように、従来のタンディ
ッシュ（図１）を用いた場合、鋳造初期における鋳片の
酸素量が多く、また鋳造時間が160minを超えて長くなる
にしたがい、鋳片の酸素量が増加しているのに対し、こ
の発明に適合するタンディッシュ（図２および３）を用
いた場合は、鋳造初期における鋳片の酸素量は従来のタ
ンディッシュを用いた場合に比し少なく、また鋳造時間
が長くなることによる鋳片の酸素量の増加もない。な
お、この発明の適合例では回流槽と分配槽との溶鋼の混
合が容易なため、排出前タンディッシュ内溶鋼全体を低
酸素化できる。このため鋳造最初の鋳片の酸素値も従来
例が33ppm に対し、適合例は16〜22ppm と低減されてい
る。
ッシュ（図１）を用いた場合、鋳造初期における鋳片の
酸素量が多く、また鋳造時間が160minを超えて長くなる
にしたがい、鋳片の酸素量が増加しているのに対し、こ
の発明に適合するタンディッシュ（図２および３）を用
いた場合は、鋳造初期における鋳片の酸素量は従来のタ
ンディッシュを用いた場合に比し少なく、また鋳造時間
が長くなることによる鋳片の酸素量の増加もない。な
お、この発明の適合例では回流槽と分配槽との溶鋼の混
合が容易なため、排出前タンディッシュ内溶鋼全体を低
酸素化できる。このため鋳造最初の鋳片の酸素値も従来
例が33ppm に対し、適合例は16〜22ppm と低減されてい
る。
【００３２】また、この発明に適合する図２のタンディ
ッシュを用いた場合と、図３のタンディッシュを用いた
場合との比較において、鋳造初期における酸素量が後者
の方が少ないのは、鋳造初期から回流槽内で水平回転流
による非金属介在物の分離作用を受けた溶鋼が排出され
るためであり、鋳造時間の経過とともに逆に前者の酸素
量が少なくなるのは、回流槽における溶鋼の水平回転流
が、前者の場合仕切り堰による乱れがないのに対し、後
者の場合仕切り堰による乱れが生じて水平回転流による
非金属介在物の分離作用効果が水平回転流が乱れた分低
減したためである。
ッシュを用いた場合と、図３のタンディッシュを用いた
場合との比較において、鋳造初期における酸素量が後者
の方が少ないのは、鋳造初期から回流槽内で水平回転流
による非金属介在物の分離作用を受けた溶鋼が排出され
るためであり、鋳造時間の経過とともに逆に前者の酸素
量が少なくなるのは、回流槽における溶鋼の水平回転流
が、前者の場合仕切り堰による乱れがないのに対し、後
者の場合仕切り堰による乱れが生じて水平回転流による
非金属介在物の分離作用効果が水平回転流が乱れた分低
減したためである。
【００３３】実施例２
この発明に適合する前掲図２に示したタンディッシュを
用い、タンディッシュに投入するフラックスの塩基度を
変えた以外は実施例１と同様の条件でそれぞれ連続鋳造
を行い、各鋳造時間ごとに得られた鋳片のコーナーから
採取したサンプルの酸素量を測定した。
用い、タンディッシュに投入するフラックスの塩基度を
変えた以外は実施例１と同様の条件でそれぞれ連続鋳造
を行い、各鋳造時間ごとに得られた鋳片のコーナーから
採取したサンプルの酸素量を測定した。
【００３４】これらの測定結果を図５にまとめて示す。
図５は投入フラックスの塩基度およびスラグの塩基度と
鋳片の酸素量との関係を示すグラフである。なお、図５
における酸素量はそれぞれの条件における最低の値を採
用した。
図５は投入フラックスの塩基度およびスラグの塩基度と
鋳片の酸素量との関係を示すグラフである。なお、図５
における酸素量はそれぞれの条件における最低の値を採
用した。
【００３５】図５から明らかなように、スラグの塩基度
を２以上に調整することにより酸素量の少ないすなわち
清浄度にすぐれる鋳片を得ることができる。なお、上記
条件においては、添加するフラックスの塩基度は５以上
がよいことになる。
を２以上に調整することにより酸素量の少ないすなわち
清浄度にすぐれる鋳片を得ることができる。なお、上記
条件においては、添加するフラックスの塩基度は５以上
がよいことになる。
【００３６】
【発明の効果】この発明は、回流槽と分配槽とからなる
連続鋳造用タンディッシュの上記両槽間の仕切り堰に切
欠きを設けて、回流槽内と分配槽内との間のスラグや溶
鋼の交流を自在とするものであり、この発明によれば、
鋳造初期から鋳造後期に至るまで溶鋼の再酸化を生じる
ことなく非金属介在物を効率よく分離することができ、
特にこれまでのような鋳造初期や鋳造後期における鋳片
の清浄度の劣化がなくなり、高歩留りで高品質の鋼板等
鋼材の製造が可能となる。
連続鋳造用タンディッシュの上記両槽間の仕切り堰に切
欠きを設けて、回流槽内と分配槽内との間のスラグや溶
鋼の交流を自在とするものであり、この発明によれば、
鋳造初期から鋳造後期に至るまで溶鋼の再酸化を生じる
ことなく非金属介在物を効率よく分離することができ、
特にこれまでのような鋳造初期や鋳造後期における鋳片
の清浄度の劣化がなくなり、高歩留りで高品質の鋼板等
鋼材の製造が可能となる。
【図１】従来の回流槽と分配槽とからなる連続鋳造用タ
ンディッシュの縦断面の説明図である。
ンディッシュの縦断面の説明図である。
【図２】回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ浮遊し
ているスラグの交流を自在とする切欠きを仕切り堰の上
部に設けた連続鋳造用タンディッシュの説明図である。
ているスラグの交流を自在とする切欠きを仕切り堰の上
部に設けた連続鋳造用タンディッシュの説明図である。
【図３】回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれの溶鋼
および浮遊しているスラグの交流を自在とする切欠きを
仕切り堰に設けた連続鋳造用タンディッシュの説明図で
ある。
および浮遊しているスラグの交流を自在とする切欠きを
仕切り堰に設けた連続鋳造用タンディッシュの説明図で
ある。
【図４】使用したタンディッシュごとの鋳造時間とその
時に鋳造された鋳片の酸素量との関係を示すグラフであ
る。
時に鋳造された鋳片の酸素量との関係を示すグラフであ
る。
【図５】添加フラックスの塩基度およびスラグの塩基度
と鋳片の酸素量との関係を示すグラフである。
と鋳片の酸素量との関係を示すグラフである。
１ 浸漬ノズル
２ 排出ノズル
３ 回流槽
４ 分配槽
５ 仕切り堰
６ 仕切り堰切欠き部
７, ８ スラグ
９, 10 溶鋼
11 溶鋼の水平回転流の回転方向
12 溶鋼の流れの方向
13, 13′ スラグの流れの方向
14, 14′ 溶鋼とスラグの流れの方向
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−311514（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−344853（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−218504（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−274866（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−319050（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−157748（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−277810（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−312024（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−110059（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−327348（ＪＰ，Ａ)
実開 平６−15850（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭61−167252（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭54−25715（ＪＰ，Ｕ)
実開 平６−66849（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B22D 11/10 310
B22D 11/11
B22D 43/00
Claims (4)
- 【請求項１】 溶融金属の供給を受け、電磁力によって
その溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の非
金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通する
開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズル
を備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュで
あって、 上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれ浮遊してい
るスラグの交流を自在とする切欠きを該仕切り堰の上部
に設けてなる連続鋳造用タンディッシュ。 - 【請求項２】 溶融金属の供給を受け、電磁力によって
その溶融金属に水平回転流を生起させて溶融金属中の非
金属介在物の分離を促進する回流槽と、底部で貫通する
開口部を有する仕切り堰を介して連接しかつ排出ノズル
を備えた分配槽とからなる連続鋳造用タンディッシュで
あって、 上記回流槽と分配槽との両槽間で、それぞれの溶融金属
および浮遊しているスラグの交流を自在とする切欠きを
仕切り堰に設けてなる連続鋳造用タンディッシュ。 - 【請求項３】 溶融金属の連続鋳造にあたり、 回流槽に溶融金属の供給を開始すると同時に回転磁界を
印加して、回流槽に供給される溶融金属に水平回転流を
与えることを特徴とする請求項１または２に記載の連続
鋳造用タンディッシュを使用する連続鋳造方法。 - 【請求項４】 溶融金属の連続鋳造にあたり、 回流槽および／または分配槽中スラグに高塩基度フラッ
クスを添加して、該スラグの塩基度を所定の値以上に調
整保持することを特徴とする請求項１または２に記載の
連続鋳造用タンディッシュを使用する連続鋳造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02041495A JP3415313B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 連続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使用する連続鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02041495A JP3415313B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 連続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使用する連続鋳造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08206796A JPH08206796A (ja) | 1996-08-13 |
| JP3415313B2 true JP3415313B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=12026388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02041495A Expired - Fee Related JP3415313B2 (ja) | 1995-02-08 | 1995-02-08 | 連続鋳造用タンディッシュおよびそのタンディッシュを使用する連続鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3415313B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016185548A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 鋼の連続鋳造方法 |
-
1995
- 1995-02-08 JP JP02041495A patent/JP3415313B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08206796A (ja) | 1996-08-13 |
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