JP3415089B2 - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
製造方法に関し、特に半導体チップとの接続用ボンディ
ングワイヤのためのスリットを中央部に有してなるプリ
ント配線板の製造方法に関するものである。
の一例を説明すると、ガラスエポキシ樹脂の表面に銅皮
膜を形成した、いわゆる銅張ガラスエポキシ樹脂基板を
用いて製造されていた。プリント配線板用の素材として
用いられるこのような銅張ガラスエポキシ樹脂基板は、
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた、いわゆるガ
ラスエポキシ樹脂板に対し接合面に予め接着剤を塗布し
た銅箔を貼り合わせる方法、ガラスエポキシ樹脂プリプ
レグと銅箔とを熱圧着する方法などによって得られてい
た。この種の銅張ガラスエポキシ樹脂基板の表面に形成
される銅被覆層として用いられる銅箔は、いわゆる電解
銅箔であり、一般にその厚みは9μm〜35μm程度の
ものが主流となっている。
などの民生用機器類、コンピューターなどの多種の産業
用機器類に幅広く使用されるようになるにつれ、高密度
な配線が要求されてきた結果、微細な回路を精度よく形
成するために、銅被覆層の薄肉化が求められてきた。し
たがって銅張ガラスエポキシ樹脂基板は、銅被覆層の薄
肉化に伴い、無電解めっきにより銅皮膜を形成する開発
が進んでいる。そしてこのような銅張ガラスエポキシ樹
脂基板を用いてプリント配線板を製造する方法として、
セミアディティブ法またはサブトラクティブ法などが一
般的に用いられている。
エポキシ樹脂基板上の銅被覆層にさらにめっきにより導
体回路を形成する方法であって、詳細には銅張ガラスエ
ポキシ樹脂基板に形成された金属皮膜を第1の金属層と
し、その上に所定パターンでめっきレジスト層を形成す
るものである。この場合めっきレジスト層を、第1の金
属層上にめっき処理により形成される回路の厚さ以上と
する。ついでめっきレジスト層のパターン間に露出され
ている金属皮膜(第1の金属層)上に電気めっき処理に
よってめっき皮膜(第2の金属層)を形成する。その後
前記めっきレジスト層を剥離して、金属皮膜(第1の金
属層)面を露出させ、前記電気めっき皮膜(第2の金属
層)をマスクとして、露出した金属皮膜(第1の金属
層)をエッチングにより除去して導体回路を形成する方
法である。
ラスエポキシ樹脂基板から銅被覆層を溶解除去して導体
回路を形成する方法であって、詳細には銅張ガラスエポ
キシ樹脂基板に形成されている銅皮膜上に、エッチング
レジスト層を設け、回路として必要な領域を示すパター
ンに形成する。ついで露出した金属皮膜領域を溶解除去
して、導体回路パターンを形成し、その後前記レジスト
層を剥離することによりプリント配線板を製造する方法
である。このような方法により得られたプリント配線板
は、従来の銅箔を素材として製造された銅張ガラスエポ
キシ樹脂基板を用いて作製されたプリント配線板に比
べ、高密度な配線を形成することが可能となった。
配線板の導体回路部分にはその後、以下のような処理が
施される。すなわち、導体回路部分を、後に実施するソ
ルダレジストとの密着性を向上させるために粗面化した
後、ソルダレジストをコーティングあるいはラミネート
し、このソルダレジスト層を露光・現像によって中央部
にバンプパッド部を露出させ、さらに周辺部に残ったレ
ジスト層を熱硬化させた後、前記バンプパッド部に電気
めっきを施すものである。
ト配線板は、図5に示すような形状を有し、図6のよう
にしてプリント配線板11の周辺部に半導体チップ12
の電極パッド13と接続するためのバンプパッド14が
アレイ状に並べられ前記半導体チップ12の電極パッド
13を前記バンプパッド14とボンディングワイヤ15
により接続して構成し、さらに必要に応じて前記のよう
にして接続されたプリント配線板11と半導体チップ1
2とを樹脂16でモールドするPBGAやカバープレー
トにより一体化するTBGAなどの半導体パッケージを
構成していた。
プリント配線基板の周辺部にアレイ状に並べられたバン
プパッドを配設したプリント配線板によれば、プリント
配線基板の周辺部のバンプパッドに半導体チップの電極
パッドをボンディングワイヤにより接続する構造をとる
ために、該ボンディングワイヤの配線長を長くせざるを
得ず、したがってこのような構造をとる限り近年求めら
れている一層高密度化された導体回路や高速周波数に対
応することができなかった。そこで前記配線長を短くす
るために、プリント配線基板の中央部にルータービット
によりスリットを穿孔し、一方該スリットの近傍にバン
プパッドを配設して半導体チップの電極パッドと接続す
るためのボンディングワイヤを前記スリットに通して構
成したプリント配線板が提案された。
エポキシ樹脂基板を用いてセミアディティブ法またはサ
ブトラクティブ法などにより導体回路を形成し、ついで
該導体回路に電気めっきによる表面処理を施し、その後
前記基板の中央部にルータービットによりスリットを穿
孔してなるものである。
りスリットを穿孔する際に、電気めっきのために前記中
央部に設けられた配線部のパターンに切断バリが発生
し、このバリが大きい場合には当該プリント配線板は不
良品として廃棄せざるを得ず、またバリが小さい場合に
は真空吸引などにより該バリを除去しなければならない
ために作業に手間がかかり、製品歩留まりを悪化すると
ともに、生産効率が低下するのみならず、仮に完全にバ
リの除去がなされない場合は配線間での短絡などの問題
が発生するなどの不都合があり、さらなる改善が望まれ
ていた。
り中央部にスリットを穿孔してなるプリント配線板の製
造方法において、前記スリットの穿孔時に電気めっきの
ための配線部のパターンに切断バリの発生を防止すると
ともに、配線剥がれの発生も防止して製品歩留まりを高
めるとともに、作業効率を向上せしめたプリント配線板
の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、絶縁基板の表面に形成された金属皮膜をパタ
ーニングして導体回路を形成し、ついで該導体回路に電
気めっきによる表面処理を施し、その後前記基板の中央
部にルータービットにより半導体チップとの接続用ボン
ディングワイヤを通すためのスリットを穿孔してなるプ
リント配線板の製造方法において、前記スリットを穿孔
する箇所の電気めっき用配線部のパターンを、前記ルー
タービットの移動方向に直交する面に対して鋭角、好ま
しくは15°以上の鋭角となるよう傾斜して形成し、か
つ前記電気めっき用配線部の幅を90μm以上、好まし
くは120μm以上に形成したプリント配線板の製造方
法を特徴とするものである。
エポキシ樹脂基板を用いることができるが、その他に前
記したセミアディティブ法あるいはサブトラクティブ
法、またはフルアディティブ法を用いて導体回路を形成
したものも用いることができる。
成する際、あるいは形成に先立ち銅張ガラスエポキシ樹
脂表面にめっき触媒としてパラジウム、銀あるいはそれ
らを含む合金が用いられる。そしてセミアディティブ法
またはサブトラクティブ法を用いて導体回路を形成する
場合は、ガラスエポキシ樹脂表面に前記触媒を用いため
っき処理により金属皮膜を形成した後、エッチングによ
り前記金属皮膜の一部を除去することにより、ガラスエ
ポキシ樹脂の表面に導体回路を形成する。
を形成する場合は、前記触媒を吸着させ、めっきレジス
ト層を除去した後の回路間に露出したガラスエポキシ樹
脂の表面に金属皮膜を形成して導体回路を形成する。
れた導体回路部分を、後に実施する電気めっきとの密着
性を向上させるために、例えば化学研磨、バフ研磨ある
いはジェットスクラブ(砥粒吹付け)などによって粗面
化する。その後プリント配線基板表面全体に亘ってソル
ダレジストをコーティングあるいはラミネートして被覆
した後、該ソルダレジスト層を露光・現像によって除去
して基板の中央部にバンプパッド部を露出させ、つぎに
プリント配線板の周辺部に残ったソルダレジスト層を熱
硬化させた後、露出したバンプパッド部にNi−Auあ
るいはAuめっきを電気めっき法によって施す。
の中央部にルータービットによりスリットを穿孔し、該
スリットの近傍にバンプパッドを配設することにより図
1のプリント配線板が製造できるが、このスリットの穿
孔の際には電気めっきのために基板の中央部に設けられ
た配線部のパターンをルータービットにより切断する必
要があり、この場合に十分に切断バリの発生の防止を考
慮しなければならない。
る電気めっき用の配線部のパターンの切断の際に、切断
バリの発生を防止するため種々の研究を行った結果、前
記配線部のパターンを一定の角度とすること、および配
線幅を一定幅以上にすることによりバリの発生が効果的
に防止できるのみならず、配線剥がれの発生も防止でき
ることを見出し本発明を完成するに至った。すなわち図
2に示すようにプリント配線板1に形成される電気めっ
き用の配線部のパターン7を、予めルータービット8の
移動方向αに直交する面βに対する角度γが鋭角、好ま
しくは15°以上の鋭角、より好ましくは30°程度と
なるよう傾斜して形成しておくとバリの発生が著しく減
少することを知見した。換言すると、ルータービット8
の移動方向αに直交する面βに対する前記配線部のパタ
ーンの角度γを15°以上の鋭角とした理由は、15°
未満乃至は鈍角とするとルータービット8により発生す
るバリが、著しく多量となってしまうからである。なお
ルータービット8の移動方向αに直交する面βに対する
角度γは大きい程好ましいが、シートの幅に制約がある
ため精々60°程度が上限となる。
の幅が90μm未満の場合、加工時に配線の剥がれが発
生するのみならず、該配線剥がれに起因するバリも発生
することを知見した。すなわちその幅を90μm以上、
好ましくは120μm以上の幅を有する電気めっき用配
線部においては加工時の該配線の剥がれの発生を防止で
きる。なお配線の基板の寸法などにより異なるが、高密
度化の要求を考慮すると、前記配線部の幅は200μm
以下とすることが好ましい。
リット9の幅や長さに応じて、前記した図2のように一
方向にビット8を回転させつつ該ビット8の移動方向α
に対して両側面を切断して穿孔する場合、または図3の
ように一方向にビット8を回転させつつ該ビット8の移
動方向αに対してスリット9の一側面9−1を切断して
穿孔し、ついで所定のスリット9の長さの切断が終わっ
た段階でビット8の移動方向αを反対方向に切替えて移
動方向α′に移動させ、スリット9の他側面9−2を切
断して穿孔して所望のスリット9を形成する場合がある
が、いずれの場合でも前記したようにルータービット8
の移動方向αに直交する面βに対する角度γが鋭角とな
るよう切断することが肝要である。
αを切替える操作を繰り返して往復動の回数を増すこと
により径の異なるルータービット8を使用することなく
スリット9の幅を広くすることができる。そして使用す
るルータービット8の種類や、該ビット8の回転数、挿
入・排出速度、送り速度などは特に限定されず、適宜穿
孔すべきスリット9の形状に応じて好適なものを選択す
ることができる。
され、かつ該スリット9の近傍にバンプパッド4が配設
されているプリント配線板を、図4のようにして該バン
プパッド4と半導体チップ2の電極パッド3をボンディ
ングワイヤ5により接続するが、さらに必要に応じて接
続されたプリント配線板1と半導体チップ2とを樹脂6
でモールドするPBGAやカバープレートにより一体化
するTBGAなどの半導体パッケージとして構成するこ
ともできる。
する。18μmの銅箔を有する厚さ200μmの銅張ガ
ラスエポキシ樹脂基板の表面に、旭化成工業株式会社製
のドライフィルム型フォトレジスト「AQ2559」
(商品名)を厚さ25μmで均一にラミネートした。そ
の後、フォトレジスト層上に回路幅、回路間隔が共に4
0μmとなるようにパタ−ニングされたフォトマスクを
載置し、60mJ/cm2の紫外線を照射した後、現像
し、水洗、乾燥して導体回路が形成されたプリント配線
板を得た。
の砥粒を用いた吹付けにより粗面化した後、太陽インキ
社製のソルダレジスト「PSR4000AUS」(商品
名)を厚さ30μmに塗布し、ついで該ソルダレジスト
を露光・現像により溶解除去して中央部にバンプパッド
部分を露出させ、さらに周辺部分に残存するソルダレジ
ストを乾燥炉により熱硬化させた。
ついて下記表1のように幅とルータービットの移動方向
に直交する面に対する角度(γ)を替えて電気めっきと
ルータービットによる穿孔を行い、バリの発生状態を表
1に示すとともに、配線剥がれの発生状態を表2に示
す。
の通りであった。 ルータービット:ユニオンツール株式会社製ビット ビット回転数:38000rpm(時計方向に回転) ビット挿入・排出速度:100mm/min ビット送り速度:350〜400mm/min(ビッ
トを一方向にのみ移動させた) スリットの幅および長さ:1.0mmW×10.00
mmL
ーン幅を替えてもルータービットの移動方向に直交する
面に対する角度(γ)を15°以上に傾斜させればバリ
の発生は防止でき、特に30°の傾斜ではバリが発生し
なかった。
ーン幅を90μm以上にすれば配線剥がれは防止でき、
特に120μm以上の場合では配線剥がれが発生しなか
った。前記表1および表2の結果よりバリが発生せず、
かつ配線剥がれがない条件は、電気めっき用配線部の配
線パターンを、ルータービットの移動方向に直交する面
に対して15°以上の鋭角となるよう傾斜して形成し、
かつ前記配線部の幅を、90μm以上にすることである
ことが分った。
ービットによりスリットを穿孔してなるプリント配線板
の製造方法において、電気めっきのための配線部のパタ
ーンをルータービットにより切断する際、バリの発生を
防止するとともに、配線剥がれの発生も防止して製品歩
留まりを高めるとともに、作業効率を向上せしめたプリ
ント配線板の製造方法を提供することができる。
図である。
一穿孔工程で穿孔する状況を示す図である。
往復動させて穿孔する状況を示す図である。
て作製されたPBGAの概略断面図である。
れたPBGBの概略断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 絶縁基板の表面に形成された金属皮膜を
パターニングして導体回路を形成し、ついで該導体回路
に電気めっきによる表面処理を施し、その後前記基板の
中央部にルータービットにより半導体チップとの接続用
ボンディングワイヤを通すためのスリットを穿孔してな
るプリント配線板の製造方法において、前記スリットを
穿孔する箇所の電気めっき用配線部のパターンを、前記
ルータービットの移動方向に直交する面に対して鋭角と
なるよう傾斜して形成したことを特徴とするプリント配
線板の製造方法。 - 【請求項2】 前記電気めっき用配線部のパターンを、
前記ルータービットの移動方向に直交する面に対して1
5°以上の鋭角となるよう傾斜して形成したことを特徴
とする請求項1記載のプリント配線板の製造方法。 - 【請求項3】 前記電気めっき用配線部の幅を、90μ
m以上にすることを特徴とする請求項1または2記載の
プリント配線板の製造方法。
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