JP3401351B2 - γ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents
γ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物Info
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Description
ーボネート樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、γ線
照射による物性低下や黄変を防止し得るポリカーボネー
ト樹脂組成物に関する。
香族ポリカーボネート樹脂および殺菌のための照射に曝
露されたときの黄変の防止に有効な量の少くとも1種の
有効なエポキシ化合物を含む組成物が開示されている。
このエポキシ化合物はオキシラン環に少くとも1個の4
級炭素原子を有する点で構造的特徴を有する。
は、ポリカーボネート樹脂および両末端にシリル基を有
するポリオキシアルキレングリコールとからなるγ線耐
性を有するポリカーボネート樹脂組成物が開示されてい
る。
ポリカーボネート樹脂および両末端に特定の置換フェニ
ル基または窒素原子含有基を有するポリオキシアルキレ
ングリコールとからなるγ線照射に耐えるポリカーボネ
ート樹脂組成物が開示されている。
は、ポリカーボネート樹脂、(1)特定の末端基を有す
るポリオキシアルキレングリコールおよび(2)芳香族
スルホン酸エステル化合物とからなるγ線照射に対して
安定なポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。
たポリカーボネート樹脂組成物は、黄変防止効果が十分
でないとか、効果を発現させるために十分な量を添加す
るとポリカーボネート樹脂自体の物性が低下する等の欠
点を有する。
ドロカルビル基またはハイドロカルビルオキシ基を有す
るp―ヒドロキシベンジルアルコールでエンドキャップ
された芳香族ポリカーボネート樹脂を含有する熱可塑性
成形用組成物から成形された、電離線により滅菌処理さ
れた物品が開示されている。しかしながらこのエンドキ
ャップポリカーボネート樹脂はその製造が煩雑であり、
また黄変防止効果を高めるため多くのエンドキャップ剤
を用いるとポリカーボネート樹脂自体の物性が低下する
という問題点がある。
2―68068号公報には、ハロゲン化ビスフェノール
から誘導される構成単位を分子鎖中に含む芳香族ポリカ
ーボネートのポリマーまたはオリゴマーを含有する放射
線照射滅菌用ポリカーボネート医療用成形品が開示され
ている。しかしながら、これらハロゲン化物を用いる方
法は、空気中、脱酸素中いずれの雰囲気下でγ線照射し
た場合でも黄変防止効果に優れるものの、ハロゲンを含
有するため、廃棄時に環境問題が生じるといった問題点
を有する。
中あるいは脱酸素雰囲気中のいずれにおいてγ線照射を
行っても黄変が極めて少なく、しかも物性低下や廃棄時
の問題の少ない、医療材料として有用なポリカーボネー
ト樹脂組成物を提供することにある。
利点は、(A)末端にγ線照射により開裂し得る炭素―
炭素不飽和結合を実質的に持たないポリカーボネート1
00重量部、および(B)下記式(1a)
数2〜12の炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有す
る炭素数2〜12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2
〜4アルキレン)基およびグリシジル基よりなる群から
選ばれ、R2aは水素原子および炭素数1〜12の炭化水
素基よりなる群から選ばれ、R3aは水素原子、炭素数1
〜12の炭化水素基、(炭素数1〜12の炭化水素)オ
キシメチル基、炭素数1〜12の炭化水素オキシ基、
(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボニル基、ニトロ
基、シアノ基および炭素数2〜12のアシル基よりなる
群から選ばれ、5個のR3aは同一でも異なっていてもよ
い。そしてZは酸素原子または硫黄原子である。]で表
わされる化合物(ジベンジルエーテルおよびp-(α、
α‘-ジベンジロキシ)キシリレンを除く)0.01〜
10重量部とからなるγ線耐性を有するポリカーボネー
ト樹脂組成物、または (A)末端にγ線照射により開裂し得る炭素―炭素不飽
和結合を実質的に持たないポリカーボネート100重量
部、および(B)下記式(1b)
基、炭素数1〜12の炭化水素―O―炭素数2〜12の
炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜
12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2〜4アルキレ
ン)基、トリ(炭素数1〜6の炭化水素)シリル基およ
びグリシジル基よりなる群から選ばれ、R2bは水素原子
および炭素数1〜12の炭化水素基よりなる群から選ば
れ、R3bは炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜1
2の炭化水素オキシ基、(炭素数1〜12のアルコキ
シ)カルボニル基、ニトロ基、シアノ基および炭素数2
〜12のアシル基よりなる群から選ばれ、5個のR3bは
同一でも異なっていてもよい。そしてZは酸素原子また
は硫黄原子である。]で表わされる化合物(ジベンジル
エーテルおよびp-(α、α‘-ジベンジロキシ)キシリ
レンを除く)0.01〜10重量部とからなるγ線耐性
を有するポリカーボネート樹脂組成物で達成される。
トは、末端にγ線照射により開裂し得る炭素―炭素不飽
和結合を実質的に持たない。末端にγ線照射により開裂
し得る炭素―炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
を使用した場合には、γ線照射により滅菌する際に該炭
素―炭素不飽和結合が開裂して架橋構造を生成するなど
の不都合が生まれる。本発明で用いられるポリカーボネ
ートは、例えば、下記式(2)
水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数5〜
6のシクロアルキル基であるか、あるいはR4とR5は互
いに結合してそれらが結合している炭素原子と一緒にな
って5または6員環を形成していてもよい。R6とR7は
互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル
基またはフェニル基であり、そしてmおよびnは互いに
独立に0、1または2である。]で表わされる繰返し単
位より実質的になる。また、ポリカーボネートは、例え
ば下記式(3)
12のアルキル置換フェニル基である。]または下記式
(4)
nの定義は上記式(2)に同じである。]で表わされる
末端基を有する。
いに独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基また
は炭素数5〜6のシクロアルキル基である。
ても分岐鎖状であってもよく、例えばメチル、エチル、
n―プロピル、iso―プロピル、n―ブチル、iso
―ブチル、sec―ブチル、tert―ブチル、n―ペ
ンチルである。
は、例えばシクロペンチル、シクロヘキシルを挙げるこ
とができる。また、R4とR5は互いに結合してそれが結
合している炭素原子と一緒になって5または6員環を形
成していてもよい。かかる5または6員環の基として
は、例えばシクロペンチリデン、シクロヘキシリデンを
挙げることができる。
独立に炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基またはハ
ロゲン原子である。
とR5について例示した上記例と同じものを例示するこ
とができる。mおよびnは互いに独立に0、1または2
である。
に0にあることが好ましく、1または2の場合は、上記
R6とR7はハロゲン原子でないことが、廃棄時の環境問
題の面から好ましい。
式(2)におけるR4とR5がともにメチルであり、mと
nがともに0であるビスフェノールA型ポリカーボネー
トが特に好ましい。
ェニル基または炭素数1〜12のアルキルで置換された
フェニル基であるか、または上記式(4)で表わされる
基である。
ェニル基としては、例えばトリル、エチルフェニル、n
―プロピルフェニル、iso―プロピルフェニル、n―
ブチルフェニル、tert―ブチルフェニル、n―オク
チルフェニル、n―デシルフェニルあるいはn―ラウリ
ルフェニルを挙げることができる。
R7、mおよびnの定義は上記式(2)に同じであり、
従ってそれらの例としても上記式(2)について例示し
たものと同じものを挙げることができる。
表わされる繰返し単位の単独あるいは2種以上の組合せ
から実質的になる。上記式(2)で表わされる繰返し単
位以外の繰返し単位は、例えば全繰返し単位の多くとも
10モル%含有することができる。
トは単独であっても2種以上のブレンドであってもよ
い。
しくは15,000〜35,000であり、より好まし
くは20,000〜30,000である。
従来公知の方法である界面重縮合法およびエステル交換
法のいずれの方法によっても製造することができる。
し単位は、下記式(2)―1
nの定義は上記式(2)に同じである。]で表わされる
ビスフェノールをホスゲンと酸捕捉剤の存在下で反応さ
せることにより形成される。
(2)―1で表わされるビスフェノールをジアリールカ
ーボネート、例えばジフェニルカーボネートとエステル
交換触媒の存在下で加熱溶融反応せしめることにより形
成される。
ールとしては、例えばビス(p―ヒドロキシフェニル)
メタン、2,2―ビス(p―ヒドロキシフェニル)プロ
パン、9,9―ビス(p―ヒドロキシフェニル)フルオ
レン、2,2―ビス(4―ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、1,1―ビス(4―ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、2,2―ビス(3―メチル―4―ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、ビス(3,5―ジメチル―4―ヒド
ロキシフェニル)メタン、2,2―ビス(3,5―ジメ
チル―4―ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1―ビ
ス(3,5―ジメチル―4―ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサンを挙げることができる。
2,2―ビス(4―ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノール―A)である。
カーボネートをエステル交換法で製造する場合には、R
8がフェニル基または上記式(4)で表わされる末端基
として生成し易く、またポリカーボネートを界面重縮合
法で製造する場合には、R8がフェニル基またはm―お
よびp―メチルフェニル基、m―およびp―isoある
いはn―プロピルフェニル基、m―およびp―tert
あるいはn―ブチルフェニル基等の炭素数1〜12のア
ルキル置換フェニル基として生成し易い。かかる炭素数
1〜12のアルキル置換フェニル基は、重縮合系中に、
それらに対応する炭素数1〜12のアルキル置換フェノ
ールを存在させることにより生成させることができる。
本発明において用いられる安定剤は下記式(1a)
数2〜12の炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有す
る炭素数2〜12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2
〜4アルキレン)基およびグリシジル基よりなる群から
選ばれ、R2aは水素原子および炭素数1〜12の炭化水
素基よりなる群から選ばれ、R3aは水素原子、炭素数1
〜12の炭化水素基、(炭素数1〜12の炭化水素)オ
キシメチル基、炭素数1〜12の炭化水素オキシ基、
(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボニル基、ニトロ
基、シアノ基および炭素数2〜12のアシル基よりなる
群から選ばれ、5個のR3aは同一でも異なっていてもよ
い。そしてZは酸素原子または硫黄原子である。]で表
わされる化合物(ジベンジルエーテルおよびp-(α、
α‘-ジベンジロキシ)キシリレンを除く)または下記
式(1b)
基、炭素数1〜12の炭化水素―O―炭素数2〜12の
炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜
12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2〜4アルキレ
ン)基、トリ(炭素数1〜6の炭化水素)シリル基およ
びグリシジル基よりなる群から選ばれ、R2bは水素原子
および炭素数1〜12の炭化水素基よりなる群から選ば
れ、R3bは炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜1
2の炭化水素オキシ基、(炭素数1〜12のアルコキ
シ)カルボニル基、ニトロ基、シアノ基および炭素数2
〜12のアシル基よりなる群から選ばれ、5個のR3bは
同一でも異なっていてもよい。そしてZは酸素原子また
は硫黄原子である。]で表わされる化合物(ジベンジル
エーテルおよびp-(α、α‘-ジベンジロキシ)キシリ
レンを除く)で表される。
式(1a)または上記式(1b)で表わされる構造から
明らかなとおり、ベンジルオキシ骨格またはベンジルチ
オ骨格を有する点で共通している。
〜12の炭化水素基としては、例えば炭素数1〜12の
アルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素
数6〜12のアリール基、炭素数7〜12のアルキルア
リール基または炭素数7〜12のアラルキル基を挙げる
ことができる。
あっても分岐鎖状であってもよく、その例としてはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、sec―ブ
チル基、ペンチル基、1―メチルブチル基(1―メチル
ブト―1―イル基)、1,1―ジメチルプロピル基
(1,1―ジメチルプロプ―1―イル基)、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
は、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、デカ
ヒドロナフチル基、4―シクロヘキシルシクロヘキシル
基等を挙げることができる。
えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等を挙げる
ことができる。
ては、例えばトリル基、エチルフェニル基、iso―プ
ロピルフェニル基、メチルナフチル基、エチルナフチル
基等を挙げることができる。
例えばベンジル基、フェネチル基等を挙げることができ
る。
7〜12のアルキルアリール基および炭素数7〜12の
アラルキル基は、場合によりハロゲン原子、炭素数1〜
6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニ
ル基、シアノ基等で置換されていてもよい。
素―O―炭素数2〜12の炭化水素基としては、例えば
炭素数1〜12のアルキル―O―炭素数2〜12のアル
キル基、炭素数1〜12のアルキル―O―炭素数6〜1
2のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル―O―炭
素数2〜12のアルキル基または炭素数7〜12のアラ
ルキル―O―炭素数6〜12のアリール基を挙げること
ができる。
〜12のアルキル基における2つのアルキル部分はいず
れも直鎖状および分岐鎖状のいずれであってもよい。そ
の炭素数1〜12のアルキル基の例示としては、前記し
たものと同じものを挙げることができる。また、その炭
素数2〜12のアルキル基の例示としては、メチル基以
外の前述したものと同じものを挙げることができる。炭
素数1〜12のアルキル―O―炭素数2〜12のアルキ
ル基の例は、上記アルキル基の例示から明らかであろ
う。
〜12のアリール基における炭素数1〜12のアルキル
基としては、前記したものと同じものを例示することが
できる。また、その炭素数6〜12のアリール基の例示
としては、前記したものと同じものを挙げることができ
る。炭素数1〜12のアルキル―O―炭素数6〜12の
アリール基の具体例は、上記基の具体例から明らかなと
おり、メトキシフェニル、エトキシフェニルの如き基で
あることが理解されよう。
2〜12のアルキル基における炭素数7〜12のアラル
キル基および炭素数2〜12のアルキル基の例示として
は前記したものと同じものを挙げることができる。ま
た、炭素数2〜12のアルキル基は、場合によって水酸
基により置換されていてもよい。炭素数7〜12のアラ
ルキル―O―炭素数2〜12のアルキル基の具体例は、
上記基の具体例から明らかなとおり、ベンジルオキシプ
ロピルあるいは3―ベンジルオキシ―2―ヒドロキシプ
ロピルの如き基であることが理解されよう。
6〜12のアリール基における炭素数7〜12のアラル
キル基および炭素数6〜12のアリール基の具体例とし
ては、前記したものと同じものを挙げることができる。
炭素数7〜12のアラルキル―O―炭素数6〜12のア
リール基の具体例は、上記基の具体例から明らかなとお
り、例えばベンジルオキシフェニルの如き基であること
が理解されよう。
有する炭素数2〜12の炭化水素基としては、例えば少
くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜12のアルキル
基を挙げることができる。水酸基が複数個存在する場合
にはアルキル基の異なる炭素原子上に存在するのが好ま
しい。少くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜12の
アルキル基の該炭素数2〜12のアルキル基としては前
記したものと同じものを挙げることができる。それ故、
少くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜12のアルキ
ル基の具体例は、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシブチル基の如き基であることが理解され
よう。
4のアルキレン)基としては、例えば下記式(5)
基であり、R9は水素原子、炭素数1〜16のアルキル
基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数6〜16のア
ルキルアリール基または炭素数7〜16のアラルキル基
であり、そしてpは2〜100の数である。]で表わさ
れる基を挙げることができる。
キレン基としては、例えばエチレン、トリメチレン、プ
ロピレン、テトラメチレンを挙げることができる。
状であっても分岐鎖状であってもよく、その具体例とし
ては前記した炭素数1〜12のアルキル基の具体例の他
に、さらに、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
およびヘキサデシル基を挙げることができる。炭素数6
〜12のアリール基の具体例としては前記したものと同
じものを挙げることができる。炭素数6〜16のアルキ
ルアリール基の具体例としては、前記した炭素数6〜1
2のアルキルアリール基の他に、さらに、オクチルフェ
ニル基、デシルフェニル基を挙げることができる。ま
た、炭素数7〜16のアラルキル基の具体例としては、
前記した炭素数7〜12のアラルキル基の他に、さら
に、フェニルオクチル、フェニルデシル基を挙げること
ができる。上記炭素数6〜12のアリール基、炭素数6
〜16のアルキルアリール基のアリール部分および炭素
数7〜16のアラルキル基のアリール部分は、場合によ
り炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアルコ
キシカルボニル基、シアノ基等によって置換されていて
もよい。
が好ましく、2〜20がより好ましく、2〜10が特に
好ましい。
えば
記式(5)の基には2種以上のオキシアルキレン基を含
む基も包含されると理解されるべきである。
リル基としては、例えばトリ(炭素数1〜6のアルキ
ル)シリル基、トリフェニルシリル基、ジ(炭素数1〜
6のアルキル)フェニルシリル基または(炭素数1〜6
のアルキル)ジフェニルシリル基を挙げることができ
る。
としては、例えばトリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリプロピルシリル、t―ブチルジメチルシリル、
ジメチルモノヘキシルシリル基を挙げることができる。
ジ(炭素数1〜6のアルキル)フェニルシリル基として
は、ジメチルモノフェニルシリル、ジエチルモノフェニ
ルシリル、ジブチルモノフェニルシリル基を挙げること
ができる。また、(炭素数1〜6のアルキル)ジフェニ
ルシリル基としては、例えばモノメチルジフェニルシリ
ル、モノエチルジフェニルシリル、モノヘキシルジフェ
ニルフェニル基を挙げることができる。
b)において、R2aおよびR2bは水素原子または炭素数
1〜12の炭化水素基である。
えば炭素数1〜12のアルキル基、炭素数5〜12のシ
クロアルキル基またはフェニル基を挙げることができ
る。炭素数1〜12のアルキル基、炭素数5〜12のシ
クロアルキル基の具体例としては前記したものと同じも
のを挙げることができる。
素原子、炭素数1〜12の炭化水素基、(炭素数1〜1
2の炭化水素)オキシメチル基、炭素数1〜12の炭化
水素オキシ基、(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボ
ニル基、ニトロ基、シアノ基または炭素数2〜12のア
シル基である。そして5個のR3aは同一でも異なってい
てもよい。また上記式(1b)において、R3bは炭素数
1〜12の炭化水素基、炭素数1〜12の炭化水素オキ
シ基、(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボニル基、
ニトロ基、シアノ基または炭素数2〜12のアシル基で
ある。そして5個のR3bは同一でも異なっていてもよ
い。
えば炭素数1〜12のアルキル基またはフェニル基を挙
げることができる。炭素数1〜12のアルキル基の具体
例としては前記したものと同じものを挙げることができ
る。
ル基としては、例えば(炭素数1〜12のアルキル)オ
キシメチル基または(炭素数7〜12のアラルキル)オ
キシメチル基を挙げることができる。これらの基におけ
る炭素数1〜12のアルキル部分および炭素数7〜12
のアラルキル部分の具体例としては前記した炭素数1〜
12のアルキル基および炭素数7〜12のアラルキル基
の具体例と同じものを挙げることができる。
は、例えば炭素数1〜12のアルキルオキシ基、フェノ
キシ基またはベンジルオキシ基を挙げることができる。
炭素数1〜12のアルキルオキシ基のアルキル部分とし
ては前記した炭素数1〜12のアルキル基の具体例と同
じものを例示することができる。
ル基の炭素数1〜12のアルキル部分の具体例として
は、前記したものと同じものを挙げることができる。
(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボニル基として
は、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、デシ
ルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル基を挙
げることができる。
状であっても分岐鎖状であってもよく、その例としては
アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、カプロ
イル、カプリリル、カプリル、ウンデシリル基を挙げる
ことができる。
原子または硫黄原子である。
わされる化合物のうち、好ましい化合物群は便宜的に下
記式(1)―1、(1)―2、(1)―3、(1)―
4、(1)―5、(1)―6および(1)―7で表わさ
れる。
有する炭化水素2〜12の炭化水素基であり、R2とR3
の定義は上記式(1a)のR2aとR3aまたは上記式(1
b)のR2bまたはR3bに同じである。]
b)のR2bとR3bに同じである。]
1〜12の炭化水素)オキシメチル基であり、R12は炭
素数1〜12の炭化水素基または炭素数1〜12の炭化
水素―O―炭素数2〜12の炭化水素基であり、そして
R2の定義は上記式(1b)のR2bに同じである。]
キル基であり、そしてR31およびR2の定義は上記式
(1a)のR2aとR3aまたは上記式(1b)のR2bとR
3bに同じである。]
4アルキレン)基であり、そしてR2とR3の定義は上記
式(1a)のR2aとR3aまたは上記式(1b)のR2bと
R3bに同じである。]
化水素)シリル基であり、そしてR2とR3の定義は上記
式(1b)のR2bとR3bに同じである。]
してR2とR3の定義は上記式(1a)のR2aとR3aまた
は上記式(1b)のR2bとR3bに同じである。]上記式
(1)―1におけるR11、上記式(1)―3におけるR
31およびR12、上記式(1)―4におけるR31およびR
13、上記式(1)―5におけるR14、上記式(1)―6
におけるR15、並びに上記式(1)―7におけるR16の
定義およびそれぞれの基に属する具体例等は前記したと
ころから明らかであろう。
わされる化合物の具体例を例示すれば以下のとおりであ
る。
は、例えば4―ベンジルオキシ―1―ブタノール、3―
ベンジルオキシ―1―プロパノール、3―ベンジルオキ
シ―2―プロパノール、4―(α―メチルベンジルオキ
シ)―1―ブタノール、4―(p―メチルベンジルオキ
シ)―1―ブタノール、4―(p―メトキシベンジロキ
シ)ブタノール、4―(p―ブトキシメチルベンジロキ
シ)―1―ブタノール、5―(p―フェノキシベンジロ
キシ)―1―ペンタノール、5―(p―フェニルベンジ
ロキシ)―1―ペンタノール、6―(p―メトキシカル
ボニルベンジロキシ)―1―ヘキサノール、4―(シク
ロヘキサンカルボニルベンジロキシ)―1―ブタノー
ル、4―(p―ニトロベンジロキシ)―1―ブタノー
ル、4―(p―シアノベンジロキシ)―1―ブタノール
等を挙げることができる。
は、例えばp―メチルベンジルアルコール、p―メトキ
シベンジルアルコール、p―フェニルベンジルアルコー
ル、p―フェノキシベンジルアルコール、p―ベンジル
オキシベンジルアルコール、o―ベンジルオキシベンジ
ルアルコール、α―メチルベンジルアルコール、α―エ
チルベンジルアルコール、α―ブチルベンジルアルコー
ル、p―メトキシカルボニルベンジルアルコール、p―
エトキシカルボニルベンジルアルコール、p―プロポキ
シカルボニルベンジルアルコール、p―ヘキシルオキシ
カルボニルベンジルアルコール、p―ニトロベンジルア
ルコール、m―フェノキシベンジルアルコール、p―シ
アノベンジルアルコール、p―エチルカルボニルベンジ
ルアルコール等を挙げることができる。
は、例えば、エトキシエチルベンジルエーテル、ベンジ
ルシクロヘキシルエーテル、ベンジル―o―トリルエー
テル、ベンジル―m―トリルエーテル、ベンジル―p―
トリルエーテル、1,3―ジベンジルオキシ―2―プロ
パノール、(p―メトキシベンジル)ベンジルエーテ
ル、(p―メチルベンジル)ベンジルエーテル、(o―
メチルベンジル)ベンジルエーテル、(m―メチルベン
ジル)ベンジルエーテル、(α―メチルベンジル)ベン
ジルエーテル、(α―エチルベンジル)ベンジルエーテ
ル、p―(α,α′―ジ(1―フェニルエトキシ))キ
シリレン、m―(α,α′―ジベンジロキシ)キシリレ
ン等を挙げることができる。
(1)―3におけるR12に相当する化合物としては、例
えば(p―メチルベンジル)フェニルエーテル、(o―
メチルベンジル)フェニルエーテル、(m―メチルベン
ジル)フェニルエーテル、(p―メトキシベンジル)フ
ェニルエーテル、(p―メトキシカルボニルベンジル)
フェニルエーテル、(p―ニトロベンジル)フェニルエ
ーテル、(p―メトキシカルボニルベンジル)ベンジル
エーテル、(p―ブトキシカルボニルベンジル)ベンジ
ルエーテル、ジ(p―ニトロベンジル)エーテル、ジ
(p―シアノベンジル)エーテル、ジ(p―メトキシカ
ルボニルベンジル)エーテル、ジ(p―メチルカルボニ
ルベンジル)エーテル等を挙げることができる。
は、例えばジベンジルチオエーテル、(α―メチルベン
ジル)ベンジルチオエーテル等を挙げることができる。
R1aまたはR1bに相当する化合物としては、例えばジ
(p―メチルベンジル)チオエーテル、(p―メトキシ
ベンジル)ベンジルチオエーテル等を挙げることができ
る。
は、例えば(エトキシエトキシエチル)ベンジルエーテ
ル、片末端ベンジルオキシ封鎖ポリプロピレングリコー
ル、
は、例えばベンジル(エチルジメチル)シリルエーテ
ル、ベンジル(トリイソプロピルシリル)エーテル、ベ
ンジル(tert―ブチルジメチルシリル)エーテル、
α―メチルベンジル(トリメチルシリル)エーテル、p
―メチルベンジル(トリメチルシリル)エーテル、p―
シアノベンジル(トリメチルシリル)エーテル、p―ニ
トロベンジル(トリメチルシリル)エーテル、p―ブト
キシメチルベンジル(トリメチルシリル)エーテル、p
―メトキシカルボニルベンジル(トリメチルシリル)エ
ーテル等を挙げることができる。
は、例えばベンジルグリシジルエーテル、(p―メチル
ベンジル)グリシジルエーテル、(α―メチルベンジ
ル)グリシジルエーテル、(p―メトキシベンジル)グ
リシジルエーテル、(p―メトキシカルボニルベンジ
ル)グリシジルエーテル、(p―シアノベンジル)グリ
シジルエーテル、(p―ニトロベンジル)グリシジルエ
ーテル等を挙げることができる。
わされる化合物は単独であるいは2種以上組合せて使用
することができる。
わされる化合物は、ポリカーボネート100重量部当り
0.01〜10重量部の割合で用いられる。0.01重
量部より少ないと、γ線照射時の黄変の抑制効果が小さ
い組成物しか得られず、他方10重量部より多いと物性
低下の大きい組成物となり不都合である。
わされる化合物は、好ましくは0.05〜5重量部であ
り、さらに好ましくは0.1〜3重量部である。
造するには、溶融したポリカーボネートに、上記式(1
a)または上記式(1b)で表わされる化合物を混合す
ることが好ましい。この場合の方法としては、従来公知
の混合方法が使用可能である。例えば2軸押し出し機等
の溶融混練機を使用して、ポリカーボネートと上記式
(1a)または上記式(1b)で表わされる化合物を同
時に練り込む方法が好ましい。この際の混合の温度は、
通常250〜320℃程度とすることが好ましい。25
0℃より低いとポリマーが充分溶融しないため混合が充
分でないことがあり、320℃より高いと該化合物やポ
リマーの熱劣化が起こりやすくなるためである。さらに
好ましくは混合の温度は260〜300℃である。
b)で表わされる化合物を高濃度に含むポリカーボネー
ト樹脂組成物を調製し、これと該化合物を含まないポリ
カーボネートとを、上記式(1a)または上記式(1
b)で表わされる化合物をポリカーボネート100重量
部当り0.01〜10重量部となるように混合調製し
て、目的とするポリカーボネート樹脂組成物を得ること
もできる。
ある。例えば2軸押し出し機を使用してポリカーボネー
トと、上記式(1a)または上記式(1b)で表わされ
る化合物を高濃度で含むポリカーボネート樹脂組成物と
を同時に混合する方法がより好ましい。混合の温度は、
通常250〜320℃である。250℃より低いとポリ
マーが十分溶融しないため混合が十分でないことがあ
り、320℃より高いと添加剤やポリマーの熱劣化が起
こりやすくなるためである。混合の温度は260〜30
0℃がさらに好ましい。
γ線照射に対して高い安定化作用を有しており、上記式
(1a)または上記式(1b)の化合物以外にも従来公
知の耐γ線性改良用の添加剤を含有することもできる。
これらの添加剤には特に制限はなく、上記式(1a)ま
たは上記式(1b)で示される化合物と併用することに
より、得られる組成物の物性低下を引き起こすことな
く、γ線に対する耐性が向上するものであればよい。
ンジメタノールテレフタレート等の各種ポリエステル、
ポリアルキレングリコール類、エポキシ化合物、チオエ
ーテル等のイオウ化合物等が好ましく用いられる。廃棄
時の環境問題の観点からハロゲン含有化合物を含まない
ことが望ましい。
式(1b)で表わされる化合物と合わせた全体の化合物
の量として、ポリカーボネート100重量部当り大略1
0.0重量部を超えないことが望ましい。
リカーボネート樹脂組成物に添加することもできる。こ
れらの添加剤は離型剤、可塑剤、熱的安定剤、紫外線安
定剤、酸化防止剤、充填剤、補強剤等が含まれる。
は、透明性、衛生性、寸法安定性、衝撃強さ、耐熱性と
いったポリカーボネートの持つ優れた特性を失うことな
く、空気中、脱酸素中における照射のいかんを問わずγ
線照射後の黄変の少ないポリカーボネート樹脂組成物で
ある。したがって、かかる組成物はγ線照射による滅菌
に対して安定であり、医療材料用途に特に好適である。
また、本発明の組成物は、廃棄時の環境へ与える影響も
改善されたものである。
明はこれに限定されるものではない。実施例中、「部」
は「重量部」を意味する。
後の黄変度(ΔYI)は、日本工業規格K7103に従
って、日本電色工業(株)製 Z―300Aにより、サ
ンプル厚2mmで、透過法により測定した。
酸素中それぞれにおいて、照射量2.5Mradで行っ
た。
表わされる化合物、実施例6は式(1)―3で表わされ
る化合物)の所定量、およびビスフェノールA型のポリ
カーボネート(帝人化成(株)製「パンライト」L―1
225)100部を、30mmφ2軸エクストルーダー
(池貝鉄工(株)製PCM―30)を用いて、ポリマー
温度280℃、平均滞留時間約3分の条件下で溶融混練
し、これをペレット化した。
50B)を用いて、シリンダー温度280℃、金型温度
60℃にて射出成形を行い、2mm厚のサンプル(試験
片)を得た。これに対し脱酸素中、空気中それぞれで、
γ線照射を行い、照射前後の黄色度を測定し黄変度を求
めた。結果を表1に示す。
物)の所定量、およびビスフェノールA型のポリカーボ
ネート(帝人化成(株)製「パンライト」L―122
5)100部を用いて、実施例1〜6と同様の操作を行
い、黄変度を測定した。結果を表2に示す。
4で表わされる化合物)の所定量、およびビスフェノー
ルA型のポリカーボネート(帝人化成(株)製「パンラ
イト」L―1225)100部を用いて、実施例1〜6
と同様の操作を行い、黄変度を測定した。結果を表3に
示す。
3で表わされる化合物、実施例28〜31は(1)のR
1がR12の場合に相当する化合物)の所定量、および
ビスフェノールA型のポリカーボネート(帝人化成
(株)製「パンライト」L―1225)100部を用い
て、実施例1〜6と同様の操作を行い、黄変度を測定し
た。結果を表4に示す。
3で表わされる化合物、実施例34〜37は前記式
(1)―5で表わされる化合物)の所定量、およびビス
フェノールA型のポリカーボネート(帝人化成(株)製
「パンライト」L―1225)100部を用いて、実施
例1〜6と同様の操作を行い、黄変度を測定した。結果
を表5に示す。
物)の所定量、およびビスフェノールA型のポリカーボ
ネート(帝人化成(株)製「パンライト」L―122
5)100部を用いて、実施例1〜6と同様の操作を行
い、黄変度を測定した。結果を表6に示す。
量、およびビスフェノールA型のポリカーボネート(帝
人化成(株)製「パンライト」L―1225)100部
を用いて、実施例1〜6と同様の操作を行い、黄変度を
測定した。結果を表7に示す。
ート(帝人化成(株)製「パンライト」L―1225)
のみ、および表8に示す化合物の所定量、および該ポリ
カーボネート100部を用いて、前記実施例と同様の操
作を行い、黄変度を測定した。結果を表8に示す。
ト樹脂組成物は、空気中および脱酸素中を問わず、γ線
照射による黄変度が小さく、γ線に対して極めて高い安
定性を有することがわかる。
Claims (21)
- 【請求項1】 (A)末端にγ線照射により開裂し得る
炭素―炭素不飽和結合を実質的に持たないポリカーボネ
ート100重量部、および(B)下記式(1a) 【化1】 [ここで、R1aは炭素数1〜12の炭化水素―O―炭素
数2〜12の炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有す
る炭素数2〜12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2
〜4アルキレン)基およびグリシジル基よりなる群から
選ばれ、R2aは水素原子および炭素数1〜12の炭化水
素基よりなる群から選ばれ、R3aは水素原子、炭素数1
〜12の炭化水素基、(炭素数1〜12の炭化水素)オ
キシメチル基、炭素数1〜12の炭化水素オキシ基、
(炭素数1〜12のアルコキシ)カルボニル基、ニトロ
基、シアノ基および炭素数2〜12のアシル基よりなる
群から選ばれ、5個のR3aは同一でも異なっていてもよ
い。そしてZは酸素原子または硫黄原子である。]で表
わされる化合物(ジベンジルエーテルおよびp-(α、
α‘-ジベンジロキシ)キシリレンを除く)0.01〜
10重量部とからなるγ線耐性を有するポリカーボネー
ト樹脂組成物。 - 【請求項2】 (A)末端にγ線照射により開裂し得る
炭素―炭素不飽和結合を実質的に持たないポリカーボネ
ート100重量部、および(B)下記式(1b) 【化2】 [ここで、R1bは水素原子、炭素数1〜12の炭化水素
基、炭素数1〜12の炭化水素―O―炭素数2〜12の
炭化水素基、少くとも1個の水酸基を有する炭素数2〜
12の炭化水素基、ポリ(オキシ炭素数2〜4アルキレ
ン)基、トリ(炭素数1〜6の炭化水素)シリル基およ
びグリシジル基よりなる群から選ばれ、R2bは水素原子
および炭素数1〜12の炭化水素基よりなる群から選ば
れ、R3bは炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜1
2の炭化水素オキシ基、(炭素数1〜12のアルコキ
シ)カルボニル基、ニトロ基、シアノ基および炭素数2
〜12のアシル基よりなる群から選ばれ、5個のR3bは
同一でも異なっていてもよい。そしてZは酸素原子また
は硫黄原子である。]で表わされる化合物(ジベンジル
エーテルおよびp-(α、α‘-ジベンジロキシ)キシリ
レンを除く)0.01〜10重量部とからなるγ線耐性
を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項3】 ポリカーボネートが下記式(2) 【化3】 [ここで、R4およびR5は互いに独立に、水素原子、炭
素数1〜5のアルキル基または炭素数5〜6のシクロア
ルキル基であるか、あるいはR4とR5は互いに結合して
それらが結合している炭素原子と一緒になって5または
6員環を形成していてもよい。R6とR7は互いに独立
に、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基またはハロ
ゲン原子であり、そしてmおよびnは互いに独立に0、
1または2である。]で表わされる繰返し単位より実質
的になる請求項1または2記載のγ線耐性を有するポリ
カーボネート樹脂組成物。 - 【請求項4】 ポリカーボネートが下記式(3) 【化4】 [ここで、R8はフェニル基、炭素数1〜12のアルキ
ル置換フェニル基である。]または下記式(4) 【化5】 [ここで、R4、R5、R6、R7、mおよびnの定義は上
記式(2)に同じである。]で表わされる末端基を有す
る請求項1または2記載のγ線耐性を有するポリカーボ
ネート樹脂組成物。 - 【請求項5】 上記式(1b)のR1bの炭素数1〜12
の炭化水素基が炭素数1〜12のアルキル基、炭素数5
〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数7〜12のアルキルアリール基または炭素数
7〜12のアラルキル基である請求項2記載のγ線耐性
を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項6】 上記式(1a)のR1aまたは上記式(1
b)のR1bの、炭素数1〜12の炭化水素―O―炭素数
2〜12の炭化水素基が、炭素数1〜12のアルキル―
O―炭素数2〜12のアルキル基、炭素数1〜12のア
ルキル―O―炭素数6〜12のアリール基、炭素数7〜
12のアラルキル―O―炭素数2〜12のアルキル基ま
たは炭素数7〜12のアラルキル―O―炭素数6〜12
のアリール基である請求項1または2記載のγ線耐性を
有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項7】 上記式(1a)のR1aまたは上記式(1
b)のR1bの、少くとも1個の水酸基を有する炭素数2
〜12の炭化水素基が、少くとも1個の水酸基を有する
炭素数2〜12のアルキル基である請求項1または2記
載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項8】 上記式(1a)のR1aまたは上記式(1
b)のR1bのポリ(オキシ炭素数2〜4アルキレン)基
が、下記式(5) 【化6】 [ここで、Yは炭素数2〜4のアルキレン基であり、R
9は水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数6
〜12のアリール基、炭素数6〜16のアルキルアリー
ル基または炭素数7〜16のアラルキル基であり、そし
てpは2〜100の数である。]で表わされる請求項1
または2に記載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹
脂組成物。 - 【請求項9】 上記式(1b)のR1bのトリ(炭素数1
〜6の炭化水素)シリル基がトリ(炭素数1〜6のアル
キル)シリル基、トリフェニルシリル基、ジ(炭素数1
〜6のアルキル)フェニルシリル基または(炭素数1〜
6アルキル)ジフェニルシリル基である請求項2記載の
γ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項10】 上記式(1a)のR2aまたは(1b)
のR2bの、炭素数1〜12の炭化水素基が、炭素数1〜
12のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基
またはフェニル基である請求項1または2記載のγ線耐
性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項11】 上記式(1a)のR3aまたは上記式
(1b)のR3bの、炭素数1〜12の炭化水素基が、炭
素数1〜12のアルキル基またはフェニル基である請求
項1または2記載のγ線耐性を有するポリカーボネート
樹脂組成物。 - 【請求項12】 上記式(1a)のR3aの(炭素数1〜
12の炭化水素)オキシメチル基が(炭素数1〜12の
アルキル)オキシメチル基または(炭素数7〜12のア
ラルキル)オキシメチル基である請求項1記載のγ線耐
性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項13】 上記式(1a)のR3aの炭素数1〜1
2の炭化水素オキシ基が炭素数1〜12のアルキルオキ
シ基、フェノキシ基またはベンジルオキシ基である請求
項1記載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成
物。 - 【請求項14】 上記式(1a)または上記式(1b)
で表わされる化合物が下記式(1)―1 【化7】 [ここで、R11は少くとも1個の水酸基を有する炭化水
素2〜12の炭化水素基であり、R2とR3の定義は上記
式(1a)のR2aとR3aまたは上記式(1b)のR2bと
R3bに同じである。]で表わされる請求項1または2記
載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項15】 上記式(1b)で表わされる化合物が
下記式(1)―2 【化8】 [ここで、R2とR3の定義は上記式(1b)のR2bとR
3bに同じである。]で表わされる請求項2記載のγ線耐
性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項16】 上記式(1b)で表わされる化合物が
下記式(1)―3 【化9】 [ここで、R31は水素原子または(炭素数1〜12の炭
化水素)オキシメチル基であり、R12は炭素数1〜12
の炭化水素基または炭素数1〜12の炭化水素―O―炭
素数2〜12の炭化水素基であり、そしてR2の定義は
上記式(1b)のR2bに同じである。]で表わされる請
求項2記載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組
成物。 - 【請求項17】 上記式(1a)または上記式(1b)
で表わされる化合物が下記式(1)―4 【化10】 [ここで、R13は炭素数7〜12のアラルキル基であ
り、そしてR31およびR2の定義は上記式(1a)のR
2aとR3aまたは上記式(1b)のR2bとR3bに同じであ
る。]で表わされる請求項1または2記載のγ線耐性を
有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項18】 上記式(1a)または上記式(1b)
で表わされる化合物が下記式(1)―5 【化11】 [ここで、R14はポリ(オキシ炭素数2〜4アルキレ
ン)基であり、そしてR2とR3の定義は上記式(1a)
のR2aとR3aまたは上記式(1b)R2bとR3bに同じで
ある。]で表わされる請求項1または2記載のγ線耐性
を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項19】 上記式(1b)で表わされる化合物が
下記式(1)―6 【化12】 [ここで、R15はトリ(炭素数1〜6の炭化水素)シリ
ル基であり、そしてR2とR3の定義は上記式(1b)の
R2bとR3bに同じである。]で表わされる請求項2記載
のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物。 - 【請求項20】 上記式(1a)または(1b)で表わ
される化合物が下記式(1)―7 【化13】 [ここで、R16はグリシジル基であり、そしてR2とR3
の定義は上記式(1a)のR2aとR3aまたは(1b)の
R2bとR3bに同じである。]で表わされる請求項1また
は2記載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成
物。 - 【請求項21】 ポリカーボネート100重量部に対し
上記式(1a)または(1b)で表わされる化合物を
0.05〜5重量部の割合で含有する請求項1または2
記載のγ線耐性を有するポリカーボネート樹脂組成物。
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