JPH0693192A - γ−線により滅菌できる重縮合物 - Google Patents
γ−線により滅菌できる重縮合物Info
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- JPH0693192A JPH0693192A JP5152628A JP15262893A JPH0693192A JP H0693192 A JPH0693192 A JP H0693192A JP 5152628 A JP5152628 A JP 5152628A JP 15262893 A JP15262893 A JP 15262893A JP H0693192 A JPH0693192 A JP H0693192A
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- aryl
- hydroxyphenyl
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/15—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
- C08K5/151—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having one oxygen atom in the ring
- C08K5/1545—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
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-
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 電離線によって起こる分解に対して抵抗性の
熱可塑性成型材料組成物を開示する。組成物は芳香族重
縮合物、及び構造的に式（Ｉ） 【化１】 に対応する化合物であるか又は式（Ｉａ） 【化２】 ［式中、Ｒ1−Ｒ10及びＸは定義されている］に対応す
る構造単位を含むオリゴカーボネート、ポリカーボネー
ト、コポリカーボネート、ポリエステルカーボネート及
びポリエステルから成る群より選ばれるメンバーである
試薬を含む。 【効果】 組成物は成型品、特に医学的用途に有用な製
品の製造に適している。
熱可塑性成型材料組成物を開示する。組成物は芳香族重
縮合物、及び構造的に式（Ｉ） 【化１】 に対応する化合物であるか又は式（Ｉａ） 【化２】 ［式中、Ｒ1−Ｒ10及びＸは定義されている］に対応す
る構造単位を含むオリゴカーボネート、ポリカーボネー
ト、コポリカーボネート、ポリエステルカーボネート及
びポリエステルから成る群より選ばれるメンバーである
試薬を含む。 【効果】 組成物は成型品、特に医学的用途に有用な製
品の製造に適している。
Description
【０００１】
【発明の背景】本出願は１９９２年６月３日出願の出願
番号０７／８９１，８７５の一部継続出願である。
番号０７／８９１，８７５の一部継続出願である。
【０００２】本発明は、次式（Ｉ）
【０００３】
【化４】
【０００４】［式中、Ｒ1からＲ10は互いに独立して
Ｈ、ＯＨ、ＳＨ、Ｏ−アルキル、Ｓ−アルキル、Ｏ−ア
リール、Ｓ−アリール、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアルキル、Ｃ
ＯＯアリール、ＣＯアルキル、ＣＯアリール、ＣＯＨ、
Ｃ（Ｏアルキル）2、Ｃ（Ｏシクロアルキル）2、ＯＣＯ
Ｏアルキル、ＯＣＯＯアリール、ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3アルキ
ル、ＳＯ3アリール、ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2アルキル、ＳＯ2ア
リール、ＳＯＨ、ＳＯアルキル、ＳＯアリール、アルキ
ル及びアリールであり、Ｒ1及びＲ6は共有結合により結
合していることができ、 ここでＲ11及びＲ12は同一又は異なりＲ1からＲ10と同
義である］の有機化合物と混合することにより、ガンマ
線及び／又は電子線などの電離線に暴露することによる
例えば黄変などの形態の損傷に対して安定化された、熱
可塑的成型可能な芳香族重縮合物、例えば芳香族ポリカ
ーボネート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／
又は芳香族ポリエステルカーボネートに関する。
Ｈ、ＯＨ、ＳＨ、Ｏ−アルキル、Ｓ−アルキル、Ｏ−ア
リール、Ｓ−アリール、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアルキル、Ｃ
ＯＯアリール、ＣＯアルキル、ＣＯアリール、ＣＯＨ、
Ｃ（Ｏアルキル）2、Ｃ（Ｏシクロアルキル）2、ＯＣＯ
Ｏアルキル、ＯＣＯＯアリール、ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3アルキ
ル、ＳＯ3アリール、ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2アルキル、ＳＯ2ア
リール、ＳＯＨ、ＳＯアルキル、ＳＯアリール、アルキ
ル及びアリールであり、Ｒ1及びＲ6は共有結合により結
合していることができ、 ここでＲ11及びＲ12は同一又は異なりＲ1からＲ10と同
義である］の有機化合物と混合することにより、ガンマ
線及び／又は電子線などの電離線に暴露することによる
例えば黄変などの形態の損傷に対して安定化された、熱
可塑的成型可能な芳香族重縮合物、例えば芳香族ポリカ
ーボネート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／
又は芳香族ポリエステルカーボネートに関する。
【０００５】式（Ｉ）の好ましい化合物はＸ＝Ｓである
化合物、特にジフェニルスルフィド、及びＸ＝Ｓであ
り、Ｒ1及びＲ6が共有結合であるか又は共有結合により
結合している化合物、例えばチアントレンである。
化合物、特にジフェニルスルフィド、及びＸ＝Ｓであ
り、Ｒ1及びＲ6が共有結合であるか又は共有結合により
結合している化合物、例えばチアントレンである。
【０００６】式（Ｉ）の特に好ましい化合物はＸ＝Ｏ、
Ｒ11Ｃ＝ＣＲ12又はＣ＝ＣＲ11Ｒ12の化合物である。
Ｒ11Ｃ＝ＣＲ12又はＣ＝ＣＲ11Ｒ12の化合物である。
【０００７】式（Ｉ）の最も好ましい化合物はＸ＝Ｓ2
の化合物である。
の化合物である。
【０００８】式（Ｉ）の化合物は、１００重量％の重縮
合物に基づいて０．００１重量％−５重量％、好ましく
は０．００５重量％−１重量％、最も好ましくは０．０
１重量％−０．８重量％の量で用いられる。
合物に基づいて０．００１重量％−５重量％、好ましく
は０．００５重量％−１重量％、最も好ましくは０．０
１重量％−０．８重量％の量で用いられる。
【０００９】本発明は又、芳香族ポリカーボネート及び
／又は芳香族コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリ
エステルカーボネートなどの熱可塑的成型可能な芳香族
重縮合物と、例えばガンマ線及び／又は電子線などの電
離線による例えば黄変の形態の重縮合物の損傷に対して
それ自身が安定剤として作用するオリゴカーボネート及
び／又はポリカーボネート及び／又はコポリカーボネー
ト及び／又はポリエステルカーボネート及び／又はポリ
エステルとの混合物に関する。
／又は芳香族コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリ
エステルカーボネートなどの熱可塑的成型可能な芳香族
重縮合物と、例えばガンマ線及び／又は電子線などの電
離線による例えば黄変の形態の重縮合物の損傷に対して
それ自身が安定剤として作用するオリゴカーボネート及
び／又はポリカーボネート及び／又はコポリカーボネー
ト及び／又はポリエステルカーボネート及び／又はポリ
エステルとの混合物に関する。
【００１０】上記の種類の安定化オリゴカーボネート、
ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリエステル
カーボネート及びポリエステルは、式（Ｉａ）
ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリエステル
カーボネート及びポリエステルは、式（Ｉａ）
【００１１】
【化５】
【００１２】［式中Ｘ及び置換基Ｒ1−Ｒ10は式（Ｉ）
と同義である］の構造単位を含むものである。
と同義である］の構造単位を含むものである。
【００１３】特に好ましい化合物は、式（Ｉａ）におい
てＸ＝Ｏであるビスフェノレート基を含むオリゴカーボ
ネート、ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリ
エステルカーボネート及びポリエステルである。
てＸ＝Ｏであるビスフェノレート基を含むオリゴカーボ
ネート、ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリ
エステルカーボネート及びポリエステルである。
【００１４】最も好ましい化合物は、式（Ｉａ）におい
てＸ＝Ｓ2であるビスフェノレート基を含むオリゴカー
ボネート、ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポ
リエステルカーボネート及びポリエステルである。
てＸ＝Ｓ2であるビスフェノレート基を含むオリゴカー
ボネート、ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポ
リエステルカーボネート及びポリエステルである。
【００１５】これらの誘導体は本発明の安定剤の範囲に
含まれる。それには対応するカルボン酸エステル、アセ
タール、アルキルカーボネート、エポキシド、ウレタ
ン、ホスフェート、ホスホネート、ホスファイト、ホス
ホナイト、シロキサン、スルホン酸エステル、スルフィ
ン酸エステル及びスルフェン酸エステルが含まれ、これ
らの製造は当該技術における熟練者に周知である。
含まれる。それには対応するカルボン酸エステル、アセ
タール、アルキルカーボネート、エポキシド、ウレタ
ン、ホスフェート、ホスホネート、ホスファイト、ホス
ホナイト、シロキサン、スルホン酸エステル、スルフィ
ン酸エステル及びスルフェン酸エステルが含まれ、これ
らの製造は当該技術における熟練者に周知である。
【００１６】本発明の好ましい具体化は、ポリカーボネ
ート樹脂及び安定剤を含む熱可塑性ポリカーボネート成
型材料組成物に関する。（ｉ）ポリエーテルポリオール
及び（ｉｉ）芳香族ジスルフィドを含むことにより、試
薬は組成物のガンマ線誘起変色に対する耐性を向上させ
る。本発明の組成物から形成した製品は、ガンマ線滅菌
可能な医療用装置の製造に適している。
ート樹脂及び安定剤を含む熱可塑性ポリカーボネート成
型材料組成物に関する。（ｉ）ポリエーテルポリオール
及び（ｉｉ）芳香族ジスルフィドを含むことにより、試
薬は組成物のガンマ線誘起変色に対する耐性を向上させ
る。本発明の組成物から形成した製品は、ガンマ線滅菌
可能な医療用装置の製造に適している。
【００１７】安定化コポリカーボネートに関する限り、
以下のビスフェノールを安定化コポリカーボネートの重
縮合のためのコビスフェノールとして式（Ｉ）のビスフ
ェノールと組み合わせて用いることができる：ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス
−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケト
ン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、α，α’−ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン
及びこれらの環−アルキル化及び環−ハロゲン化化合
物。
以下のビスフェノールを安定化コポリカーボネートの重
縮合のためのコビスフェノールとして式（Ｉ）のビスフ
ェノールと組み合わせて用いることができる：ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス
−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケト
ン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、α，α’−ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン
及びこれらの環−アルキル化及び環−ハロゲン化化合
物。
【００１８】好ましいジフェノールは例えば：４，４’
−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，
２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブ
タン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２
−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチ
ルシクロヘキサンである。
−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，
２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブ
タン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２
−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチ
ルシクロヘキサンである。
【００１９】最も好ましいジフェノールは例えば：２，
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンで
ある。
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンで
ある。
【００２０】これらの、及び他の適したジフェノールは
例えばＵ．Ｓ．特許３，０２８，３６５， ２，９９
９，８３５， ３，１４８，１７２， ２，９９１，２
７３，３，２７１，３６７及び２，９９９，８４６、ド
イツ公開明細書１，５７０，７０３， ２，０６３，０
５０， ２，０３６，０５２， ２，２１１，９５６、
フランス特許１，５６１，５１８、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ
によるモノグラフ：“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐ
ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ
ｓ”，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４、ドイツ特許出願Ｐ
３８ ３２ ３９６．６（ＬｅＡ２６，３４４）及び日
本公開明細書６２０３９／１９８６， ６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６に記載されている。
例えばＵ．Ｓ．特許３，０２８，３６５， ２，９９
９，８３５， ３，１４８，１７２， ２，９９１，２
７３，３，２７１，３６７及び２，９９９，８４６、ド
イツ公開明細書１，５７０，７０３， ２，０６３，０
５０， ２，０３６，０５２， ２，２１１，９５６、
フランス特許１，５６１，５１８、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ
によるモノグラフ：“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐ
ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ
ｓ”，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４、ドイツ特許出願Ｐ
３８ ３２ ３９６．６（ＬｅＡ２６，３４４）及び日
本公開明細書６２０３９／１９８６， ６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６に記載されている。
【００２１】安定化ポリエステルカーボネートは、式
（Ｉａ）のビスフェノレート基の他に上記のコビスフェ
ノールのビスフェノレート基から、及び少なくとも１種
類の芳香族ジカルボン酸からも製造することができる。
適したジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタ
ル酸、イソフタル酸、ｔｅｒｔ．−ブチルイソフタル
酸、３，３’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジ
フェニルジカルボン酸、４，４’−ベンゾフェノンジカ
ルボン酸、３，４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、
４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’
−ジフェニルスルホン−ジカルボン酸、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及びトリメチル
−３−フェニルインダン−４，５’−ジカルボン酸であ
る。
（Ｉａ）のビスフェノレート基の他に上記のコビスフェ
ノールのビスフェノレート基から、及び少なくとも１種
類の芳香族ジカルボン酸からも製造することができる。
適したジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタ
ル酸、イソフタル酸、ｔｅｒｔ．−ブチルイソフタル
酸、３，３’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジ
フェニルジカルボン酸、４，４’−ベンゾフェノンジカ
ルボン酸、３，４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、
４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’
−ジフェニルスルホン−ジカルボン酸、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及びトリメチル
−３−フェニルインダン−４，５’−ジカルボン酸であ
る。
【００２２】特に好ましい芳香族ジカルボン酸はテレフ
タル酸及び／又はイソフタル酸である。
タル酸及び／又はイソフタル酸である。
【００２３】安定化オリゴカーボネート、ポリカーボネ
ート、コポリカーボネート及びポリエステルカーボネー
トは、芳香族オリゴカーボネート、芳香族ポリカーボネ
ート、芳香族コポリカーボネート及び芳香族ポリエステ
ルカーボネートの製造に関する文献に開示されている種
類の方法、例えば均一溶液中における方法、熔融エステ
ル交換法及び二相界面法により製造することができる。
好ましい方法は熔融エステル交換法及び特に二相界面法
である。
ート、コポリカーボネート及びポリエステルカーボネー
トは、芳香族オリゴカーボネート、芳香族ポリカーボネ
ート、芳香族コポリカーボネート及び芳香族ポリエステ
ルカーボネートの製造に関する文献に開示されている種
類の方法、例えば均一溶液中における方法、熔融エステ
ル交換法及び二相界面法により製造することができる。
好ましい方法は熔融エステル交換法及び特に二相界面法
である。
【００２４】熔融エステル交換法（酢酸塩法及びフェニ
ルエステル法）は、例えばＵ．Ｓ．特許３，４９４，８
５５， ４，３８６，１８６， ４，６６１，５８０，
４，６８０，３７１及び４，６８０，３７２、ＥＰ−
Ａ２６，１２０， ２６，１２１， ２６，６８４，
２８，０３０， ３９，８４５， ９１，６０２，９
７，９７０， ７９，０７５， １４６，８８７， １
５６，１０３， ２３４，９１３， ２３４，９１９及
び２４０，３０１ならびにドイツ明細書（Ａｕｓｌｅｇ
ｅｓｃｈｒｉｆｔｓ）１，４９５，６２６及び２，２３
２，８７７に記載されている。二相界面法は例えばＥＰ
−Ａ６８，０１４， ８８，３２２，１３４，８９８，
１５１，７５０， １８２，１８９， ２１９，７０
８及び２７２，４２６、ドイツ公開明細書２，９４０，
０２４， ３，００７，９３４， ３，４４０，０２０
及びＰｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，Ｖｏｌｕｍｅ１
０，“Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ
ｂｙ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ａｎｄ Ｓｏｌｕｔｉ
ｏｎ Ｍｅｔｈｏｄｓ”，Ｐａｕｌ Ｗ．Ｍｏｒｇａ
ｎ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６５，第３章、３５頁−
“Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ”に記載されている。安定化ポ
リエステルも文献に開示されている方法により製造する
ことができる。
ルエステル法）は、例えばＵ．Ｓ．特許３，４９４，８
５５， ４，３８６，１８６， ４，６６１，５８０，
４，６８０，３７１及び４，６８０，３７２、ＥＰ−
Ａ２６，１２０， ２６，１２１， ２６，６８４，
２８，０３０， ３９，８４５， ９１，６０２，９
７，９７０， ７９，０７５， １４６，８８７， １
５６，１０３， ２３４，９１３， ２３４，９１９及
び２４０，３０１ならびにドイツ明細書（Ａｕｓｌｅｇ
ｅｓｃｈｒｉｆｔｓ）１，４９５，６２６及び２，２３
２，８７７に記載されている。二相界面法は例えばＥＰ
−Ａ６８，０１４， ８８，３２２，１３４，８９８，
１５１，７５０， １８２，１８９， ２１９，７０
８及び２７２，４２６、ドイツ公開明細書２，９４０，
０２４， ３，００７，９３４， ３，４４０，０２０
及びＰｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，Ｖｏｌｕｍｅ１
０，“Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ
ｂｙ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ａｎｄ Ｓｏｌｕｔｉ
ｏｎ Ｍｅｔｈｏｄｓ”，Ｐａｕｌ Ｗ．Ｍｏｒｇａ
ｎ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６５，第３章、３５頁−
“Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ”に記載されている。安定化ポ
リエステルも文献に開示されている方法により製造する
ことができる。
【００２５】安定化オリゴカーボネート、ポリカーボネ
ート、コポリカーボネート、ポリエステルカーボネート
及びポリエステルは安定化するべき芳香族ポリカーボネ
ート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／又は芳
香族ポリエステルカーボネートと、安定化するべき芳香
族ポリカーボネート及び／又は芳香族コポリカーボネー
ト及び／又は芳香族ポリエステルカーボネート１００重
量％に基づいて少なくとも０．００１重量％−５．０重
量％、好ましくは０．００５重量％−１．０重量％、特
に好ましくは０．０１重量％−０．８重量％の式（Ｉ
ａ）のビスフェノレート基が混合物中に含まれる量で混
合する。
ート、コポリカーボネート、ポリエステルカーボネート
及びポリエステルは安定化するべき芳香族ポリカーボネ
ート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／又は芳
香族ポリエステルカーボネートと、安定化するべき芳香
族ポリカーボネート及び／又は芳香族コポリカーボネー
ト及び／又は芳香族ポリエステルカーボネート１００重
量％に基づいて少なくとも０．００１重量％−５．０重
量％、好ましくは０．００５重量％−１．０重量％、特
に好ましくは０．０１重量％−０．８重量％の式（Ｉ
ａ）のビスフェノレート基が混合物中に含まれる量で混
合する。
【００２６】２５℃にてジクロロメタン中で測定した
（０．５００ｇの縮合物を１００ｍｌのジクロロメタン
に溶解）安定化オリゴカーボネートの相対溶液粘度ηｒ
ｅｌ．は、１．０１−１．１７、好ましくは１．０５−
１．１４である。
（０．５００ｇの縮合物を１００ｍｌのジクロロメタン
に溶解）安定化オリゴカーボネートの相対溶液粘度ηｒ
ｅｌ．は、１．０１−１．１７、好ましくは１．０５−
１．１４である。
【００２７】ＤＩＮ ５１，５６２，パート３に従って
２５℃にてジクロロメタン中で測定した（０．５００ｇ
の縮合物を１００ｍｌのジクロロメタンに溶解）安定化
ポリカーボネート及び／又はコポリカーボネート及び／
又はポリエステルカーボネート及びポリエステルの相対
溶液粘度ηｒｅｌ．は、１．１７−１．６０、好ましく
は１．１８−１．４０である。
２５℃にてジクロロメタン中で測定した（０．５００ｇ
の縮合物を１００ｍｌのジクロロメタンに溶解）安定化
ポリカーボネート及び／又はコポリカーボネート及び／
又はポリエステルカーボネート及びポリエステルの相対
溶液粘度ηｒｅｌ．は、１．１７−１．６０、好ましく
は１．１８−１．４０である。
【００２８】本発明は又、少なくとも１つの成分が式
（Ｉ）の有機化合物であり、少なくとも１つの他の成分
がアルコール及び／又はアルコールの誘導体である、熱
可塑的成型可能芳香族重縮合物、例えば芳香族ポリカー
ボネート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／又
は芳香族ポリエステルカーボネートの混合物に関する。
そのような混合物は、例えばガンマ線及び／又は電子線
などの電離線への暴露による例えば黄変の形態の損傷に
対して特に有効に安定化されている。成分は、芳香族ポ
リカーボネート、芳香族コポリカーボネート及び芳香族
ポリエステルカーボネートの製造に関する熟練者に既知
の従来の方法により混合することができる。
（Ｉ）の有機化合物であり、少なくとも１つの他の成分
がアルコール及び／又はアルコールの誘導体である、熱
可塑的成型可能芳香族重縮合物、例えば芳香族ポリカー
ボネート及び／又は芳香族コポリカーボネート及び／又
は芳香族ポリエステルカーボネートの混合物に関する。
そのような混合物は、例えばガンマ線及び／又は電子線
などの電離線への暴露による例えば黄変の形態の損傷に
対して特に有効に安定化されている。成分は、芳香族ポ
リカーボネート、芳香族コポリカーボネート及び芳香族
ポリエステルカーボネートの製造に関する熟練者に既知
の従来の方法により混合することができる。
【００２９】上記の式（Ｉａ）の構造単位を含むオリゴ
カーボネート及び／又はポリカーボネート及び／又はコ
ポリカーボネートも式（Ｉ）の有機化合物の代わりに、
又は式（Ｉ）の有機化合物と組み合わせて用いることが
できる。
カーボネート及び／又はポリカーボネート及び／又はコ
ポリカーボネートも式（Ｉ）の有機化合物の代わりに、
又は式（Ｉ）の有機化合物と組み合わせて用いることが
できる。
【００３０】適したアルコールは１分子当たり１個のヒ
ドロキシル基及び／又は１個より多いヒドロキシル基を
含むアルコール、すなわち一価及び多価アルコールであ
る。一価及び多価アルコールの適した誘導体は、例えば
エーテル、エステル、アセタール、アルキルカーボネー
ト、エポキシド、ウレタン、ホスフェート、ホスホネー
ト、ホスファイト、ホスホナイト及びシロキサンであ
る。
ドロキシル基及び／又は１個より多いヒドロキシル基を
含むアルコール、すなわち一価及び多価アルコールであ
る。一価及び多価アルコールの適した誘導体は、例えば
エーテル、エステル、アセタール、アルキルカーボネー
ト、エポキシド、ウレタン、ホスフェート、ホスホネー
ト、ホスファイト、ホスホナイト及びシロキサンであ
る。
【００３１】エーテル、エステル、アセタール及びアル
キルカーボネートが特に適している。
キルカーボネートが特に適している。
【００３２】最も適した誘導体はエーテルであり、特に
式（ＩＩ）
式（ＩＩ）
【００３３】
【化６】
【００３４】［式中、Ｒ14及びＲ15は同一又は異なり
Ｈ、分枝鎖状もしくは直鎖状Ｃ1−Ｃ30−アルキル又は
アシル、シリルあるいはピラニルであることができ、Ｒ
16はＨ又はＣ1−Ｃ4−アルキルであることができ、ｎは
１−３６の整数であることができ、ｍは０−１５００の
整数であることができる］の誘導体である。
Ｈ、分枝鎖状もしくは直鎖状Ｃ1−Ｃ30−アルキル又は
アシル、シリルあるいはピラニルであることができ、Ｒ
16はＨ又はＣ1−Ｃ4−アルキルであることができ、ｎは
１−３６の整数であることができ、ｍは０−１５００の
整数であることができる］の誘導体である。
【００３５】好ましいエーテルはポリエーテルであり、
特に好ましいポリエーテルは式（ＩＩａ）
特に好ましいポリエーテルは式（ＩＩａ）
【００３６】
【化７】
【００３７】［式中、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16及びｎは上記と
同義であり、ｍは２−１５００の整数である］のポリエ
ーテルである。
同義であり、ｍは２−１５００の整数である］のポリエ
ーテルである。
【００３８】式（ＩＩ）のエーテルの分子量は１０６ｇ
／モル−１００，０００ｇ／モルが好ましく、１５０ｇ
／モル−１２，０００ｇ／モルが特に好ましく、５００
ｇ／モル−１０，０００ｇ／モルが最も好ましい。
／モル−１００，０００ｇ／モルが好ましく、１５０ｇ
／モル−１２，０００ｇ／モルが特に好ましく、５００
ｇ／モル−１０，０００ｇ／モルが最も好ましい。
【００３９】成型ポリカーボネート製品は、血液の清浄
化のための透析器及び使い捨て注射器などの物体を医療
に使用する前に滅菌するため、ガンマ線又は電子線など
の電離線で照射される。この滅菌の間にポリカーボネー
トは常に、例えば黄変などの形態の不可逆的な損傷を受
ける。そのような損傷を軽減するか又は防止するため
に、及び照射による材料の黄変をできるだけ速く止める
ために、重縮合物を安定化しなければならない。
化のための透析器及び使い捨て注射器などの物体を医療
に使用する前に滅菌するため、ガンマ線又は電子線など
の電離線で照射される。この滅菌の間にポリカーボネー
トは常に、例えば黄変などの形態の不可逆的な損傷を受
ける。そのような損傷を軽減するか又は防止するため
に、及び照射による材料の黄変をできるだけ速く止める
ために、重縮合物を安定化しなければならない。
【００４０】ガンマ線及び／又は電子線などの電離線に
対する芳香族ポリカーボネート及び／又は芳香族コポリ
カーボネート及び／又は芳香族ポリエステルカーボネー
トの安定化は、文献から既知である：Ｕ．Ｓ．特許４，
６２４，９７２において、γ−線に対していくらか抵抗
性であるポリカーボネートと芳香族ポリカルボン酸エス
テルの混合物につき記載されている。ＥＰ１５２，０１
２及びＥＰ２２８，５２５は、強力な酸化作用及び／又
はＯＨ基又は電離線により形成される溶媒和電子などの
反応物との高い反応速度において傑出しているポリカー
ボネートと非−ポリマー化合物の混合物につき記載して
いる。Ｕ．Ｓ．特許４，４５１，６４１は、γ−線によ
る損傷に対して酸二量体又はグリコール二量体によりあ
る程度安定化されたコポリエステルにつき記載してい
る。
対する芳香族ポリカーボネート及び／又は芳香族コポリ
カーボネート及び／又は芳香族ポリエステルカーボネー
トの安定化は、文献から既知である：Ｕ．Ｓ．特許４，
６２４，９７２において、γ−線に対していくらか抵抗
性であるポリカーボネートと芳香族ポリカルボン酸エス
テルの混合物につき記載されている。ＥＰ１５２，０１
２及びＥＰ２２８，５２５は、強力な酸化作用及び／又
はＯＨ基又は電離線により形成される溶媒和電子などの
反応物との高い反応速度において傑出しているポリカー
ボネートと非−ポリマー化合物の混合物につき記載して
いる。Ｕ．Ｓ．特許４，４５１，６４１は、γ−線によ
る損傷に対して酸二量体又はグリコール二量体によりあ
る程度安定化されたコポリエステルにつき記載してい
る。
【００４１】しかし芳香族ポリカーボネート及び／又は
芳香族コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリエステ
ルカーボネートと式（Ｉ）の有機化合物及び／又は式
（Ｉａ）の構造単位を含むオリゴカーボネート及び／又
はポリカーボネート及び／又はコポリカーボネートの混
合物は新規混合物である。
芳香族コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリエステ
ルカーボネートと式（Ｉ）の有機化合物及び／又は式
（Ｉａ）の構造単位を含むオリゴカーボネート及び／又
はポリカーボネート及び／又はコポリカーボネートの混
合物は新規混合物である。
【００４２】芳香族ポリカーボネート及び／又は芳香族
コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリエステルカー
ボネートと式（Ｉ）の有機化合物及び／又は式（Ｉａ）
の構造単位を含むオリゴカーボネート及び／又はポリカ
ーボネート及び／又はコポリカーボネート、ならびにさ
らに一価及び／又は多価アルコール及び／又は一価及び
／又は多価アルコールの誘導体の混合物も新規混合物で
ある。
コポリカーボネート及び／又は芳香族ポリエステルカー
ボネートと式（Ｉ）の有機化合物及び／又は式（Ｉａ）
の構造単位を含むオリゴカーボネート及び／又はポリカ
ーボネート及び／又はコポリカーボネート、ならびにさ
らに一価及び／又は多価アルコール及び／又は一価及び
／又は多価アルコールの誘導体の混合物も新規混合物で
ある。
【００４３】この好ましくない発色を軽減する手段を同
定することは、当該分野における数人の研究者の目的で
あった。ポリエーテルポリオールを含むガンマ線抵抗性
ポリカーボネートが開示されている特許にＵ．Ｓ．特許
４，８０４，６９２， ４，８７４，８０２及び４，９
０４，７１０が含まれることが記されている。チオグリ
コール酸又はメルカプトプロピオン酸のメルカプト基を
含むエステルとアルコールを含むポリカーボネート組成
物を、放射線への暴露により滅菌できることを開示した
１１．０８．８８−ＪＰ１９８９４０も関連している。
半−結晶ポリマー、ヒンダードフェノール性安定剤、ホ
スファイト及びチオエステル（又はチオエーテル）を含
む医療用装置で用いるための放射線安定化可能な組成物
がＥＰ３０３，８９４に開示されている。ポリマー組成
物の滅菌放射線に対する色安定性の強化がＵ．Ｓ．特許
４，９３９，１８５に開示されている。従ってジチアン
を含み定義されたチオエーテル基を有する化合物は、滅
菌放射線に暴露した場合に芳香族ポリカーボネートを安
定化すると言われている。スルホン官能基及びチアゾー
ル官能基を有する化合物はポリカーボネート組成物の色
安定性を強化することが、それぞれＵ．Ｓ．特許４，８
８０，８５５及び４，８８０，８５６に開示されてい
る。Ｕ．Ｓ．特許４，０６７，８４６及び３，９０９，
４９０に、芳香族スルフィドのスルホン酸の金属塩を含
む難燃性ポリカーボネート組成物が開示されていること
が記されている。環状ポリカーボネートオリゴマーが
Ｕ．Ｓ．特許４，７５１，２８３に開示されている。オ
リゴマーは芳香族ジスルフィドを含むモノマーから製造
することができる。
定することは、当該分野における数人の研究者の目的で
あった。ポリエーテルポリオールを含むガンマ線抵抗性
ポリカーボネートが開示されている特許にＵ．Ｓ．特許
４，８０４，６９２， ４，８７４，８０２及び４，９
０４，７１０が含まれることが記されている。チオグリ
コール酸又はメルカプトプロピオン酸のメルカプト基を
含むエステルとアルコールを含むポリカーボネート組成
物を、放射線への暴露により滅菌できることを開示した
１１．０８．８８−ＪＰ１９８９４０も関連している。
半−結晶ポリマー、ヒンダードフェノール性安定剤、ホ
スファイト及びチオエステル（又はチオエーテル）を含
む医療用装置で用いるための放射線安定化可能な組成物
がＥＰ３０３，８９４に開示されている。ポリマー組成
物の滅菌放射線に対する色安定性の強化がＵ．Ｓ．特許
４，９３９，１８５に開示されている。従ってジチアン
を含み定義されたチオエーテル基を有する化合物は、滅
菌放射線に暴露した場合に芳香族ポリカーボネートを安
定化すると言われている。スルホン官能基及びチアゾー
ル官能基を有する化合物はポリカーボネート組成物の色
安定性を強化することが、それぞれＵ．Ｓ．特許４，８
８０，８５５及び４，８８０，８５６に開示されてい
る。Ｕ．Ｓ．特許４，０６７，８４６及び３，９０９，
４９０に、芳香族スルフィドのスルホン酸の金属塩を含
む難燃性ポリカーボネート組成物が開示されていること
が記されている。環状ポリカーボネートオリゴマーが
Ｕ．Ｓ．特許４，７５１，２８３に開示されている。オ
リゴマーは芳香族ジスルフィドを含むモノマーから製造
することができる。
【００４４】驚くべきことに、上記の式（Ｉ）の化合物
及び式（Ｉａ）のビスフェノレート基を含むオリゴ−及
び／又は重縮合物は、要求されている安定化作用を有
し、予想に反してアルコールと組み合わせると、及び／
又はアルコールの誘導体と組み合わせるとγ−線による
処理の対して特に優れた安定化作用を有し、それらは前
に開示された安定化系と比較して安定化重縮合物の黄変
をかなり軽減する（本発明の重縮合物の黄色度指数の決
定により示される通り）ばかりでなく、γ−線による黄
変を１５０時間以下の褪色時間の後に、ある場合には２
４時間以下の褪色時間の後にさえ照射直後に得られる黄
色度指数より低い値に下げることが見いだされた。その
ような安定化作用及び褪色時間は、先行技術で既知の安
定剤を用いて得ることはできない。本発明の安定化は、
ガンマ線及び電子線などの電離線により製品が受ける損
傷がかなり低く、特に褪色時間がかなり短縮される結果
として照射成型品の貯蔵時間が数日短縮され、ある場合
には製品を非常に短時間の後に医学的用途で使用するこ
とができるという利点を有する。
及び式（Ｉａ）のビスフェノレート基を含むオリゴ−及
び／又は重縮合物は、要求されている安定化作用を有
し、予想に反してアルコールと組み合わせると、及び／
又はアルコールの誘導体と組み合わせるとγ−線による
処理の対して特に優れた安定化作用を有し、それらは前
に開示された安定化系と比較して安定化重縮合物の黄変
をかなり軽減する（本発明の重縮合物の黄色度指数の決
定により示される通り）ばかりでなく、γ−線による黄
変を１５０時間以下の褪色時間の後に、ある場合には２
４時間以下の褪色時間の後にさえ照射直後に得られる黄
色度指数より低い値に下げることが見いだされた。その
ような安定化作用及び褪色時間は、先行技術で既知の安
定剤を用いて得ることはできない。本発明の安定化は、
ガンマ線及び電子線などの電離線により製品が受ける損
傷がかなり低く、特に褪色時間がかなり短縮される結果
として照射成型品の貯蔵時間が数日短縮され、ある場合
には製品を非常に短時間の後に医学的用途で使用するこ
とができるという利点を有する。
【００４５】本発明に従って安定化することができる熱
可塑的成型可能芳香族ポリカーボネート及びコポリカー
ボネートは、以下のビスフェノールに基づくものであ
る：ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフ
ェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホ
ン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、
α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロ
ピルベンゼン及びこれらの環−アルキル化及び環−ハロ
ゲン化化合物。
可塑的成型可能芳香族ポリカーボネート及びコポリカー
ボネートは、以下のビスフェノールに基づくものであ
る：ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフ
ェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホ
ン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、
α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロ
ピルベンゼン及びこれらの環−アルキル化及び環−ハロ
ゲン化化合物。
【００４６】好ましいジフェノールは例えば：４，４’
−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，
２−ビス−（３，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブ
タン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２
−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチ
ルシクロヘキサンである。
−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，
２−ビス−（３，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５
−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブ
タン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２
−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチ
ルシクロヘキサンである。
【００４７】特に好ましいジフェノールは例えば：２，
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンで
ある。
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、
２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
−シクロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンで
ある。
【００４８】これらの、及び他の適したジフェノールは
例えばＵ．Ｓ．特許３，０２８，３６５， ２，９９
９，８３５， ３，１４８，１７２， ２，９９１，２
７３，３，２７１，３６７及び２，９９９，８４６、ド
イツ公開明細書１，５７０，７０３， ２，０６３，０
５０， ２，０３６，０５２， ２，２１１，９５６、
フランス特許１，５６１，５１８、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ
によるモノグラフ：“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐ
ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ
ｓ”，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４、ドイツ特許出願Ｐ
３８ ３２ ３９６．６（ＬｅＡ２６，３４４）及び日
本公開明細書６２０３９／１９８６， ６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６に記載されている。
例えばＵ．Ｓ．特許３，０２８，３６５， ２，９９
９，８３５， ３，１４８，１７２， ２，９９１，２
７３，３，２７１，３６７及び２，９９９，８４６、ド
イツ公開明細書１，５７０，７０３， ２，０６３，０
５０， ２，０３６，０５２， ２，２１１，９５６、
フランス特許１，５６１，５１８、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ
によるモノグラフ：“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐ
ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ
ｓ”，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４、ドイツ特許出願Ｐ
３８ ３２ ３９６．６（ＬｅＡ２６，３４４）及び日
本公開明細書６２０３９／１９８６， ６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６に記載されている。
【００４９】上記のジフェノールの所望の混合物も用い
ることができる。
ることができる。
【００５０】少量の、好ましくはジフェノールの使用モ
ル数に基づいて０．０５−２．０モル％の三官能基性、
又は三官能基性より高い化合物、特に３個又は３個以上
のフェノール性ヒドロキシル基を含む化合物を用いるこ
とも可能である。３個又は３個以上のフェノール性ヒド
ロキシル基を含む適した化合物の例は：フロログルシノ
ール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−ヘプタン、４，６−ジメチル
−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘ
プタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロシフ
ェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロ
パン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソ
プロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロ
キシ−５−メチル−ベンジル）−４−メチルフェノー
ル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−
（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェニ
ル）−オルトテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒ
ドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノキシ）−メ
タン及び１，４−ビス−（４’，４”−ジヒドロキシト
リフェニル）−メチル）−ベンゼンである。
ル数に基づいて０．０５−２．０モル％の三官能基性、
又は三官能基性より高い化合物、特に３個又は３個以上
のフェノール性ヒドロキシル基を含む化合物を用いるこ
とも可能である。３個又は３個以上のフェノール性ヒド
ロキシル基を含む適した化合物の例は：フロログルシノ
ール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−２−ヘプタン、４，６−ジメチル
−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘ
プタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロシフ
ェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロ
パン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソ
プロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロ
キシ−５−メチル−ベンジル）−４−メチルフェノー
ル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−
（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェニ
ル）−オルトテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒ
ドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノキシ）−メ
タン及び１，４−ビス−（４’，４”−ジヒドロキシト
リフェニル）−メチル）−ベンゼンである。
【００５１】他の適した分枝剤は２，４−ジヒドロキシ
安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロリド及び
３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールであ
る。
安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロリド及び
３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールであ
る。
【００５２】用いられたジフェノールに基づいて０．０
５−２モル％の、任意に用いられる分枝剤は、ジフェノ
ール及び通常の連鎖延長剤と共に最初にアルカリ性水相
に導入することができるか、又はホスゲン化の前に有機
溶媒中の溶液として加えることができる。
５−２モル％の、任意に用いられる分枝剤は、ジフェノ
ール及び通常の連鎖延長剤と共に最初にアルカリ性水相
に導入することができるか、又はホスゲン化の前に有機
溶媒中の溶液として加えることができる。
【００５３】適した連鎖停止剤は、ＬｅＡ２６，５３１
の発明に従う連鎖停止剤、又は他の従来の連鎖停止剤で
あることができる。連鎖停止剤は例えば芳香族酸ハライ
ド又はフェノールなどの官能基を含む芳香族化合物、特
にｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−クロロフェ
ノール、２，４，６−トリブロモフェノール及びフェノ
ールなどの通常のフェノールであることができ、ブロッ
クコポリマーの所望の分子量に依存する通常の量で用い
ることができる。特に好ましい連鎖停止剤は、式（ＩＩ
Ｉ）
の発明に従う連鎖停止剤、又は他の従来の連鎖停止剤で
あることができる。連鎖停止剤は例えば芳香族酸ハライ
ド又はフェノールなどの官能基を含む芳香族化合物、特
にｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−クロロフェ
ノール、２，４，６−トリブロモフェノール及びフェノ
ールなどの通常のフェノールであることができ、ブロッ
クコポリマーの所望の分子量に依存する通常の量で用い
ることができる。特に好ましい連鎖停止剤は、式（ＩＩ
Ｉ）
【００５４】
【化８】
【００５５】［式中、Ｒ13はＨ又は分枝鎖状もしくは直
鎖状Ｃ8−及び／又はＣ9−アルキル基である］のフェノ
ールである。
鎖状Ｃ8−及び／又はＣ9−アルキル基である］のフェノ
ールである。
【００５６】一般に、用いられたジフェノールに基づい
て０．５モル％−１０．０モル％を用いる。
て０．５モル％−１０．０モル％を用いる。
【００５７】好ましいポリカーボネートはホモポリカー
ボネート及びコポリカーボネート、ならびにこれらの混
合物である。適したポリカーボネート樹脂の分子量は１
０，０００−２００，０００、好ましくは２０，０００
−８０，０００であり、ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８による
３００℃における熔融流量は約１−約６５グラム／１０
分、好ましくは約２−１５グラム／１０分である。
ボネート及びコポリカーボネート、ならびにこれらの混
合物である。適したポリカーボネート樹脂の分子量は１
０，０００−２００，０００、好ましくは２０，０００
−８０，０００であり、ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８による
３００℃における熔融流量は約１−約６５グラム／１０
分、好ましくは約２−１５グラム／１０分である。
【００５８】本発明の実行に適した樹脂には、両者共こ
こに参照として挿入するＵ．Ｓ．特許３，０３６，０３
６及び４，２１０，７４１に記載されているようなフェ
ノールフタレイン−ベースポリカーボネート、コポリカ
ーボネート及び三元ポリカーボネートが含まれる。
こに参照として挿入するＵ．Ｓ．特許３，０３６，０３
６及び４，２１０，７４１に記載されているようなフェ
ノールフタレイン−ベースポリカーボネート、コポリカ
ーボネート及び三元ポリカーボネートが含まれる。
【００５９】適したポリカーボネート樹脂は、例えばＭ
ａｋｒｏｌｏｎ ＦＣＲ、Ｍａｋｒｏｌｏｎ ２６０
０、Ｍａｋｒｏｌｏｎ ２８００及びＭａｋｒｏｌｏｎ
３１００として商業的に入手でき、これらはすべてそ
れぞれの分子量が異なり、ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８によ
るメルトフローインデックス（ＭＦＲ）がそれぞれ１
６．５−２４、１３−１６、７．５−１３．０及び３．
５−６．５グラム／１０分であることを特徴とするビス
フェノール−ベースホモポリカーボネート樹脂である。
これらはＰｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎ
ｉａのＭｉｌｅｓＩｎｃ．の製品である。本発明の実行
に適したポリカーボネート樹脂は既知であり、この構造
及び製造法は例えばＵ．Ｓ．特許３，０３０，３３１；
３，１６９，１２１；３，３９５，１１９；３，７２
９，４４７；４，２５５，５５６；４，２６０，７３
１；４，３６９，３０３及び４，７１４，７４６に開示
されており、そのすべてをここに参照として挿入する。
ａｋｒｏｌｏｎ ＦＣＲ、Ｍａｋｒｏｌｏｎ ２６０
０、Ｍａｋｒｏｌｏｎ ２８００及びＭａｋｒｏｌｏｎ
３１００として商業的に入手でき、これらはすべてそ
れぞれの分子量が異なり、ＡＳＴＭ Ｄ−１２３８によ
るメルトフローインデックス（ＭＦＲ）がそれぞれ１
６．５−２４、１３−１６、７．５−１３．０及び３．
５−６．５グラム／１０分であることを特徴とするビス
フェノール−ベースホモポリカーボネート樹脂である。
これらはＰｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎ
ｉａのＭｉｌｅｓＩｎｃ．の製品である。本発明の実行
に適したポリカーボネート樹脂は既知であり、この構造
及び製造法は例えばＵ．Ｓ．特許３，０３０，３３１；
３，１６９，１２１；３，３９５，１１９；３，７２
９，４４７；４，２５５，５５６；４，２６０，７３
１；４，３６９，３０３及び４，７１４，７４６に開示
されており、そのすべてをここに参照として挿入する。
【００６０】本発明に従い安定化される芳香族ポリエス
テルは、少なくとも１種類の芳香族ビスフェノール、少
なくとも１種類の芳香族ジカルボン酸及び場合により炭
酸に基づいている。適したビスフェノールは例えばすで
に上記で上げた芳香族ジカルボン酸である。適した芳香
族ジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタルサ
ン、イソフタル酸、ｔｅｒｔ．−ブチルイソフタル酸、
３，３’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェ
ニルジカルボン酸、４，４’−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、３，４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、４，
４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、２，２−ビス−（４−
カルボキシフェニル）−プロパン及びトリメチル−３−
フェニルインダン−４，５’−ジカルボン酸である。
テルは、少なくとも１種類の芳香族ビスフェノール、少
なくとも１種類の芳香族ジカルボン酸及び場合により炭
酸に基づいている。適したビスフェノールは例えばすで
に上記で上げた芳香族ジカルボン酸である。適した芳香
族ジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタルサ
ン、イソフタル酸、ｔｅｒｔ．−ブチルイソフタル酸、
３，３’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェ
ニルジカルボン酸、４，４’−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、３，４’−ベンゾフェノンジカルボン酸、４，
４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、２，２−ビス−（４−
カルボキシフェニル）−プロパン及びトリメチル−３−
フェニルインダン−４，５’−ジカルボン酸である。
【００６１】特に適した芳香族ジカルボン酸はテレフタ
ル酸及び／又はイソフタル酸である。
ル酸及び／又はイソフタル酸である。
【００６２】芳香族ポリカーボネート、芳香族コポリカ
ーボネート及び芳香族ポリエステルカーボネートは、ポ
リカーボネート、コポリカーボネート及びポリエステル
カーボネートの製造に関する文献に開示されている種類
の方法により、例えば均一溶液中における方法、エステ
ル交換法及び二相界面法により製造することができる。
エステル交換法及び特に二相界面法の使用が好ましい。
ーボネート及び芳香族ポリエステルカーボネートは、ポ
リカーボネート、コポリカーボネート及びポリエステル
カーボネートの製造に関する文献に開示されている種類
の方法により、例えば均一溶液中における方法、エステ
ル交換法及び二相界面法により製造することができる。
エステル交換法及び特に二相界面法の使用が好ましい。
【００６３】熔融エステル交換法（酢酸塩法及びフェニ
ルエステル法）は、例えばＵ．Ｓ．特許３，４９４，８
５５， ４，３８６，１８６， ４，６６１，５８０，
４，６８０，３７１及び４，６８０，３７２、ＥＰ−
Ａ２６，１２０， ２６，１２１， ２６，６８４，
２８，０３０， ３９，８４５， ９１，６０２，９
７，９７０， ７９，０７５， １４６，８８７， １
５６，１０３， ２３４，９１３， ２３４，９１９及
び２４０，３０１ならびにドイツ明細書１，４９５，６
２６及び２，２３２，８７７に記載されている。二相界
面法は例えばＥＰ−Ａ６８，０１４， ８８，３２２，
１３４，８９８， １５１，７５０，１８２，１８
９， ２１９，７０８及び２７２，４２６、ドイツ公開
明細書２，９４０，０２４， ３，００７，９３４，
３，４４０，０２０及びＰｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗ
ｓ，Ｖｏｌｕｍｅ １０，“Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒｓ ｂｙ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ａ
ｎｄ ＳｏｌｕｔｉｏｎＭｅｔｈｏｄｓ”，Ｐａｕｌ
Ｗ．Ｍｏｒｇａｎ，ＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌ
ｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６５，第３章、
３２５頁−“Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ”に記載されてい
る。
ルエステル法）は、例えばＵ．Ｓ．特許３，４９４，８
５５， ４，３８６，１８６， ４，６６１，５８０，
４，６８０，３７１及び４，６８０，３７２、ＥＰ−
Ａ２６，１２０， ２６，１２１， ２６，６８４，
２８，０３０， ３９，８４５， ９１，６０２，９
７，９７０， ７９，０７５， １４６，８８７， １
５６，１０３， ２３４，９１３， ２３４，９１９及
び２４０，３０１ならびにドイツ明細書１，４９５，６
２６及び２，２３２，８７７に記載されている。二相界
面法は例えばＥＰ−Ａ６８，０１４， ８８，３２２，
１３４，８９８， １５１，７５０，１８２，１８
９， ２１９，７０８及び２７２，４２６、ドイツ公開
明細書２，９４０，０２４， ３，００７，９３４，
３，４４０，０２０及びＰｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗ
ｓ，Ｖｏｌｕｍｅ １０，“Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒｓ ｂｙ Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ ａ
ｎｄ ＳｏｌｕｔｉｏｎＭｅｔｈｏｄｓ”，Ｐａｕｌ
Ｗ．Ｍｏｒｇａｎ，ＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌ
ｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６５，第３章、
３２５頁−“Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ”に記載されてい
る。
【００６４】本発明の好ましい具体化に従う安定剤は
（ｉ）ポリエーテルポリオール及び（ｉｉ）芳香族ジス
ルフィドを含む。
（ｉ）ポリエーテルポリオール及び（ｉｉ）芳香族ジス
ルフィドを含む。
【００６５】（ｉ）ポリエーテルポリオールは、
【００６６】
【化９】
【００６７】［式中、Ｙは互いに独立して水素原子又は
Ｃ1-30アルキルあるいはアシル基、シリル又はピラニル
基であり、ＲはＣ1-22−アルキル、シクロアルキル、ア
リール、アルキルアリール又はシクロアルキル−アリー
ル基であり、ｎは１−４の整数であり、ｍは１−７０の
整数であり；Ｙは水素又はＣ1-5アルキルあるいはピラ
ニル基が好ましく、ＲはＣ1-5アルキル基が好ましく、
ｎは１が好ましく、ｍは約２０−５０が好ましい］に対
応する化合物である。
Ｃ1-30アルキルあるいはアシル基、シリル又はピラニル
基であり、ＲはＣ1-22−アルキル、シクロアルキル、ア
リール、アルキルアリール又はシクロアルキル−アリー
ル基であり、ｎは１−４の整数であり、ｍは１−７０の
整数であり；Ｙは水素又はＣ1-5アルキルあるいはピラ
ニル基が好ましく、ＲはＣ1-5アルキル基が好ましく、
ｎは１が好ましく、ｍは約２０−５０が好ましい］に対
応する化合物である。
【００６８】この種の化合物は既知であり、文献に開示
されており、例えばそのすべての明細書をここに参照と
して挿入するＵ．Ｓ．特許４，８０４，６９２， ４，
８７４，８０２及び４，９０４，７１０を参照された
い。
されており、例えばそのすべての明細書をここに参照と
して挿入するＵ．Ｓ．特許４，８０４，６９２， ４，
８７４，８０２及び４，９０４，７１０を参照された
い。
【００６９】（ｉｉ）芳香族ジスルフィドは
【００７０】
【化１０】Ｒ’−Ｓ−Ｓ−Ｒ” ［式中、Ｒ’及びＲ”は独立してアリール基である］に
対応する。商業的に入手できるジフェニルスルフィドは
適した化合物の例である。
対応する。商業的に入手できるジフェニルスルフィドは
適した化合物の例である。
【００７１】本発明の好ましい具体化の実行において、
適した製品の製造に適した組成物は、ポリカーボネート
樹脂及びポリカーボネート樹脂の重量に対して約０．０
１−５．０％、好ましくは０．１−１．５％の（ｉ）及
び約０．０１−５．０％、好ましくは０．１−１．５％
の（ｉｉ）を含む。
適した製品の製造に適した組成物は、ポリカーボネート
樹脂及びポリカーボネート樹脂の重量に対して約０．０
１−５．０％、好ましくは０．１−１．５％の（ｉ）及
び約０．０１−５．０％、好ましくは０．１−１．５％
の（ｉｉ）を含む。
【００７２】本発明に従い安定化されたポリカーボネー
ト及び／又はコポリカーボネート及び／又はポリエステ
ルカーボネート混合物は老化防止剤、例えば熱安定剤及
び／又はＵＶ吸収剤及び／又は流れ助剤ならびに潤滑剤
及び／又は防炎加工剤及び／又は染料及び／又は他の通
常の添加剤を含むことができる。
ト及び／又はコポリカーボネート及び／又はポリエステ
ルカーボネート混合物は老化防止剤、例えば熱安定剤及
び／又はＵＶ吸収剤及び／又は流れ助剤ならびに潤滑剤
及び／又は防炎加工剤及び／又は染料及び／又は他の通
常の添加剤を含むことができる。
【００７３】以下の実施例により本発明をさらに例示す
るがそれにより制限されるものではなく、他に特定しな
ければ部及びパーセントはすべて重量による。
るがそれにより制限されるものではなく、他に特定しな
ければ部及びパーセントはすべて重量による。
【００７４】
【実施例】オリゴ−又はポリ−あるいはコポリカーボネ
ートの相対溶液粘度（ηｒｅｌ．）は２５℃で決定し
た。この目的で０．５００ｇのそれぞれの縮合物を１０
０ｍｌのジクロロメタンに溶解した。
ートの相対溶液粘度（ηｒｅｌ．）は２５℃で決定し
た。この目的で０．５００ｇのそれぞれの縮合物を１０
０ｍｌのジクロロメタンに溶解した。
【００７５】Ａ．安定化カーボネートの合成 実施例Ａ．１ ：ビス−１，１’−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−ジスルフィドからのオリゴカーボネートの製造 ２５ｇ（０．１モル）のビス−１，１’−（４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィドを窒素下で水酸化ナトリ
ウム溶液（３４５ｍｌの水中２４ｇ（０．６モル）のＮ
ａＯＨ）に溶解する。１８６ｍｌのジクロロメタン中の
０．１８８ｇ（０．００２モル）のフェノールの溶液を
加え、激しく撹拌しながら０．２モルのホスゲンを導入
する。０．３ｇのトリエチルアミンを加えた後、混合物
をさらに４５分間撹拌し、水相を分離し、有機相を１０
％リン酸を用いて酸性化し、その後中性となるまで脱イ
オン水で洗浄する。その後有機相を硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、蒸発乾固する。
ニル）−ジスルフィドからのオリゴカーボネートの製造 ２５ｇ（０．１モル）のビス−１，１’−（４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィドを窒素下で水酸化ナトリ
ウム溶液（３４５ｍｌの水中２４ｇ（０．６モル）のＮ
ａＯＨ）に溶解する。１８６ｍｌのジクロロメタン中の
０．１８８ｇ（０．００２モル）のフェノールの溶液を
加え、激しく撹拌しながら０．２モルのホスゲンを導入
する。０．３ｇのトリエチルアミンを加えた後、混合物
をさらに４５分間撹拌し、水相を分離し、有機相を１０
％リン酸を用いて酸性化し、その後中性となるまで脱イ
オン水で洗浄する。その後有機相を硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、蒸発乾固する。
【００７６】生成物のηｒｅｌ：１．０６８。
【００７７】実施例Ａ．２：ビス−１，１’−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ジスルフィド及びビスフェノール
Ａからのコポリカーボネートの製造 １４．８ｇ（０．０６５モル）のビスフェノールＡ及び
８．８ｇ（０．０３５モル）のビス−１，１’−（４−
ヒドロキシフェニル）−ジスルフィドを窒素下で水酸化
ナトリウム溶液（２５３ｍｌの水中の１７．６ｇ（０．
４４モル）のＮａＯＨ）に溶解する。１７７ｍｌのジク
ロロメタン中の０．３２ｇ（０．００３モル）のフェノ
ールの溶液を加え、激しく撹拌しながら０．１６モルの
ホスゲンを加える。０．３ｇのトリエチルアミンを加え
た後、混合物をさらに４５分間撹拌し、水相を分離し、
有機相を１０％リン酸を用いて酸性化し、その後中性と
なるまで脱イオン水で洗浄する。最後に有機相を硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濾過し、蒸発乾固する。
ドロキシフェニル）−ジスルフィド及びビスフェノール
Ａからのコポリカーボネートの製造 １４．８ｇ（０．０６５モル）のビスフェノールＡ及び
８．８ｇ（０．０３５モル）のビス−１，１’−（４−
ヒドロキシフェニル）−ジスルフィドを窒素下で水酸化
ナトリウム溶液（２５３ｍｌの水中の１７．６ｇ（０．
４４モル）のＮａＯＨ）に溶解する。１７７ｍｌのジク
ロロメタン中の０．３２ｇ（０．００３モル）のフェノ
ールの溶液を加え、激しく撹拌しながら０．１６モルの
ホスゲンを加える。０．３ｇのトリエチルアミンを加え
た後、混合物をさらに４５分間撹拌し、水相を分離し、
有機相を１０％リン酸を用いて酸性化し、その後中性と
なるまで脱イオン水で洗浄する。最後に有機相を硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濾過し、蒸発乾固する。
【００７８】生成物のηｒｅｌ：１．３２３。
【００７９】Ｂ．安定剤とのポリカーボネート混合物の
製造 ポリカーボネートとγ−線に対する種々の安定剤の、以
下の表に上げる実施例の混合物を熔融温度３００℃にて
二軸スクリュー押し出し機で製造した。得られた混合物
から３４０℃の加工温度で着色試料板（寸法：６０ｍｍ
ｘ４０ｍｍｘ４ｍｍ）を製造した。それらを３メガラド
のγ−線で滅菌した。
製造 ポリカーボネートとγ−線に対する種々の安定剤の、以
下の表に上げる実施例の混合物を熔融温度３００℃にて
二軸スクリュー押し出し機で製造した。得られた混合物
から３４０℃の加工温度で着色試料板（寸法：６０ｍｍ
ｘ４０ｍｍｘ４ｍｍ）を製造した。それらを３メガラド
のγ−線で滅菌した。
【００８０】
【表１】
【００８１】Ｃ．好ましい具体化の例示 本発明に従う成型材料組成物を調製し、その性質を評価
した。下記にその概略を示す組成物の調製において、使
用した樹脂は、熔融流量が約１５グラム／１０分のビス
フェノール−Ａに基づくホモポリカーボネートであっ
た。下記に記す添加剤を指定された量でポリカーボネー
ト組成物に挿入した。ポリエーテルポリオールは
した。下記にその概略を示す組成物の調製において、使
用した樹脂は、熔融流量が約１５グラム／１０分のビス
フェノール−Ａに基づくホモポリカーボネートであっ
た。下記に記す添加剤を指定された量でポリカーボネー
ト組成物に挿入した。ポリエーテルポリオールは
【００８２】
【化１１】
【００８３】に対応し、数平均分子量が約２０００であ
った。実施例４で用いた芳香族ジスルフィドはジフェニ
ルスルフィドであった。実施例５及び６ではそれぞれベ
ンゾフェノン及びアセトフェノンを用いた。
った。実施例４で用いた芳香族ジスルフィドはジフェニ
ルスルフィドであった。実施例５及び６ではそれぞれベ
ンゾフェノン及びアセトフェノンを用いた。
【００８４】ポリカーボネート及び添加剤は共にタンブ
ルブレンドし、約２７０℃の熔融温度にてＺＳＫ−３０
二軸スクリュー押し出し機上で押し出した。押し出さ
れたストランドを冷却し、ペレットに細断し、その後ペ
レットを２８２℃にて成型して厚さが０．１００インチ
（約０．２５ｃｍ）の寸法のチップとした。
ルブレンドし、約２７０℃の熔融温度にてＺＳＫ−３０
二軸スクリュー押し出し機上で押し出した。押し出さ
れたストランドを冷却し、ペレットに細断し、その後ペ
レットを２８２℃にて成型して厚さが０．１００インチ
（約０．２５ｃｍ）の寸法のチップとした。
【００８５】チップに３−５メガラドの線量でガンマ線
を照射した。そのようにして成型され、照射されたチッ
プの黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ １９２５に従
って決定した。放射線に暴露した後約２４時間で測定を
行った。
を照射した。そのようにして成型され、照射されたチッ
プの黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ １９２５に従
って決定した。放射線に暴露した後約２４時間で測定を
行った。
【００８６】下記の表は数種類の組成物への放射線照射
の影響を示す。
の影響を示す。
【００８７】
【表２】 １ 2 3 4 5 添加剤、％ポリエーテルポリオール - 1.0 0.5 0.5 0.5 （ジ）フェニルスルフイド - - 0.5 - - ２−ヒドロキシベンゾフェノン - - - 0.5 - ２−ヒドロキシアセトフェノン - - - - 0.5 メルトフローインデックス 15.3 17.8 18.7 18.1 17.7 黄色度指数＊ 照射前 5.04/ 2.92/ 4.39/ 3.76/ 3.01/ ３メガラド後 24.52/ 14.1/ 8.69/ 15.02/ 14.87/ ５メガラド後 42.75 24.28 11.53 23.54 24.51 追加の組みの組成物を調製し、下記にまとめる通りに性
質を評価した。実施例において（ジ）フェニルジスルフ
ィドの安定化効果を本発明の安定化剤の効果と比較して
決定した。組成物は約３００℃にて熔融押し出しし、成
型し、厚さが約３ｍｍの寸法の棒とした。黄色度指数を
３メガラド照射への暴露の前及び後に決定した。ＹＩが
小さい程優れた安定性を示す。
質を評価した。実施例において（ジ）フェニルジスルフ
ィドの安定化効果を本発明の安定化剤の効果と比較して
決定した。組成物は約３００℃にて熔融押し出しし、成
型し、厚さが約３ｍｍの寸法の棒とした。黄色度指数を
３メガラド照射への暴露の前及び後に決定した。ＹＩが
小さい程優れた安定性を示す。
【００８８】
【表３】 実施例 初期ＹＩ ３メガラド後のＹＩ ＹＩ Ａ（０．０５％ ＤＰＳ＊） ６．６１ ３０．７４ ２４．１３ Ｂ（０．１％ ＤＰＳ） ６．７ ２９．２ ２２．５ Ｃ（０．２％ ＤＰＳ） ７．０９ ２５．９ １８．８１ Ｄ（０．０５％ ＤＰＳ ５．９ １８．３５ １２．４５ 及び０．７５％ポリエーテル） Ｅ（０．１％ ＤＰＳ ６．１７ １３．４４ ７．２７ 及び０．７５％ポリエーテル） Ｆ（０．２％ ＤＰＳ ８．１ １２．６ ４．５ 及び０．７５％ポリエーテル） Ｇ（０．３％ ＤＰＳ １０．３７ １３．３５ ２．９８ 及び０．７５％ポリエーテル） ＊ＤＰＳ−（ジ）フェニルジスルフィド 観察によると、フェニルジスルフィド自身は組成物の安
定化にほとんど効果がない。本発明の試薬であるジスル
フィドとポリエーテルポリオールの組み合わせは組成物
に色安定性を与えるにあたって明らかにより有効であ
る。
定化にほとんど効果がない。本発明の試薬であるジスル
フィドとポリエーテルポリオールの組み合わせは組成物
に色安定性を与えるにあたって明らかにより有効であ
る。
【００８９】前文において例示の目的で本発明を詳細に
記載したが、そのような詳細は単にその目的のためであ
り、特許請求の範囲により制限される本発明の精神及び
範囲から逸脱することなく当該技術における熟練者によ
り変更が可能であると理解するべきである。
記載したが、そのような詳細は単にその目的のためであ
り、特許請求の範囲により制限される本発明の精神及び
範囲から逸脱することなく当該技術における熟練者によ
り変更が可能であると理解するべきである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/36 ＫＢＲ 7242−4Ｊ 5/49 ＫＢＹ 7242−4Ｊ Ｃ０８Ｌ 67/00 ＬＮＺ 8933−4Ｊ 69/00 ＬＰＱ 9363−4Ｊ 71/02 ＬＱＣ 9167−4Ｊ ＬＱＥ 9167−4Ｊ (72)発明者 ダグラス・ジー・パウエル アメリカ合衆国ペンシルベニア州15108コ ラオポリス・ブロードヘツドロード1640 (72)発明者 チヤールズ・イー・ランデイ アメリカ合衆国ペンシルベニア州15243ピ ツツバーグ・パークビユウドライブ524 (72)発明者 ゲルハルト・フエンホフ ドイツ連邦共和国デー4156ビリツヒ２・ア ムシユロンホフ９アー (72)発明者 ラルフ・フフエン ドイツ連邦共和国デー4100ドウイスブルク 46・ツムロルトゲンホフ25 (72)発明者 クラウス・キルヒヤー ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン１・アルフレート−クビン−シユトラ ーセ２
Claims (8)
- 【請求項１】 熱可塑性成型材料組成物において、
（ｉ）芳香族重縮合物及び（ｉｉ）電離線安定化量の、
（ａ）式（Ｉ） 【化１】 に従う化合物、又は（ｂ）式（Ｉａ） 【化２】 ［式中、Ｒ1からＲ10は互いに独立してＨ、ＯＨ、Ｓ
Ｈ、Ｏ−アルキル、Ｓ−アルキル、Ｏ−アリール、Ｓ−
アリール、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアルキル、ＣＯＯアリー
ル、ＣＯアルキル、ＣＯアリール、ＣＯＨ、Ｃ（Ｏアル
キル）2、Ｃ（Ｏシクロアルキル）2、ＯＣＯＯアルキ
ル、ＯＣＯＯアリール、ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3アルキル、ＳＯ
2アリール、ＳＯ2Ｈ、ＳＯ2アルキル、ＳＯ2アリール、
ＳＯＨ、ＳＯアルキル、ＳＯアリール、アルキル及びア
リールであり、Ｒ1及びＲ6は共有結合により結合してい
ることができ、 ここでＲ11及びＲ12は同一又は異なりＲ1からＲ10と同
義である］に従う構造単位を含むオリゴカーボネート、
ポリカーボネート、コポリカーボネート、ポリエステル
カーボネート及びポリエステルから成る群より選ばれる
メンバーから成る群より選ばれる試薬を含み、該オリゴ
カーボネートの相対溶液粘度（２５℃にて１００ｍｌの
ジクロロメタン中の０．５００ｇのメンバーとして測
定）が約１．０１−１．１７であり、該ポリカーボネー
ト、コポリカーボネート、ポリエステルカーボネート及
びポリエステルの相対溶液粘度が１．１７−１．６０で
あることを特徴とする組成物。 - 【請求項２】 請求項１に記載の組成物において、該試
薬が対応するカルボン酸エステル、アセタール、アルキ
ルカーボネート、エポキシド、ウレタン、ホスフェー
ト、ホスホネート、ホスファイト、ホスホナイト、シロ
キサン、スルホン酸エステル、スルフィン酸エステル及
びスルフェン酸エステルから成る群より選ばれる少なく
ともひとつのメンバーであることを特徴とする組成物。 - 【請求項３】 請求項１に記載の組成物において、さら
にアルコール及び／又はアルコールの誘導体を含むこと
を特徴とする組成物。 - 【請求項４】 請求項１に記載の組成物において、さら
にエーテルを含むことを特徴とする組成物。 - 【請求項５】 請求項４に記載の組成物において、エー
テルが 【化３】 ［式中、Ｒ14及びＲ15は同一又は異なりＨ、分枝鎖状も
しくは直鎖状Ｃ1−Ｃ30−アルキル又はアシル、シリル
あるいはピラニルであり、Ｒ16はＨ、又はＣ1−Ｃ4アル
キルであり、ｎは１−３６の整数であり、ｍは０−１５
００の整数である］に対応することを特徴とする組成
物。 - 【請求項６】 請求項１に記載の組成物において、該量
が組成物の重量に対して０．００１−５％であることを
特徴とする組成物。 - 【請求項７】 請求項１に記載の組成物において、該構
造単位（Ｉａ）が該組成物の重量に対して０．００１−
５％の量で存在することを特徴とする組成物。 - 【請求項８】 請求項１に記載の組成物において、熱安
定剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤、難燃剤、染料、強
化剤及び充填剤から成る群より選ばれる少なくともひと
つのメンバーをさらに含むことを特徴とする組成物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/891,875 US5214078A (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Gamma radiation resistant polycarbonate composition |
| US5392793A | 1993-04-26 | 1993-04-26 | |
| US891875 | 1993-04-26 | ||
| US053927 | 1993-04-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693192A true JPH0693192A (ja) | 1994-04-05 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
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| EP (1) | EP0572889A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0693192A (ja) |
| CA (1) | CA2097374A1 (ja) |
Cited By (3)
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| EP0794218A3 (en) * | 1996-03-06 | 1998-12-16 | Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation | Polycarbonate resin composition stabilized against radiation |
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