JP3401112B2 - 圧電結晶発振式膜厚計用発振回路 - Google Patents
圧電結晶発振式膜厚計用発振回路Info
- Publication number
- JP3401112B2 JP3401112B2 JP06095695A JP6095695A JP3401112B2 JP 3401112 B2 JP3401112 B2 JP 3401112B2 JP 06095695 A JP06095695 A JP 06095695A JP 6095695 A JP6095695 A JP 6095695A JP 3401112 B2 JP3401112 B2 JP 3401112B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- oscillation
- piezoelectric crystal
- film thickness
- oscillation circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 title claims description 42
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 32
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
Description
された圧電振動子の圧電結晶上への膜の堆積を測定する
ことにより成膜対象物(例えば基板)上に堆積される膜
厚を測定する圧電結晶発振式膜厚計に用いられる発振回
路に関する。 【0002】 【従来の技術】従来、真空蒸着またはスパッタリングに
おいて成膜される膜の膜厚及び成膜速度を測定するため
に、マイクロバランスという技術が広く用いられてい
る。これは、蒸着またはスパッタリングにおいてチャン
バ内に配置されている圧電結晶の表面に蒸着物が堆積す
ると、結晶の質量が増加し逆にその応答周波数が減少す
ることを利用している。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】この技術は取扱いが容
易で精度がよい反面、厚く膜を付ける場合や、付ける物
質によっては薄い膜でも頻繁に圧電振動子の交換が必要
となるのが欠点である。即ち、従来の発振回路では、圧
電結晶が新しい場合や膜が薄い場合、圧電結晶は基本波
で振動するが、膜が厚くなると基本波で振動できなくな
り、振動停止又は他の振動モード(スプリアスでの振動
モード)もしくはケーブルのL、Cで振動する。スプリ
アスでの振動モードの場合、この振動モードが近接して
幾つも存在するために発振が不安定になり、ケーブルの
L,Cによる振動の場合、圧電結晶に関係のない発振と
なるので、いずれの場合でも膜厚の測定ができなくな
る。この現象を、従来、圧電結晶の寿命と呼び、この時
点で新しい圧電振動子と交換していた。主共振が例えば
5MHzのATカットの水晶振動子にアルミニウムを成
膜すると、4.2MHz程度で寿命になっており、酸化
膜では、4.8MHz程度で寿命になっていた。 【0004】本発明は、従来の発振回路の特性を改良
し、圧電結晶を更に低い周波数まで発振できるように
し、圧電振動子の交換頻度を減らすことをその目的とす
るものである。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、成膜チャンバ内に設置された圧電振動
子の圧電結晶上への膜の堆積を測定することにより成膜
対象物上に堆積される膜厚を測定する圧電結晶発振式膜
厚計に用いられる発振回路において、該発振回路に介入
された圧電振動子と並列に可変インピーダンス回路を接
続したことを特徴とする。 【0006】 【作用】従来の発振回路において、圧電結晶に膜が厚く
付き基本波で発振できなくなった圧電結晶をネットワー
クアナライザーで調べてみると、基本波は小さいながら
存在しており、発振回路の特性で発振停止又は、基本波
以外の他の振動モードで振動していることが分かった。
つまり、圧電結晶本来の寿命ではなく発振回路の特性で
寿命が決まってしまうことが分かった。 【0007】本発明において、前述のように、発振回路
に介入された圧電振動子と並列に可変インピーダンス回
路を接続し、発振回路に圧電振動子を接続しない状態で
該可変インピーダンス回路のインピーダンスを変化する
と発振回路は広範囲に亘って周波数が変化する。圧電振
動子を接続した状態で同様に可変インピーダンス回路の
インピーダンスを変化すると、圧電結晶の基本波近辺に
発振回路の周波数がなったとき、圧電結晶は基本波で振
動を始め、一度振動を開始するとその発振周波数を維持
する。圧電結晶に膜が厚く付き発振が停止又は他の振動
モードで振動している場合も有効で、再びその膜厚に対
応した圧電結晶の基本波の周波数で発振回路は発振す
る。 【0008】 【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の実施例を用いた圧電結晶発振式膜
厚計のブロック図である。 【0009】同図において、1は発振回路、2は高周波
増幅(RF増幅)回路、3は周波数測定回路である。発
振回路1は、例えば、平衡ブリッジ型発振回路で、差動
増幅回路4で構成されており、差動増幅回路4は、正帰
還回路5と、平衡ブリッジ回路6が介入された負帰還回
路7とを有する。平衡ブリッジ回路6は圧電振動子8例
えば水晶振動子(これは直列に接続された抵抗、インダ
クタンス及びコンデンサとコンデンサとの並列回路から
成る等価回路で表される。)とこれに並列に接続された
可変インピーダンス回路9等から成る。 【0010】図2は、前記発振回路1における平衡ブリ
ッジ回路6の1例を示す。同図において、前記圧電振動
子8に並列に接続された可変インピーダンス回路9は、
抵抗10、コンデンサ11及びバリキャップ12から成
る。この実施例において、圧電振動子8を発振回路1に
接続した状態で、バリキャップ12に印加する電圧を高
い値から零にスキャンさせると、バリキャップ12の静
電容量は、大から小に変化し、発振周波数は小から大に
変化する。この発振周波数が基本波周波数近辺になった
とき、圧電結晶は基本波周波数で発振を始める。圧電結
晶に付着した膜が厚くなるにつれて発振周波数が膜厚に
対応して変化し、ある厚さになると、発振回路が発振を
停止するか、他の振動モードで振動するようになる。そ
こで、可変インピーダンス回路9のバリキャップ12に
印加する電圧を高めると再び膜厚に対応した基本波周波
数で発振するようになる。 【0011】例えば、ATカットの水晶振動子で基本周
波数が5MHzからアルミニウムと銅を交互に蒸着によ
り成膜したとき、水晶振動子の寿命の周波数は、従来の
発振回路では3.7MHzであったのが、本発明では
3.2MHzであって、周波数の変化幅が、従来回路で
は1.3MHzであったのが、本発明では1.8MHz
で、従来回路に比べて圧電結晶の寿命を1.4倍の延ば
すことができた。又、SiO2 を蒸着により成膜したと
き、水晶振動子の寿命の周波数は、従来の発振回路では
4.7MHzであったのが、本発明では4.1MHz
で、周波数の変化幅が、従来回路では0.3MHzであ
ったのが、本発明では0.9MHzで、従来回路に比べ
て圧電結晶の寿命を3倍延ばすことができた。可変イン
ピーダンス回路9として、前記実施例の抵抗10、コン
デンサ11及びバリキャップ12の代わりに図3に示す
ように、可変抵抗13を用いることができる。尚、図2
及び図3において、14は負帰還回路7に介入された抵
抗である。又、発振回路1として前記実施例では、平衡
ブリッジ型発振回路を用いたが、他型の回路を用いるこ
とができる。 【0012】 【発明の効果】本発明は、上述の構成によるときは、圧
電振動子の圧電結晶を従来回路より低い周波数まで発振
させることができるので、圧電振動子の交換頻度を減ら
すことができ、経済的であるという効果を有する。
ク図。 【図2】 図1に示された圧電結晶発振式膜厚計の発振
回路の一例を示す回路図。 【図3】 前記発振回路の他例の平衡ブリッジ回路を示
す回路図。 【符号の説明】 1 発振回路 3 周波数測定回路 4 差動増幅器 6 平衡ブリッジ回路 8 圧電振動子 9 可変インピーダンス回路
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 成膜チャンバ内に設置された圧電振動子
の圧電結晶上への膜の堆積を測定することにより成膜対
象物上に堆積される膜厚を測定する圧電結晶発振式膜厚
計に用いられる発振回路において、該発振回路に介入さ
れた圧電振動子と並列に可変インピーダンス回路を接続
したことを特徴とする圧電結晶発振式膜厚計用発振回
路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06095695A JP3401112B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 圧電結晶発振式膜厚計用発振回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06095695A JP3401112B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 圧電結晶発振式膜厚計用発振回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08261743A JPH08261743A (ja) | 1996-10-11 |
JP3401112B2 true JP3401112B2 (ja) | 2003-04-28 |
Family
ID=13157366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06095695A Expired - Fee Related JP3401112B2 (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 圧電結晶発振式膜厚計用発振回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3401112B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102035146B1 (ko) * | 2014-05-26 | 2019-10-22 | 가부시키가이샤 아루박 | 성막 장치, 유기막의 막후 측정 방법 및 유기막용 막후 센서 |
JP2016042643A (ja) * | 2014-08-15 | 2016-03-31 | 株式会社アルバック | 膜厚モニタ用発振回路 |
-
1995
- 1995-03-20 JP JP06095695A patent/JP3401112B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08261743A (ja) | 1996-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5272121B2 (ja) | 水晶振動子と水晶ユニットと水晶発振器と情報通信機器及びそれらの製造方法 | |
JP2009100480A (ja) | 水晶ユニットと水晶発振器の製造方法 | |
JP2006189312A (ja) | Scカット水晶マイクロバランス | |
JP3401112B2 (ja) | 圧電結晶発振式膜厚計用発振回路 | |
JP4517332B2 (ja) | 水晶振動子と水晶ユニットと水晶発振器の製造方法 | |
JPS60142607A (ja) | 圧電薄膜複合振動子 | |
JP4836016B2 (ja) | 水晶振動子と水晶ユニットと水晶発振器の各製造方法及び水晶振動子と水晶ユニットと水晶発振器 | |
JP2003273703A (ja) | 水晶振動子と水晶振動子の製造方法 | |
JP2001304945A (ja) | 高周波数水晶振動子を用いた超微量質量の検出装置及びその校正方法 | |
JP2002368573A (ja) | 超薄板圧電振動子及びその製造方法 | |
JP4074934B2 (ja) | 水晶発振器とその製造方法 | |
JP4556201B2 (ja) | 水晶振動子と水晶ユニットと水晶発振器の各製造方法 | |
JPH04184130A (ja) | 圧力計 | |
JPS6246093B2 (ja) | ||
JP2700332B2 (ja) | 弾性表面波デバイスを用いた膜応力測定方法 | |
JP4074935B2 (ja) | 水晶発振器と水晶発振器の製造方法 | |
JPH01114110A (ja) | 圧電薄膜弾性表面波装置 | |
JP4697196B2 (ja) | 水晶ユニットと水晶発振器の製造方法 | |
JP4697196B6 (ja) | 水晶ユニットと水晶発振器の製造方法 | |
JPS6217405B2 (ja) | ||
JP4697190B6 (ja) | 水晶振動子と水晶ユニットの各製造方法 | |
Lee et al. | In-situ monitoring of thickness of quartz membrane during batch chemical etching using a novel micromachined acoustic wave sensor | |
Abe et al. | Energy dissipation in small-diameter quartz crystal microbalance experimentally studied for ultra-high sensitive gravimetry | |
Lee et al. | Novel method for in situ monitoring of thickness of quartz during wet etching | |
JPH07297663A (ja) | 厚みすべり水晶振動子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090221 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120221 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130221 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140221 Year of fee payment: 11 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |