JP3399012B2 - ダウンフロー方式のクリーンルーム - Google Patents

ダウンフロー方式のクリーンルーム

Info

Publication number
JP3399012B2
JP3399012B2 JP07705293A JP7705293A JP3399012B2 JP 3399012 B2 JP3399012 B2 JP 3399012B2 JP 07705293 A JP07705293 A JP 07705293A JP 7705293 A JP7705293 A JP 7705293A JP 3399012 B2 JP3399012 B2 JP 3399012B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compartment
air filter
air
clean room
boron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07705293A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06288588A (ja
Inventor
誠 関根
彰 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanki Engineering Co Ltd
Original Assignee
Sanki Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanki Engineering Co Ltd filed Critical Sanki Engineering Co Ltd
Priority to JP07705293A priority Critical patent/JP3399012B2/ja
Publication of JPH06288588A publication Critical patent/JPH06288588A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3399012B2 publication Critical patent/JP3399012B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ventilation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダウンフロー方式のク
リーンルームに係り、詳しくは、ホウ素濃度を低減する
ダウンフロー方式のクリーンルームに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体製造などに代表される高浄化が必
要な工程には、従来よりダウンフロー方式のクリーンル
ームが採用されてきた。
【0003】従来のダウンフロー方式のクリーンルーム
を図6および図7を用いて概要説明を行う。図におい
て、Kは、建築物の隔壁空間を形成する構造躯体であ
る。
【0004】構造躯体Kで形成される隔壁空間内には、
有孔床Gと天井裏全体にわたり形成されたダクトDおよ
び仕切壁Sとで囲んで画室Rが形成されている。画室R
には、生産ラインを構成する作業台Aが配置されてい
る。
【0005】ここで、作業台Aとは、製品(ウエハー)
がその雰囲気中に保管される部分をいい、例えば、生産
装置前のロード(生産装置へのウエハー取入部),アン
ロード(生産装置へのウエハー搬出部)部やストック部
を構成する。
【0006】天井全面には、一定の間隔をおいて空気吹
出口Hが設けられている。空気吹出口Hには、天井エア
フィルタFが取り付けられている。仕切壁Sと構造躯体
Kとで囲まれた有孔板G下に通じる別室Bには、ファン
NとエアフィルタOとを有する送風機Mが配設されてい
る。送風機Mは、送風管Pを介してダクトDと連通して
いる。
【0007】このように構成された従来のダウンフロー
方式のクリーンルームによれば、ダクトDから下方に吹
き出された空気は、天井エアフィルタFで浄化されて画
室Rへ送給され、その画室Rで発生した塵埃などで汚れ
た空気は、送風機Mによって有孔床Gの通気孔Tから床
下に吸い出され、そのエアフィルタOで浄化されて再び
ダクトDへ送られる。
【0008】このようにして、画室Rは常に浄化され
て、そこにダウンフロー方式のクリーンルームが形成さ
れている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の天井
エアフィルタFを構成する塵埃除去用の高性能エアフィ
ルタとして、ホウケイ酸を含んだHEPAフィルタ,U
LPAフィルタなどが用いられているため、室内雰囲気
中のホウ素濃度が高くなる傾向があった。
【0010】そのため、室内雰囲気中にホウ素が存在す
ることを嫌う、例えば、ドライエッチングプロセス,熱
拡散プロセス,イオン注入プロセスなどの製造工程でホ
ウ素を使う工程においては、不具合を生ずるおそれがあ
った。
【0011】そこで、塵埃除去用の高性能フィルタ(天
井エアフィルタF)をホウ素成分を含まないものとする
ことで、室内雰囲気中のホウ素濃度上昇を防止すること
が提案されている。
【0012】このホウ素成分を含まない高性能フィルタ
は、ホウ素を発生しないという性能をもっているため、
全ての天井エアフィルタFに置き換えた場合には、室内
雰囲気中のホウ素濃度上昇を防止することが可能であ
る。
【0013】しかし、ホウ素成分を含まない高性能フィ
ルタには、雰囲気中のホウ素を除去する機能がないた
め、ホウケイ酸を含んだフィルタと混在して使用する
と、ホウケイ酸を含んだフィルタを用いたダウンフロー
方式のクリーンルームと同様に、室内雰囲気中のホウ素
濃度が上昇し、好ましくない。
【0014】本発明は斯かる従来の問題点を解決するた
めになされたもので、その目的は、室内で部分的にホウ
素濃度を低減することを可能としたダウンフロー方式の
クリーンルームを提供することにある。
【0015】請求項1は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記エアフィルタの一
部が、塵埃除去性能に優れるとともに、表面にシラノー
ル基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有する
材で構成されているものである。
【0016】請求項2は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記エアフィルタの一
部が、塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、
面にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性
能を有する部材とで構成されているものである。
【0017】請求項3は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除
去性能に優れるとともに、表面にシラノール基またはO
H基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成する
エアフィルタと送風機とからなるエアフィルタユニット
を配置したものである。
【0018】請求項4は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除
去性能に優れた高性能エアフィルタと表面にシラノール
基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材
で構成する部材とからなるエアフィルタ部材と、送風機
とで構成されているエアフィルタユニットを配置したも
のである。
【0019】請求項5は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄
化機能を有する生産装置を配置するとともに、この生産
装置のエアフィルタを、塵埃除去性能に優れるととも
に、表面にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素
吸着性能を有するろ材で構成するエアフィルタで構成し
たものである。
【0020】請求項6は、天井側に配設した空気吹出口
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄
化機能を有する生産装置を配置するとともに、この生産
装置のエアフィルタを、エアフィルタユニット塵埃除去
性能に優れるとともに、表面にシラノール基またはOH
基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成する
アフィルタで構成したものである。
【0021】
【作用】請求項1においては、ホウ素を含む空気が、天
井側に配設した空気吹出口から吹き出されると、塵埃除
去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエア
フィルタによって吸着され、このエアフィルタに対応す
る画室内の領域におけるホウ素濃度が低減することがで
きる。
【0022】請求項2においては、ホウ素を含む空気
が、天井側に配設した空気吹出口から吹き出されると、
エアフィルタを構成するホウ素吸着性能を有する部材に
よって吸着され、このエアフィルタに対応する画室内の
領域におけるホウ素濃度が低減することができる。
【0023】請求項3においては、ホウ素を含む空気
が、天井エアフィルタから吹き出されると、塵埃除去性
能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフィ
ルタによって吸着され、送風機によって吹き出され、こ
のエアフィルタに対応する画室内の領域におけるホウ素
濃度が低減することができる。
【0024】請求項4においては、ホウ素を含む空気
が、天井エアフィルタから吹き出されると、エアフィル
タを構成するホウ素吸着性能を有する部材によって吸着
され、送風機によって吹き出され、このエアフィルタに
対応する画室内の領域におけるホウ素濃度が低減するこ
とができる。
【0025】請求項5においては、ホウ素を含む空気
が、天井エアフィルタから吹き出されると、画室内の生
産装置に取り込まれ、塵埃除去性能に優れるとともに、
ホウ素吸着性能を有するエアフィルタによって吸着さ
れ、送風機によって吹き出され、生産装置内の作業領域
におけるホウ素濃度が低減することができる。
【0026】請求項6においては、画室内の生産装置に
取り込まれ、塵埃除去性能に優れるとともに、エアフィ
ルタを構成するホウ素吸着性能を有する部材によって吸
着され、送風機によって吹き出され、生産装置内の作業
領域におけるホウ素濃度が低減することができる。
【0027】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は、請求項1を有孔床設置のダウンフロー方
式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
【0028】図において、1は画室を表す。この画室1
は、構造躯体で形成される隔壁空間内には、多数の通気
孔を有する有孔床3と、この有孔床3の下方に形成され
た床下空間5と、天井裏全体にわたり形成された天井空
間7と、仕切壁9とで囲んで形成されている。
【0029】画室1には、生産ラインを構成する作業台
(図示せず)が配置されている。ここで、作業台とは、
製品(ウエハー)がその雰囲気中に保管される部分をい
い、例えば、生産装置前のロード(生産装置へのウエハ
ー取入部),アンロード(生産装置へのウエハー搬出
部)部やストック部を構成する。
【0030】天井空間7には、空気吹出口11が取り付
けられている。天井全面には、塵埃除去性能に優れるホ
ウケイ酸を含んだ通常の天井エアフィルタ13と、塵埃
除去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有する天
井エアフィルタ15が取り付けられている。
【0031】この天井エアフィルタ15は、石英成分か
らなる素材を用いた不織布または織布によって構成され
ている。仕切壁9と構造躯体とで囲まれた有孔床3下の
床下空間5には、空気吸込口17が設けられている。
【0032】この空気吸込口17は、配管19を介して
床下空間5通じる別室に配置した送風機21に連絡して
いる。送風機17は、ファンとエアフィルタとを有す
る。そして、送風機21は、送風管19を介して空気吹
出口11と連通している。
【0033】つぎに、このように構成された本実施例の
作用を説明する。空気吹出口11から天井空間7内に吹
き出された空気は、天井エアフィルタ13,15で浄化
されて画室1へ送給される。そして、その画室1で発生
した塵埃などで汚れた空気は、送風機21によって有孔
床3から床下の床下空間5に吸い出され、送風機21内
のエアフィルタで浄化されて再び空気吹出口11へ送ら
れる。
【0034】そして、空気吹出口11から天井空間7内
に吹き出された空気は、塵埃除去性能に優れるホウケイ
酸を含んだ通常の天井エアフィルタ13を通過する際に
は、従来のクリーンルームと同様に、ホウ素成分を含ん
だ状態で画室1内に供給される。
【0035】一方、塵埃除去性能に優れるとともに、ホ
ウ素吸着性能を有する天井エアフィルタ15を通過する
際には、空気中のホウ素成分が、天井エアフィルタ15
により吸着される。
【0036】この作用は、つぎのようになるものと想定
される。石英は、図2に示すように、OH基の手を持っ
ている。ホウ素は、アルカリ水酸化合物とは容易に融解
状態で反応し、ホウ酸塩を与えるという化学的性質を持
っているため、石英のOH基の手と反応する。
【0037】このような原理に基づいて、天井エアフィ
ルタ15では、ホウ素成分が除去されるものと思われ
る。したがって、天井エアフィルタ15の下流側に対応
する点線で囲った領域25は、ホウ素濃度が低減した範
囲となっている。
【0038】なお、床下空間5において、天井エアフィ
ルタ13を通過した空気と天井エアフィルタ15を通過
した空気とが混合して送風機21により、天井空間7内
に吹き出されるため、天井空間7内においては、循環空
気におけるホウ素濃度はほぼ同様となるが、天井エアフ
ィルタ13と天井エアフィルタ15を通過した空気は、
上述した原理により、ホウ素を吸着されたものと、ホウ
素を放出するものとに分けられる。
【0039】以上のように、本実施例によれば、天井空
間7に配設した空気吹出口11から吹き出す空気を、天
井エアフィルタ13,15で浄化し、生産装置を設置し
た画室1内に供給し、その画室1内で発生する塵埃など
で汚れた前記空気を有孔床3から吸い出して画室1内を
浄化するダウンフロー方式のクリーンルームにおいて、
天井エアフィルタ15が、塵埃除去性能に優れるととも
に、ホウ素吸着性能を有するエアフィルタで構成されて
いるので、空気が天井エアフィルタ15を通過する際
に、ホウ素が吸着され、天井エアフィルタ15の下流側
に対応する点線で囲った領域25を、ホウ素濃度の低減
した範囲とすることが可能ととなる。
【0040】なお、残りの天井エアフィルタ13では、
従来の塵埃除去性能に優れるホウケイ酸を含んだ通常の
天井エアフィルタ13を使用しているため、空気が通過
する際には、従来のクリーンルームと同様に、ホウ素成
分を含んだ状態で画室1内に供給される。
【0041】ところが、画室1を通過した空気は、送風
機21によって再び天井空間7に戻されるため、ホウ素
を含んだ空気の一部は、塵埃除去性能に優れるととも
に、ホウ素吸着性能を有する天井エアフィルタ15を通
過し、ホウ素が確実に吸着される。
【0042】その結果、画室1内を循環する空気のホウ
素濃度が徐々に低減することも可能となる。なお、天井
エアフィルタ15は、請求項2に記載のように、従来の
塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、ホウ素吸
着性能を有する部材とで構成することも可能である。
【0043】この場合には、ホウケイ酸を含まないエア
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
【0044】また、ホウ素成分を吸着させるためには、
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
【0045】さらに、上記実施例では、空気吹出口11
が天井空間7に開口した場合について説明したが、空気
吹出口11が各天井エアフィルタ13および15に直結
する方式としてもよい。
【0046】図3は、請求項3を有孔床設置のダウンフ
ロー方式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
本実施例では、画室1内に、塵埃除去性能に優れるとと
もに、ホウ素吸着性能を有するエアフィルタ31と送風
機33とからなるエアフィルタユニット30を配置した
ものである。
【0047】送風機33は、任意の制御装置によって運
転制御されるように構成されている。天井エアフィルタ
35は、従来のクリーンルームと同様にホウケイ酸を含
む高性能エアフィルタにより構成されている。その他の
構成は、図1に示すものと同様である。
【0048】本実施例においは、ホウ素を含む空気が、
天井エアフィルタ35から吹き出されると、塵埃除去性
能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフィ
ルタ31によって吸着され、送風機33によって吹き出
され、このエアフィルタ33に対応する画室1内の領域
37におけるホウ素濃度が低減することができる。
【0049】なお、エアフィルタ31は、請求項4に記
載のように、従来の塵埃除去性能に優れた高性能エアフ
ィルタと、ホウ素吸着性能を有する部材とで構成するこ
とも可能である。
【0050】この場合には、ホウケイ酸を含まないエア
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
【0051】また、ホウ素成分を吸着させるためには、
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
【0052】図4は、請求項5を有孔床設置のダウンフ
ロー方式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
本実施例では、画室1内に、空気浄化機能を有する生産
装置51を配置するとともに、この生産装置51のエア
フィルタ53を、塵埃除去性能に優れるとともに、ホウ
素吸着性能を有するエアフィルタで構成したものであ
る。
【0053】生産装置51には、送風機55が設けら
れ、任意の制御装置によって運転制御されるように構成
されている。天井エアフィルタ57は、従来のクリーン
ルームと同様にホウケイ酸を含む高性能エアフィルタに
より構成されている。その他の構成は、図1に示すもの
と同様である。
【0054】本実施例においては、ホウ素を含む空気
が、天井エアフィルタ57から吹き出されると、送風機
55により画室1内の生産装置に取り込まれ、塵埃除去
性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフ
ィルタ53によって吸着され、生産装置51内の作業領
域59におけるホウ素濃度が低減することができる。
【0055】なお、エアフィルタ53は、請求項6に記
載のように、従来の塵埃除去性能に優れた高性能エアフ
ィルタと、ホウ素吸着性能を有する部材とで構成するこ
とも可能である。
【0056】この場合には、ホウケイ酸を含まないエア
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
【0057】また、ホウ素成分を吸着させるためには、
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
【0058】つぎに、本発明の具体的実験例を図5に示
す。図5において、天井エアフィルタを除く基本的な構
成は、図1に示す実施例と同様である。
【0059】本実験例では、天井エアフィルタとし
て、塵埃除去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を
有するエアフィルタ(石英成分からなる素材を用いた不
織布により構成した)、天井エアフィルタとして、ホ
ウ素を含まない塵埃除去性能に優れたエアフィルタ(フ
ッ素樹脂メンブレンフィルタ)、天井エアフィルタと
して、ホウ素を含まない塵埃除去性能に優れたエアフィ
ルタ(ポリプロピレンエレクトレットフィルタ)、天井
エアフィルタとして、ホウケイ酸成分を含む塵埃除去
性能に優れたエアフィルタ(ガラス製フィルタ)を用い
た。
【0060】また、図5において、U,D1 ,D2 ,D
3 ,D4 は、空気中のホウ素濃度の測定点を表す。本実
験例では、天井空間側と、各天井エアフィルタ〜の
下流側におけるホウ素濃度を次のようにして測定した。
【0061】測定器60は、図6に示すように、吸収液
63を入れた石英製ミゼットインピージャー(3段連
結)61をダイヤフラム方式ミニポンプ65に連結した
ものである。
【0062】この測定器60は、試料空気を取込口67
から取り込み、ダイヤフラム方式ミニポンプ65の吐出
口69から床下空間へ排出する。つぎに、分析法につい
て説明する。 (1) 試料採取と前処理法 図6に示す測定器60のダイヤフラム方式ミニポンプ6
5を作動し、クリーンルーム内の空気を吸引量2l/min
で24時間かけてサンプリングした。
【0063】その吸収液を加熱・蒸発処理後、希硝酸で
溶解し測定液とした。なお、試料の前処理はクリーンル
ーム(クラス100)内に設置したクリーンドラフト
(クラス100)内で実施した。 (2) 測定法 ICM−MS法(誘導結合プラズマ質量分析法) 装置(横河電機製 PMS 2000 型) 使用条件 プラズマ・トーチ 高周波出力 1.2kw 導入系 ネブライザー コンセントリック型 スプレーチェーンバー 電子冷却式 質量分析計 測定質量数 ホウ素:m/z 11 表中のホウ素濃度は、ng/m3 (空気1m3中のホウ素重
量)で表す。
【0064】この分析結果から、天井エアフィルタの
場合には、他の天井エアフィルタ〜に比して天井エ
アフィルタの直下のホウ素濃度が極めて低いことを示し
ている。
【0065】
【発明の効果】以上説明したように請求項1ないし6に
よれば、天井側のエアフィルタの一部が、塵埃除去性能
に優れるとともに、表面にシラノール基またはOH基を
多く持つホウ素吸着性能を有するエアフィルタ、また
は、塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面
にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能
を有する部材とで構成されているので、エアフィルタを
通過する空気にホウ素が混入していても、確実に吸着
し、その下流側の雰囲気中のホウ素濃度を低減すること
ができる。
【0066】したがって、例えば、ドライエッチングプ
ロセス,熱拡散プロセス,イオン注入プロセスなどの室
内雰囲気中にホウ素が存在することを嫌う製造工程を、
クリーンルームにおいてホウ素を混入を考慮することな
く実施することが可能となる。
【0067】しかも、従来のホウ素成分を含まないエア
フィルタのように、天井全体に敷設する必要がなく、ホ
ウ素成分を除去したい領域だけに、塵埃除去性能に優れ
るとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く持
ホウ素吸着性能を有するエアフィルタ、または、塵埃
除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面にシラノ
ール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有する
部材とで構成されているエアフィルタユニットを敷設す
ればよいので、使用目的に応じて任意に設定できる利点
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1に係るダウンフロー方式のクリーンル
ームの一実施例を示す説明図である。
【図2】石英のOH基の手を示す説明図である。
【図3】請求項3に係るダウンフロー方式のクリーンル
ームの一実施例を示す説明図である。
【図4】請求項5に係るダウンフロー方式のクリーンル
ームの一実施例を示す説明図である。
【図5】本発明の具体的実験例を示す説明図である。
【図6】従来のダウンフロー方式のクリーンルームの概
要を示す説明図である。
【図7】図6の天井裏の平面図である。
【符号の説明】
1 画室 3 有孔床 5 床下空間 7 天井空間 11 空気吹出口 13,15,35,57 天井エアフィルタ 21,33,55 送風機 25,37,59 領域 30 エアフィルタユニット 31,53 エアフィルタ 51 生産装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−267918(JP,A) 特開 平2−103328(JP,A) 特開 平3−113221(JP,A) 実開 平2−138805(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F24F 7/06

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記エアフィルタの一部が、塵埃
    除去性能に優れるとともに、表面にシラノール基または
    OH基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成さ
    れていることを特徴とするダウンフロー方式のクリーン
    ルーム。
  2. 【請求項2】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記エアフィルタの一部が、塵埃
    除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面にシラノ
    ール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有する
    部材とで構成されていることを特徴とするダウンフロー
    方式のクリーンルーム。
  3. 【請求項3】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除去性能に優
    れるとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く
    持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成するエアフィル
    タと送風機とからなるエアフィルタユニットを配置した
    ことを特徴とするダウンフロー方式のクリーンルーム。
  4. 【請求項4】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除去性能に優
    れた高性能エアフィルタと表面にシラノール基またはO
    H基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成する
    部材とからなるエアフィルタ部材と、送風機とで構成さ
    れているエアフィルタユニットを配置したことを特徴と
    するダウンフロー方式のクリーンルーム。
  5. 【請求項5】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄化機能を有
    する生産装置を配置するとともに、この生産装置のエア
    フィルタを、塵埃除去性能に優れるとともに、表面にシ
    ラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有
    するろ材で構成するエアフィルタで構成したことを特徴
    とするダウンフロー方式のクリーンルーム。
  6. 【請求項6】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
    す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
    画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
    に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
    ーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄化機能を有
    する生産装置を配置するとともに、この生産装置のエア
    フィルタを、エアフィルタユニット塵埃除去性能に優れ
    るとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く持
    ホウ素吸着性能を有するろ材で構成するエアフィルタ
    で構成したことを特徴とするダウンフロー方式のクリー
    ンルーム。
JP07705293A 1993-04-02 1993-04-02 ダウンフロー方式のクリーンルーム Expired - Fee Related JP3399012B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07705293A JP3399012B2 (ja) 1993-04-02 1993-04-02 ダウンフロー方式のクリーンルーム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07705293A JP3399012B2 (ja) 1993-04-02 1993-04-02 ダウンフロー方式のクリーンルーム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06288588A JPH06288588A (ja) 1994-10-11
JP3399012B2 true JP3399012B2 (ja) 2003-04-21

Family

ID=13623021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07705293A Expired - Fee Related JP3399012B2 (ja) 1993-04-02 1993-04-02 ダウンフロー方式のクリーンルーム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3399012B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06288588A (ja) 1994-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5890367A (en) Air conditioning system for semiconductor clean room including a chemical filter downstream of a humidifier
KR20050019576A (ko) 공기 청정 장치 및 방법
US5514196A (en) Air cleaning apparatus
JPH02126912A (ja) 空気清浄装置及びこれを用いたクリーンルーム
JP3399012B2 (ja) ダウンフロー方式のクリーンルーム
JP3866039B2 (ja) エアフィルタ用濾材の製造方法、エアフィルタ用濾材
JP3273544B2 (ja) クリーンルーム内への空気導入方法、クリーンルーム、局所設備内への空気導入方法、および局所設備
JPS6124933A (ja) 空気調和システム
JP3323137B2 (ja) クリーンルーム設備
JP2001244322A (ja) ウェハストッカー及びストック方法
JP3896539B2 (ja) フィルタとこれを用いたクリーンルーム
JPH0766165A (ja) 洗浄装置
JP3163722B2 (ja) クリーンルーム用給気装置
JPH07136450A (ja) エアーフィルタ及びエアーフィルタ装置
TWI802027B (zh) 半導體製造廠房中的外氣處理裝置及使用該裝置淨化空氣的方法
KR100253124B1 (ko) 공기청정장치 및 공기청정방법
JP3711376B2 (ja) 気体清浄化方法および気体清浄化装置
JPH04214137A (ja) ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置
JPH0557136A (ja) 空気洗浄方法および高純度シリコンフイルター
JP2002153715A (ja) フィルタとこれを用いたクリーンルーム
JP3208753B2 (ja) クリーンルーム用空調機
JPH1194325A (ja) クリーンルーム清浄化方法および清浄空気供給装置
JP2643418B2 (ja) 加湿装置
JPH0824551A (ja) フィルタ装置
JPH07194911A (ja) ろ紙及びこれを利用したエアーフィルタ

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100221

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110221

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120221

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees