JP3399012B2 - ダウンフロー方式のクリーンルーム - Google Patents
ダウンフロー方式のクリーンルームInfo
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Description
リーンルームに係り、詳しくは、ホウ素濃度を低減する
ダウンフロー方式のクリーンルームに関するものであ
る。
要な工程には、従来よりダウンフロー方式のクリーンル
ームが採用されてきた。
を図6および図7を用いて概要説明を行う。図におい
て、Kは、建築物の隔壁空間を形成する構造躯体であ
る。
有孔床Gと天井裏全体にわたり形成されたダクトDおよ
び仕切壁Sとで囲んで画室Rが形成されている。画室R
には、生産ラインを構成する作業台Aが配置されてい
る。
がその雰囲気中に保管される部分をいい、例えば、生産
装置前のロード(生産装置へのウエハー取入部),アン
ロード(生産装置へのウエハー搬出部)部やストック部
を構成する。
出口Hが設けられている。空気吹出口Hには、天井エア
フィルタFが取り付けられている。仕切壁Sと構造躯体
Kとで囲まれた有孔板G下に通じる別室Bには、ファン
NとエアフィルタOとを有する送風機Mが配設されてい
る。送風機Mは、送風管Pを介してダクトDと連通して
いる。
方式のクリーンルームによれば、ダクトDから下方に吹
き出された空気は、天井エアフィルタFで浄化されて画
室Rへ送給され、その画室Rで発生した塵埃などで汚れ
た空気は、送風機Mによって有孔床Gの通気孔Tから床
下に吸い出され、そのエアフィルタOで浄化されて再び
ダクトDへ送られる。
て、そこにダウンフロー方式のクリーンルームが形成さ
れている。
エアフィルタFを構成する塵埃除去用の高性能エアフィ
ルタとして、ホウケイ酸を含んだHEPAフィルタ,U
LPAフィルタなどが用いられているため、室内雰囲気
中のホウ素濃度が高くなる傾向があった。
ることを嫌う、例えば、ドライエッチングプロセス,熱
拡散プロセス,イオン注入プロセスなどの製造工程でホ
ウ素を使う工程においては、不具合を生ずるおそれがあ
った。
井エアフィルタF)をホウ素成分を含まないものとする
ことで、室内雰囲気中のホウ素濃度上昇を防止すること
が提案されている。
は、ホウ素を発生しないという性能をもっているため、
全ての天井エアフィルタFに置き換えた場合には、室内
雰囲気中のホウ素濃度上昇を防止することが可能であ
る。
ルタには、雰囲気中のホウ素を除去する機能がないた
め、ホウケイ酸を含んだフィルタと混在して使用する
と、ホウケイ酸を含んだフィルタを用いたダウンフロー
方式のクリーンルームと同様に、室内雰囲気中のホウ素
濃度が上昇し、好ましくない。
めになされたもので、その目的は、室内で部分的にホウ
素濃度を低減することを可能としたダウンフロー方式の
クリーンルームを提供することにある。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記エアフィルタの一
部が、塵埃除去性能に優れるとともに、表面にシラノー
ル基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ
材で構成されているものである。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記エアフィルタの一
部が、塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表
面にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性
能を有する部材とで構成されているものである。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除
去性能に優れるとともに、表面にシラノール基またはO
H基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成する
エアフィルタと送風機とからなるエアフィルタユニット
を配置したものである。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除
去性能に優れた高性能エアフィルタと表面にシラノール
基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材
で構成する部材とからなるエアフィルタ部材と、送風機
とで構成されているエアフィルタユニットを配置したも
のである。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄
化機能を有する生産装置を配置するとともに、この生産
装置のエアフィルタを、塵埃除去性能に優れるととも
に、表面にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素
吸着性能を有するろ材で構成するエアフィルタで構成し
たものである。
から吹き出す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置
を設置した画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃
などとともに吸い出して画室内を浄化するダウンフロー
方式のクリーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄
化機能を有する生産装置を配置するとともに、この生産
装置のエアフィルタを、エアフィルタユニット塵埃除去
性能に優れるとともに、表面にシラノール基またはOH
基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成するエ
アフィルタで構成したものである。
井側に配設した空気吹出口から吹き出されると、塵埃除
去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエア
フィルタによって吸着され、このエアフィルタに対応す
る画室内の領域におけるホウ素濃度が低減することがで
きる。
が、天井側に配設した空気吹出口から吹き出されると、
エアフィルタを構成するホウ素吸着性能を有する部材に
よって吸着され、このエアフィルタに対応する画室内の
領域におけるホウ素濃度が低減することができる。
が、天井エアフィルタから吹き出されると、塵埃除去性
能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフィ
ルタによって吸着され、送風機によって吹き出され、こ
のエアフィルタに対応する画室内の領域におけるホウ素
濃度が低減することができる。
が、天井エアフィルタから吹き出されると、エアフィル
タを構成するホウ素吸着性能を有する部材によって吸着
され、送風機によって吹き出され、このエアフィルタに
対応する画室内の領域におけるホウ素濃度が低減するこ
とができる。
が、天井エアフィルタから吹き出されると、画室内の生
産装置に取り込まれ、塵埃除去性能に優れるとともに、
ホウ素吸着性能を有するエアフィルタによって吸着さ
れ、送風機によって吹き出され、生産装置内の作業領域
におけるホウ素濃度が低減することができる。
取り込まれ、塵埃除去性能に優れるとともに、エアフィ
ルタを構成するホウ素吸着性能を有する部材によって吸
着され、送風機によって吹き出され、生産装置内の作業
領域におけるホウ素濃度が低減することができる。
する。図1は、請求項1を有孔床設置のダウンフロー方
式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
は、構造躯体で形成される隔壁空間内には、多数の通気
孔を有する有孔床3と、この有孔床3の下方に形成され
た床下空間5と、天井裏全体にわたり形成された天井空
間7と、仕切壁9とで囲んで形成されている。
(図示せず)が配置されている。ここで、作業台とは、
製品(ウエハー)がその雰囲気中に保管される部分をい
い、例えば、生産装置前のロード(生産装置へのウエハ
ー取入部),アンロード(生産装置へのウエハー搬出
部)部やストック部を構成する。
けられている。天井全面には、塵埃除去性能に優れるホ
ウケイ酸を含んだ通常の天井エアフィルタ13と、塵埃
除去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有する天
井エアフィルタ15が取り付けられている。
らなる素材を用いた不織布または織布によって構成され
ている。仕切壁9と構造躯体とで囲まれた有孔床3下の
床下空間5には、空気吸込口17が設けられている。
床下空間5通じる別室に配置した送風機21に連絡して
いる。送風機17は、ファンとエアフィルタとを有す
る。そして、送風機21は、送風管19を介して空気吹
出口11と連通している。
作用を説明する。空気吹出口11から天井空間7内に吹
き出された空気は、天井エアフィルタ13,15で浄化
されて画室1へ送給される。そして、その画室1で発生
した塵埃などで汚れた空気は、送風機21によって有孔
床3から床下の床下空間5に吸い出され、送風機21内
のエアフィルタで浄化されて再び空気吹出口11へ送ら
れる。
に吹き出された空気は、塵埃除去性能に優れるホウケイ
酸を含んだ通常の天井エアフィルタ13を通過する際に
は、従来のクリーンルームと同様に、ホウ素成分を含ん
だ状態で画室1内に供給される。
ウ素吸着性能を有する天井エアフィルタ15を通過する
際には、空気中のホウ素成分が、天井エアフィルタ15
により吸着される。
される。石英は、図2に示すように、OH基の手を持っ
ている。ホウ素は、アルカリ水酸化合物とは容易に融解
状態で反応し、ホウ酸塩を与えるという化学的性質を持
っているため、石英のOH基の手と反応する。
ルタ15では、ホウ素成分が除去されるものと思われ
る。したがって、天井エアフィルタ15の下流側に対応
する点線で囲った領域25は、ホウ素濃度が低減した範
囲となっている。
ルタ13を通過した空気と天井エアフィルタ15を通過
した空気とが混合して送風機21により、天井空間7内
に吹き出されるため、天井空間7内においては、循環空
気におけるホウ素濃度はほぼ同様となるが、天井エアフ
ィルタ13と天井エアフィルタ15を通過した空気は、
上述した原理により、ホウ素を吸着されたものと、ホウ
素を放出するものとに分けられる。
間7に配設した空気吹出口11から吹き出す空気を、天
井エアフィルタ13,15で浄化し、生産装置を設置し
た画室1内に供給し、その画室1内で発生する塵埃など
で汚れた前記空気を有孔床3から吸い出して画室1内を
浄化するダウンフロー方式のクリーンルームにおいて、
天井エアフィルタ15が、塵埃除去性能に優れるととも
に、ホウ素吸着性能を有するエアフィルタで構成されて
いるので、空気が天井エアフィルタ15を通過する際
に、ホウ素が吸着され、天井エアフィルタ15の下流側
に対応する点線で囲った領域25を、ホウ素濃度の低減
した範囲とすることが可能ととなる。
従来の塵埃除去性能に優れるホウケイ酸を含んだ通常の
天井エアフィルタ13を使用しているため、空気が通過
する際には、従来のクリーンルームと同様に、ホウ素成
分を含んだ状態で画室1内に供給される。
機21によって再び天井空間7に戻されるため、ホウ素
を含んだ空気の一部は、塵埃除去性能に優れるととも
に、ホウ素吸着性能を有する天井エアフィルタ15を通
過し、ホウ素が確実に吸着される。
素濃度が徐々に低減することも可能となる。なお、天井
エアフィルタ15は、請求項2に記載のように、従来の
塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、ホウ素吸
着性能を有する部材とで構成することも可能である。
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
が天井空間7に開口した場合について説明したが、空気
吹出口11が各天井エアフィルタ13および15に直結
する方式としてもよい。
ロー方式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
本実施例では、画室1内に、塵埃除去性能に優れるとと
もに、ホウ素吸着性能を有するエアフィルタ31と送風
機33とからなるエアフィルタユニット30を配置した
ものである。
転制御されるように構成されている。天井エアフィルタ
35は、従来のクリーンルームと同様にホウケイ酸を含
む高性能エアフィルタにより構成されている。その他の
構成は、図1に示すものと同様である。
天井エアフィルタ35から吹き出されると、塵埃除去性
能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフィ
ルタ31によって吸着され、送風機33によって吹き出
され、このエアフィルタ33に対応する画室1内の領域
37におけるホウ素濃度が低減することができる。
載のように、従来の塵埃除去性能に優れた高性能エアフ
ィルタと、ホウ素吸着性能を有する部材とで構成するこ
とも可能である。
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
ロー方式のクリーンルームに適用した一実施例を示す。
本実施例では、画室1内に、空気浄化機能を有する生産
装置51を配置するとともに、この生産装置51のエア
フィルタ53を、塵埃除去性能に優れるとともに、ホウ
素吸着性能を有するエアフィルタで構成したものであ
る。
れ、任意の制御装置によって運転制御されるように構成
されている。天井エアフィルタ57は、従来のクリーン
ルームと同様にホウケイ酸を含む高性能エアフィルタに
より構成されている。その他の構成は、図1に示すもの
と同様である。
が、天井エアフィルタ57から吹き出されると、送風機
55により画室1内の生産装置に取り込まれ、塵埃除去
性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を有するエアフ
ィルタ53によって吸着され、生産装置51内の作業領
域59におけるホウ素濃度が低減することができる。
載のように、従来の塵埃除去性能に優れた高性能エアフ
ィルタと、ホウ素吸着性能を有する部材とで構成するこ
とも可能である。
フィルタの上流側に、石英粉末を貯蔵する槽を配置す
る。または、ホウケイ酸を含むエアフィルタの下流側
に、石英粉末を貯蔵する槽を配置し、その下流側にホウ
ケイ酸を含まないエアフィルタを配置する。
石英以外でも、図2に示すように、OH基の手を持った
物質であれば、同様の作用を奏するので、石英以外の物
質でも使用可能である。
す。図5において、天井エアフィルタを除く基本的な構
成は、図1に示す実施例と同様である。
て、塵埃除去性能に優れるとともに、ホウ素吸着性能を
有するエアフィルタ(石英成分からなる素材を用いた不
織布により構成した)、天井エアフィルタとして、ホ
ウ素を含まない塵埃除去性能に優れたエアフィルタ(フ
ッ素樹脂メンブレンフィルタ)、天井エアフィルタと
して、ホウ素を含まない塵埃除去性能に優れたエアフィ
ルタ(ポリプロピレンエレクトレットフィルタ)、天井
エアフィルタとして、ホウケイ酸成分を含む塵埃除去
性能に優れたエアフィルタ(ガラス製フィルタ)を用い
た。
3 ,D4 は、空気中のホウ素濃度の測定点を表す。本実
験例では、天井空間側と、各天井エアフィルタ〜の
下流側におけるホウ素濃度を次のようにして測定した。
63を入れた石英製ミゼットインピージャー(3段連
結)61をダイヤフラム方式ミニポンプ65に連結した
ものである。
から取り込み、ダイヤフラム方式ミニポンプ65の吐出
口69から床下空間へ排出する。つぎに、分析法につい
て説明する。 (1) 試料採取と前処理法 図6に示す測定器60のダイヤフラム方式ミニポンプ6
5を作動し、クリーンルーム内の空気を吸引量2l/min
で24時間かけてサンプリングした。
溶解し測定液とした。なお、試料の前処理はクリーンル
ーム(クラス100)内に設置したクリーンドラフト
(クラス100)内で実施した。 (2) 測定法 ICM−MS法(誘導結合プラズマ質量分析法) 装置(横河電機製 PMS 2000 型) 使用条件 プラズマ・トーチ 高周波出力 1.2kw 導入系 ネブライザー コンセントリック型 スプレーチェーンバー 電子冷却式 質量分析計 測定質量数 ホウ素:m/z 11 表中のホウ素濃度は、ng/m3 (空気1m3中のホウ素重
量)で表す。
場合には、他の天井エアフィルタ〜に比して天井エ
アフィルタの直下のホウ素濃度が極めて低いことを示し
ている。
よれば、天井側のエアフィルタの一部が、塵埃除去性能
に優れるとともに、表面にシラノール基またはOH基を
多く持つホウ素吸着性能を有するエアフィルタ、また
は、塵埃除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面
にシラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能
を有する部材とで構成されているので、エアフィルタを
通過する空気にホウ素が混入していても、確実に吸着
し、その下流側の雰囲気中のホウ素濃度を低減すること
ができる。
ロセス,熱拡散プロセス,イオン注入プロセスなどの室
内雰囲気中にホウ素が存在することを嫌う製造工程を、
クリーンルームにおいてホウ素を混入を考慮することな
く実施することが可能となる。
フィルタのように、天井全体に敷設する必要がなく、ホ
ウ素成分を除去したい領域だけに、塵埃除去性能に優れ
るとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く持
つホウ素吸着性能を有するエアフィルタ、または、塵埃
除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面にシラノ
ール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有する
部材とで構成されているエアフィルタユニットを敷設す
ればよいので、使用目的に応じて任意に設定できる利点
がある。
ームの一実施例を示す説明図である。
ームの一実施例を示す説明図である。
ームの一実施例を示す説明図である。
要を示す説明図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記エアフィルタの一部が、塵埃
除去性能に優れるとともに、表面にシラノール基または
OH基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成さ
れていることを特徴とするダウンフロー方式のクリーン
ルーム。 - 【請求項2】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記エアフィルタの一部が、塵埃
除去性能に優れた高性能エアフィルタと、表面にシラノ
ール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有する
部材とで構成されていることを特徴とするダウンフロー
方式のクリーンルーム。 - 【請求項3】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除去性能に優
れるとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く
持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成するエアフィル
タと送風機とからなるエアフィルタユニットを配置した
ことを特徴とするダウンフロー方式のクリーンルーム。 - 【請求項4】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記画室内に、塵埃除去性能に優
れた高性能エアフィルタと表面にシラノール基またはO
H基を多く持つホウ素吸着性能を有するろ材で構成する
部材とからなるエアフィルタ部材と、送風機とで構成さ
れているエアフィルタユニットを配置したことを特徴と
するダウンフロー方式のクリーンルーム。 - 【請求項5】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄化機能を有
する生産装置を配置するとともに、この生産装置のエア
フィルタを、塵埃除去性能に優れるとともに、表面にシ
ラノール基またはOH基を多く持つホウ素吸着性能を有
するろ材で構成するエアフィルタで構成したことを特徴
とするダウンフロー方式のクリーンルーム。 - 【請求項6】 天井側に配設した空気吹出口から吹き出
す空気を、エアフィルタで浄化し、生産装置を設置した
画室内に供給し、その画室内で発生する塵埃などととも
に吸い出して画室内を浄化するダウンフロー方式のクリ
ーンルームにおいて、前記画室内に、空気浄化機能を有
する生産装置を配置するとともに、この生産装置のエア
フィルタを、エアフィルタユニット塵埃除去性能に優れ
るとともに、表面にシラノール基またはOH基を多く持
つホウ素吸着性能を有するろ材で構成するエアフィルタ
で構成したことを特徴とするダウンフロー方式のクリー
ンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07705293A JP3399012B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | ダウンフロー方式のクリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07705293A JP3399012B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | ダウンフロー方式のクリーンルーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06288588A JPH06288588A (ja) | 1994-10-11 |
JP3399012B2 true JP3399012B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=13623021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07705293A Expired - Fee Related JP3399012B2 (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | ダウンフロー方式のクリーンルーム |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3399012B2 (ja) |
-
1993
- 1993-04-02 JP JP07705293A patent/JP3399012B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JPH06288588A (ja) | 1994-10-11 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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